JPH07282438A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、電磁変換特性が良好で、かつ繰り
返し走行によるエッジダメージの少ない走行耐久性に優
れ、磁性層と非磁性支持体との接着性が良好で粉落ちに
よるＤＯが少ない磁気記録媒体を提供することを目的と
する。 【構成】 非磁性支持体上に、まず、ポリマーを主成分
とする接着層を設け、次いで、主として無機粉末と結合
剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁
性粉末と結合剤とを含む一層以上の上層の磁性層を設け
た磁気記録媒体において、前記上層磁性層の厚みが０．
０５〜１．０μｍであり、下層塗布層の厚みが０．５〜
５．０μｍであり、且つ磁気記録媒体の総厚みが４〜１
０μｍであり、非磁性支持体のマイクロビッカース硬度
が７５〜１００kg/mm²、下層塗布層のマイクロビッカー
ス硬度が２５〜５０kg/mm²である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特に磁気
記録媒体の総厚みが４〜１０μｍである非常に薄い磁気
記録媒体に関し、さらに詳しくは磁性層と非磁性支持体
との密着性に優れかつ電磁変換特性が良好な塗布型磁気
記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。 更に、磁気テープの
場合、テープ厚みを薄くすることで、一定のカセットケ
ースの中に巻く事ができるテープ長を長くし、体積的な
高密度化を図る検討が進んでいる。例えば、８mmビデオ
テープの場合、導入当初はテープ厚み１３．５μｍで録
再時間が９０分であったものが、近年はテープ厚みを８
μｍとすることで１８０分まで録画再生できるようにな
った。

【０００３】テープ厚みを薄くしても良好な走行耐久性
を保つために、磁性層、非磁性支持体の強度向上が図ら
れてきた。 特開昭５５−１，６３９号〜特開昭５５−
１，６４６号にはテープ厚みや非磁性支持体厚みを薄く
しても強度向上を確保するために、非磁性支持体にポリ
アミドを採用して、かつ接着性を改良するために磁性層
中のバインダー処方を工夫している。しかしながら、こ
の方法は磁性層中のバインダーを限定しているために、
必ずしも強磁性粉末の分散が最適であるとは言えず、そ
のため強磁性粉末の充填率が低く、充分な飽和磁束密度
も得られていない。

【０００４】特公平２−５１，４６３号では強磁性金属
薄膜との接着性を改良するために、特定の化学構造を有
する芳香族ポリアミドの弾性率を規定しているが、塗布
型媒体での実用性からは十分な接着性とは言い難い。特
開平５−６２，１５４号では酢酸ビニルを含まないバイ
ンダーを採用し、芳香族ポリアミドとの接着性を改良し
ているが、十分な走行耐久性を得られていない。特開平
５−１１４，１２９号では非磁性支持体に芳香族ポリア
ミドを用い、磁性層、バック層の厚みを規定することに
よりヘッドとの滑らかな接触を向上させようとしている
が、磁性層が非常に薄いために、塗布での欠陥が発生し
易く、歩留まり上の問題がある。

【０００５】本件出願人は、特開昭６３−１９１，３１
５号、特開昭６３−１８７，４１８号に記されているよ
うな同時重層塗布方式を用いて下層塗布層に非磁性の層
を設け、この下層塗布層が湿潤状態の間に強磁性粉末を
含有する上層磁性層を設ける方法を採用することによ
り、塗布欠陥のない、生産性に優れ、しかも再生出力、
Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性、走行耐久性を改善できる磁気
記録媒体を提案した。また、磁性層を二層構成にするこ
とで電磁変換特性や走行耐久性を向上させられることが
多く提案されているが、その中で特開平１−２０５，７
２４号では下層塗布層に含まれるポリウレタンの分子量
と上層磁性層に含まれるポリウレタンの分子量の特性を
規定する事で接着性を改良することが提案されている。
しかしながら、磁気記録媒体の総厚みが１０μｍ以下の
ような非常に薄い媒体では、走行耐久性と接着性、及び
電磁変換特性とのバランスがとれなくなりつつある。

【０００６】また特開平５−２９８，６５８号には非磁
性支持体上に複数の層を形成し，最上層の磁性層のビッ
カース硬度が４０以上、２００未満であり、最上層以外
の少なくとも一層が非磁性粉末または高透磁率材料を含
む磁気記録媒体が開示されている。詳細な説明中には最
上層以外の層はビッカース硬度を３０〜１００にする事
が好ましいと記載している。このように従来最上層の磁
性層のビッカース硬度と最上層以外の層のビッカース硬
度との関係は規定しているが、この実施例で記載してい
るように非磁性支持体としてポリエチレンテレフタレ−
トフイルムを使用している。このような構成では磁気記
録媒体総厚みを１０μｍ以下にすると粉落ちや走行停止
が発生しやすいという問題があった。一方非磁性支持体
の剛性を高めるためにポリアミドのような材料を使用す
ることも考えられるが、このような材料は下層塗布層と
の接着が悪く十分実用に耐えなかった。

【０００７】本発明者らは、磁気記録媒体の薄手化即ち
磁気記録媒体総厚みを４〜１０μｍにするために鋭意検
討を重ねた結果、薄手テ−プで走行耐久性を向上させつ
つ、十分な接着強度を確保する手段として、まず、非磁
性支持体上にポリマーを主成分とする接着層を設け、次
いで無機質粉末と結合剤とを分散させた塗布層を設け、
次いで少なくとも１層の磁性層を設ける磁気記録媒体に
おいて、前記上層磁性層の厚みが０．０５〜１．０μｍ
であり、下層塗布層の厚みが０．５〜５．０μｍであ
り、且つ非磁性支持体のマイクロビッカース硬度を特定
の値にし、下層塗布層のマイクロビッカース硬度を特定
の値とすることにより顕著に改良されることがわかり、
本発明に至った。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好な磁気記録媒体を提供することであり、かつ繰り
返し走行によるエッジダメージの少ない走行耐久性に優
れ、磁性層と非磁性支持体との接着性が良好で粉落ちに
よるＤＯが少ない磁気記録媒体を提供する事を目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は非磁
性支持体上に、まず、ポリマーを主成分とする接着層を
設け、次いで、主として無機粉末と結合剤とを含む下層
塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末と結合剤
とを含む一層以上の上層の磁性層を設けた磁気記録媒体
において、前記上層磁性層の厚みが０．１〜１．０μｍ
であり、下層塗布層の厚みが１．０〜５．０μｍであ
り、且つ磁気記録媒体の総厚みが４〜１０μｍであり、
非磁性支持体のマイクロビッカース硬度が７５〜１００
kg/mm²、下層塗布層のマイクロビッカース硬度が２５〜
５０kg/mm²であることを特徴とする磁気記録媒体によっ
て達成できる。

【００１０】本発明の好ましい態様は以下の通りであ
る。 （１）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として強
磁性粉末であることを特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として非
磁性金属酸化物であることを特徴とする磁気記録媒体。 （３）前記下層塗布層に含まれる強磁性粉末がＣｏ変性
γ酸化鉄であることを特徴とする磁気記録媒体。 （４）前記下層塗布層に含まれる非磁性金属酸化物がル
チル型酸化チタン、アナタース型酸化チタン、非晶質酸
化チタン、α酸化鉄、酸化亜鉛、硫酸バリウム、の中か
ら選ばれる一種以上であることを特徴とする磁気記録媒
体。 （５）前記非磁性支持体が芳香族ポリアミドからなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 （６）前記下層塗布層と少なくともそれに接する磁性層
がウェットオンウェット塗布方式で形成されたものであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。

【００１１】即ち本発明は以下のような構成要素の作用
機構によって達成される。 本発明の特徴の第一は磁性層厚みが０．１〜１μｍ
であることである。これは短波長記録では磁性層厚みが
薄い方が、自己減磁損失、記録減磁損失が少なくなり、
出力を向上させることができるためである。また、消去
率も向上し、オーバーライト適性が向上するためであ
る。 本発明の特徴の第二はポリマーを主成分とする接着
層を設けることにある。これは非磁性支持体と下層塗布
層との接着性を向上させる働きをするもので，例えば、
ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタ
ン、ポリエステル、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、スチレンブタジエン共重合体、各種ゴム系樹脂等で
構成される層である。必要に応じて、公知の親水性極性
基、例えばスルホン酸金属塩や無機粉末、可塑材を含有
することのできる層である。 本発明の特徴の第三はマイクロビッカース硬度が７
５〜１００kg/mm²、好ましくは８０〜１００kg/mm²の非
磁性支持体を用いることである。これは磁気記録媒体の
総厚みが特に１０μｍ以下では、デッキ内走行時にエッ
ジダメージ等により粉落ちや走行停止が発生しやすくな
るので、剛性の高い非磁性支持体を用いる必要があるた
めである。そして剛性の高い非磁性支持体を用いると、
接着性が悪くなり、塗布層、磁性層剥離によるＤＯ増加
が発生し易くなる。また、剛性が高すぎるために、ビデ
オヘッドとの滑らかな摺動が得られず、良好なエンベロ
ープ波形が得られないこともあった。これを解決するた
めには、マイクロビッカース硬度が７５〜１００kg/mm²
の非磁性支持体に後述するようなマイクロビッカース硬
度が２５〜５０kg/mm²、好ましくは３０〜４５kg/mm²の
下層塗布層を設けることが有効であった。 本発明の特徴の第四は下層塗布層を設けることであ
る。上述のように、マイクロビッカース硬度が７５〜１
００kg/mm²の非磁性支持体にマイクロビッカース硬度が
２５〜５０kg/mm²の下層塗布層を設けることにより、非
磁性支持体の硬度が高くても接着性が良くなり、塗布
層、磁性層剥離が抑えられ、磁気ヘッドとの滑らかな摺
動が得られた。

【００１２】下層塗布層のマイクロビッカース硬度を２
５〜５０kg/mm²にするためには、次の１〜４の条件の少
なくとも一つを満たすようにする事が効果的だった。 １，下層塗布層に用いられる無機粉末１００重量部に対
し、結合剤量を１０〜２５重量部含み、かつ平均一次粒
子径が１５〜４０nmでＤＢＰ吸油量が５０〜３００ml/1
00gのカーボンブラックを３〜２０重量部含むこと。 ２，下層塗布層に用いられるモース硬度６〜１０の研磨
剤が下層塗布層粉末１００重量部に対し、５〜２０重量
部含むこと。 ３，下層塗布層に含有される分子量１０００以下の低分
子有機物質が下層塗布層粉末１００重量部に対し、１重
量部以上１５重量部以下であること。 ４，下層塗布層に含まれる結合剤が無機粉末１００重量
部に対して、１５〜３０重量部でかつ、無機粉末のＰＶ
Ｃ(顔料体積濃度）が２０％以上４０％以下であるこ
と。

【００１３】下層塗布層のビッカース硬度の測定方法は
以下の通りである。下層塗布層のビッカース硬度は非磁
性支持体に下層塗布層のみを設けて、そのビッカース硬
度を測定することができるが、一方製品である磁気テ−
プ等そのものからその下層塗布層のビッカース硬度を測
定する方法は次のようにして行う。即ち回転する研磨装
置、例えばダイアモンドホイル等に磁気テ−プをラップ
させて削り取ることが一般的である。条件としては、回
転数１００〜１０，０００rpm、テンション１０〜２，
０００g／12.65mmであることが好ましい。研磨装置はダ
イモンドホイルに限らず、研磨テ−プやアルカンサス砥
石等適宜選択することができる。上層磁性層を研磨しな
がら、研磨部分の一部を切りとり、逐次ＶＳＭで磁化測
定を行い、磁化が無くなった事を確認することが必要で
ある。その後、ビッカース硬度を測定することにより、
確実に下層塗布層の値を得ることができる。

【００１４】次に下層塗布層の詳細な内容について説明
する。本発明の下層塗布層に用いられる無機粉末は、磁
性粉末、非磁性粉末を問わない。例えば非磁性粉末の場
合、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機化合物としては例えばα化率
９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−
酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸
化チタン、二酸化珪素、酸化スス゛、酸化マク゛ネシウム、酸化タン
ク゛ステン、酸化シ゛ルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カル
シウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリフ゛テ゛
ンなどが単独または組合せで使用される。特に好ましい
のは二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムで
あり、更に好ましいのは二酸化チタンである。これら非
磁性粉末の平均粒径は０．００５〜２μｍが好ましい
が、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合
わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同
様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいの
は非磁性粉末の平均粒径は０．０１μｍ〜０．２μｍで
ある。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは
０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は
０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％であ
る。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは６〜
９の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１
００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜５０ｍ²／ｇ、更に好まし
くは７〜４０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイス゛
は０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。DBPを用いた吸油
量は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100
g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重は１
〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、
多面体状、板状のいずれでも良い。

【００１５】強熱減量は０〜２０重量％であることが好
ましい。本発明に用いられる上記無機粉末のモース硬度は
４〜１０のものが好ましい。これらの粉末表面のラフネ
スファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好まし
いラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉
末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μmol／
m ²、更に好ましくは２〜１５μmol/m²である。下層塗布
層の非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００erg/
cm²〜６００erg/cm²がの範囲にあることが好ましい。ま
た、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができ
る。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０
個/100Aが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜６
の間にあることが好ましい。

【００１６】これらの非磁性粉末の表面にはAl₂O₃、SiO
₂、TiO₂、ZrO₂，SnO₂，Sb₂O₃，ZnOで表面処理すること
が好ましい。特に分散性に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、T
iO₂、ZrO₂、であるが、更に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、
ZrO₂である。これらは組み合わせて使用しても良いし、
単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈さ
せた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理
した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその
逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的
に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である
方が一般には好ましい。

【００１７】本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉
末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
HIT-100,ZA-G1、戸田工業社製DPN-250，DPN-250BX、DPN-
245,DPN-270BX 石原産業製TTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、
TTO-55C、TTO-55S、TTO-55D、SN-100,E270,E271 チタン工
業製STT-4D、STT-30D、STT-30、STT-65C、テイカ製MT-1
00S、MT-100T、MT-150W、MT-500B、MT-600B、MT-100F、MT-500
HD。堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-M、同和鉱
業製DEFIC-Y,DEFIC-R、日本アエロシ゛ル製AS2BM,TiO2P25,宇部
興産製100A,500A、チタン工業製Y-LOP及びそれを焼成し
たものが挙げられる。

【００１８】特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンで
あるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記す。これ
らの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫
酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆ
ｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して
除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分
解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾
過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを
添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタ
ンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添
加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素
法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱
石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄にＦ
ｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄
は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄
は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃
以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを
得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料
的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じであ
る。

【００１９】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓ
ｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、
またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チ
タン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカン
テーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリ
ーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済
みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤー
で乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕
され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン
粉末にAlCl ₃,SiCl₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入し
てAl,Si表面処理を施すことも可能である。その他の顔
料の製法についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing”Cha
racterization of Powder Surfaces”Academic Press,1
976を参考にすることができる。

【００２０】下層塗布層にカ−ボンブラックを混合させ
て公知の効果であるＲｓを下げることができるととも
に、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。
このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カ
ラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いること
ができる。

【００２１】カ−ボンブラックの比表面積は１００〜５
００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢ
Ｐ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜２
００ml/100gである。カ−ボンブラックの平均粒径は５
ｍμ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、さらに好ま
しくは１０〜４０ｍμである。カ−ボンブラックのｐＨ
は２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ml、が好ましい。本発明に用いられるカ
−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、
ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、三菱化成工業社製、＃３０５０Ｂ，３１５
０Ｂ，３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９
５０、＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６
００、コンロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ 8800,8000,7000,5750,5250,3500,
2100,2000,1800,1500,1255,1250、アクソ゛ー社製ケッチェンフ゛ラック
ECなどがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあ
らかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーホ゛
ンフ゛ラックは上記無機質粉末に対して０〜５０重量％の範
囲、非磁性層総重量の０〜４０％の範囲で使用できる。
これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用
することができる。

【００２２】本発明で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会
編」を参考にすることができる。また下層塗布層には有
機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例え
ば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ヘ゛ンソ゛ク゛アナミン樹脂粉末、メラミン
系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ホ゜リオレフィン
系樹脂粉末、ホ゜リエステル系樹脂粉末、ホ゜リアミト゛系樹脂粉末、
ホ゜リイミト゛系樹脂粉末、ホ゜リフッ化エチレン樹脂も使用することが
できる。その製法は特開昭62-18564号、特開昭60-25582
7号に記されているようなものが使用できる。下塗層は
一般の磁気記録媒体において設けることが行われている
が、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるため
に設けられるものであって、厚さも０．００５〜０．５
μｍが一般的で、０．０１〜０．１μｍが好ましい。

【００２３】本発明の下層塗布層にはまた、磁性粉末を
用いる事もできる。磁性粉末としては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、
Ｃｏ変性γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、α−Ｆｅを主成分とする合金、
ＣｒＯ₂等が用いられる。特に、Ｃｏ変性γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
が好ましい。本発明の下層塗布層に用いられる強磁性粉
末は上層磁性層に用いられる強磁性粉末と同様な組成、
性能が好ましい。ただし、目的に応じて、上下層塗布層
で性能を変化させることは公知の通りである。例えば、
長波長記録特性を向上させるためには、下層塗布層のＨ
ｃは上層磁性層のそれより低く設定することが望まし
く、また、下層塗布層のＢｒを上層磁性層のそれより高
くする事が有効である。それ以外にも、公知の重層構成
を採る事による利点を付与させることができる。

【００２４】下層塗布層のバインダー、潤滑剤、分散
剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適
用できる。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤
の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適
用できる。

【００２５】次に磁性層に関する詳細な説明をする。本
発明の上層磁性層に使用する強磁性粉末としてはγ−Ｆ
ｅＯx（x＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯx
（x＝１．３３〜１．５）、α−ＦｅまたはＮｉまたは
Ｃｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末、バ
リウムフェライト、ストロンチウムフェライトなど公知
の強磁性粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成分とする
強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所
定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、
Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわな
い。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑
剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ
処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭44-140
90号、特公昭45-18372号、特公昭47-22062号、特公昭47
-22513号、特公昭46-28466号、特公昭46-38755号、特公
昭47-4286号、特公昭47-12422号、特公昭47-17284号、
特公昭47-18509号、特公昭47-18573号、特公昭39-10307
号、特公昭48-39639号、米国特許3026215号、同3031341
号、同3100194号、同3242005号、同3389014号などに記
載されている。

【００２６】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法を挙げることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。

【００２７】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば２５〜８０ｍ ²／ｇであり、好ま
しくは４０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以下では
ノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が得に
くく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶
子サイス゛は４５０〜１００オングストロ−ムであり、好ま
しくは３５０〜１００オングストロ−ムである。酸化鉄
磁性粉末のσsは５０〜９０ｅｍｕ／ｇ、好ましくは７
０〜９０ｅｍｕ／ｇ、であり、強磁性金属粉末の場合は
１００〜２００ｅｍｕ／ｇが好ましく、さらに好ましく
は１１０emu/g〜１７０emu/gである。抗磁力は１，１０
０Oe以上、３，０００Oe以下が好ましく、更に好ましく
は１，４００Oe以上２，５００Oe以下である。強磁性粉
末の針状比は４以上１８以下が好ましく、更に好ましく
は５以上１２以下である。強磁性粉末の含水率は０．０
１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強
磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄
のタップ密度は０．５〜１．５g/ml以上が好ましく、
０．８〜１．２g/mlがさらに好ましい。強磁性合金粉末
のタップ密度は０．２〜０．８g/mlが好ましく、０．８
g/ml以上に使用とすると強磁性粉末の圧密過程で酸化が
進みやすく、充分な飽和磁化σSを得ることが困難にな
る。タップ密度が０．２g/ml以下では分散が不十分にな
りやすい。γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の鉄
に対する比は好ましくは０〜２０％でありさらに好まし
くは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバルト原
子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。

【００２８】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１
２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は
必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末
に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸な
どの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好まし
い。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが５００ｐｐｍ
以下であれば特に特性に影響を与えない。

【００２９】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は０〜２０容量％、さ
らに好ましくは０〜５容量％である。また形状について
は先に示した平均粒径についての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。針状強
磁性粉末の場合、針状比は４〜１２が好ましい。この強
磁性粉末のＳＦＤが０．１〜０．６を達成するために
は、強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。
そのためには、ゲ−タイトの粒度分布をよくする、γ−
ヘマタイトの焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄に
ついてはコバルトの被着速度を従来より遅くするなどの
方法がある。

【００３０】本発明の上層磁性層に含まれる六方晶フェ
ライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換
体、Ｃｏ置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体
的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及
びストロンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含
有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及
びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定
の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ，
Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓ
ｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、
Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでも
かまわない。この中でＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｙ、Ｂ
ａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂが好ましい。一
般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−Ｚｎ等の元素を添加した
物を使用することができるが、特に好ましいものはバリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライトの各Ｃｏ置
換体である。上層磁性層の長手方向のＳＦＤは０．０１
〜０．３にすると抗磁力の分布が小さくなり好ましい。
抗磁力を制御するためには、平均粒径、粒子厚を均一に
する、六方晶フェライトのスピネル相の厚みを一定にす
る、スピネル相の置換元素の量を一定にする、スピネル
相の置換サイトの場所を一定にする、などの方法があ
る。

【００３１】本発明に用いられる六方晶フェライトは通
常六角板状の粒子であり、その平均粒径は六角板状の粒
子の板の幅を意味し電子顕微鏡を使用して測定する。本
発明では平均粒径（板径）は０．０１〜０．２μｍ、特
に好ましくは０．０３〜０．１μｍの範囲に規定するも
のである。また、該微粒子の平均厚さ（板厚）は０．０
０１〜０．２μｍであるが特に０．００３〜０．０５μ
ｍが好ましい。更に板状比（平均粒径／板厚）は１〜１
５であり、好ましくは３〜７である。また、これら六方
晶フェライト微粉末のＢＥＴ法による比表面積（ＳBE
T）は２５〜１００m²/g、４０〜７０m²/gが好ましい。
２５m²/g以下ではノイズが高くなり、１００m²/g以上で
は表面性が得にくく好ましくない。強磁性粉末の抗磁力
は５００Oe以上、４，０００Oe以下が好ましく、更に好
ましくは１，２００Oe以上３，０００Oe以下である。
１，０００Oe以下では短波長出力が低下し、４，０００
Oe以上ではヘッドによる記録がしにくく好ましくない。
σsは５０〜９０emu/g、好ましくは６０〜９０emu/gで
ある。タップ密度は０．５〜１．５ｇ／ｍｌが好ましく
０．８〜１．２ｇ／ｍｌがさらに好ましい。六方晶フェ
ライトの製法としてはガラス結晶化法・共沈法・水熱反
応法等があるが、本発明は製法を選ばない。

【００３２】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０
００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１０
０，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のもので
ある。

【００３３】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を下層塗布層、または上層磁性層に使用すること
も可能である。

【００３４】これらの例とその製造方法については特開
昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいも
のとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ばれる
少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこ
れらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあげら
れる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレ
タン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリエ
ステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、
ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプ
ロラクトンポリウレタンポリオレフィンポリウレタンな
ど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合
剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには
必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−
Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、 −Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上に
つきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、−Ｏ
Ｈ、−ＮＲ²、−Ｎ⁺Ｒ³（Ｒは炭化水素基）エポキシ
基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルフォベタイン、カルボキシベ
タイン、ホスホベタインなどから選ばれる少なくともひ
とつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したも
のを用いることが好ましい。このような極性基の量は１
０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6
モル／ｇである。

【００３５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製 ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、
ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポ
リウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ
２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０
５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４
００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０
９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、
ＵＲ−８６００、ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、Ｒ
Ｖ５３０、ＲＶ２８０、ＦＢ−８４、大日精化社製、ダ
イフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３０
０、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、Ｍ
Ｘ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、Ｔ
ＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００５、旭化成社製サラン
Ｆ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。この中でＭＲ−
１０４、ＭＲ１１０、ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、
ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、ＴＩＭ−３００５が
好ましい。

【００３６】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０
〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用い
る場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜２
０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ま
しい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガ
ラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜
２，０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。

【００３７】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ下層塗布層と上層磁性層、その他磁性層と
で変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関す
る公知技術を適用できる。例えば、上下層、中間層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには上層磁性層のバインダー量を増量することが有
効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする為
には、上層磁性層以外の磁性層か中間層のバインダー量
を多くして柔軟性を持たせることにより達成される。

【００３８】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭＲ
ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ−１
０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２０
０、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモ
ジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ルＮデ
スモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反
応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下
層塗布層、上層磁性層とも用いることができる。

【００３９】本発明に使用されるカ−ボンブラックはゴ
ム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、
アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面
積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００
ｍｌ／１００ｇ、平均粒径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨ
は２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカ−
ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、Ｂ
ＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７
２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５
０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３
００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０
Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５などがあ
げられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理し
たり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部を
グラファイト化したものを使用してもかまわない。

【００４０】また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。こ
れらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用す
ることができる。カ−ボンブラックを使用する場合は強
磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好
ましい。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性
層、下層塗布層非磁性層でその種類、量、組合せを変
え、平均粒径、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した
諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん
可能である。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラ
ックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラッ
ク協会編を参考にすることができる。

【００４１】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケ
イ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コラン
ダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ
−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモ−ス硬度６〜１０の公知の材料が単独または
組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複
合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用
してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物ま
たは元素が含まれる場合もあるが主成分が９０〜１００
％であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の平均粒
径は０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて平均
粒径の異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤で
も粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．１
〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／
ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針
状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一
部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に
用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社
製、ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩ
Ｔ−５０、ＨＩＴ−６０，ＨｉＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−８
０，ＨＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社
製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１０
０，ＴＦ−１４０などがあげられる。本発明に用いられ
る研磨剤は下層塗布層、上層磁性層で種類、量および組
合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可
能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処
理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明
の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在す
る研磨剤は５〜１３０個／１００μｍ²が好ましく、５
〜９０個／１００μｍ²が特に好ましい。

【００４２】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。

【００４３】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト 、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、
オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は０〜３０％が好ましく、さらに好
ましくは０〜１０％である。

【００４４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層塗布層、磁性層でその種類、量を必要に応
じ使い分けることができる。例えば、下層塗布層、磁性
層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制
御すること、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面
へのにじみ出しを制御すること、界面活性剤量を調節す
ることで塗布の安定性を向上させること、潤滑剤の添加
量を下層塗布層で多くして潤滑効果を向上させることな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。

【００４５】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目
的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布
で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的
が達成される場合がある。また、目的によってはカレン
ダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑
剤を塗布することもできる。

【００４６】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンア−マ−社
製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２００，イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオ
ネットＤＯ−２００などが挙げられる。

【００４７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は０〜３０％が好ましく、さらに好
ましくは０〜１０％である。本発明で用いる有機溶媒は
磁性層と下層塗布層でその種類は同じであることが好ま
しい。その添加量は変えてもかまわない。下層塗布層に
表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンな
ど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層磁性
層溶剤組成の算術平均値が下層塗布層溶剤組成の算術平
均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させ
るためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成
の内、誘電率が１５〜２５の溶剤が５０〜８０％含まれ
ることが好ましい。また、溶解パラメ−タは８〜１１で
あることが好ましい。

【００４８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が１〜１０μｍであるが、特に、１〜８μｍの薄
い非磁性支持体を用いる場合に有効である。 上層磁性
層磁性層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の
厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。また、非
磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のためのの接
着層を設ける。 接着層の厚みは０．０１〜０．５μ
ｍ、好ましくは０．０２〜０．３μｍである。また、非
磁性支持体の磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設け
てもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましく
は０．３〜１．０μｍである。これらの接着層、バック
コ−ト層は公知のものが使用できる。これらの接着層、
バックコ−ト層の厚みも磁気記録媒体の層厚みに含め
る。

【００４９】本発明に用いられる非磁性支持体は、マイ
クロビッカース硬度が７５〜１００kg/mm²のものであ
り、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート、ポリ
アミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリア
ミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフィルム
が使用できる。特に、アラミド樹脂を用いた非磁性支持
体が好ましい。非磁性支持体のマイクロビッカース硬度
が７５〜１００kg/mm²にするためにはフイルム製膜時の
加熱条件、弛緩条件、延伸条件等を調整する事および素
材を選択する事により行うことができる。これらの非磁
性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処
理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなって
も良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体と
して中心線平均表面粗さが０．００１〜０．０３μｍ、
好ましくは０．００１〜０．０２、さらに好ましくは
０．００１〜０．０１μｍのものを使用する必要があ
る。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面
粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がな
いことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて
非磁性支持体に添加されるフィラ−の大きさと量により
自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィラ
−としては一例としてはＡｌ，Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの
酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリ
ル系、メラミン系などの有機微粉末があげられる。

【００５０】本発明に用いられる非磁性支持体のテ−プ
走行方向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０Ｋｇ／ｍｍ
²、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ²であり、テ−プの長手方向のＦ−５値がテ−
プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に
幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向および幅方向
の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは０〜３
％、さらに好ましくは０〜１．５％、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは０〜１％、さらに好ましくは０
〜０．５％である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋ
ｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ²、
が好ましい。

【００５１】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成する
ためには、従来の公知の製造技術のを一部の工程として
を用いることができることはもちろんであるが、混練工
程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつも
のを使用することにより初めて本発明の磁気記録媒体の
高いＢｒを得ることができた。連続ニ−ダまたは加圧ニ
−ダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたは
その一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）お
よび強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で
混練処理される。これらの混練処理の詳細については特
開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に
記載されている。また、下層塗布層液を調整する場合に
は高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジル
コニアビーズが好適である。

【００５２】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルーシ゛ョン塗布装置等
により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がウェッ
ト状態にのうちに特公平1-46186号や特開昭60-238179
号，特開平2-265672号に開示されている支持体加圧型エク
ストルーシ゛ョン塗布装置により上層磁性層を塗布する。 ２，特開昭63-88080号、特開平2-17971号，特開平2-2656
72号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ
内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗
布する。 ３，特開平2-174965号に開示されているハ゛ックアッフ゜ロール付
きエクストルーシ゛ョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布す
る。なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変
換特性等の低下を防止するため、特開昭62-95174号や特
開平1-236968号に開示されているような方法により塗布
ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望まし
い。さらに、塗布液の粘度については、特開平3-8471号
に開示されている数値範囲を満足する必要がある。

【００５３】本発明の磁気記録媒体を得るためには強力
な配向を行う必要がある。１，０００Ｇ以上のソレノイ
ドと２，０００Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用
することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高
くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けること
が好ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用す
る場合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が
必要である。また、第二磁性層と第一磁性層の配向方向
を変更するために配向する方向は必ずしも塗布方向で面
内方向である必要はなく、垂直方向、幅方向にも配向で
きる。

【００５４】さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属
ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは７０〜１５０℃、さらに好ましくは８０〜１５０
℃である。線圧力は好ましくは２００〜５００Ｋｇ／ｃ
ｍ、さらに好ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍであ
る。

【００５５】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．１〜０．５、さらに０．１５〜０．３、表面固有
抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オ−ム／ｓｑ、磁性層
の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ま
しくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好
ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体の弾性率
は走行方向、長い方向とも好ましくは１００〜１，５０
０Ｋｇ／ｍｍ²、残留伸びは好ましくは０〜０．５％、
１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは
０〜１％、さらに好ましくは０〜０．５％、もっとも好
ましくは０〜０．１％である。磁性層のガラス転移温度
(110HZで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大
点)は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層塗布層
のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×
１０⁸〜８×１０⁹dyne/cm²の範囲にあることが好まし
く、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失
正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。磁性層中に含
まれる残留溶媒は好ましくは０〜１００ｍｇ／ｍ²、さ
らに好ましくは０〜１０ｍｇ／ｍ²であり、上層磁性層
に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒よ
り少ないほうが好ましい。磁性層が有する空隙率は非磁
性下層塗布層、磁性層とも好ましくは０〜３０容量％、
さらに好ましくは０〜２０容量％である。空隙率は高出
力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によっ
てはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰
り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では
空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。

【００５６】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テ−プ走行方向の角形比は０．
７０〜１．００であり、好ましくは０．８０〜１．００
であり、さらに好ましくは０．９０〜１．００である。
テ−プ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向
の角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層の
ＳＦＤは０．１〜０．６であることが好ましい。

【００５７】磁性層の中心線表面粗さＲａは１ｎｍ〜１
０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定され
るべきである。電磁変換特性を良好にする為にはＲａは
小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするために
は逆に大きいほど好ましい。ＡＦＭによる評価で求めた
ＲＭＳ表面粗さＲRMSは２ｎｍ〜１５ｎｍの範囲にある
ことが好ましい。

【００５８】本発明の磁気記録媒体は下層塗布層と上層
磁性層を有するが、目的に応じ下層塗布層と磁性層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行
耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率を磁性
層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くす
るなどである。

【００５９】

【実施例】次に本発明の実施例、比較例により具体的に
本発明を説明する。実施例中、「部」との表示は「重量
部」を表す。

【００６０】非磁性支持体 非磁性支持体にはポリアラミド、２種類のポリエチレン
ナフタレート、ポリエチレンテレフタレートの４種の非
磁性支持体を作成した。

【００６１】Ａ：ポリアラミド 乾燥したＮメチルピロリドンを３００リットルの攪拌槽
中に１５０リットル入れ、これに塩化リチウム７ｋｇ，
２−クロルｐフェニレンジアミン２．４ｋｇ，４，４’
−ジアミノジフェニールエーテル０．５０ｋｇを溶解さ
せ０℃に保ち、全体をゆっくり攪拌した。攪拌を続けな
がら、約４０分間にわたり、粒状化したテレフタル酸ク
ロライド４．１ｋｇを添加した。一時間そのまま攪拌を
続け、粘稠なポリマー溶液を得た。 大型ミキサー中に
大量の水を入れ、ポリマー溶液をこれに添加し再沈さ
せ、繊維状の固形ポリマーを得た。これを洗浄、乾燥し
た後、ポリマー２．５ｋｇ、臭化リチウム１．２ｋｇ、
Ｎメチルピロリドン６０ｌを混合し室温にて均一な溶液
を調製した。 このポリマーの固有粘度は５．１であっ
た、この液を表面研磨されたステンレスのドラム上へ均
一に口金から流延し１２５℃の雰囲気で約３０分加熱し
た。このフィルムをドラムから剥離し、連続的に水槽中
へ約１０分間浸漬した。 このフィルムをテンターで定
長下に３２０℃、約５分間加熱し厚さ４．５μｍの透明
な表面平滑フィルムを得た。 このフィルムは強度４２
kg/mm²、引っ張り弾性率１，５００kg/mm²を示し、２５
０℃での熱収縮率が０．５％であった。このもののマイ
クロビッカース硬度は９３．７kg/mm²であった。

【００６２】Ｂ：ポリエチレンナフタレート ナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチル１００部
（重量基準，以下同じ）、エチレングリコール６０部，
酢酸マグネシウム０．０８６部及び三酸化アンチモン
０．０３部を反応器に取り付け、エステル交換反応を行
った。反応温度は反応の進行に伴い１６０℃から２２０
℃に調節し、流出するメタノール量により反応の完結を
確認した。エステル交換反応終了後、平均粒径０．１μ
ｍのコロイダルシリカのエチレングリコールスラリーを
酸化珪素として０．２５部、及びトリメチルホスフェー
トのエチレングリコール溶液をリン原子として０．００
６部それぞれ添加した後、常法により最終温度２８５
℃、最終圧力０．０９mmＨｇで重縮合を行い、極限粘度
０．５９のポリエチレンナフタレートを得た。上記、ポ
リエチレンナフタレートポリマーのチップを乾燥した
後、温度２９８℃で溶融押しだし、厚み８０μｍの未延
伸原反を作成し、この未延伸原反を小型モデル延伸機
（米国ＴＭ−ｌｏｎｇ社製）の使用により縦方向に５．
５倍、横方向に３．２倍延伸し、２００℃で３０秒間熱
固定して厚み４．５μｍの二軸延伸ポリエチレンナフタ
レートフィルムを得た。このもののマイクロビッカース
硬度は８６kg/mm²であった。

【００６３】Ｃ：ポリエチレンナフタレート Ｂと同様に、厚み８０μｍの未延伸原反を縦方向に７．
０倍、横方向に２．５倍延伸し、２００℃で３０秒間熱
固定して厚み４．５μｍの二軸延伸ポリエチレンナフタ
レートフィルム２を得た。このもののマイクロビッカー
ス硬度は７１．３kg/mm²であった。

【００６４】Ｄ：ポリエチレンテレフタレート テレフタル酸ジメチル及びエチレングリコールの等モル
量混合物に、酢酸カルシウム０．０８重量％，酢酸リチ
ウム０．１５重量％，酢酸アンチモン０．０４重量％，
トリメチルフォスフェート０．１５重量％及び平均粒子
径１．１μｍの炭酸カルシウム０．０３重量％を添加
し、常法により重縮合してポリエステルを製造した。
得られたポリエステルを乾燥し、押し出し成型機により
未延伸シートを製造し、このシートをロ−ルによりフィ
ルム温度１００℃で縦（押し出し）方向に３．２倍延伸
し、次いで、テンター内で両端をクリップして、フィル
ム温度１１０℃で横方向に３．７倍延伸し、次いで、横
方向に５％弛緩させて２０５℃の温度で１０秒間熱処理
して厚み４．５μｍのポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを得た。このもののマイクロビッカース硬度は７０
kg/mm²であった。

【００６５】接着層 以下の組成の接着層を設けた。 ポリエステル樹脂（富士写真フイルム製STAFIX） １０部 メチルエチルケトン ２００部 トルエン ２００部 上記、バインダー溶液を下層塗布層塗布に先だって乾燥
厚みが０．１μｍ以下になるように塗布した。

【００６６】 −Ａ：下層塗布層（非磁性） 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径 ０．０３５μｍ BET法による比表面積 ４０ｍ²／ｇ ｐＨ ７ ＴｉＯ₂含有量 90%以上 DBP吸油量 27〜38g/100g、 表面処理剤 Al₂O₃ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０m²/g 揮発分 １．５％ 塩化ビニルー酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 １２部 −N(CH₃)₃ ⁺Cl^-の極性基を５×１０^-6eq/g含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度400 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=０．９／２．６／１ -SO3Na基 １×１０^-4eq/g含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．２μｍ） １０部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００６７】 −Ｂ：下層塗布層（磁性層） 強磁性粉末 コバルト含有酸化鉄磁性粉末 １００部 Ｈｃ：８４０Oe、ＳBET：４５m²/g 結晶子サイス゛：２５０A 針状比：１／７ カーボンブラック １５部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０m²/g 揮発分 １．５％ 塩化ビニルー酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 １１部 −N(CH₃)₃ ⁺Cl^-の極性基を５×１０^-6eq/g含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度400 ポリエステルポリウレタン樹脂 ８部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=０．９／２．６／１ -SO3Na基 １×１０^-4eq/g含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．２μｍ） １０部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００６８】−Ｃ：−Ａの組成の内、カーボンブラ
ックを２０重量部から３重量部へ少なくし、替わりにα
−Ａｌ₂Ｏ₃を１０重量部から２５重量部へ増加させた。 −Ｄ：−Ｃと同じく、−Ｂの組成の内、１５重量
部のカーボンブラックを１重量部に減らし、かつα−Ａ
ｌ₂Ｏ₃を１０重量部から２０重量部へ増やした。

【００６９】 −Ａ：メタル磁性層（上層磁性層） 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=90/10 １００部 Ｈｃ １９６０Oe、 BET法による比表面積 ５９m²/g 結晶子サイズ１５０A 表面処理剤Al₂O₃,SiO₂ 平均粒径（長軸径） ０．１２μｍ 針状比 ８ σs:１３０emu/g 塩化ビニル系共重合体 １２部 日本ゼオン（株）製「ＭＲ１１０」 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=０．９／２．６／１ -SO3Na基 １×１０^-4eq/g含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．１５μｍ） １０部 カ−ボンブラック（平均粒径０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部

【００７０】 −Ｂ：バリウムフェライト磁性層（上層磁性層） 六方晶バリウムフェライト １００部 Ｈｃ １５００Oe ＢＥＴ法による比表面積 ４０m²/g 平均粒径（板径） ０．０５μｍ 平均板厚 ０．０１μｍ σs:６０emu/g 表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ５重量％ ＳｉＯ₂ ２重量％ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＰＯ₃Ｎａ含有量:１ｘ１０^-4eq/g 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（平均粒径０．３μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒径０．０１５μｍ） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００７１】上記の塗料のそれぞれについて、各成分を
連続ニ−ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散さ
せた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを下層塗布
層の塗布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加
え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン混合溶媒４０部を加え，１μｍの平均孔径を有す
るフィルタ-を用いて濾過し、下層塗布層、磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調整した。得られた下層塗布層塗布液
を、乾燥後の厚さが２μｍになるようにさらにその直後
にその上に磁性層の厚さが０．２μｍになるように、厚
さ４．５μｍで中心線表面粗さが０．００５μｍの前述
の非磁性支持体上に同時重層塗布をおこない、両層がま
だ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁力をもつコバル
ト磁石と１５００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向
させ乾燥後、金属ロ−ルのみから構成される７段のカレ
ンダで温度８５℃にて２００m/min.で処理を行い、その
後、厚み０．５μｍのバック層を塗布した。８mmの幅に
スリットし、８mmビデオテ−プを製造した。

【００７２】評価方法 ＜マイクロビッカース硬度＞マイクロビッカース硬度は
ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、求めた。
使用した圧子先端は稜角８０度のダイヤモンド製三角錐
針で、その先端半径は０．１μｍである。 最大負荷荷
重０．２ｇ，押し込み速度１．４ｎｍ／sec押し込み深
さ０．１〜１．０μｍである。 圧子の押し込みに対す
る圧子が受ける力を測定し、圧子の押し込み深さの２乗
と圧子が受ける荷重とをプロットすると硬さの異なる上
層磁性層と下層塗布層との境が変曲点になり、その前後
で傾きが変化する。 この傾きからマイクロビッカース
硬度を求めることができる。その定義は以下である。
微小硬度をＨＭ，マイクロビッカース硬度をＨＶとする
と、（ここでＷは荷重、δは押し込み深さ） ＨＶ＝５４×（ＨＭ）^0.8 ＨＭ＝Ｗ／３．２９δ² で表される。詳細は「薄膜の力学的特性評価技術」リア
ライズ社を参考にできる。

【００７３】＜下層塗布層磁性層のビッカース硬度の測
定方法＞回転する研磨装置、例えばダイアモンドホイル
等にテ−プをラップさせて削り取ることが一般的であ
る。条件としては、回転数１００〜１０，０００rpm、
テンション１０〜２，０００g／12.65mm、研磨装置はダ
イモンドホイルに限らず、研磨テ−プやアルカンサス砥
石等適宜選択することができる。上層磁性層を研磨しな
がら、研磨部分の一部を切りとり、逐次ＶＳＭで磁化測
定を行い、磁化が無くなった事を確認することが必要で
ある。 その後、ビッカース硬度を測定する。

【００７４】＜磁性層の厚み測定方法＞磁気記録媒体の
長手方向に渡ってダイアモンドカッターで約０．１μｍ
の厚みに切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率３万倍で観
察し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズは
Ａ４版である。その後、磁性層、非磁性層の強磁性粉末
や非磁性粉末の形状差に着目して界面を目視判断して黒
く縁どり、かつ磁性層表面も同様に黒く縁どった。その
後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁とり
した線の間隔を測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの
範囲に渡り、測定点を点取って測定した。その際の測定
値の単純加算平均値を磁性層の厚みとした。

【００７５】＜密着強度＞８mm幅にスリットしたテ−プ
を３Ｍ製粘着テ−プにはりつけ、２３℃７０％ＲＨで１
８０度剥離強度を測定した。使用上問題の無い密着強度
は２０ｇ以上望ましくは５０ｇ以上である。

【００７６】＜ＢＥＴ法による比表面積＞カンターソー
プ（ＵＳカンタークロム社製）を用いた。２５０℃，３
０分間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３
０）で測定した。 ＜磁気特性Ｈｃ，Ｂｒ、角型比＞振動資料型磁束計（東
英工業製）を用い、Ｈｍ１０ｋOeで測定した。 ＜中心線平均表面粗さ＞ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用
いて、媒体表面をＭＩＲＡＵ法で約２５０ｎｍ×２５０
ｎｍの面積のＲａを測定した。測定波長は約６５０ｎｍ
で球面補正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉に
て測定する非接触の表面粗さ計である。

【００７７】＜ＳＴＭｒｍｓ平均表面粗さ＞ＳＴＭの測
定はDigital Instrument社のNanoscopeIIを用い、トン
ネル電流：10nA、ハ゛イアス電圧：400mVの条件で、６μm×
６μmの範囲をスキャンした。表面粗さはこの範囲のＲr
msを以下の式の化１にもとずいて求めて比較した。

【００７８】

【化１】

【００７９】＜強磁性粉末、非磁性粉末の平均粒径＞透
過型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から強磁性粉末
の短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画像解析装置
カールツァイス社製ＩＢＡＳＳ１で透過型顕微鏡写真を
トレースして読みとる方法とを適宜併用して平均粒子径
を求めた。

【００８０】＜強磁性粉末結晶子サイズ＞Ｘ線回折によ
りγ酸化鉄強磁性粉末では（４，４，０）面と（２，
２，０）面の回折線の半値幅のひろがり分から求めた。
メタル強磁性粉末の場合は同様に（１，１，０）面と
（２，２，０）面の回折線の半値幅の広がり分から求め
られる。

【００８１】＜電磁変換特性＞ ７ＭＨｚ出力 富士写真フィルム（株）製「FUJIX８」８mmヒ゛テ゛オテ゛ッキを用い
て７MHz信号を記録し、この信号を再生したときの７MHz
信号再生出力をオシロスコーフ゜で測定した。レファレンスは富
士写真フィルム製８ミリテープＳＡＧ、Ｐ６−１２０で
ある。 Ｃ／Ｎ比 富士写真フィルム（株）製FUJIX８の８mmヒ゛テ゛オテ゛ッキを用いて
７MHz信号を記録し、この信号をを再生したときの６MHz
で発生するノイズをスヘ゜クトラムアナライサ゛-で測定し、このノイ
ズに対する再生信号の比を測定した。

【００８２】＜走行耐久性＞試料を２３℃、７０％ＲＨ
雰囲気で富士写真フィルム社製８mmビデオデッキＦＵＪＩＸ
８、１０台で１００回走行させた。 その間、出力低下
を測定し、また、走行後のデッキ内各部の汚れとエッジ
ダメージを評価した。 ○：出力低下が３ｄＢ以内であり、デッキ内各部の汚れ
が目視で認められない。 △：出力低下が３ｄＢ以内で
あるが、デッキ内各部の汚れが目視で明らかに多いと認
められる。×：出力低下が３ｄＢ以上であり、デッキ内
各部の汚れも多い。 得られた結果は以下の表１〜表４に示した。

【００８３】

【表１】

【００８４】

【表２】

【００８５】

【表３】

【００８６】

【表４】

【００８７】表１〜表４の結果より明らかなごとく、本
発明のサンプルは歩留まりが高く非磁性支持体と下層塗
布層との密着が強く、７ＭＨｚの出力やＣＮが高く、且
つ走行耐久性が優れていることがわかった。これに対し
本発明の範囲外のサンプルはこれらの全ての特性を同時
に満たすものはなかった。

【００８８】

【発明の効果】本発明は上層磁性層の厚みが０．０５〜
１．０μｍであり、下層塗布層の厚みが０．５〜５．０
μｍであり、且つ磁気記録媒体の総厚みが４〜１０μｍ
であり、非磁性支持体のマイクロビッカース硬度が７５
〜１００kg/mm²、下層塗布層のマイクロビッカース硬度
が２５〜５０kg/mm²である磁気記録媒体によって電磁変
換特性が良好で、かつ繰り返し走行によるエッジダメー
ジの少ない走行耐久性に優れ、磁性層と非磁性支持体と
の接着性が良好で粉落ちによるＤＯが少ない磁気記録媒
体が得られる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に、まず、ポリマーを主
   成分とする接着層を設け、次いで、主として無機粉末と
   結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも
   強磁性粉末と結合剤とを含む一層以上の上層の磁性層を
   設けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の厚みが
   ０．０５〜１．０μｍであり、前記下層塗布層の厚みが
   ０．５〜５．０μｍであり、且つ前記磁気記録媒体の総
   厚みが４〜１０μｍであり、前記非磁性支持体のマイク
   ロビッカース硬度が７５〜１００kg/mm²、前記下層塗布
   層のマイクロビッカース硬度が２５〜５０kg/mm²である
   ことを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主
   として強磁性粉末及び／または非磁性金属酸化物である
   ことを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記下層塗布層に含まれる強磁性粉末が
   Ｃｏ変性γ酸化鉄であることを特徴とする請求項２の磁
   気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記下層塗布層に含まれる非磁性金属酸
   化物がルチル型酸化チタン、アナタース型酸化チタン、
   非晶質酸化チタン、α酸化鉄、酸化亜鉛、硫酸バリウ
   ム、の中から選ばれる一種以上であることを特徴とする
   請求項２の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 非磁性支持体が芳香族ポリアミドからな
   ることを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記下層塗布層と少なくともそれに接す
   る磁性層がウェットオンウェット塗布方式で形成された
   ものであることを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。