JP4199934B2 - 磁気記録装置用クリーニング媒体 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オーディオ、ビデオ、コンピューター用磁気記録再生装置に使用されている磁気ヘッドもしくは走行系の清浄に利用されるクリーニングテープ等の磁気記録装置用クリーニング媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般にビデオ用、オーディオ用、コンピューター用の磁気記録装置の記録・再生は、磁気ヘッドと磁気テープ等の磁気メディアをお互いに接触させつつ摺動して行われる。この時、磁気ヘッドの表面に磁気テープの削れ粉や装置の周辺の塵埃が付着すると再生出力が低くなり、さらには出力が全く得られなくなる。このように低下した再生出力を回復するために、磁気ヘッドの表面に付着した汚れをクリーニングして再生出力を復元するクリーニングテープ等のクリーニング媒体が用いられる。
【０００３】
一方、磁気記録は年々高密度化が進んでおり、磁気ヘッド先端と磁気テープとの接触の様子を良好にしてやらなければ、十分な記録再生ができないことが多くなってきた。いわゆる、ヘッド当たりを良好に保つために、クリーニングテープは磁気ヘッドの汚れを取るばかりでなく、ある程度ヘッドの形状を整えてやることも必要になってきている。特に、近年は最短記録波長が１μｍ以下となるような高密度記録を行う磁気記録再生装置の磁気ヘッドも使用され、この磁気ヘッドにおけるギャップ長は０．４μｍ以下であり、僅かなヘッドの汚れも記録再生性能に支障を来すことになる。
【０００４】
また、磁気ヘッドも高密度化に伴い、ＭＲヘッドが用いられるようになってきた。一般に用いられるシールド型ＭＲヘッド素子の高さは数ミクロン以下であり、従来のフェライトヘッドやセンダスト等の金属ヘッドと比べて、ヘッド磨耗量をなるべく少なくしなければならない。
【０００５】
また、近年、Ｈｉ−８やＤＶＣのように、蒸着テープ（ＭＥテープ）とメタル粉テープ（ＭＰテープ）との両方が使用できる磁気記録装置が登場してきている。蒸着テープは剛性の高い金属薄膜が磁気ヘッドと接触するので、この磁気ヘッド先端が鋭くなっていないと良好な接触状態すなわち記録再生特性が得られにくい。さらに、蒸着テープは研磨剤を含まないので、その接触における磁気ヘッドの摩耗が少なく、磁気ヘッドとのなじみ性が低いものである。一方、メタルテープはその磁性層に磁性粉末が結合剤中に含まれているので、磁気ヘッドと柔らかく接触することになり、ヘッド先端の形状によってそれほどテープとのヘッド当たりが変化することはないし、また、摩耗力を有しているので磁気ヘッドとのなじみも良好である。
【０００６】
それゆえ、蒸着テープを走行させた後の磁気ヘッドに対してメタルテープを走行させても、ヘッド当たりの変化はそれほど見られないが、その逆に、メタルテープを走行させた後に蒸着テープを走行させると、ヘッド当たりが不調になる場合がある。
【０００７】
磁気ヘッドの研磨に使用する研磨テープの先行技術としては、例えば特開昭６２−９２２０５号には、非磁性支持体上に、非磁性粉末を含む中間層と、非磁性研磨剤を含む研磨層を順に積層した研磨テープが開示されている。この研磨テープは、２層構成を採用し、中間層の表面性を粗くする一方、上層研磨層の研磨剤粒子径を細かくすることにより、研磨力を維持しつつヘッド傷の発生を防ぐようにしているが、この研磨テープは磁気ヘッドの仕上げ研磨用であって、表面粗さが０．０３〜０．３μｍであることからも、ヘッド摩耗が多くクリーニングとしての適度の研磨を行うことが困難で、クリーニングテープとしての用途には不適当である。上記と同様の磁気ヘッドの研磨テープが、特開昭６２−９４２７０号、特開昭６２−９２２０５号にも開示されている。これらも２層構成の研磨層を有するが、適度の研磨によって磁気ヘッドに傷を付けることなく良好なクリーニングを行うことは困難で、クリーニング媒体としては適していないものである。
【０００８】
そして、ＭＲヘッドはフェライトヘッドやセンダスト等の金属ヘッドと比べて、ヘッド磨耗量をなるべく少なくしなければならないという問題があるが、この問題を解消する有効な手段が望まれていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ＭＲヘッドに対するクリーニング力が高く、かつＭＲヘッドへのキズの発生がなくしかもヘッド磨耗の少ない磁気記録装置用クリーニング媒体を提供することを課題とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、非磁性支持体上に、主として非磁性無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる磁気記録装置用クリーニング媒体において、クリーニング層表面に３５〜１００ｎｍの高さの突起が、５〜８０個／９００μｍ2存在し、且つクリーニング層に脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含むことを特徴とする磁気記録装置用クリーニング媒体である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のクリーニング媒体の基本構造は、非磁性支持体上に、非磁性無機粉末と結合剤とを主成分とする下層塗布層と、その上に少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる。
本発明はクリーニング層表面の突起分布及びクリーニング層に用いる潤滑剤を特定したものである。
本発明ではクリーニング層表面の突起分布は、突起高さが３５〜１００ｎｍ、好ましくは３５〜８０ｎｍの範囲及び突起数が５〜８０個／９００μｍ2、好ましくは５〜６０個／９００μｍ2に制御される。
ここで、上記本発明の突起分布は、DIGITAL INSTRUMENT社製のNANOSCOPE IIIを用い、コンタクトモードで約３０μｍ×３０μｍの範囲を測定し、突起とくぼみの体積が等しくなる面を基準面とし、基準面から３５〜１５０ｎｍの高さの面でスライスした場合にスライス乃至接触される突起の数をカウントして求められるものをいう。
【００１２】
突起分布を上記範囲とすることにより、適度のＭＲヘッドに対するクリーニング性能を有することになり、突起高さが上記範囲でも突起数が少な過ぎるとクリーニング力が低下してＭＲヘッドの汚れが除去できず、また突起数が多過ぎると、ヘッド磨耗が大きくて且つクリーニング後にＭＲヘッドを傷つけてしまう。
また、本発明の突起分布の範囲でも通常の潤滑剤を用いてはヘッド磨耗が大きめであり、本発明に用いる特定の潤滑剤組成と組み合わせることにより、対ヘッドとの摩擦係数が最適となり、ヘッド磨耗を低減できる。
突起分布、即ち突起数及び突起高さを本発明範囲に制御する手段としては、例えば、以下に記載の手段を例示することができるが、これに限定されない。
１．下層塗布層及び／又はクリーニング層に添加される各種粉体のサイズ及び添加量を調整する。
２．下層塗布層のカレンダー条件、または下層塗布層及びクリーニング層からなる積層体へのカレンダー条件を調整する。
上記詳細な条件は後述される。
【００１３】
本発明ではクリーニング層に潤滑剤として脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含ませる。
例えば、脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルとしては以下のものが例示される。
脂肪酸アミドとしては炭素数８〜２２の脂肪酸アミドが挙げられる。
脂肪酸としては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）が挙げられる。
脂肪酸エステルとしては、上記炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸と炭素数４〜２２のアルコールとのエステルが挙げられる。
【００１４】
上記脂肪酸、そのアミド及びそのエステルに用いられる脂肪酸及び／又はアルコールは、飽和でも不飽和でも、また直鎖でも分岐していてもあるいは脂環式環を有していてもよい。また、脂肪酸及び／又はアルコールは、アルコキシ基を有したものでもよく、あるいはアルキレンオキシド重合物またはそのモノアルキルエーテル化されたものを有したものでもよい。脂肪酸エステルは、１価エステルでも多価エステル、好ましくは１価〜３価エステルでもよく、後者の場合、ヒドロキシル基が残っていてもよい。脂肪酸アミドは、１価アミドでも多価アミドでもよく、後者の場合、カルボキシル基が残っていてもよい。これら脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルは、前記クリーニング層表面の突起分布との関係で最適なものが選定される。脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくともいずれかは、２種以上のものを組み合わせて用いることもできる。
【００１５】
これら脂肪酸、脂肪酸エステルの具体例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等が挙げられる。また、脂肪酸アミドも上記脂肪酸から誘導されるものが挙げられる。
【００１６】
クリーニング層への脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルの総使用量は、強磁性粉末１００質量部に対して０．１〜１０質量部が好ましく、０．５〜５質量部が更に好ましい。脂肪酸アミド、脂肪酸または脂肪酸エステルの各使用量は上記範囲から適宜分配され、最適な範囲が選定される。一般に量の関係では、脂脂肪酸アミド≦脂肪酸≦肪酸エステルとなることが好ましい。
【００１７】
クリーニング層に混合する無機粉末としては強磁性粉末を含み、この強磁性粉末としては、γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、α−ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂ，Ｍｇなどの原子を含んでもかまわない。特に、メタル磁性体の場合はＡｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｙ，Ｂａ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｂがα−Ｆｅ以外に含まれる元素として重要である。とりわけ、Ｓｉ，Ａｌ，Ｙが表面処理や焼結防止剤として重要である。ＣｏはＦｅに対し２〜４０質量％含有したものが好ましい。Ｓｉ，Ａｌ，Ｙは０〜１０質量％の間で含まれる。これらの強磁性粉末には後で述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−３９６３９号、米国特許３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００１８】
上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００１９】
本発明のクリーニング層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ2 ／ｇである。４０ｍ2 ／ｇ以下または８０ｍ2 ／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明のクリーニング層の強磁性粉末の結晶子サイズは３００〜１００Åであり、好ましくは２５０〜１００Å、更に好ましくは２００〜１４０Åである。
【００２０】
強磁性粉末の飽和磁化σｓは１００〜１８０Ａ・ｍ2／ｋｇが好ましく、さらに好ましくは１１０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ、更に好ましくは１２５〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇである。強磁性粉末の抗磁力Ｈｃは５００〜３０００Oe（≒４０〜２４０ｋＡ／ｍ）が好ましい。角型比は０．６〜０．９８が好ましく、クリーニング層の磁化量は３０〜３００ｍＴ・μｍが好ましい。一方、強磁性粉末の針状比は４〜１８が好ましく、更に好ましくは５〜１２である。強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。
【００２１】
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ，Ｃａ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。
【００２２】
クリーニング層及び下層塗布層に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。
【００２３】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層塗布層、または上層クリーニング層に使用することも可能である。
【００２４】
これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタンなど公知のものが使用できる。中でも、少なくともポリオールと有機ジイソシアネートを主要原料とした反応生成物であるポリウレタン樹脂からなり、該ポリオール成分として前記ポリウレタン樹脂中に、環状構造を有する短鎖ジオール成分、長鎖ポリエーテルポリオール成分、更に分子量５００〜５０００の極性基含有長鎖ポリオール成分を含むものが好ましい。
【００２５】
ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 （以上につきＭは水素原子またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ2 、−Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００２６】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト社製のＶＡＧＨ，ＶＹＨＨ，ＶＭＣＨ，ＶＡＧＦ，ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ、日信化学工業社製のＭＰＲ−ＴＡ，ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ，ＭＰＲ−ＴＭ，ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製の１０００Ｗ，ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３，１００ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４，ＭＲ−１０５，ＭＲ１１０，ＭＲ１００，４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製のニッポランＮ２３０１，Ｎ２３０２，Ｎ２３０４、大日本インキ社製のパンデックスＴ−５１０５，Ｔ−Ｒ３０８０，Ｔ−５２０１，バーノックＤ−４００，Ｄ−２１０−８０，クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製のバイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００，ＵＲ８６００、大日精化社製のダイフェラミン４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２０、三菱化学社製のＭＸ５００４、三洋化成社製のサンプレンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００３，ＴＩＭ−３００５、旭化成社製のサランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげられる。この中でＭＲ−１０４，ＭＲ１１０，ＭＰＲ−ＴＡＯ，ＭＰＲ−ＴＡ，ＵＲ−８２００，ＵＲ８３００，ＴＩＭ−３００５が好ましい。
【００２７】
本発明のクリーニング層に用いられる樹脂成分と硬化剤との合計（すなわち結合剤）は強磁性粉末を含む無機粉末に対し、５〜２４質量％の範囲、好ましくは８〜２２質量％の範囲で用いられる。下層塗布層に用いられる結合剤量は、非磁性無機粉末１００質量部に対して、通常１５〜４０質量部の範囲内にあることが好ましく、さらに好ましくは２０〜３０質量部である。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。特に、クリーニング層にポリイソシアネートを含まず、下層塗布層にポリイソシアネートを含む構成が望ましい。
【００２８】
本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
【００２９】
本発明のクリーニング媒体は二層以上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、クリーニング層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層塗布層とクリーニング層とで変えることはもちろん可能であり、公知技術を適用できる。
【００３０】
前記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、大日本インキ社製のバーノックＤ５０２等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせで下層塗布層、上層クリーニング層共に用いることができる。
【００３１】
本発明のクリーニング層は、カーボンブラックを無機粉末として混合してもよく、このカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ccが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃５，＃９００，＃９５０，＃９７０，＃１０００、＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックをクリーニング層用塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。
【００３２】
カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の５質量％以下で用いることが好ましい。カーボンブラックはクリーニング層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックはクリーニング層、下層塗布層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。
【００３３】
また、前記クリーニング層には無機粉末として研磨剤を含んでもよく、この研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、モース硬度６以上の公知の材料が単独または組み合わせで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製のＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０，ＨＩＴ−６０，ＨｉＴ−６０Ａ，ＨＩＴ−７０Ａ，ＨＩＴ−８０，ＨＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製のＧ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製のＴＦ−１００，ＴＦ−１４０などがあげられる。
【００３４】
これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ＰＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ2 ／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものがクリーニング性が高く好ましい。クリーニング層の無機粉末としての研磨剤の配合量は、前記強磁性粉末１００質量％に対して１〜４５質量％である。本発明に用いられる研磨剤は前述の下層塗布層、上層クリーニング層で種類、量および組み合わせを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明のクリーニング媒体のクリーニング層表面およびクリーニング層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ2 以上が好ましい。
【００３５】
本発明の下層塗布層またはクリーニング層に使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。
【００３６】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００３７】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層塗布層、クリーニング層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層塗布層、クリーニング層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御するか、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御するか、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させるか、潤滑剤の添加量を下層塗布層で多くして潤滑効果を向上させることなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
また、下層塗布層へクリーニング層に添加される前記脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを添加することも好ましい。
【００３８】
また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、塗料製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に無機粉末と混合する場合、無機粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じてクリーニング層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダー処理した後、またはスリット終了後、クリーニング層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００３９】
本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製のＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エルカ酸、関東化学社製のオレイン酸、竹本油脂社製のＦＡＬ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製のエヌジェルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０３０、信越化学社製のＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６Ｌ，ＫＦ９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製のアーマイドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製のデュオミンＴＤＯ、日清製油社製のＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製のプロファン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などが挙げられる。
【００４０】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性無機粉末は、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。
【００４１】
無機化合物としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組み合わせで使用される。特に好ましいのは、入手の容易さ、コスト、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いことなどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。
【００４２】
これら非磁性無機粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性無機粉末を組み合わせたり、単独の非磁性無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性無機粉末の粒子サイズは０．０１〜０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性無機粉末の含水率は０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性無機粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５〜１０の間が特に好ましい。非磁性無機粉末の比表面積は１〜１００ｍ2 ／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ2 ／ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ2 ／ｇである。非磁性無機粉末の結晶子サイズは０．００４〜１μｍが好ましく、０．０４〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良いが、粒状非磁性無機粉末の場合には平均粒径が０．０８μｍ以下のものを無機粉末全体に対して５０質量％以上含むのが望ましく、また、針状非磁性無機粉末の場合には平均長軸長が０．０５〜０．３μｍで針状比が３〜２０のものを無機粉末全体に対して５０質量％以上含むのが好適である。
【００４３】
強熱減量は２０質量％以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記無機粉末のモース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μモル／ｍ2 、更に好ましくは２〜１５μモル／ｍ2 である。下層塗布層非磁性無機粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００〜６００ｍＪ／ｍ2 の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Ａが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。
【００４４】
これらの非磁性無機粉末の表面は、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 で表面処理が施されたものが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００４５】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性無機粉末の具体的な例としては、昭和電工社製ナノタイト、住友化学社製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイト、ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、石原産業社製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業社製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学社製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業社製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル社製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産社製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００４６】
上記のうち特に好ましい非磁性無機粉末は、α−酸化鉄と二酸化チタンである。α−酸化鉄（ヘマタイト）は、以下のような諸条件の基で得られたものが使用できる。まず、α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は、次の方法により前駆体粒子としての針状ゲータイト粒子を得る。第１の方法としては、第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト粒子を生成させる方法。第２の方法としては、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ3 を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法。第３の方法としては、第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ2+に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法。第４の方法としては、第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等である。なお、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等のために通常添加されているＮｉ，Ｚｎ，Ｐ，Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。
【００４７】
そして、前駆体粒子である前記針状ゲータイト粒子を２００〜５００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を得る。なお、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子が表面にＰ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。また、３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態とさせることが好ましいからである。
【００４８】
本発明において用いられるα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を施すことにより得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１〜５０質量％である。０．０１質量％未満である場合には、結合剤樹脂中における分散が不十分であり、５０質量％を超える場合には粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が相互作用するために好ましくない。
【００４９】
本発明における下層塗布層の非磁性無機粉末においては、Ａｌ化合物と共にＳｉ化合物を始めとして、Ｐ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｓｂから選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆することもできる。Ａｌ化合物と共に用いるこれらの化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ2 Ｏ3粒子粉末に対して０．０１〜５０質量％の範囲である。０．０１質量％未満である場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、５０質量％を超える場合には、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が相互作用をするために好ましくない。
【００５０】
また、下層塗布層に使用する二酸化チタンの製法に関しては、以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ4 にＦｅはＦｅＣｌ2 となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ4 と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4 は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
【００５１】
表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉末にＡｌＣｌ3 ，ＳｉＣｌ4 の蒸気を通じその後水蒸気を流入してＡｌ，Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法については、G.D.Parfitt and K.S.W.Sing"Characterization of Powder Surfaces"Academic Press,1976を参考にすることができる。
【００５２】
上記のような非磁性無機粉末にはカーボンブラックを併用してもよく、このカーボンブラックを下層塗布層に混合させることで、公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げて帯電防止効果を得ること、光透過率を小さくすることができると共に、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。下層塗布層のマイクロビッカース硬度は通常、２５〜６０kg／mm2（≒２４５〜５８８ＭＰａ）、好ましくはヘッド当たりを調整するために、３０〜５０kg／mm2 （≒２９４〜４９０ＭＰａ）であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定する。
【００５３】
使用できるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等があげられる。これらのカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gである。カーボンブラックの一次粒子径は１０〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。
【００５４】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製のＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００，ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製の＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン社製のＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ，ＲＡＶＥＮ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製のケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
【００５５】
これらのカーボンブラックは前記非磁性無機粉末に対して５〜４９質量％の範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００５６】
また、下層塗布層には、有機質粉末を目的に応じて添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。
【００５７】
その他、下層塗布層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００５８】
本発明の下層塗布層およびクリーニング層で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００５９】
本発明で用いる有機溶媒はクリーニング層と下層塗布層でその種類は同じであることが好ましいが、その添加量は変えてもかまわない。下層塗布層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を向上するのが好ましく、具体的にはクリーニング層の溶剤組成の算術平均値が下層塗布層の溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５〜２０の溶剤が５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００６０】
本発明のクリーニングテープの厚み構成は、非磁性支持体が２．０〜１０μｍと薄いもので有効である。クリーニング層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。本発明のクリーニング媒体は、好ましくは、前記クリーニング層の厚みが０．０５〜１．０μｍ、下層塗布層の厚みが０．２〜５．０μｍ、支持体の厚みが２．０〜１０μｍ、クリーニング媒体（クリーニングテープ）としての全体の厚みが４．０〜１５μｍである。また、非磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のための接着層を設けてもよい。この接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体のクリーニング層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの接着層、バックコート層は公知のものが使用できる。
【００６１】
本発明に用いられる非磁性支持体は、マイクロビッカース硬度が７５kg／mm2（≒７３５ＭＰａ）以上のものであり、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフイルムが使用できる。特に、アラミド樹脂、ポリエチレンナフタレートを用いた高強度非磁性支持体が好ましい。これらの非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても良い。
【００６２】
本発明の目的を達成するには、非磁性支持体のクリーニング層を塗布する面の中心線平均表面粗さＲａが０．５〜７ｎｍのものを使用することが好ましい。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また支持体表面の粗さ形状の調整は、本発明における突起分布を制御するために利用することもでき、そのために非磁性支持体に添加されるフィラーの大きさと量を適宜選定するとよい。これらのフィラーとしては、Ａｌ，Ｃａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗さはクリーニング層を塗布する面の粗さより粗いことが好ましい。バック層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以上、更に好ましくは４ｎｍ以上である。クリーニング層塗布面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構成の支持体を用いても良いし、コーティング層を設けることによって変えても構わない。
【００６３】
本発明に用いられる非磁性支持体のテープ走行方向（ＭＤ方向）のＦ−５値は好ましくは１０〜５０ｋｇ／ｍｍ2（≒９８〜４９０ＭＰａ）、テープ幅方向（ＴＤ方向）のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（≒９８〜２９４ＭＰａ）であり、テープの長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。また、非磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃×３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃×３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2（≒４９〜９８０ＭＰａ）、ヤング率は１００〜３，０００Ｋｇ／ｍｍ2 （≒０．９８〜２９．４ＧＰａ）が好ましい。また、９００nmでの光透過率は３０％以下が好ましく、更に好ましくは３％以下である。
【００６４】
本発明のクリーニング媒体の下層塗布層およびクリーニング層の塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。
【００６５】
本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。また、下層塗布層の非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。
【００６６】
本発明のような重層構成のクリーニング媒体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案できる。
【００６７】
１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がまだ湿潤状態にある内に、特公平１−４６１８６号、特開昭６０−２３８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層クリーニング層を塗布する。
【００６８】
２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９７１号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗布する。
【００６９】
３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗布する。
【００７０】
なお、磁性粒子の凝集を防止するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断力を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号に開示されている数値範囲を満足する必要がある。
【００７１】
本発明のクリーニング媒体を得るためにクリーニング層の強磁性粉末の配向処理を行っても良い。この配向は、１００ｍＴ以上の磁力をもつソレノイドと、２００ｍＴ以上の磁力をもつコバルト磁石を同極対向で併用して行うことが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。
【００７２】
また、非磁性の下層塗布層とクリーニング層を同時重層塗布する以前に、ポリマーを主成分とする接着層を設けることや、コロナ放電、ＵＶ照射、ＥＢ照射することにより接着性を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。
【００７３】
さらに、クリーニング層表面の突起分布を調整するためにカレンダー処理を行うことが好ましい。カレンダー処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用することができる。また、金属ロール同志で処理することもできる。処理温度は５０〜１００℃が好ましく、８０〜１００℃が更に好ましく、線圧力は１００〜５００ｋｇ／ｍ（≒９８０〜４９００Ｎ／ｍ）が好ましく、２００〜４００ｋｇ／ｍ（≒１９６０〜３９２０Ｎ／ｍ）が更に好ましく、速度は５０〜４００ｍ／分が好ましく、１００〜３００ｍ／分が更に好ましい。
【００７４】
本発明のクリーニング媒体のクリーニング層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は、好ましくは０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３である。表面固有抵抗は好ましくは１０4 〜１０12オーム／ｓｑ、クリーニング層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（≒９．８〜２９４ＭＰａ）である。
【００７５】
また、全体としてのクリーニング媒体は、長手（ＭＤ）方向のヤング率が３００〜１２００kg／mm2 （≒２．９４〜１１．７６ＧＰａ）、幅（ＴＤ）方向のヤング率が２００〜１２００kg／mm2（≒１．９６〜１１．７６ＧＰａ）、かつ長手方向ヤング率／幅方向ヤング率が１／２〜２／１である。
【００７６】
さらに、クリーニング媒体の残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想である。クリーニング層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０7 〜８×１０8 Ｐａ の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。クリーニング層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2 以下であり、上層クリーニング層に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。空隙率は下層塗布層、クリーニング層とも好ましくは５０容量％以下、さらに好ましくは４０容量％以下である。
【００７７】
本発明のクリーニング媒体のクリーニング層の磁気特性は、磁場１０ｋOe｛Ｏｅ＝（１／４π）ｋＡ／ｍ｝で振動試料型磁束計（ＶＳＭ）で測定した場合、テープ走行方向の抗磁力Ｈｃは５００〜３０００Oe（≒４０〜２４０ｋＡ／ｍ）である。角型比は０．６〜０．９８であり、好ましくは０．８０以上であり、さらに好ましくは０．８５以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。クリーニング層のＳＦＤは０．６以下であることが好ましく、更に好ましくは０．５以下、理想的には０である。長手方向のレマネンス抗磁力Ｈｒも１８００〜３０００Oe（≒１４４〜２４０ｋＡ／ｍ）が好ましい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００〜５０００Oe（≒８０〜４００ｋＡ／ｍ）であることが好ましい。さらに、クリーニング層の中心線表面粗さＲａは１．０〜７．０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定されるべきである。ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMSは２〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７８】
本発明のクリーニング媒体は下層塗布層とクリーニング層を有するが、目的に応じ下層塗布層とクリーニング層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、クリーニング層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率をクリーニング層より低くしてクリーニング媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても有効であり、テープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多い。
【００７９】
【実施例】
実施例
以下に、本発明の実施例を示し、本発明を更に詳細に説明する。実施例中の「部」は「質量部」を示す。
【００８０】
ポリウレタン樹脂Ａの合成
還流式冷却器、攪拌機を貝備し、予め窒素置換した容器に表1に示したジオール（質量％は生成したポリウレタンに対する値）をシクロヘキサン中に窒素気流下で60℃にて溶解した。次いで触媒として、ジ-ｎ-ジブチルスズジラウレ−トを使用した原料の総量に対して６０ｐｐｍ加え更に１５分間溶解した。次いで、ＭＤＩを加え9０℃にて２時間加熱反応し、末端ＮＣＯポリウレタンプレポリマ−を合成した。得られたプレポリマ−のＮＣＯ含量を定量し、ＮＣＯ含量と同モルのトリメチロールプロパンを加えて、更に４時間加熱反応し、末端分岐ＯＨを有するポリウレタン樹脂Ａを得た。なお、ＯＨ含量の調整はＭＤＩ含量の調整により行った。得られたポリウレタンのエーテル含量、極性基量、ＯＨ量および数平均分子量Ｍｎを表１に示す。なお、ポリウレタン樹脂のＯＨ含有量は、ＪＩＳ Ｋ00070の試験方法により求めたＯＨ価及びＧＰＣを用いて求めたポリスチレン換算での数平均分子量から一分子あたりのＯＨ基数で示した。
【００８１】
【表１】
【００８２】
表1における略号の意味は以下の通りである。
環状構造を有する短鎖ジオール成分
ＨＢｐＡ：水素化ビスフェノールＡ
長鎖ポリエ−テルポリオール成分
化合物Ａ：ビスフェノールＡ ＰＯ（プロピレオキド）付加物（分子量600）
ｎ＝3〜4
極性基含有長鎖ポリオール成分
ア： ＳＩＳ／ＩＰ／ＮＰＧポリエステル 分子量１2００
ＳＩＳ：５−ナトリウムスルホイソフタル酸
ＩＰ：イソフタル酸
ＮＰＧ：ネオペンチルグリコール
ＭＤＩ：４，４−ジフェニルメタンジジイソシアネート
ＴＭＰ：トリメチロールプロパン
【００８３】
実施例１
この実施例は、下記配合組成の塗布液によってクリーニング層および下層塗布層を形成してなる８ｍｍビデオ装置用のクリーニングテープの例である。
「クリーニング層塗布液」
強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=１００／３０ １００部
Ｈｃ：２３５０Oe（≒１８８ｋＡ／ｍ）、
BET法による比表面積（ＳBET）：４９m2/g
結晶子サイズ：１６０Å
表面処理層：Al2O3,SiO、Y2O3
平均長軸長：０．０９μｍ
針状比：７
σｓ:１４５Ａ・ｍ2／ｋｇ
塩化ビニル/酢酸ビニル/グリシジルメタクリレ−ト共重合体（86/9/5（重量比））にヒドロキシエチルスルホネートナトリウ塩を付加した化合物（ＳＯ3Ｎａ＝6×10-5eq/ｇ、エポキシ＝10-3ｅｑ/ｇ、Ｍｗ＝30000） ７．５部
ポリウレタン樹脂Ａ ６部
上記にシクロヘキサノン50部で60分間混練し、次いで
α−Ａｌ2Ｏ3（平均粒径：０．１５μｍ）分散液 １５部
カ−ボンブラック（平均粒径：０．０８μｍ） ０．５部
メチルエチルケトン/トルエン＝1/1 ２２０部
を加えてサンドミルで120分間分散した。これに
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート3041） 8部
潤滑剤
ブチルステアレート ４部
ステアリン酸 １部
ステアリン酸アミド １部
溶剤
メチルエチルケトン 6０部
を加え20分攪拌し、１μｍの平均孔径を有するフィルタ-を用いて濾過し、クリーニング層塗布液を調製した。
【００８４】
「下層塗布層用塗布液」
非磁性無機粉末 α-Fe2O3（ヘマタイト） ８５部
平均粒径：0.13μｍ
ＳBET： 55ｍ2/ｇ
表面処理層：Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2
ｐＨ：６．０〜８．５
をオ−プニ−ダ-で１０分間粉砕し、次いで
塩化ビニル/酢酸ビニル/グリシジルメタクリレ−ト共重合体（86/9/5（重量比））にヒドロキシエチルスルホネートナトリウ塩を付加した化合物（ＳＯ3Ｎａ＝6×10-5eq/ｇ、エポキシ＝10-3ｅｑ/ｇ、Ｍｗ＝30000） ７．５部
ポリウレタン樹脂Ａ ６部
上記にシクロヘキサノン50部で60分間混練し、次いで
メチルエチルケトン/シクロヘキサンノ＝6/4 ２００部
を加えて６０分混連し、次いで
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート3041） 8部
ブチルステアレート ４部
ステアリン酸アミド １部
ステアリン酸 ３部
メチルエチルケトン 6０部
を加え20分攪拌し、１μｍの平均孔径を有するフィルタ-を用いて濾過し、塗布液を調製した。
【００８５】
次いで、上記のように得られた下層塗布層用塗布液を乾燥後の厚さが２．０μｍとなるように、さらに、その直後にクリーニング層用塗布液を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、リバースロールを用い同時重層塗布した。その後クリーニング層塗布液が塗布された非磁性支持体を、その塗布液が未乾燥の状態で３００ｍＴの磁石で磁場配向を行い、さらに乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールから構成される７段のカレンダーで処理した後、１／２インチ幅に裁断した。
【００８６】
実施例２〜５
実施例１において、カレンダー条件を変更した以外は実施例1と同様の方法を用いてサンプルを作成した。
【００８７】
比較例２〜６
実施例１において、クリーニング層塗布液の潤滑剤の種類及び部数を表２に記載の種類及び部数に変更した以外は、実施例１と同様にしてサンプルを作成した。
比較例７〜８
実施例１において、カレンダー条件を変更した以外は実施例１と同様の方法を用いてサンプルを作成した。
得られたテ−プの特性を表２に示す。以上にようにして得られた実施例及び比較例のクリーニング媒体の特性を表２示す。
【００８８】
ここに、各測定値の測定方法を示す。
クリーニング層表面の突起分布：前記方法によった。
ヘッド磨耗：ＩＢＭ製ＬＴＯ（Ｕｌｔｒｉｕｍ）ドライブ（ＭＲヘッド使用）を用い、２３℃×７０％ＲＨで１時間、当該クリーニングテ−プを走行させ、その前後のＭＲヘッドのヘッド高さを測定して、１０分間当りのヘッド磨耗を算出した。
ヘッドクリーニング力：予め、富士写真フイルム社製ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍ１ データカートリッジ（型式 ＬＴＯ ＦＢ ＵＬ−１ １００Ｇ Ｅ）を用いて、ＩＢＭ製ＬＴＯ（Ｕｌｔｒｉｕｍ）ドライブで出力を測定しておく。その後、目詰まりを起こさせることを目的に作成した標準テ−プをそのＩＢＭ製ＬＴＯ（Ｕｌｔｒｉｕｍ）ドライブで走行させ、ストロボでヘッド状態を観察して、ヘッドに汚れが多く付いた時点で走行を止めて出力が皆無であることを確認する。その後、試料の各クリーニングテ−プを１分間走行させた後に、事前に記録した富士写真フイルム社製ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍ １ データカートリッジ（型式 ＬＴＯ ＦＢ ＵＬ−１ １００Ｇ Ｅ）を用いて出力を測定して、最後に測定した出力と最初に測定した出力との差ｄＢをヘッドクリーニング力の評価とした。またクリーニングテ−プ走行後のヘッド傷を観察した。
【００８９】
【表２】
【００９０】
上記表によれば、クリーニング層の突起分布及び潤滑剤の双方が本発明の条件を満足する実施例は、比較例に比べてヘッド磨耗が小さく、ヘッドクリーニング力が高く、かつヘッドキズもないことが分る。
【００９１】
【発明の効果】
本発明はクリーニング層表面に３５〜１００ｎｍの高さの突起が、５〜８０個／９００μｍ2存在し、且つクリーニング層に脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含むことによりＭＲヘッドに対するクリーニング力が高く、かつ磁気ヘッドへのキズの発生がなくしかもヘッド磨耗の少ない磁気記録装置用クリーニング媒体を提供することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、オーディオ、ビデオ、コンピューター用磁気記録再生装置に使用されている磁気ヘッドもしくは走行系の清浄に利用されるクリーニングテープ等の磁気記録装置用クリーニング媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般にビデオ用、オーディオ用、コンピューター用の磁気記録装置の記録・再生は、磁気ヘッドと磁気テープ等の磁気メディアをお互いに接触させつつ摺動して行われる。この時、磁気ヘッドの表面に磁気テープの削れ粉や装置の周辺の塵埃が付着すると再生出力が低くなり、さらには出力が全く得られなくなる。このように低下した再生出力を回復するために、磁気ヘッドの表面に付着した汚れをクリーニングして再生出力を復元するクリーニングテープ等のクリーニング媒体が用いられる。
【０００３】
一方、磁気記録は年々高密度化が進んでおり、磁気ヘッド先端と磁気テープとの接触の様子を良好にしてやらなければ、十分な記録再生ができないことが多くなってきた。いわゆる、ヘッド当たりを良好に保つために、クリーニングテープは磁気ヘッドの汚れを取るばかりでなく、ある程度ヘッドの形状を整えてやることも必要になってきている。特に、近年は最短記録波長が１μｍ以下となるような高密度記録を行う磁気記録再生装置の磁気ヘッドも使用され、この磁気ヘッドにおけるギャップ長は０．４μｍ以下であり、僅かなヘッドの汚れも記録再生性能に支障を来すことになる。
【０００４】
また、磁気ヘッドも高密度化に伴い、ＭＲヘッドが用いられるようになってきた。一般に用いられるシールド型ＭＲヘッド素子の高さは数ミクロン以下であり、従来のフェライトヘッドやセンダスト等の金属ヘッドと比べて、ヘッド磨耗量をなるべく少なくしなければならない。
【０００５】
また、近年、Ｈｉ−８やＤＶＣのように、蒸着テープ（ＭＥテープ）とメタル粉テープ（ＭＰテープ）との両方が使用できる磁気記録装置が登場してきている。蒸着テープは剛性の高い金属薄膜が磁気ヘッドと接触するので、この磁気ヘッド先端が鋭くなっていないと良好な接触状態すなわち記録再生特性が得られにくい。さらに、蒸着テープは研磨剤を含まないので、その接触における磁気ヘッドの摩耗が少なく、磁気ヘッドとのなじみ性が低いものである。一方、メタルテープはその磁性層に磁性粉末が結合剤中に含まれているので、磁気ヘッドと柔らかく接触することになり、ヘッド先端の形状によってそれほどテープとのヘッド当たりが変化することはないし、また、摩耗力を有しているので磁気ヘッドとのなじみも良好である。
【０００６】
それゆえ、蒸着テープを走行させた後の磁気ヘッドに対してメタルテープを走行させても、ヘッド当たりの変化はそれほど見られないが、その逆に、メタルテープを走行させた後に蒸着テープを走行させると、ヘッド当たりが不調になる場合がある。
【０００７】
磁気ヘッドの研磨に使用する研磨テープの先行技術としては、例えば特開昭６２−９２２０５号には、非磁性支持体上に、非磁性粉末を含む中間層と、非磁性研磨剤を含む研磨層を順に積層した研磨テープが開示されている。この研磨テープは、２層構成を採用し、中間層の表面性を粗くする一方、上層研磨層の研磨剤粒子径を細かくすることにより、研磨力を維持しつつヘッド傷の発生を防ぐようにしているが、この研磨テープは磁気ヘッドの仕上げ研磨用であって、表面粗さが０．０３〜０．３μｍであることからも、ヘッド摩耗が多くクリーニングとしての適度の研磨を行うことが困難で、クリーニングテープとしての用途には不適当である。上記と同様の磁気ヘッドの研磨テープが、特開昭６２−９４２７０号、特開昭６２−９２２０５号にも開示されている。これらも２層構成の研磨層を有するが、適度の研磨によって磁気ヘッドに傷を付けることなく良好なクリーニングを行うことは困難で、クリーニング媒体としては適していないものである。
【０００８】
そして、ＭＲヘッドはフェライトヘッドやセンダスト等の金属ヘッドと比べて、ヘッド磨耗量をなるべく少なくしなければならないという問題があるが、この問題を解消する有効な手段が望まれていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ＭＲヘッドに対するクリーニング力が高く、かつＭＲヘッドへのキズの発生がなくしかもヘッド磨耗の少ない磁気記録装置用クリーニング媒体を提供することを課題とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、非磁性支持体上に、主として非磁性無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる磁気記録装置用クリーニング媒体において、クリーニング層表面に３５〜１００ｎｍの高さの突起が、５〜８０個／９００μｍ2存在し、且つクリーニング層に脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含むことを特徴とする磁気記録装置用クリーニング媒体である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のクリーニング媒体の基本構造は、非磁性支持体上に、非磁性無機粉末と結合剤とを主成分とする下層塗布層と、その上に少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる。
本発明はクリーニング層表面の突起分布及びクリーニング層に用いる潤滑剤を特定したものである。
本発明ではクリーニング層表面の突起分布は、突起高さが３５〜１００ｎｍ、好ましくは３５〜８０ｎｍの範囲及び突起数が５〜８０個／９００μｍ2、好ましくは５〜６０個／９００μｍ2に制御される。
ここで、上記本発明の突起分布は、DIGITAL INSTRUMENT社製のNANOSCOPE IIIを用い、コンタクトモードで約３０μｍ×３０μｍの範囲を測定し、突起とくぼみの体積が等しくなる面を基準面とし、基準面から３５〜１５０ｎｍの高さの面でスライスした場合にスライス乃至接触される突起の数をカウントして求められるものをいう。
【００１２】
突起分布を上記範囲とすることにより、適度のＭＲヘッドに対するクリーニング性能を有することになり、突起高さが上記範囲でも突起数が少な過ぎるとクリーニング力が低下してＭＲヘッドの汚れが除去できず、また突起数が多過ぎると、ヘッド磨耗が大きくて且つクリーニング後にＭＲヘッドを傷つけてしまう。
また、本発明の突起分布の範囲でも通常の潤滑剤を用いてはヘッド磨耗が大きめであり、本発明に用いる特定の潤滑剤組成と組み合わせることにより、対ヘッドとの摩擦係数が最適となり、ヘッド磨耗を低減できる。
突起分布、即ち突起数及び突起高さを本発明範囲に制御する手段としては、例えば、以下に記載の手段を例示することができるが、これに限定されない。
１．下層塗布層及び／又はクリーニング層に添加される各種粉体のサイズ及び添加量を調整する。
２．下層塗布層のカレンダー条件、または下層塗布層及びクリーニング層からなる積層体へのカレンダー条件を調整する。
上記詳細な条件は後述される。
【００１３】
本発明ではクリーニング層に潤滑剤として脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含ませる。
例えば、脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルとしては以下のものが例示される。
脂肪酸アミドとしては炭素数８〜２２の脂肪酸アミドが挙げられる。
脂肪酸としては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）が挙げられる。
脂肪酸エステルとしては、上記炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸と炭素数４〜２２のアルコールとのエステルが挙げられる。
【００１４】
上記脂肪酸、そのアミド及びそのエステルに用いられる脂肪酸及び／又はアルコールは、飽和でも不飽和でも、また直鎖でも分岐していてもあるいは脂環式環を有していてもよい。また、脂肪酸及び／又はアルコールは、アルコキシ基を有したものでもよく、あるいはアルキレンオキシド重合物またはそのモノアルキルエーテル化されたものを有したものでもよい。脂肪酸エステルは、１価エステルでも多価エステル、好ましくは１価〜３価エステルでもよく、後者の場合、ヒドロキシル基が残っていてもよい。脂肪酸アミドは、１価アミドでも多価アミドでもよく、後者の場合、カルボキシル基が残っていてもよい。これら脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルは、前記クリーニング層表面の突起分布との関係で最適なものが選定される。脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくともいずれかは、２種以上のものを組み合わせて用いることもできる。
【００１５】
これら脂肪酸、脂肪酸エステルの具体例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等が挙げられる。また、脂肪酸アミドも上記脂肪酸から誘導されるものが挙げられる。
【００１６】
クリーニング層への脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルの総使用量は、強磁性粉末１００質量部に対して０．１〜１０質量部が好ましく、０．５〜５質量部が更に好ましい。脂肪酸アミド、脂肪酸または脂肪酸エステルの各使用量は上記範囲から適宜分配され、最適な範囲が選定される。一般に量の関係では、脂脂肪酸アミド≦脂肪酸≦肪酸エステルとなることが好ましい。
【００１７】
クリーニング層に混合する無機粉末としては強磁性粉末を含み、この強磁性粉末としては、γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、α−ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂ，Ｍｇなどの原子を含んでもかまわない。特に、メタル磁性体の場合はＡｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｙ，Ｂａ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｂがα−Ｆｅ以外に含まれる元素として重要である。とりわけ、Ｓｉ，Ａｌ，Ｙが表面処理や焼結防止剤として重要である。ＣｏはＦｅに対し２〜４０質量％含有したものが好ましい。Ｓｉ，Ａｌ，Ｙは０〜１０質量％の間で含まれる。これらの強磁性粉末には後で述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−３９６３９号、米国特許３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００１８】
上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００１９】
本発明のクリーニング層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ2 ／ｇである。４０ｍ2 ／ｇ以下または８０ｍ2 ／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明のクリーニング層の強磁性粉末の結晶子サイズは３００〜１００Åであり、好ましくは２５０〜１００Å、更に好ましくは２００〜１４０Åである。
【００２０】
強磁性粉末の飽和磁化σｓは１００〜１８０Ａ・ｍ2／ｋｇが好ましく、さらに好ましくは１１０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ、更に好ましくは１２５〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇである。強磁性粉末の抗磁力Ｈｃは５００〜３０００Oe（≒４０〜２４０ｋＡ／ｍ）が好ましい。角型比は０．６〜０．９８が好ましく、クリーニング層の磁化量は３０〜３００ｍＴ・μｍが好ましい。一方、強磁性粉末の針状比は４〜１８が好ましく、更に好ましくは５〜１２である。強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。
【００２１】
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ，Ｃａ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。
【００２２】
クリーニング層及び下層塗布層に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。
【００２３】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層塗布層、または上層クリーニング層に使用することも可能である。
【００２４】
これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタンなど公知のものが使用できる。中でも、少なくともポリオールと有機ジイソシアネートを主要原料とした反応生成物であるポリウレタン樹脂からなり、該ポリオール成分として前記ポリウレタン樹脂中に、環状構造を有する短鎖ジオール成分、長鎖ポリエーテルポリオール成分、更に分子量５００〜５０００の極性基含有長鎖ポリオール成分を含むものが好ましい。
【００２５】
ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 （以上につきＭは水素原子またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ2 、−Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００２６】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト社製のＶＡＧＨ，ＶＹＨＨ，ＶＭＣＨ，ＶＡＧＦ，ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ、日信化学工業社製のＭＰＲ−ＴＡ，ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ，ＭＰＲ−ＴＭ，ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製の１０００Ｗ，ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３，１００ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４，ＭＲ−１０５，ＭＲ１１０，ＭＲ１００，４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製のニッポランＮ２３０１，Ｎ２３０２，Ｎ２３０４、大日本インキ社製のパンデックスＴ−５１０５，Ｔ−Ｒ３０８０，Ｔ−５２０１，バーノックＤ−４００，Ｄ−２１０−８０，クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製のバイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００，ＵＲ８６００、大日精化社製のダイフェラミン４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２０、三菱化学社製のＭＸ５００４、三洋化成社製のサンプレンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００３，ＴＩＭ−３００５、旭化成社製のサランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげられる。この中でＭＲ−１０４，ＭＲ１１０，ＭＰＲ−ＴＡＯ，ＭＰＲ−ＴＡ，ＵＲ−８２００，ＵＲ８３００，ＴＩＭ−３００５が好ましい。
【００２７】
本発明のクリーニング層に用いられる樹脂成分と硬化剤との合計（すなわち結合剤）は強磁性粉末を含む無機粉末に対し、５〜２４質量％の範囲、好ましくは８〜２２質量％の範囲で用いられる。下層塗布層に用いられる結合剤量は、非磁性無機粉末１００質量部に対して、通常１５〜４０質量部の範囲内にあることが好ましく、さらに好ましくは２０〜３０質量部である。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。特に、クリーニング層にポリイソシアネートを含まず、下層塗布層にポリイソシアネートを含む構成が望ましい。
【００２８】
本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
【００２９】
本発明のクリーニング媒体は二層以上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、クリーニング層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層塗布層とクリーニング層とで変えることはもちろん可能であり、公知技術を適用できる。
【００３０】
前記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、大日本インキ社製のバーノックＤ５０２等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせで下層塗布層、上層クリーニング層共に用いることができる。
【００３１】
本発明のクリーニング層は、カーボンブラックを無機粉末として混合してもよく、このカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ccが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃５，＃９００，＃９５０，＃９７０，＃１０００、＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックをクリーニング層用塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。
【００３２】
カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の５質量％以下で用いることが好ましい。カーボンブラックはクリーニング層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックはクリーニング層、下層塗布層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。
【００３３】
また、前記クリーニング層には無機粉末として研磨剤を含んでもよく、この研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、モース硬度６以上の公知の材料が単独または組み合わせで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製のＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０，ＨＩＴ−６０，ＨｉＴ−６０Ａ，ＨＩＴ−７０Ａ，ＨＩＴ−８０，ＨＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製のＧ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製のＴＦ−１００，ＴＦ−１４０などがあげられる。
【００３４】
これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ＰＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ2 ／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものがクリーニング性が高く好ましい。クリーニング層の無機粉末としての研磨剤の配合量は、前記強磁性粉末１００質量％に対して１〜４５質量％である。本発明に用いられる研磨剤は前述の下層塗布層、上層クリーニング層で種類、量および組み合わせを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明のクリーニング媒体のクリーニング層表面およびクリーニング層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ2 以上が好ましい。
【００３５】
本発明の下層塗布層またはクリーニング層に使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。
【００３６】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００３７】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層塗布層、クリーニング層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層塗布層、クリーニング層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御するか、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御するか、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させるか、潤滑剤の添加量を下層塗布層で多くして潤滑効果を向上させることなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
また、下層塗布層へクリーニング層に添加される前記脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを添加することも好ましい。
【００３８】
また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、塗料製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に無機粉末と混合する場合、無機粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じてクリーニング層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダー処理した後、またはスリット終了後、クリーニング層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００３９】
本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製のＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エルカ酸、関東化学社製のオレイン酸、竹本油脂社製のＦＡＬ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製のエヌジェルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０３０、信越化学社製のＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６Ｌ，ＫＦ９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製のアーマイドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製のデュオミンＴＤＯ、日清製油社製のＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製のプロファン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などが挙げられる。
【００４０】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性無機粉末は、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。
【００４１】
無機化合物としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組み合わせで使用される。特に好ましいのは、入手の容易さ、コスト、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いことなどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。
【００４２】
これら非磁性無機粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性無機粉末を組み合わせたり、単独の非磁性無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性無機粉末の粒子サイズは０．０１〜０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性無機粉末の含水率は０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性無機粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５〜１０の間が特に好ましい。非磁性無機粉末の比表面積は１〜１００ｍ2 ／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ2 ／ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ2 ／ｇである。非磁性無機粉末の結晶子サイズは０．００４〜１μｍが好ましく、０．０４〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良いが、粒状非磁性無機粉末の場合には平均粒径が０．０８μｍ以下のものを無機粉末全体に対して５０質量％以上含むのが望ましく、また、針状非磁性無機粉末の場合には平均長軸長が０．０５〜０．３μｍで針状比が３〜２０のものを無機粉末全体に対して５０質量％以上含むのが好適である。
【００４３】
強熱減量は２０質量％以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記無機粉末のモース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μモル／ｍ2 、更に好ましくは２〜１５μモル／ｍ2 である。下層塗布層非磁性無機粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００〜６００ｍＪ／ｍ2 の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Ａが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。
【００４４】
これらの非磁性無機粉末の表面は、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 で表面処理が施されたものが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００４５】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性無機粉末の具体的な例としては、昭和電工社製ナノタイト、住友化学社製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイト、ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、石原産業社製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業社製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学社製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業社製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル社製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産社製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００４６】
上記のうち特に好ましい非磁性無機粉末は、α−酸化鉄と二酸化チタンである。α−酸化鉄（ヘマタイト）は、以下のような諸条件の基で得られたものが使用できる。まず、α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は、次の方法により前駆体粒子としての針状ゲータイト粒子を得る。第１の方法としては、第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト粒子を生成させる方法。第２の方法としては、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ3 を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法。第３の方法としては、第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ2+に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法。第４の方法としては、第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等である。なお、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等のために通常添加されているＮｉ，Ｚｎ，Ｐ，Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。
【００４７】
そして、前駆体粒子である前記針状ゲータイト粒子を２００〜５００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を得る。なお、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子が表面にＰ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。また、３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態とさせることが好ましいからである。
【００４８】
本発明において用いられるα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を施すことにより得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１〜５０質量％である。０．０１質量％未満である場合には、結合剤樹脂中における分散が不十分であり、５０質量％を超える場合には粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が相互作用するために好ましくない。
【００４９】
本発明における下層塗布層の非磁性無機粉末においては、Ａｌ化合物と共にＳｉ化合物を始めとして、Ｐ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｓｂから選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆することもできる。Ａｌ化合物と共に用いるこれらの化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ2 Ｏ3粒子粉末に対して０．０１〜５０質量％の範囲である。０．０１質量％未満である場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、５０質量％を超える場合には、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が相互作用をするために好ましくない。
【００５０】
また、下層塗布層に使用する二酸化チタンの製法に関しては、以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ4 にＦｅはＦｅＣｌ2 となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ4 と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4 は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
【００５１】
表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉末にＡｌＣｌ3 ，ＳｉＣｌ4 の蒸気を通じその後水蒸気を流入してＡｌ，Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法については、G.D.Parfitt and K.S.W.Sing"Characterization of Powder Surfaces"Academic Press,1976を参考にすることができる。
【００５２】
上記のような非磁性無機粉末にはカーボンブラックを併用してもよく、このカーボンブラックを下層塗布層に混合させることで、公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げて帯電防止効果を得ること、光透過率を小さくすることができると共に、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。下層塗布層のマイクロビッカース硬度は通常、２５〜６０kg／mm2（≒２４５〜５８８ＭＰａ）、好ましくはヘッド当たりを調整するために、３０〜５０kg／mm2 （≒２９４〜４９０ＭＰａ）であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定する。
【００５３】
使用できるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等があげられる。これらのカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gである。カーボンブラックの一次粒子径は１０〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。
【００５４】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製のＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００，ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製の＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン社製のＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ，ＲＡＶＥＮ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製のケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
【００５５】
これらのカーボンブラックは前記非磁性無機粉末に対して５〜４９質量％の範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００５６】
また、下層塗布層には、有機質粉末を目的に応じて添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。
【００５７】
その他、下層塗布層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００５８】
本発明の下層塗布層およびクリーニング層で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００５９】
本発明で用いる有機溶媒はクリーニング層と下層塗布層でその種類は同じであることが好ましいが、その添加量は変えてもかまわない。下層塗布層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を向上するのが好ましく、具体的にはクリーニング層の溶剤組成の算術平均値が下層塗布層の溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５〜２０の溶剤が５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００６０】
本発明のクリーニングテープの厚み構成は、非磁性支持体が２．０〜１０μｍと薄いもので有効である。クリーニング層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。本発明のクリーニング媒体は、好ましくは、前記クリーニング層の厚みが０．０５〜１．０μｍ、下層塗布層の厚みが０．２〜５．０μｍ、支持体の厚みが２．０〜１０μｍ、クリーニング媒体（クリーニングテープ）としての全体の厚みが４．０〜１５μｍである。また、非磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のための接着層を設けてもよい。この接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体のクリーニング層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの接着層、バックコート層は公知のものが使用できる。
【００６１】
本発明に用いられる非磁性支持体は、マイクロビッカース硬度が７５kg／mm2（≒７３５ＭＰａ）以上のものであり、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフイルムが使用できる。特に、アラミド樹脂、ポリエチレンナフタレートを用いた高強度非磁性支持体が好ましい。これらの非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても良い。
【００６２】
本発明の目的を達成するには、非磁性支持体のクリーニング層を塗布する面の中心線平均表面粗さＲａが０．５〜７ｎｍのものを使用することが好ましい。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また支持体表面の粗さ形状の調整は、本発明における突起分布を制御するために利用することもでき、そのために非磁性支持体に添加されるフィラーの大きさと量を適宜選定するとよい。これらのフィラーとしては、Ａｌ，Ｃａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗さはクリーニング層を塗布する面の粗さより粗いことが好ましい。バック層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以上、更に好ましくは４ｎｍ以上である。クリーニング層塗布面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構成の支持体を用いても良いし、コーティング層を設けることによって変えても構わない。
【００６３】
本発明に用いられる非磁性支持体のテープ走行方向（ＭＤ方向）のＦ−５値は好ましくは１０〜５０ｋｇ／ｍｍ2（≒９８〜４９０ＭＰａ）、テープ幅方向（ＴＤ方向）のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（≒９８〜２９４ＭＰａ）であり、テープの長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。また、非磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃×３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃×３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2（≒４９〜９８０ＭＰａ）、ヤング率は１００〜３，０００Ｋｇ／ｍｍ2 （≒０．９８〜２９．４ＧＰａ）が好ましい。また、９００nmでの光透過率は３０％以下が好ましく、更に好ましくは３％以下である。
【００６４】
本発明のクリーニング媒体の下層塗布層およびクリーニング層の塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。
【００６５】
本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。また、下層塗布層の非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。
【００６６】
本発明のような重層構成のクリーニング媒体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案できる。
【００６７】
１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がまだ湿潤状態にある内に、特公平１−４６１８６号、特開昭６０−２３８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層クリーニング層を塗布する。
【００６８】
２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９７１号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗布する。
【００６９】
３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗布する。
【００７０】
なお、磁性粒子の凝集を防止するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断力を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号に開示されている数値範囲を満足する必要がある。
【００７１】
本発明のクリーニング媒体を得るためにクリーニング層の強磁性粉末の配向処理を行っても良い。この配向は、１００ｍＴ以上の磁力をもつソレノイドと、２００ｍＴ以上の磁力をもつコバルト磁石を同極対向で併用して行うことが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。
【００７２】
また、非磁性の下層塗布層とクリーニング層を同時重層塗布する以前に、ポリマーを主成分とする接着層を設けることや、コロナ放電、ＵＶ照射、ＥＢ照射することにより接着性を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。
【００７３】
さらに、クリーニング層表面の突起分布を調整するためにカレンダー処理を行うことが好ましい。カレンダー処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用することができる。また、金属ロール同志で処理することもできる。処理温度は５０〜１００℃が好ましく、８０〜１００℃が更に好ましく、線圧力は１００〜５００ｋｇ／ｍ（≒９８０〜４９００Ｎ／ｍ）が好ましく、２００〜４００ｋｇ／ｍ（≒１９６０〜３９２０Ｎ／ｍ）が更に好ましく、速度は５０〜４００ｍ／分が好ましく、１００〜３００ｍ／分が更に好ましい。
【００７４】
本発明のクリーニング媒体のクリーニング層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は、好ましくは０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３である。表面固有抵抗は好ましくは１０4 〜１０12オーム／ｓｑ、クリーニング層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（≒９．８〜２９４ＭＰａ）である。
【００７５】
また、全体としてのクリーニング媒体は、長手（ＭＤ）方向のヤング率が３００〜１２００kg／mm2 （≒２．９４〜１１．７６ＧＰａ）、幅（ＴＤ）方向のヤング率が２００〜１２００kg／mm2（≒１．９６〜１１．７６ＧＰａ）、かつ長手方向ヤング率／幅方向ヤング率が１／２〜２／１である。
【００７６】
さらに、クリーニング媒体の残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想である。クリーニング層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０7 〜８×１０8 Ｐａ の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。クリーニング層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2 以下であり、上層クリーニング層に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。空隙率は下層塗布層、クリーニング層とも好ましくは５０容量％以下、さらに好ましくは４０容量％以下である。
【００７７】
本発明のクリーニング媒体のクリーニング層の磁気特性は、磁場１０ｋOe｛Ｏｅ＝（１／４π）ｋＡ／ｍ｝で振動試料型磁束計（ＶＳＭ）で測定した場合、テープ走行方向の抗磁力Ｈｃは５００〜３０００Oe（≒４０〜２４０ｋＡ／ｍ）である。角型比は０．６〜０．９８であり、好ましくは０．８０以上であり、さらに好ましくは０．８５以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。クリーニング層のＳＦＤは０．６以下であることが好ましく、更に好ましくは０．５以下、理想的には０である。長手方向のレマネンス抗磁力Ｈｒも１８００〜３０００Oe（≒１４４〜２４０ｋＡ／ｍ）が好ましい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００〜５０００Oe（≒８０〜４００ｋＡ／ｍ）であることが好ましい。さらに、クリーニング層の中心線表面粗さＲａは１．０〜７．０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定されるべきである。ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMSは２〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７８】
本発明のクリーニング媒体は下層塗布層とクリーニング層を有するが、目的に応じ下層塗布層とクリーニング層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、クリーニング層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率をクリーニング層より低くしてクリーニング媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても有効であり、テープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多い。
【００７９】
【実施例】
実施例
以下に、本発明の実施例を示し、本発明を更に詳細に説明する。実施例中の「部」は「質量部」を示す。
【００８０】
ポリウレタン樹脂Ａの合成
還流式冷却器、攪拌機を貝備し、予め窒素置換した容器に表1に示したジオール（質量％は生成したポリウレタンに対する値）をシクロヘキサン中に窒素気流下で60℃にて溶解した。次いで触媒として、ジ-ｎ-ジブチルスズジラウレ−トを使用した原料の総量に対して６０ｐｐｍ加え更に１５分間溶解した。次いで、ＭＤＩを加え9０℃にて２時間加熱反応し、末端ＮＣＯポリウレタンプレポリマ−を合成した。得られたプレポリマ−のＮＣＯ含量を定量し、ＮＣＯ含量と同モルのトリメチロールプロパンを加えて、更に４時間加熱反応し、末端分岐ＯＨを有するポリウレタン樹脂Ａを得た。なお、ＯＨ含量の調整はＭＤＩ含量の調整により行った。得られたポリウレタンのエーテル含量、極性基量、ＯＨ量および数平均分子量Ｍｎを表１に示す。なお、ポリウレタン樹脂のＯＨ含有量は、ＪＩＳ Ｋ00070の試験方法により求めたＯＨ価及びＧＰＣを用いて求めたポリスチレン換算での数平均分子量から一分子あたりのＯＨ基数で示した。
【００８１】
【表１】
表1における略号の意味は以下の通りである。
環状構造を有する短鎖ジオール成分
ＨＢｐＡ：水素化ビスフェノールＡ
長鎖ポリエ−テルポリオール成分
化合物Ａ：ビスフェノールＡ ＰＯ（プロピレオキド）付加物（分子量600）
ｎ＝3〜4
極性基含有長鎖ポリオール成分
ア： ＳＩＳ／ＩＰ／ＮＰＧポリエステル 分子量１2００
ＳＩＳ：５−ナトリウムスルホイソフタル酸
ＩＰ：イソフタル酸
ＮＰＧ：ネオペンチルグリコール
ＭＤＩ：４，４−ジフェニルメタンジジイソシアネート
ＴＭＰ：トリメチロールプロパン
【００８３】
実施例１
この実施例は、下記配合組成の塗布液によってクリーニング層および下層塗布層を形成してなる８ｍｍビデオ装置用のクリーニングテープの例である。
「クリーニング層塗布液」
強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=１００／３０ １００部
Ｈｃ：２３５０Oe（≒１８８ｋＡ／ｍ）、
BET法による比表面積（ＳBET）：４９m2/g
結晶子サイズ：１６０Å
表面処理層：Al2O3,SiO、Y2O3
平均長軸長：０．０９μｍ
針状比：７
σｓ:１４５Ａ・ｍ2／ｋｇ
塩化ビニル/酢酸ビニル/グリシジルメタクリレ−ト共重合体（86/9/5（重量比））にヒドロキシエチルスルホネートナトリウ塩を付加した化合物（ＳＯ3Ｎａ＝6×10-5eq/ｇ、エポキシ＝10-3ｅｑ/ｇ、Ｍｗ＝30000） ７．５部
ポリウレタン樹脂Ａ ６部
上記にシクロヘキサノン50部で60分間混練し、次いで
α−Ａｌ2Ｏ3（平均粒径：０．１５μｍ）分散液 １５部
カ−ボンブラック（平均粒径：０．０８μｍ） ０．５部
メチルエチルケトン/トルエン＝1/1 ２２０部
を加えてサンドミルで120分間分散した。これに
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート3041） 8部
潤滑剤
ブチルステアレート ４部
ステアリン酸 １部
ステアリン酸アミド １部
溶剤
メチルエチルケトン 6０部
を加え20分攪拌し、１μｍの平均孔径を有するフィルタ-を用いて濾過し、クリーニング層塗布液を調製した。
【００８４】
「下層塗布層用塗布液」
非磁性無機粉末 α-Fe2O3（ヘマタイト） ８５部
平均粒径：0.13μｍ
ＳBET： 55ｍ2/ｇ
表面処理層：Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2
ｐＨ：６．０〜８．５
をオ−プニ−ダ-で１０分間粉砕し、次いで
塩化ビニル/酢酸ビニル/グリシジルメタクリレ−ト共重合体（86/9/5（重量比））にヒドロキシエチルスルホネートナトリウ塩を付加した化合物（ＳＯ3Ｎａ＝6×10-5eq/ｇ、エポキシ＝10-3ｅｑ/ｇ、Ｍｗ＝30000） ７．５部
ポリウレタン樹脂Ａ ６部
上記にシクロヘキサノン50部で60分間混練し、次いで
メチルエチルケトン/シクロヘキサンノ＝6/4 ２００部
を加えて６０分混連し、次いで
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート3041） 8部
ブチルステアレート ４部
ステアリン酸アミド １部
ステアリン酸 ３部
メチルエチルケトン 6０部
を加え20分攪拌し、１μｍの平均孔径を有するフィルタ-を用いて濾過し、塗布液を調製した。
【００８５】
次いで、上記のように得られた下層塗布層用塗布液を乾燥後の厚さが２．０μｍとなるように、さらに、その直後にクリーニング層用塗布液を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、リバースロールを用い同時重層塗布した。その後クリーニング層塗布液が塗布された非磁性支持体を、その塗布液が未乾燥の状態で３００ｍＴの磁石で磁場配向を行い、さらに乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールから構成される７段のカレンダーで処理した後、１／２インチ幅に裁断した。
【００８６】
実施例２〜５
実施例１において、カレンダー条件を変更した以外は実施例1と同様の方法を用いてサンプルを作成した。
【００８７】
比較例２〜６
実施例１において、クリーニング層塗布液の潤滑剤の種類及び部数を表２に記載の種類及び部数に変更した以外は、実施例１と同様にしてサンプルを作成した。
比較例７〜８
実施例１において、カレンダー条件を変更した以外は実施例１と同様の方法を用いてサンプルを作成した。
得られたテ−プの特性を表２に示す。以上にようにして得られた実施例及び比較例のクリーニング媒体の特性を表２示す。
【００８８】
ここに、各測定値の測定方法を示す。
クリーニング層表面の突起分布：前記方法によった。
ヘッド磨耗：ＩＢＭ製ＬＴＯ（Ｕｌｔｒｉｕｍ）ドライブ（ＭＲヘッド使用）を用い、２３℃×７０％ＲＨで１時間、当該クリーニングテ−プを走行させ、その前後のＭＲヘッドのヘッド高さを測定して、１０分間当りのヘッド磨耗を算出した。
ヘッドクリーニング力：予め、富士写真フイルム社製ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍ１ データカートリッジ（型式 ＬＴＯ ＦＢ ＵＬ−１ １００Ｇ Ｅ）を用いて、ＩＢＭ製ＬＴＯ（Ｕｌｔｒｉｕｍ）ドライブで出力を測定しておく。その後、目詰まりを起こさせることを目的に作成した標準テ−プをそのＩＢＭ製ＬＴＯ（Ｕｌｔｒｉｕｍ）ドライブで走行させ、ストロボでヘッド状態を観察して、ヘッドに汚れが多く付いた時点で走行を止めて出力が皆無であることを確認する。その後、試料の各クリーニングテ−プを１分間走行させた後に、事前に記録した富士写真フイルム社製ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍ １ データカートリッジ（型式 ＬＴＯ ＦＢ ＵＬ−１ １００Ｇ Ｅ）を用いて出力を測定して、最後に測定した出力と最初に測定した出力との差ｄＢをヘッドクリーニング力の評価とした。またクリーニングテ−プ走行後のヘッド傷を観察した。
【００８９】
【表２】
上記表によれば、クリーニング層の突起分布及び潤滑剤の双方が本発明の条件を満足する実施例は、比較例に比べてヘッド磨耗が小さく、ヘッドクリーニング力が高く、かつヘッドキズもないことが分る。
【００９１】
【発明の効果】
本発明はクリーニング層表面に３５〜１００ｎｍの高さの突起が、５〜８０個／９００μｍ2存在し、且つクリーニング層に脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含むことによりＭＲヘッドに対するクリーニング力が高く、かつ磁気ヘッドへのキズの発生がなくしかもヘッド磨耗の少ない磁気記録装置用クリーニング媒体を提供することができる。
Claims (1)
- 非磁性支持体上に、主として非磁性無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる磁気記録装置用クリーニング媒体において、クリーニング層表面に３５〜１００ｎｍの高さの突起が、５〜８０個／９００μｍ2存在し、且つクリーニング層に脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含むことを特徴とする磁気記録装置用クリーニング媒体。
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