JPH11185240A

JPH11185240A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH11185240A
Application number: JP10001760A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Naoe; 康司直江; Kiyomi Ejiri; 清美江尻; Naoto Abe; 直人阿部
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-10-14
Filing date: 1998-01-07
Publication date: 1999-07-09
Also published as: US6203934B1

Abstract

(57)【要約】【課題】電磁変換特性が良好な磁気記録媒体、特にデ
ジタル記録に用いられるＤＶＣ用テープとして、ＭＥテ
ープとの互換性を採るために、入出力特性とオーバーラ
イト特性とのバランスを達成し、かつ出力が高く、オー
バーライト特性の優れた磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】支持体上に強磁性金属粉末と結合剤樹脂
とを主体とする磁性層を有する磁気記録媒体において、
磁性層の抗磁力Ｈｃが２１００〜３０００Ｏｅ、磁性層
のＳＦＤが０．３０以下、磁性層の平均厚みｄがｄ≦記
録波長λ／４であることを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特に
デジタル信号を高密度で記録再生する磁気記録媒体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。

【０００３】この高密度化の要求に対して、強磁性粉末
を結合剤中に分散して、支持体に塗布したいわゆる塗布
型の磁気記録媒体は金属薄膜に対して、強磁性粉末の充
填度が低いために電磁変換特性が劣っていたが、ここ最
近の強磁性粉末の進歩、極薄層塗布技術の進歩によって
ほぼ同等の特性に至っている。更に生産性、腐食性等の
点で優れる。

【０００４】塗布型磁気記録媒体としては、強磁性酸化
鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、CrO₂、強磁性金属（合金を
含む）等の強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を支
持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００５】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては十分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み
損失の問題が大きくなっており、極薄層の塗布型磁気記
録媒体も提案されている。

【０００６】また、近年Ｈｉ−８や民生用デジタルＶＣ
Ｒ（ＳＤ仕様）に使用される磁気テープカセット（以
下、ＤＶＣという）では金属薄膜を蒸着したテ−プ、い
わゆるＭＥ(metal evaporated)テ−プが実用化されてお
り、強磁性金属粉末を使用した塗布型磁気記録テープい
わゆるＭＰ(metal particulate)テ−プとＭＥテ−プと
の両者が使用されるシステムが実用化されてきている。

【０００７】ＭＥテ−プと共存させるためには、ＭＰテ
ープもＭＥテープ同様、磁性層を薄層化して高出力化を
図らねばならないとともに、記録電流と再生出力との関
係を同じにする必要がある。従来より、ＭＰテープは記
録電流を大きくしていくと記録減磁により再生出力が低
下するが、ＭＥテープはその傾向が見られず、記録電流
を大きくしていくと再生出力が飽和する傾向にあった。
このため、実際にＨｉ−８デッキではＭＰとＭＥの両テ
ープに対して、それぞれ別の記録電流で記録するという
方式を取っており、回路が複雑化する欠点があった。こ
の難点を解消するためにはＭＰテープとＭＥテープとが
共用可能なシステムとし、同一の記録電流で記録する必
要があるが、ＭＥテープの最適記録電流でＭＰテープを
記録再生すると出力が低くなってしまうという問題があ
った。逆に、ＭＰテープの最適記録電流でＭＥテープを
記録再生するとＭＥテープがその実力を発揮できず、出
力が低くなってしまう。ＭＰテープの最適記録電流をＭ
Ｅテープのそれと殆ど同じにすることが求められてい
た。

【０００８】また、民生用デジタルＶＣＲでは記録波長
２２μｍの信号が同期信号として採用され、データは記
録波長０．４８８μｍの信号が採用された。また、軽量
化のため消去ヘッドを省略したオーバーライト消去が採
用された。オーバーライト消去を採用するためには、同
期信号をデータ信号で消去していく必要があり、そのオ
ーバーライト消去率は、−２０ｄＢ以下であることが望
ましいと言われている。磁気記録媒体に必要な特性とし
て、オーバーライト消去率を出来るだけ低くすことが望
まれる。

【０００９】オーバーライト消去率を低くするには、磁
性層の抗磁力Ｈｃを低くすればよいとされていた。しか
しこの抗磁力Ｈｃを低くすることにより、オーバーライ
ト性能を改良は出来るが、記録減磁により、高周波出力
が低下してしまうので、限界がある。また磁性層厚みを
薄くすることも示されているが、薄すぎると磁化量が足
りなくなり、短波長、長波長を問わず、出力全体が小さ
くなるので限界がある。

【００１０】極薄層時における磁化量を確保する手段と
しては、高い飽和磁化σ_Sを有した強磁性粉末を使用し
たり、結合剤樹脂量や研磨剤等の非磁性粉末の含有量を
減らす方法があるが、磁性液の分散性が低下して、磁性
層の表面性が粗れることで出力が低下したり、磁性層強
度が不足により、走行耐久性が著しく低下する問題があ
った。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】

【００１２】本発明は電磁変換特性が良好な磁気記録媒
体を提供することであり、特にデジタル記録に用いられ
るＤＶＣ用テープとして、ＭＥテープとの互換性を採る
ために、入出力特性とオーバーライト特性とのバランス
を達成し、かつ出力が高く、オーバーライト特性の優れ
た磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に強磁性金属粉末と結合剤樹脂とを主体とする磁性層
を有する磁気記録媒体において、磁性層の抗磁力Ｈｃが
２１００〜３０００Ｏｅ、磁性層のＳＦＤが０．３０以
下、磁性層の平均厚みｄがｄ≦記録波長λ／４であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体により達成できる。

【００１４】本発明の好ましい態様は以下の通りであ
る。（１）磁性層の残留磁束密度Ｂｒが５０００Ｇ以上であ
ることを特徴とする磁気記録媒体。（２）該支持体と磁性層の間に非磁性無機粉末と結合剤
樹脂とからなる非磁性層を有し、磁性層と非磁性層が同
時重層塗布により形成されることを特徴とする磁気記録
媒体。（３）磁性層の平均厚みｄは０．１２μｍ以下で、磁性
層の厚みの標準偏差σが０．０５μｍ以下であることを
特徴とする磁気記録媒体。

【００１５】本発明は、磁性層の３種の特性、即ち、抗
磁力Ｈｃ、ＳＦＤ（switching-field distribution) 及
び平均厚みｄを特定化することにより、磁気記録媒体の
１／２Ｔｂ出力、１／９０Ｔｂ出力及びオーバーライト
特性（Ｏ／Ｗ）の各電磁変換特性を満足するものとした
ことを特徴とするものである。ただし、上記３種の特性
を満足する磁性層を得るための手段は、特に特定の手段
のみに制限されるべきものではない。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明における磁気記録媒体は、
支持体上に上記特性の磁性層を少なくとも１層有するも
のであれば、その層構成は特に制限されるべきものでな
い。例えば、磁性層として強磁性金属粉末組成の異なる
２層以上を積層して設けてもよい。この場合、本発明に
おけるｄは、各々の層の総和が（λ／４）以下となる必
要がある。λは任意の記録波長を指すから、ｄの最小値
は必然的に最短記録波長の（１／４）以下となる。本発
明の磁気記録媒体はＤＶＣに好適であり、その最短記録
波長は０．４８８μｍであるから、ｄは０．１２２μｍ
以下となる。ｄは、更に好ましくは０．０２〜０．１μ
ｍ、特に好ましくは０．０５〜０．１μｍである。ま
た、この場合、磁性層の厚みの標準偏差σは好ましくは
０．０５μｍ以下、更に好ましくは０．００１〜０．０
３μｍの範囲である。

【００１７】また、層構成として好ましい態様は、上記
（２）に記載のように磁性層と支持体の間に非磁性無機
粉末と結合剤樹脂を主体とする非磁性層を設けたものを
挙げることができる。この場合、磁性層と非磁性層は同
時重層塗布により形成されることが好ましい。重層の場
合、磁性層を上層、非磁性層を下層ともいう。本発明に
おいては、磁性層の残留磁束密度Ｂｒを５０００Ｇ（ガ
ウス）以上とすることが好ましく、Ｂｒは更に好ましく
は５０００〜８０００Ｇの範囲である。Ｂｒをこのよう
に設定することにより１／９０Ｔｂ出力低下を防止する
ことができる。

【００１８】このようにＢｒを設定する手段としては、
磁性層に含有される強磁性金属粉末の充填度を上げるこ
とが例示されるが、例えば、以下のような手段が挙げら
れる。ａ．分散性の優れた結合剤樹脂を用いると共にその量の
低減化を計る。ｂ．強磁性金属粉末の表面を改質して、分散性を改善す
る。

【００１９】ｃ．下層から磁性層への結合剤樹脂（特
に、低分子成分）のマイグレーションを抑制する。そして、磁性層に含有される強磁性金属粉末として、Ｈ
ｃが２２００〜３０００Ｏｅ、飽和磁化σ_Sが１４０〜
１７０ｅｍｕ／ｍｇ、結晶子サイズが１００〜１７０
Å、ＳＦＤが１．０以下のものを採用すると上記本発明
の磁性層のＨｃ、ＳＦＤ及びｄの範囲をも好適に満足す
ることができ、ＭＥテープ並の電磁変換特性を有するＭ
Ｐテープを作成することができる。ここで、更に好まし
くは、Ｈｃは２２５０〜２８００Ｏｅ、σ_Sは１５０〜
１７０ｅｍｕ／ｇ、結晶子サイズは１２０〜１６０Å、
ＳＦＤは０．９５以下、更に好ましくは０．８５以下の
範囲である。

【００２０】本発明の磁気記録媒体は、Ｈｃを高く設定
したために１／２Ｔｂ出力（高域出力）が確保され、か
つｄが０．１２μｍ以下と薄くなってもＢｒを高めるこ
とができると共にＳＦＤを低く確保することができるの
で１／９０Ｔｂ出力（トラッキング信号出力）低下を抑
制することができると共にＯ／Ｗを良好に確保すること
ができる。

【００２１】上記ａ、ｂ及びｃの具体的方法について説
明する。ａについて以下、説明する。磁性層に含まれる
結合剤樹脂としてポリウレタン樹脂を全結合剤樹脂の好
ましくは５０〜１００重量％、更に好ましくは７０〜１
００重量％用い、かつ磁性層の強磁性金属粉末に対して
全結合剤樹脂量を好ましくは５〜１８重量％、更に好ま
しくは５〜１２重量％とすることが挙げられる。

【００２２】上記ポリウレタン樹脂としては、ジオール
と有機ジイソシアネートを主要原料とした反応生成物で
あるポリウレタン樹脂からなり、ジオール成分として
は、環状構造を有する短鎖ジオール単位とエーテル基を
含む長鎖ジオール単位とを含むことが好ましい。そし
て、このポリウレタン樹脂は、環状構造を有する短鎖ジ
オール単位をポリウレタン樹脂中に１７〜４０重量％含
み、かつポリウレタン樹脂全体に対して、エーテル基を
１．０〜５．０ｍｍｏｌ／ｇを含む長鎖ジオール単位を
ポリウレタン樹脂中に１０〜５０重量％含む結合剤であ
ることが好ましい。

【００２３】環状構造を有する短鎖ジオールとは、飽和
又は不飽和の環状構造を有し、かつ分子量が５００未満
のジオールを意味する。例えば、ビスフェノールＡ、下
記の式１で示される水素化ビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＳ、ビスフェノールＰおよびこれらのエチレンオ
キシド、プロピレンオキシド付加物、シクロヘキサンジ
メタノール、シクロヘキサンジオール等の芳香族、脂環
族を有するジオールが好ましい。

【００２４】

【化１】

【００２５】さらに好ましくは、式１で示す水素化ビス
フェノールＡおよびそのエチレンオキシド、プロピレン
オキシド付加物が挙げられる。

【００２６】また、環状構造を有する短鎖ジオールは、
通常、分子量が５０以上５００未満のものから選ばれ
る。また、前記環状構造を有する短鎖ジオールと共に、
通常、分子量５００未満の他のジオールを併用すること
ができる。具体的には、エチレングリコール、１，３−
プロピレンジオール、１，２−プロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチルプロパン
ジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナン
ジオール、ジエチレングリコール、Ｎ−ジエタノールア
ミンのエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加
物等の直鎖又は分枝のジオールを挙げることができる。

【００２７】これらを用いることによって、環状構造に
より高強度、高Ｔｇであって、高耐久性の塗布膜が得ら
れる。さらに分岐ＣＨ₃ の導入により溶剤への溶解性に
優れるため高分散性が得られる。ポリウレタン樹脂中の
短鎖ジオール単位の含有量は、１７〜４０重量％が好ま
しく、さらに好ましくは２０〜３０重量％である。

【００２８】また、長鎖ジオールとは、分子量が５００
以上のジオールを意味し、具体的には、ビスフェノール
Ａ、水素化ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ又はビ
スフェノールＰにエチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド又はこれらの両者を付加させたもの、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコールが好ましく、とくに下記の式２で示され
る化合物が好ましい。

【００２９】

【化２】

【００３０】また、ｎおよびｍの値は、３〜２４が望ま
しい。また、長鎖ジオールにおいて、Ｒは、以下の、
が好ましく、

【００３１】

【化３】

【００３２】のものがより好ましい。また、式２の長
鎖ジオールにおいて、Ｘは、水素原子、またはメチル基
が好ましく、メチル基がより好ましい。なお、ｎ又はｍ
でくくられるカッコ内のＸはすべて同じである必要はな
く、水素原子とメチル基が混ざっていてもよい。本発明
の特に好ましい態様で使用されるポリウレタン樹脂は、
環状構造を有するので、塗膜強度が高く、耐久性に優
れ、プロピレンの分岐ＣＨ₃ を有するので、溶剤への溶
解性に富み分散性に優れる。

【００３３】長鎖ジオールの重量平均分子量（Ｍｗ）
は、通常、５００〜５０００であり、好ましくは７００
〜３０００の範囲から選ばれる。エーテル基を含む長鎖
ジオール単位の含有量は、ポリウレタン樹脂中１０〜５
０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは３０
〜４０重量％である。該長鎖ジオール単位のエーテル基
の含有量は、ポリウレタン樹脂中に１．０〜５．０ｍｍ
ｏｌ／ｇであることが好ましく、より好ましくは２．０
〜４．０ｍｍｏｌ／ｇである。

【００３４】ポリウレタン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）
は、好ましくは、１８０００〜５６０００、更に好まし
くは２３０００〜３４０００であり、重量平均分子量
（Ｍｗ）は、好ましくは、３００００〜１０００００、
更に好ましくは４００００〜６００００である。

【００３５】ポリウレタン樹脂のガラス転移温度Ｔｇ
は、通常、０〜２００℃であり、好ましくは、３０〜１
５０℃、さらに好ましくは、３０〜１３０℃の範囲とさ
れる。

【００３６】上述したポリウレタン樹脂は、塩化ビニル
系樹脂等の合成樹脂を併用しても良い。併用することが
できる塩化ビニル系樹脂としては、その重合度は２００
〜６００が好ましく、２５０〜４５０が特に好ましい。
塩化ビニル系樹脂はビニル系モノマー、例えば酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、塩化ビニリデン、アクリロニト
リルなどを共重合させたものでもよい。また、ニトロセ
ルロース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等を併用しても良
く、これらは、単独でも組み合わせでも使用することが
できる。

【００３７】尚、上記ポリウレタン樹脂は、非磁性層に
も配合することが好ましい。ｂについて以下、説明す
る。磁性層に強磁性金属粉末の表面を改質する芳香族有
機酸化合物を含有させ、含有量を強磁性金属粉末１ｋｇ
に対して好ましくは０．１〜０．８ｍｏｌ、更に好まし
くは０．２〜０．５ｍｏｌとすることが挙げられる。

【００３８】芳香族有機酸化合物は、少なくとも強磁性
金属粉末を含む各種粉体に強く吸着するものであって、
ポリウレタン樹脂との親和性が高いものが好ましい。従
って、芳香族有機酸化合物としては、なるべく解離定数
の大きな（強酸）が好ましく、ｐＫａ値が３以下の有機
酸もしくはその塩が適している。

【００３９】芳香族有機酸化合物は、遊離酸のほか、そ
の塩あるいはその誘導体、例えば、エステル等を含む概
念である。また、上記した粉体への吸着とは、物理吸着
の他、共有結合を含む化学吸着を包含する概念である。
ｐＫａ値が３以下の有機酸としては、α−ナフチルリン
酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ｐ−エチルベ
ンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸、ナフタリン−α−スルホン酸、
ナフタリン−β−スルホン酸などもしくはそれらの塩が
ある。

【００４０】芳香族有機酸化合物の使用法としては、上
記特性が発揮できる態様であれば、特に制限はないが、
好ましくは、塗料調製において強磁性金属粉末と結合剤
を混練する時に同時に添加するか、あるいは強磁性金属
粉末を結合剤との混練の前に予め強磁性金属粉末に芳香
族有機酸化合物を表面処理することが挙げられる。この
ような芳香族有機化合物は下層にも含ませることが好ま
しく、非磁性無機粉末１ｋｇに対して通常、０．１〜
０．５モル、好ましくは０．１〜０．３５モルの範囲で
用いられる。

【００４１】ｃについて以下、説明する。下層における
結合剤樹脂量を低減させることにより、低分子成分の低
減化を計ることができ、同時重層塗布時の下層から上層
へのマイグレーションを低減することができる。このた
めには、下層の結合剤樹脂量（硬化剤も含む）を非磁性
無機粉体総量１００重量部に対して好ましくは１４〜２
５重量部、更に好ましくは１４〜２０重量部とすること
が挙げられる。

【００４２】ここで、低分子成分としては、結合剤とし
て使用されるポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂など
の樹脂に含まれる低分子成分の他、結合剤を硬化する場
合に使用されるポリイソシアネート化合物の未反応分が
含まれる。また、非磁性無機粉体としては、非磁性無機
粉末、カーボンブラック、研磨剤等を挙げることができ
る。

【００４３】また、下層の結合剤樹脂として、低分子の
塩化ビニル系樹脂、好ましくはゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー（ＧＰＣ）による平均分子量として
０．５万〜１．５万程度を用い、例えば、磁性層に上記
短鎖ジオールと長鎖ジオールからなるポリウレタン樹脂
のみを結合剤樹脂として使用するかあるいは該ポリウレ
タン樹脂を主体とした結合剤樹脂を使用し、かつ下層と
上層を同時重層塗布で設けると磁性層の表面付近に塩化
ビニル系樹脂を少量析出させることができる。これによ
り磁性層表層部のガラス転移点Ｔｇを適度に下げ、カレ
ンダー成形性を更に向上させることができるという効果
がある。この場合、下層にも短鎖ジオールと長鎖ジオー
ルからなるポリウレタン樹脂を併用することが好まし
く、下層の全結合剤樹脂（硬化剤を含む）に対して通
常、１０〜８０重量％、好ましくは１５〜６０重量％の
範囲で用いられる。

【００４４】但し、マイグレーションに関しては、ＧＰ
Ｃによる平均分子量の測定で５，０００未満の分子量成
分寄与が大きいため、磁性層に塩化ビニル系樹脂を使用
する場合には下層の塩化ビニル系樹脂の使用量を低減す
ることにより当該マイグレーションを抑制することが、
一段と効果的である。このような観点から、下層の全結
合剤樹脂に対する上記ポリウレタン樹脂の含有量は２０
重量％から１００重量％の範囲とするのが好ましく、２
０重量％から８０重量％の範囲が更に好ましい。

【００４５】また、下層の結合剤樹脂量を上記ｃのよう
に低減することで、磁性層に対して下層の硬さを低くす
ることが可能である。従って、本発明は磁性層の平均厚
みｄを薄くすることで下層の硬さの影響を受けやすくで
きるため、ヘッド当たりを改善することができる。ま
た、磁性層に上記短鎖ジオールと長鎖ジオールからなる
ポリウレタン樹脂を主体とした結合剤樹脂を用いると、
磁性層の靱性が確保され、かつ非磁性層に塑性が付与さ
れる結合剤樹脂組成、例えば、上記ポリウレタン樹脂
と、必要により、極性基（例えばスルホ基、そのカリウ
ム塩の基等）を有する塩化ビニル系樹脂とを、ポリイソ
シアネート化合物で硬化したものを用いることで、両層
は塗膜として押し込まれやすくなり、ヘッド等の接触時
の接触点が増加し、磁性層の応力集中が緩和され、スチ
ルライフ等の走行耐久性を向上させることができる。

【００４６】本発明において、磁性層の厚みの標準偏差
σは０．０５μｍ以下が好ましいが、該σを達成できる
手段は、上記手段に加え更に公知のものを適用すること
ができる。例えば、磁性層は下層の上に同時重層塗布で
設けることが好ましく、その場合、両塗料の粘弾性を近
似のものにすること（例えば、特に下層塗布液の粉体の
種類、サイズを選定してチキソトロピー性を調整するこ
と）、下層と上層との界面に混合領域がないようにする
ため両層に含まれる粉体のサイズを制御すること（例え
ば、下層の非磁性無機粉末として、その平均粒子径が上
層の針状強磁性金属粉末の結晶子サイズの１／２〜４倍
または、その針状強磁性金属粉末の長軸長の１／３以下
のものを採用すること）、その他特許２５６６０９６号
公報に記載の方法等が例示される。

【００４７】磁性層の平均厚みｄ及び磁性層の厚みの標
準偏差σは、重層構成の場合、以下の方法により測定し
た値を指す。磁性層単層の場合もそれに準じて測定した
値を指す。磁気記録媒体を長手方向に渡ってダイヤモン
ドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出し、透過型電
子顕微鏡で倍率１００００倍〜１０００００倍、好まし
くは２００００倍〜５０，０００倍で観察し、その写真
撮影を行う。写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５であ
る。その後、磁性層、下層の強磁性金属粉末や非磁性無
機粉末の形状差に注目して界面を目視判断して黒く渕ど
り、かつ磁性層表面も同様に黒く渕どる。その後、Ｚｅ
ｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて渕どりした線の
長さを測定する。試料写真の長さが２１ｃｍの場合、測
定を８５〜３００回行う。その際の測定値の平均値をｄ
とし、以下の式から標準偏差σを求める。

【００４８】 σ＝[｛(d₁-d)²+(d₂-d)²+……+(d_n-d)²｝/(n-1)]^1/2 d₁、d₂、……d_nは各測定値を示す。ｎは８５〜３００
である。尚、磁性層厚みの各測定値の最大値は、ｄの
１．０〜３倍程度の範囲にあることが好ましい。また、
同測定値の最小値はｄの０．４〜１倍程度の範囲にある
ことが好ましい。

【００４９】以下、本発明の磁気記録媒体について更に
詳細に説明する。本発明に使用される強磁性金属粉末と
しては、特に限定されないが、ＦｅまたはＦｅを主成分
とする合金が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所
定の原子以外にＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔ
ｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、
Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍ
ｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわ
ない。特に、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌ
ａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つがＦｅ以外
に含まれるものが好ましい。

【００５０】これらの強磁性金属粉末にはあとで述べる
分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前
にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、
特公昭44-14090号、特公昭45-18372号、特公昭47-22062
号、特公昭47-22513号、特公昭46-28466号、特公昭46-3
8755号、特公昭47-4286号、特公昭47-12422号、特公昭4
7-17284号、特公昭47-18509号、特公昭47-18573号、特
公昭39-10307号、特公昭48-39639号、米国特許3026215
号、同3031341号、同3100194号、同3242005号、同33890
14号などに記載されている。

【００５１】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物を含んでもよい。強磁性金属粉末の公知の製造
方法により得られたものを用いることができ、下記の方
法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュ
ウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化
鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ
−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱
分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で
蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにし
て得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわ
ち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に
浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を
形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成
する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００５２】本発明の磁性層に使用される強磁性金属粉
末のＢＥＴ法による比表面積は、好ましくは３０〜５０
ｍ²／ｇから選ばれる。これにより、良好な表面性と低
いノイズの両立が可能となる。強磁性金属粉末の平均長
軸長は、好ましくは０．０５〜０．１５μｍ、更に好ま
しくは０．０８〜０．１２μｍである。

【００５３】該長軸長は、透過型電子顕微鏡写真を撮影
し、その写真から強磁性粉末の短軸長と長軸長とを直接
読みとる方法と画像解析装置カールツァイス社製ＩＢＡ
ＳＳＩで透過型電子顕微鏡写真トレースして読みとる方
法を適宜併用して求められる。強磁性金属粉末の針状比
は４以上１８以下が好ましく、更に好ましくは５以上１
２以下である。強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２
％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金
属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。

【００５４】強磁性金属粉末のｐＨは用いる結合剤との
組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４
〜１２であるが、好ましくは７〜１０である。強磁性金
属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸
化物などを表面に存在させてもかまわない。その量は強
磁性金属粉末に対し０．１〜１０重量％であり表面処理
を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²
以下になり好ましい。強磁性金属粉末には可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場
合があるが２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を
与える事は少ない。

【００５５】また、本発明に用いられる強磁性金属粉末
は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以
下、さらに好ましくは５容量％以下である。また強磁性
金属粉末の形状については、針状が好ましいが、粒状、
米粒状、板状も許容し得る。

【００５６】次に本発明の好ましい態様で使用される下
層の詳細な内容について説明する。本発明の下層に用い
られる非磁性無機粉末は、例えば、金属酸化物、金属炭
酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化
物、等の無機質化合物から選択することができる。無機
質化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化
ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲー
タイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸
化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、
酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸
化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用さ
れる。特に好ましいのは二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化
鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタ
ン、α酸化鉄である。

【００５７】これら非磁性無機粉末の粒子サイズは３μ
ｍ以下が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる
非磁性無機粉末を組み合わせたり、単独の非磁性無機粉
末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも
できる。とりわけ好ましいのは非磁性無機粉末の粒子サ
イズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に非磁性無
機粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径が
０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場
合は、長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ
以下が更に好ましい。尚、非磁性無機粉末の粒子サイズ
の測定は、前記強磁性金属粉末の場合と同様である。タ
ップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜
１．５ｇ／ｍｌである。非磁性無機粉末の含水率は０．
１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ま
しくは０．３〜１．５重量％である。非磁性無機粉末の
ｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは７〜１０の間が特に好
ましい。非磁性無機粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜６５ｍ²／ｇである。非磁性無機粉末の結晶子サイズ
は０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜
０．１μｍが更に好ましい。ジブチルフタレート（DB
P）を用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好ましくは１
０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gで
ある。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状
は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。

【００５８】強熱減量は２０重量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記非磁性無機粉末のモース硬度は４以
上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラ
フネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好
ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。非
磁性無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０
μmol／m²、更に好ましくは２〜１５μmol/m²である。
非磁性無機粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００erg/
cm²〜６００erg/cm²の範囲にあることが好ましい。ま
た、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができ
る。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０
個/100Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜９
の間にあることが好ましい。

【００５９】これらの非磁性無機粉末の表面には表面処
理によりAl₂O₃ 、SiO₂、TiO₂、ZrO₂、SnO₂、Sb₂O₃ 、Zn
O を存在させることが好ましい。特に分散性に好ましい
のはAl₂O₃ 、SiO₂、TiO₂、ZrO₂であるが、更に好ましい
のはAl₂O₃ 、SiO₂、ZrO₂である。これらは組み合わせて
使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、
目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、
先ずアルミナを表層に存在させた後でシリカを存在させ
る方法、またはその逆の方法を採ることもできる。ま
た、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わな
いが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００６０】本発明の下層に用いられる非磁性無機粉末
の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HI
T-100,ZA-G1、戸田工業社製DPN-250，DPN-250BX、DPN-24
5,DPN-270BX、DPB-550BX、DPN-550RX 石原産業製酸化チ
タンTTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55C、TTO-55S、TTO-5
5D、SN-100,MJ-7 α−酸化鉄E270,E271,E300,チタン工業
製STT-4D、STT-30D、STT-30、STT-65C、テイカ製MT-100
S、MT-100T、MT-150W、MT-500B、MT-600B、MT-100F、MT-500H
D。堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-M、同和鉱業
製DEFIC-Y,DEFIC-R、日本アエロジル製AS2BM,TiO2P25,宇
部興産製100A,500A、チタン工業製Y-LOP及びそれを焼成
したものが挙げられる。

【００６１】特に好ましい非磁性無機粉末は二酸化チタ
ンとα−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以
下のような諸条件の基で実施される。α−Ｆｅ₂Ｏ₃粉末
は、通常の第一鉄水溶液に等量以上の水酸化アルカリ
水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸
濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素を含有
ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト
粒子を生成させる方法、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカ
リ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ₃を含む懸濁
液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により紡
錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、第一
鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸
アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイ
ドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化
反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、
次いで、該針状ケータイト該粒子を含む第一鉄塩水溶液
に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等量以上の水酸
化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気し
て前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法及び、
第一鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または
炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コ
ロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して
酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成さ
せ、次いで、酸性または中性領域で前記針状ゲータイト
核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイ
ト粒子を前駆体粒子とする。

【００６２】尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉
末の特性向上等の為に通常添加されている、Ｎｉ、Ｚ
ｎ、Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障がな
い。前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５
００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３
５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しを
して針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃の粒子を得る。

【００６３】尚、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータ
イト粒子は表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等を含有す
る化合物である焼結防止剤が付着していても支障はな
い。３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き
鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃
粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒
子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態
とさせる事が好ましいからである。

【００６４】また、前記脱水または焼き鈍しをして得ら
れた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子は水溶液中に分散して懸濁液
とし、例えば、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記
α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆し
た後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気、
圧密処理等を施されてもよい。用いられるＡｌ化合物は
酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸
ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することが出来
る。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉
末に対してＡｌ換算で通常、０．０１〜５０重量％であ
る。また、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとし
て、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂか
ら選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆す
ることもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化
合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対して
通常、０．０１〜５０重量％の範囲である。

【００６５】二酸化チタンの製法に関しては以下の通り
である。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素
法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解
し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれ
ば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水
分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。こ
の粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作
成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用
いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴ
ｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体とな
った酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた
粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後核生成剤を添加
し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、
粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸
化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸
法と同じである。

【００６６】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。
まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，
Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、また
はアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン
粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテー
ション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐ
Ｈを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケ
ーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾
燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕さ
れ、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉
体にAlCl₃,SiCl₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入して
表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法
についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing”Characteriz
ation of Powder Surfaces”Academic Press,1976を参
考にすることができる。

【００６７】下層にカ−ボンブラックを混合させて公知
の効果であるＲｓを下げること、光透過率を小さくする
ことができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度
を得る事ができる。

【００６８】下層のマイクロビッカース硬度は通常、２
５〜６０Ｋｇ／ｍｍ² 、好ましくは３０〜５０Ｋｇ／ｍ
ｍ²であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用い
て、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製
三角錐針を圧子先端に用いて、測定する。光透過率は一
般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、た
とえばＶＨＳでは０．８％以下であることが規格化され
ている。このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マ
ル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用い
ることができる。

【００６９】下層に用いられるカーボンブラックの比表
面積は通常、１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５
０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４０
０ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gである。カ
−ボンブラックの粒子径は通常、５ｍμ〜８０ｍμ、好
ましく１０〜５０ｍμ、さらに好ましくは１０〜４０ｍ
μである。通常、カ−ボンブラックのｐＨは、２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／ml、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ２０００、１３００、１０００、９０
０、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７
２、三菱化学社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５
０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５
０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コロン
ビアンカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡ
ＶＥＮ8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,180
0,1500,1255,1250、アクゾー社製ケッチェンブラックEC
などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表
面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面
の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは上記非磁性無機粉末に対して５０重量％を
越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲
で使用できる。これらのカ−ボンブラックは単独、また
は組合せで使用することができる。

【００７０】下層で使用できるカーボンブラックは例え
ば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編」
を参考にすることができる。また下層には有機質粉末を
目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチ
レン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂
粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン
系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹
脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も
使用することができる。その製法は特開昭62-18564号、
特開昭60-255827号に記されているようなものが使用で
きる。

【００７１】下塗層は一般の磁気記録媒体において設け
ることが行われているが、これは支持体と磁性層又は下
層との接着力を向上させるために設けられるものであっ
て、溶剤可溶性のポリエステルが使用される。厚さも
０．５μｍ以下が一般的である。下層の結合剤樹脂、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層
のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加
剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公
知技術が適用できる。

【００７２】磁性層及び下層に使用し得る熱可塑性樹脂
としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平
均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１
０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１，０
００程度のものである。このような例としては、塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、ア
クリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、
スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、
ビニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位とし
て含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種
ゴム系樹脂がある。

【００７３】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの
樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブ
ック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬
化型樹脂を下層、または上層に使用することも可能であ
る。

【００７４】これらの例とその製造方法については特開
昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいも
のとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、の中から選ばれ
る少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、または
これらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあげ
られる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウ
レタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリ
エステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタ
ン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリ
カプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレ
タン、など公知のものが使用できる。特に、前記した環
状構造を有する短鎖ジオールとエーテル基を含む長鎖ジ
オールからなるポリウレタンが好ましい。ここに示した
すべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を
得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−
ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）
₂、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩
基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化水素
基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、
ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものを用いることが好ましい。このような極
性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１
０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００７５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、
ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポ
リウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ
２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０
５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４
００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０
９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、
ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミ
ン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２
０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００
４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３
００３、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあ
げられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１１０、ＵＲ−
８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、およびジオ
ールと有機ジイソシアネートを主原料とした反応生成物
であり、環状構造とエーテル基を持つポリウレタンが好
ましい。

【００７６】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合は，破断伸びが１００〜２，０００％、破断応力
は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１
０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。

【００７７】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等が好ましい。これらのイソシアネート類の
市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社
製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネート２０３
０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タ
ケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネ
ートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュール
Ｌ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジ
ュールＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層、上
層とも用いることができる。これらポリイソシアネート
は、上層の全結合剤樹脂に対し、通常、０〜５０重量
％、好ましくは０〜３０重量％用いられ、下層の全結合
剤樹脂に対し通常、０〜４０重量％、好ましくは０〜２
５重量％用いられる。

【００７８】本発明の磁気記録媒体を二層以上から構成
した場合は、結合剤樹脂量、結合剤中に占める塩化ビニ
ル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あ
るいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の
分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性
などを必要に応じ下層と上層とで変えることはもちろん
可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用でき
る。

【００７９】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックは非磁性層で例示したものを適用できる。カーボン
ブラックは磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。カーボンブ
ラックを使用する場合は強磁性金属粉末に対する量の
０．１〜１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％、更
に好ましくは０．５〜１．５重量％でもちいることが好
ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層、下
層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油
量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的
に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明
の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カー
ボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にす
ることができる。

【００８０】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素，チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモース６以上の公知の材料が単独または組合せ
で使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイ
ズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも
粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１
〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／
ｇ、が好ましい。

【００８１】本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、
球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に
角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用い
られる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製、Ａ
ＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０，ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０，ＨＩ
Ｔ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ
−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤
は下層、上層で種類、量および組合せを変え、目的に応
じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研
磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中
に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の磁性
層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１０
０μｍ²以上が好ましい。

【００８２】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコー
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。

【００８３】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オ
レイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。

【００８４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使い
分けることができる。例えば、下層、磁性層で融点のこ
となる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸
点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出し
を制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定
性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層で多くして潤滑
効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例の
みに限られるものではない。

【００８５】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性金属粉末と混
合する場合、強磁性金属粉末と結合剤と溶剤による混練
工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後
に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、目的に応じて磁性塗布層を塗布した後、同時また
は逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布すること
により目的が達成される場合がある。また、目的によっ
てはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層
表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００８６】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーン
Ｌ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート、ブ
チルラウレート、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンアーマー社
製、アーマイドＰ、アーマイドＣ，アーモスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００、イオネットＤＬ−２００、イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００、イ
オネットＤＯ−２００などが挙げられる。

【００８７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずし
も１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふく
まれてもかまわない。これらの不純分は３０重量％以下
が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。
本発明で用いる有機溶媒は磁性層と下層でその種類は同
じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわ
ない。下層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、
ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的
には上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平
均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させ
るためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成
の内、誘電率が１５以上２０以下の溶剤が５０重量％以
上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８
〜１１であることが好ましい。

【００８８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は支持体
が１〜１００μｍであるが、特に、１〜８μｍの薄い支
持体を用いる場合に有効である。磁性層と下層を合わせ
た厚みは支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用い
られる。また、支持体と下層の間に密着性向上のための
接着層を設けることが好ましい。

【００８９】接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、このま
しくは０．０２〜０．５μｍである。また、支持体の磁
性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわな
い。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜
１．０μｍである。これらの接着層、バックコート層は
公知のものが使用できる。本発明に用いられる支持体
は、マイクロビッカース硬度が７５Kg/mm²以上のもので
あり、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリ
アミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフィル
ムが使用できる。特に、東レ社製「アラミド」又は旭化
成製「アラミカ」として入手できる芳香族ポリアミドも
しくはポリエチレンナフタレートを用いた支持体が好ま
しい。

【００９０】これらの支持体にはあらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、
などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するに
は、支持体の磁性層を塗布する面の中心線平均表面粗さ
が１０ｎｍ以下０．１ｎｍ以上、好ましくは６ｎｍ以下
０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは４ｎｍ以下０．５ｎ
ｍ以上のものを使用することが好ましい。また、これら
の支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また
表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィ
ラーの大きさと量により自由にコントロールされるもの
である。これらのフィラーとしては一例としてはＡｌ，
Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶
質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微
粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るた
めには、バック層を塗布する面の粗さは磁性層を塗布す
る面の粗さより粗い事が好ましい。バック層塗布面の中
心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以上２０ｎｍ以下、更
に好ましくは２ｎｍ以上８ｎｍ以下である。磁性層塗布
面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュア
ル構成の支持体を用いても良いし、コーテイング層を設
ける事によって変えても構わない。

【００９１】本発明に用いられる支持体のテープ走行方
向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０Ｋｇ／ｍｍ²、テ
ープ幅方向のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋｇ／ｍ
ｍ²であり、テープの長手方向のＦ−５値がテープ幅方
向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向
の強度を高くする必要があるときはその限りでない。ま
た、支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３
０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好まし
くは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好まし
くは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率
は１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ²、が好ましい。ま
た、本発明での９００nmでの光透過率は３０％以下が好
ましく、更に好ましくは３％以下である。

【００９２】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性金属粉末、結合
剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添
加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工
程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タン樹脂を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のた
めの混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的
を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工
程としてを用いることができることはもちろんである
が、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練
力をもつものを使用することにより高いＢｒを得ること
ができるので好ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを
用いる場合は強磁性金属粉末と結合剤のすべてまたはそ
の一部（ただし全結合剤の３０重量％以上が好ましい）
および強磁性金属粉末１００部に対し１５〜５００部の
範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につい
ては特開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７
４号に記載されている。また、磁性層液、非磁性層液、
あるいは研磨剤分散液等を調製する場合には高比重の分
散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ
が好適である。

【００９３】本発明において重層構成の磁気記録媒体を
同時重層塗布する装置、方法の例として以下のような構
成を提案できる。１，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層
がウェット状態にのうちに特公平1-46186号や特開昭60-
238179号，特開平2-265672号に開示されている支持体加
圧型エクストルージョン塗布装置により上層磁性層を塗
布する。

【００９４】２，特開昭63-88080号、特開平2-17971号，
特開平2-265672号に開示されているような塗布液通液ス
リットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層を
ほぼ同時に塗布する。３，特開平2-174965号に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する。

【００９５】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号や特開平1-236968号に開示されているような方法に
より塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが
望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3-
8471号に開示されている数値範囲を満足することが好ま
しい。

【００９６】本発明の磁気記録媒体を得るためには強力
な配向を行うことが好ましい。磁気テープの場合は長手
方向に配向されるが、１，０００Ｇ以上、好ましくは
３，０００Ｇ以上のソレノイドとコバルト磁石を同極対
向で２，０００Ｇ以上、好ましくは４，０００Ｇ以上、
さらに好ましくは６，０００Ｇ以上の磁場を併用するこ
とが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなる
ように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ま
しい。また、フロッピーディスクの場合は、ランダム配
向が施される。配向条件としては、磁気テープの場合と
同じようにテープ長手方向に配向したのち、例えば周波
数５０Ｈｚで磁場強度２５０ガウスまた周波数５０Ｈｚ
で磁場強度１２０ガウスの二つの磁場強度等の交流磁場
発生装置の中を通過させて、ランダム配向される。

【００９７】また、非磁性層、磁性層を同時重層塗布す
る以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることや
コロナ放電、紫外線（ＵＶ）照射、電子線照射すること
により接着性を高める公知の手法を組み合わせることが
好ましい。さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロール、または金属ロールを使
用する。また、金属ロール同志、プラシチックロール同
志または金属ロールとプラスチックロールの対ロールで
処理することが出来る。処理温度は、好ましくは７０〜
１２０℃、さらに好ましくは８０〜１００℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００〜５００Ｋｇ／ｃｍ、さ
らに好ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００９８】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３で
ある。表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オーム
／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、
幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍ
ｍ ²、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜１，５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留伸びは好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想で
ある。磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘
弾性測定の損失弾性率の極大点)は３０℃以上１５０℃
以下が好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好まし
い。損失弾性率は１×１０⁸〜８×１０⁹dyne/cm²の範囲
にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であるこ
とが好ましい。

【００９９】損失正接が大きすぎると粘着故障がでやす
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
り、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残留溶媒
より少ないほうが好ましい。磁性層が有する空隙率は下
層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ま
しくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たす
ためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値
を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途
が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大
きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。

【０１００】本発明の磁気記録媒体の磁性層の磁気特
性、即ち、Ｈｃ及びＳＦＤ、更にＢｍ、Ｂｒは、特に断
らない限り、振動試料型磁束計（ＶＳＭ）を用いて磁場
１０ｋＯｅで磁性層面内方向で測定した値を言う。磁気
テープの場合、テープ走行方向において、Ｈｃは前述し
た通りであり、角形比（ＳＱ）は通常、０．８５以上で
あり、好ましくは０．８５〜０．９５である。テープ走
行方向に直角な二つの方向の角型比、即ち、テープ面に
平行かつテープ走行方向に直交する方向とテープ面に垂
直な方向の二つの各角形比は、走行方向の角型比の８０
％以下となることが好ましい。長手方向のレマネンス抗
磁力Ｈｒも１８００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下が好まし
い。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００Ｏｅ以上５００
０Ｏｅ以下であることが好ましい。

【０１０１】磁性層の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による
評価で求めた２乗平均粗さＲRMSは２ｎｍ〜１５ｎｍの
範囲にあることが好ましい。

【０１０２】本発明の磁気記録媒体は下層と上層を有す
ることが好ましいが、目的に応じ下層と磁性層でこれら
の物理特性を変えることができるのは容易に推定される
ことである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久
性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低く
して磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどであ
る。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッ
ド当たりを改良することが本発明においても有効であ
り、テープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズ
した支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多
い。

【０１０３】また、近年エクストルージョン塗布技術の
発達で０．５μm以下の極薄層を単層で塗布することも
可能になってきた。

【０１０４】

【実施例】以下の記載の「部」は「重量部」を示し、％
は重量％を示す。〔強磁性金属粉末〕磁気記録媒体の製造に使用した強磁
性金属粉末の特性、組成を表１に示す。

【０１０５】

【表１】Ｓ_BETはＢＥＴ法による比表面積を示す。〔ポリウレタン樹脂の調製〕（ポリウレタン樹脂Ａの合成）還流式冷却器、撹拌機を
具備し、予め窒素置換した容器に式１のジオールである
ＨＢｐＡ、式２のジオールであるＢｐＡ−ＰＰＯ７０
０、その他のジオールのＰＰＧ４００およびＤＥＩＳを
モル比でＨＢｐＡ：ＢｐＡ−ＰＰＯ７００：ＰＰＧ４０
０：ＤＥＩＳ＝２４：１４：１０：２としてシクロヘキ
サノンとジメチルアセトアミドを５０：５０の重量比で
含む混合溶媒に溶解し、窒素気流下で６０℃で溶解し
た。触媒として、ジ−ｎ−ジブチルスズジラウレートを
使用した原料の総量に対して６０ｐｐｍ加えてもよい。

【０１０６】次に、ＭＤＩ（４，４−ジフェニルメタン
ジジイソシアネート）をジオールの総和と等モル加え９
０℃にて６時間加熱反応し、エーテル基を４．０ｎｍｏ
ｌ／ｇ含有し、かつ−ＳＯ₃ Ｎａ基が８×１０^-5モル／
ｇ導入されたＭｗ４５０００でＭｎ２５０００のポリウ
レタン樹脂Ａを得た。（ポリウレタン樹脂Ｂの合成）その他のジオールとして
ＰＣＬ４００を用いてモル比をＨＢｐＡ：ＢｐＡ−ＰＰ
Ｏ７００：ＰＣＬ４００：ＰＰＧ４００：ＤＥＩＳ＝２
４：５：１４：５：２とした以外は、ポリウレタン樹脂
Ａに準じてエーテル基を１．３ｎｍｏｌ／ｇ含有し、か
つ−ＳＯ₃ Ｎａ基が８×１０^-5モル／ｇ導入されたポリ
ウレタン樹脂Ｂを合成した。

【０１０７】尚、略号は、下記のものを示す。ＨＢｐＡ：水素化ビスフェノールＡ（新日本理化製リカ
ビノールＨＢ） BpA-PPO700：ビスフェノールＡのポリプロピレンオキシ
ド付加物（分子量７００） PCL400：ポリカプロラクトンポリオール（分子量４０
０） PPG400：ポリプロピレングリコール（分子量４００）ＤＥＩＳ：ビス（２−ヒドロキシエチル）スルホイソフ
タレートのナトリウム塩上記強磁性金属粉末及びポリウレタン樹脂ＡまたはＢを
使用して以下の上層液及び下層液を調製した。

【０１０８】塗布液処方〔上層液処方〕強磁性金属粉末（表２記載）１００部特性、組成は表１記載塩化ビニル樹脂（表２記載）部（日本ゼオン（株）製：ＭＲ１１０）ポリウレタン樹脂（ＡまたはＢ）（表２記載）部ポリイソシアネート（表２記載）部日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬフェニルホスホン酸（ＰＰＡ）（表２記載）〔ｍｏｌ／ｋｇ強磁性金属粉末〕カーボンブラック（平均粒子径：８０ｎｍ）１部アルミナ（平均粒子径：０．２μｍ）５部ステアリン酸０．５部ブチルステアレート１．２部メチルエチルケトン１２０部シクロヘキサノン１２０部〔下層液処方〕非磁性無機粉末 αFe₂O₃ヘマタイト８５部長軸長：０．１５μｍＢＥＴ法による比表面積：５２ｍ² ／ｇｐＨ：９タップ密度：０．８表面にＡｌ₂Ｏ₃及びＳｉＯ₂を施した。

【０１０９】カーボンブラック（平均粒子径：２０ｎｍ）１５部塩化ビニル樹脂（表２記載）部（日本ゼオン（株）製：ＭＲ１０４）ポリウレタン樹脂（ＡまたはＢ）（表２記載）部ポリイソシアネート（表２記載）部日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬフェニルホスホン酸（ＰＰＡ）（表２記載）〔ｍｏｌ／ｋｇ非磁性無機粉末〕ステアリン酸０．５部ブチルステアレート１．２部メチルエチルケトン１２０部シクロヘキサノン１２０部〔磁気記録媒体の製造〕実施例１〜６、比較例１〜９上層液処方及び下層液処方の各成分を混練分散したあ
と、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、各塗布液を調製した。得られた下層塗布液を乾燥後
の厚さが１．２μｍとなるように、厚さ５．２μｍで磁
性層塗布面の中心線表面粗さが０．００１μｍのポリエ
チレンナフタレート支持体の表面にリバースロールを用
いて塗布し、更にその直後に上層塗布液をその上に乾燥
後の厚さが表２記載のものとなるように同時重層塗布を
行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに５０００Ｇの磁
力をもつコバルト磁石と４０００Ｇの磁力をもつソレノ
イドにより配向させ乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂
ロールから構成される７段のカレンダで温度１００℃に
て分速２００m/minで処理を行い、その後、厚み０．５
μｍのバック層を塗布した。６．３５mmの幅にスリット
し、ＤＶＣビデオ用テープを作成した。

【０１１０】以上のようにして得られた実施例および比
較例の磁気記録媒体の特性を下記の測定方法によって測
定し、その結果を表２に示す。〔測定方法〕・磁気特性（Ｈｃ、σ_S、ＳＦＤ、Ｂｍ、Ｂｒ）：振動
試料型磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ１０ＫＯｅ
で測定した。・磁性層の平均厚みｄ及びその標準偏差σ：前記方法に
従った。・Ｒａ：デジタルオプチカルプロフィメーター（ＷＹＫ
Ｏ製）を用いた光干渉法により、カットオフ０．２５ｍ
ｍの条件で中心線平均粗さをＲａとした。・１／２Ｔｂ出力：松下電器産業製カムコーダーＤＪ
−１を改造して、Ｔｂ：ＢＩＴ間隔として、１／２Ｔｂ
の周波数（２１ＭＨｚ）の信号出力を測定した。記録電
流はデッキ設定値（記録波長λ＝０．４８８μｍ）。０
ｄＢはＤＶＣ用ＲＥＦ．テープＭＴＲ１２２１であ
る。

【０１１１】なお、−１ｄＢ以上の値を適合基準とし
た。

【０１１２】・１／９０Ｔｂ出力：松下電器産業製カム
コーダーＤＪ−１を改造して、Ｔｂ：ＢＩＴ間隔とし
て１／９０Ｔｂの周波数（４６５ｋＨｚ）の信号出力を
測定した。記録電流はデッキ設定値（記録波長λ＝２
１．９６μｍ）。０ｄＢはＤＶＣ用ＲＥＦ．テープＭ
ＴＲ１２２１であれう。通常−１．０ｄＢ以上が実用的
で、好ましくは−０．５ｄＢ以上である。

【０１１３】なお、−１ｄＢ以上の値を適合基準とし
た。・１／７５Ｔｂ−Ｏ／Ｗ（オーバーライト）：なお、民
生用デジタルＶＣＲ（ＳＤ仕様）の規格では、１／９０
Ｔｂオーバーライトの値が規定されているが、これを直
接測定しようとするとトラッキング方法を大幅に改造せ
ざるを得ない。それ故、トラッキングド動作に影響を及
ばさない周波数として、１／９０Ｔｂオーバーライト特
性に代わる測定方法として、１／７５Ｔｂオーバーライ
ト特性を評価した。なお、１／９０Ｔｂオーバーライト
性能と１／７５Ｔｂオーバーライト性能とはほぼ一致す
ることは確認済である。まず、周波数１／７５Ｔｂの信
号を上記ＤＪ−１改造機で記録する。その後、本１／７
５Ｔｂ信号を再生し、その出力を測定する。その後、デ
ータ信号でオーバーライトした後、１／７５Ｔｂ信号の
消え残りをスペクトラムアナライザで測定する。データ
信号記録前後の１／７５Ｔｂ信号出力の差をＯ／Ｗ消去
率とする。同様な測定をDVC ref TAPE MTR-1221 に関し
ても行い、その差を１／７５Ｔｂ−Ｏ／Ｗとする。

【０１１４】なお、＋１ｄＢ以下の値を適合基準とし
た。

【０１１５】

【表２】

【０１１６】上記表２から、比較例１〜２及び４〜７
は、ＳＦＤが０．３０より大きく、比較例３、５及び８
はｄがｄ≦λ／４＝０．１２２μｍを満足しない例であ
り、比較例９はＨｃが低い例である。例えば、比較例１
〜２は１／２Ｔｂ出力及び１／９０Ｔｂ出力が低く、比
較例３は１／７５Ｔｂ−Ｏ／Ｗが高いように、これら比
較例は３つの評価項目のうち少なくとも一つが適合基準
を満足していないが、ＳＦＤ、ｄ及びＨｃを全て満たす
実施例は全ての評価項目を満足していることがわかる。

【０１１７】

【発明の効果】本発明は、支持体上に強磁性金属粉末と
結合剤樹脂とを主体とする磁性層を有する磁気記録媒体
において、磁性層の抗磁力Ｈｃが２１００〜３０００Ｏ
ｅ、磁性層のＳＦＤが０．３０以下、磁性層の平均厚み
ｄがｄ≦記録波長λ／４であり、且つ好ましくは、磁性
層の飽和磁化量Ｂｍが６０００Ｇ以上で、磁性層と非磁
性層が同時重層塗布により形成されるために、１／２Ｔ
ｂ出力、１／９０Ｔｂ出力及びＯ／Ｗを各々満足する
ＤＶＣ用磁気記録媒体を提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に強磁性金属粉末と結合剤樹脂
とを主体とする磁性層を有する磁気記録媒体において、
磁性層の抗磁力Ｈｃが２１００〜３０００Ｏｅ、磁性層
のＳＦＤが０．３０以下、磁性層の平均厚みｄがｄ≦記
録波長λ／４であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】磁性層の残留磁束密度Ｂｒが５０００Ｇ
以上であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
体。
【請求項３】該支持体と磁性層の間に非磁性無機粉末
と結合剤樹脂とからなる非磁性層を有し、磁性層と非磁
性層が同時重層塗布により形成されることを特徴とする
請求項１または２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】磁性層の平均厚みｄは０．１２μｍ以下
で、磁性層の厚みの標準偏差σが０．０５μｍ以下であ
ることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の
磁気記録媒体。