JP2001067639A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高密度磁気記録においても媒体ノイス゛の低減が可
能で、高いＣ／Ｎ比を示す磁気記録媒体を提供するこ
と。 【解決手段】 非磁性可撓性支持体上に、非磁性粉末と
結合剤とを含む非磁性層及び強磁性粉末と結合剤とを含
む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、前記
磁性層の平均厚みｄが0.01〜0.3μｍであり、該磁性層
の厚み方向に存在する強磁性粉末の平均個数mが1〜20の
範囲である磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度記録におい
て高い出力と良好なＣ／Ｎ比を示す、デジタル信号を高
密度で記録再生するに適した磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年高密度化と共に記録波長が短くなる
傾向にあり、磁性層が厚いと出力が低下する記録時の自
己減磁損失、再生時の厚み損失の問題が大きくなってい
る。このため、磁性層を薄くすることが行われている
が、２μｍ以下の磁性層を直接支持体に塗布すると磁性
層の表面に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、電磁
変換特性やドロップアウトの悪化傾向が見られる。この
問題を解決する一つの手段に、特開昭63-191315号公
報、特開昭63-187418号公報に記されているように、支
持体上に同時重層塗布方式を用いて非磁性層と磁性層を
この順に設けることにより、濃度の高い磁性塗布液を薄
く塗布する方法がある。これらの発明により飛躍的に歩
留まりは改良され良好な電磁変換特性を得ることができ
るようになった。

【０００３】民生用テ゛シ゛タルVCRシステムでは、金属薄膜を蒸
着したテーフ゜、いわゆるMEテーフ゜が実用化されている。しか
し、塗布型磁気記録テーフ゜、いわゆるMPテーフ゜で民生用テ゛シ゛
タルVCRシステムに対応したものを作製するには、テ゛ータ信号が
高出力で、トラッキンク゛信号出力を確保しつつ、オーバーラ
イト消去特性を改善する必要がある。本発明者らは、磁
性層を薄層化しつつ、磁性層の充填度を上げることで、
上記要求を満足する塗布型磁気記録テーフ゜を提案した(特
開平11-185240号参照)。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】民生用テ゛シ゛タルVCRシステム
では、機器(アンフ゜)ノイス゛が高いため、機器ノイス゛と媒体ノイス゛
からなるトータルノイス゛は機器ノイス゛に支配されてしまう。その
ため、実用上、媒体ノイス゛は特に重要視されていなかっ
た。しかし、民生用テ゛シ゛タル VCRシステムの規格上は、媒体ノイ
ス゛をMEリファレンステーフ゜に対して、−2d B以内に入れる必要が
ある。又、最近、MRヘット゛を搭載したテ゛イスクシステムやテーフ゜システ
ムが開発されているが、これらのシステムで用いられる磁気
記録媒体として、媒体ノイス゛を低くする要求が高まってい
る。金属薄膜型の磁気記録媒体では、磁性層厚を薄層化
し、結晶粒を小さくすることで、単位体積当たりの磁性
粒子数を増やして、媒体ノイス゛を低減させている〔日本応
用磁気記録学会誌 VOL.22 Supplement NO.S3、1998の
『ヘリカルスキャンシステムにおけるMRヘット゛用薄層蒸着テーフ゜の検討』
(小野寺誠一ら)〕。一方、塗布型磁気記録媒体は、金属
薄膜型の磁気記録媒体と比べて媒体ノイス゛低減が不十分で
あり、再生ヘット゛としてMRヘット゛が搭載されるシステムで塗布型
磁気記録媒体を用いる場合、媒体ノイス゛の低減という観点
から以下の課題がある。 磁性層の充填度が金属薄膜型媒体に比べて低く、かつ
単位体積当たりの磁性粒子数が少ない。 磁性層や非磁性層塗布時に広い波長領域に渡る面粗れ
[特に、1〜20μmヒ゜ッチ粗さ]が発生する。 塗布による磁性層厚みの変動が発生する[特に、飽和
記録型システムで問題になる。] 磁性層中に非磁性物を添加するため磁性粒子の均一性
維持が難しい。

【０００５】そこで、本発明の目的は、MRヘット゛を用いる
システムにおいて採用されているような高密度磁気記録にお
いても、媒体ノイス゛の低減が可能で、高いＣ／Ｎ比を示す
ことができる磁気記録媒体を提供することにある。発明
者らは上記課題に応えるべく前記の特開平11-185240号
に記載された磁気記録媒体をベースに、これを改良し
て、高出力であり、かつ充分に低ノイズである磁気記録
媒体を見いだし、本発明を完成した。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性可撓性
支持体上に、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層及び
強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層をこの順に設けた磁
気記録媒体において、前記磁性層の平均厚みｄが0.01〜
0.3μｍであり、該磁性層の厚み方向に存在する強磁性
粉末の平均個数mが1〜20の範囲であることを特徴とする
磁気記録媒体に関する。本発明の磁気記録媒体におい
て、前記磁性層の強磁性粉末は針状であり、平均長軸長
lが0.02〜0.15μmであり、前記磁性層の平均厚みdと強
磁性粉末の平均長軸長lの比d/lが4以下であることが好
ましい。さらに本発明の磁気記録媒体では、磁性層に含
まれる強磁性粉末は偏平針状であり、かつこの偏平針状
強磁性粉末は長軸と直角方向の断面のアスペクト比が1
を超えることが好ましい。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、磁性層
の平均厚みｄが0.01〜0.3μｍであり、かつ磁性層の厚
み方向に存在する強磁性粉末の平均個数mが1〜20の範囲
であることを特徴とする。

【０００８】従来の磁気誘導型ヘット゛で記録再生した場
合、これほど磁性層を薄くすると磁化量が少なく再生出
力が低下する。しかし、MRヘット゛で再生した場合は感度が
充分に高いので、充分な出力が得られかつ、磁性層が薄
い利点である分解能が向上できる。即ち、磁性層の厚み
の平均値ｄを0.01μm以上とすることで、必要な磁気を
確保し、また0.3μm以下とすることで分解能が向上し、
MRヘッドでのC/N比を改善できる。特に、磁性層の厚み
の平均値ｄは、高感度なMRヘッドでの場合、飽和し易い
ため、分解能を確保する観点で、好ましくは0.01〜0.2
μmの範囲、さらに好ましくは0.01〜0.1μmの範囲であ
る。

【０００９】さらに、本発明の磁気記録媒体において
は、磁性層の厚み方向に存在する強磁性粉末の平均個数
mが1〜20の範囲である。本発明者らの鋭意研究の結果、
磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数によって、磁性層
充填度、つまりBmの依存性があることが判明した。より
具体的には、磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数が20
個を超えるとBmの依存性は殆どなくなるが、20個以下に
なると磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数が減るに従
い、Bmが向上することがわかった。又、磁性層の表面性
についても、Bmの挙動と同じように磁性層厚み方向に存
在する磁性粒子数が減ることで、良化することが判っ
た。磁性層の厚み方向に存在する強磁性粉末の平均個数
mは、好ましくは２〜１０の範囲であり、より好ましく
は２〜６の範囲である。

【００１０】磁性層断面の観察結果から、磁性体粒子の
長軸長をlとした時、磁性層平均厚みdが薄くなり、d/l
比が下がってくると針状磁性粒子の絡み合いが改善さ
れ、磁性粒子の磁性層厚み方向の配向変動が小さくなる
ことが分かった。これにより、磁性層の表面性が平滑に
なったり、磁性体粒子の充填性が改善されてBmが向上す
る。そのため、本発明の磁気記録媒体では、磁性層の強
磁性粉末は針状であり、平均長軸長lが0.02〜0.15μmで
あり、前記磁性層の平均厚みdと強磁性粉末の平均長軸
長lの比d/lが4以下であることが好ましい。針状強磁性
粉末の平均長軸長lは、好ましくは0.04〜0.12μｍの範
囲であり、磁性層の平均厚みdと強磁性粉末の平均長軸
長lの比d/lは好ましくは2以下、０．０６以上である。
この範囲とすることで、磁性層厚み方向における塗布時
の粒度配向やカレンタ゛フ゜ロセスでの粒度配向を向上されること
ができる。さらに、塗布時の粒度配向を高める際には、
塗布直後の磁性液膜hと偏平針状磁性粒子の長軸長lにつ
いて、h/l比が6以下になるように、 長軸長lや磁性液の
固形分濃度を調整することが更に好ましい。又、磁性塗
膜がある程度乾燥した段階で、磁性層表面に平滑な部材
でスムーシ゛ンク゛することで、更に粒度配向が向上する。又、
塗布速度を上げたりして、塗布液にセン断をかけるように
することでも粒度配向が向上する。塗布液については、
粘度のチキソトロヒ゜ー性を高めるとともに、液の渦流動を抑制
するように塗膜初期乾燥を弱めることで、塗布液中の粒
子配向性を向上させることができる。

【００１１】磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数が少
なくなっても、磁性層の空隙を確保するように設計する
ことでカレンタ゛フ゜ロセスでの磁性層の成形性は確保できる。
又、非磁性層を有し、カレンタ゛フ゜ロセスでの非磁性層の成形性
を確保することで、上/下層界面の乱れの低減や磁性層
表面の平滑化が可能である。

【００１２】さらに本発明の磁気記録媒体では、磁性層
に含まれる強磁性粉末は偏平針状であり、かつこの偏平
針状強磁性粉末は長軸と直角方向の断面のアスペクト比
が1を超えることが好ましい。偏平針状強磁性粉末は、
磁性層塗布時に長幅がヘ゛ース面に平行になるように磁性体
が形成される傾向があり、そのため、磁性層厚み方向に
おける磁性体の配向性が向上し、磁性層の表面性やBmが
向上できるという利点がある。偏平針状強磁性粉末は、
長軸と直角方向に切断した短軸断面が長幅/短幅を有す
る楕円もしくは、多角形である粉末である。本発明で使
用できる偏平針状強磁性粉末としては、例えば、特開平
10-340805号公報に記載されたような偏平針状強磁性金
属粉末を挙げることができる。偏平針状磁性粒子の長幅
/短幅比は１を超え、好ましくは1.5以上、より好ましく
は2.0以上である。長幅/短幅比が大きくなるとそれがだ
け磁性層厚み方向における磁性体の配向性が向上すると
いう利点がある。偏平針状強磁性粉末は、例えば、特開
平10-340805号公報に記載されている方法で作製するこ
とができる。即ち、オキシ水酸化鉄を生成させる反応系
に水可溶性のAl塩とY等の希土類金属塩を添加してAlとY
等の希土類金属を固溶したCo含有オキシ水酸化鉄を作
り、 その際のCo／Al／Ｙ等の希土類金属の含有量比を
調整することで、偏平状のオキシ水酸化鉄を作製するこ
とができる。そのオキシ水酸化鉄を還元、焼成、徐酸化
することで、偏平針状の強磁性金属粉末を作製すること
ができる。AlとY等の希土類金属を固溶したCo含有オキ
シ水酸化鉄において、Co含有量は5〜50at%、好ましくは
20〜35at%で、Al含有量が0.1〜12at%、好ましくは3〜8a
t%、かつＹ等の希土類金属の含有量を0.1〜12at%、好ま
しくは3〜8at%で、Al含有量とＹ等の希土類金属の含有
量の原子比が0.5〜2の範囲にあることが、長幅/短幅比
を効果的に上げると言う観点から好ましい。

【００１３】偏平針状磁性粒子の断面における短幅長は
2〜20nmであり、好ましくは、5〜15nmである。短幅長が
小さくなると磁性層厚み方向に多くの磁性粒子を存在さ
せることが可能になる。又、厚み方向の粒子が重なった
際の段差が小さくなるため、磁性層表面性が平滑にな
る。但し、短幅長が小さすぎると、σsが確保出来なく
なる問題がある。そのため、民生用テ゛シ゛タルVCRシステムのよう
な高Brの薄層磁性層が要求される系では、短幅長は更に
10〜15nmにするが好ましい。短幅長が20nm以上になると
大きな磁性粒子になるため単位体積当たりの磁性粒子数
を増やすことができなくなるため、MRヘット゛搭載システムにお
ける、媒体ノイス゛を低減することが、難しくなる傾向があ
る。又、カレンタ゛フ゜ロセスにおける磁性層の成形において、そ
の効果が低減するため、磁性層厚みが薄く、かつ厚み変
動の少ない磁性層を有したり、平滑な面性や均一で高充
填度な磁性層を有することが難しくなる場合がある。

【００１４】本発明の磁気記録媒体は、磁性層中の非磁
性物量、特に真比重の低い結合剤樹脂量を強磁性粉末10
0重量部に対して、5〜15重量部の範囲で用いることが好
ましい。上記範囲とすることで、塗膜形成時に適度な空
隙を作り、 磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数が少
ない系におけるカレンタ゛フ゜ロセスでの成形性を確保することが
できる。結合剤樹脂量を多くなり過ぎると針状磁性粒子
の配向しやすさやカレンタ゛フ゜ロセスでの成形性が低下する傾向
がある。つまり、磁性液中の磁性粒子の分散性を確保で
きる範囲で、結合剤樹脂量を少なくすることが好まし
い。そのため、磁性液中で磁性粒子表面に吸着し、かつ
適度な硬さを有する長い分子鎖を形成する結合剤を使用
することが好ましい。これにより、磁性液中での磁性粒
子同志の間隔を広げて、結合剤量が少なくても、磁性粒
子の凝集性を抑制することができる。又、塗布乾燥にお
ける磁性粒子の凝集性も抑制できるため、より平滑な表
面性と磁性粒子の凝集乱れの少ない磁性層を形成するこ
とができる。つまり、媒体ノイス゛の低い磁気記録媒体を作
製することができる。該結合剤としては、極性基を有す
るホ゜リウレタン樹脂で、該ホ゜リウレタン樹脂が環状構造とエーテル基を
含むホ゜リウレタン、分岐脂肪族ホ゜リエステルホ゜リウレタン、タ゛イマシ゛オール構
造を有するホ゜リウレタンなどあることが更に好ましい。該ウレタ
ン樹脂は1種でも、混合でも良いが、磁性層の結合剤中の
該ウレタン樹脂の存在比率が50〜100wt%にするのが好まし
い。

【００１５】さらに本発明の磁気記録媒体の製造方法に
おいて、カレンタ゛フ゜ロセスについては、以下の条件で処理する
ことが好ましい。最初のロールニッフ゜が、金属ロール同志による
構成であり、ニッフ゜線圧が300kg/cm以上、好ましくは400k
g/cm以上であり、処理速度が150m/分以下、好ましく
は、100m/分以下、更に好ましくは30m/分以下であるこ
とが適当である。温度は、70〜100℃の範囲であること
が適当であり、この範囲内で、上層磁性層や下層非磁性
層の結合剤のTgや結合剤種、量によって影響する上/下
層の成形しやすさを考慮して、随時設定することが好ま
しい。

【００１６】本発明において磁性層は、一層に限られる
訳ではなく、二層以上でも構わない。尚、磁性層厚みの
各測定値の最大値は、ｄの１．０〜３倍程度の範囲にあ
ることが好ましい。また、同測定値の最小値はｄの０．
４〜１倍程度の範囲にあることが好ましい。

【００１７】以下、本発明の磁気記録媒体について更に
詳細に説明する。本発明に使用される強磁性金属粉末と
しては、特に限定されないが、ＦｅまたはＦｅを主成分
とする合金が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所
定の原子以外にＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔ
ｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、
Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍ
ｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわ
ない。特に、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌ
ａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つがＦｅ以外
に含まれるものが好ましい。

【００１８】これらの強磁性金属粉末にはあとで述べる
分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前
にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、
特公昭44-14090号、特公昭45-18372号、特公昭47-22062
号、特公昭47-22513号、特公昭46-28466号、特公昭46-3
8755号、特公昭47-4286号、特公昭47-12422号、特公昭4
7-17284号、特公昭47-18509号、特公昭47-18573号、特
公昭39-10307号、特公昭48-39639号、米国特許3026215
号、同3031341号、同3100194号、同3242005号、同33890
14号、同5591535号などに記載されている。

【００１９】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物を含んでもよい。強磁性金属粉末の公知の製造
方法により得られたものを用いることができ、下記の方
法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュ
ウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化
鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ
−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱
分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で
蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにし
て得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわ
ち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に
浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を
形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成
する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００２０】本発明の磁性層に使用される強磁性金属粉
末のＢＥＴ法による比表面積は、好ましくは３０〜５０
ｍ²／ｇから選ばれる。これにより、良好な表面性と低
いノイズの両立が可能となる。

【００２１】また強磁性金属粉末の形状については、針
状、特に偏平針状が好ましいが、粒状、米粒状、板状も
許容し得る。強磁性金属粉末の平均長軸長は、好ましく
は０．０５〜０．１５μｍ、更に好ましくは０．０８〜
０．１２μｍである。該長軸長は、透過型電子顕微鏡写
真を撮影し、その写真から強磁性粉末の短軸長と長軸長
とを直接読みとる方法と画像解析装置カールツァイス社
製ＩＢＡＳＳＩで透過型電子顕微鏡写真トレースして読
みとる方法を適宜併用して求められる。強磁性金属粉末
の針状比は４以上１８以下が好ましく、更に好ましくは
５以上１２以下である。強磁性金属粉末の含水率は０．
０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって
強磁性金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。

【００２２】強磁性金属粉末のｐＨは用いる結合剤との
組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４
〜１２であるが、好ましくは７〜１０である。強磁性金
属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸
化物などを表面に存在させてもかまわない。その量は強
磁性金属粉末に対し０．１〜１０重量％であり表面処理
を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²
以下になり好ましい。強磁性金属粉末には可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場
合があるが２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を
与える事は少ない。また、本発明に用いられる強磁性金
属粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量
％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。

【００２３】次に本発明の好ましい態様で使用される非
磁性層の詳細な内容について説明する。本発明の非磁性
層に用いられる非磁性無機粉末は、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することが
できる。無機質化合物としては例えばα化率９０％以上
のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−
酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マ
グネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒
化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または
組合せで使用される。特に好ましいのは二酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましい
のは二酸化チタン、α酸化鉄である。

【００２４】これら非磁性無機粉末の粒子サイズは３μ
ｍ以下が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる
非磁性無機粉末を組み合わせたり、単独の非磁性無機粉
末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも
できる。とりわけ好ましいのは非磁性無機粉末の粒子サ
イズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に非磁性無
機粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径が
０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場
合は、長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ
以下が更に好ましい。尚、非磁性無機粉末の粒子サイズ
の測定は、前記強磁性金属粉末の場合と同様である。タ
ップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜
１．５ｇ／ｍｌである。非磁性無機粉末の含水率は０．
１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ま
しくは０．３〜１．５重量％である。非磁性無機粉末の
ｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは７〜１０の間が特に好
ましい。非磁性無機粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜６５ｍ²／ｇである。非磁性無機粉末の結晶子サイズ
は０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜
０．１μｍが更に好ましい。ジブチルフタレート（DB
P）を用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好ましくは１
０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gで
ある。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状
は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。

【００２５】強熱減量は２０重量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記非磁性無機粉末のモース硬度は４以
上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラ
フネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好
ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。非
磁性無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０
μmol／m²、更に好ましくは２〜１５μmol/m²である。
非磁性無機粉末の２５℃での水への湿潤熱は2.0×10^-5J
/cm²(200erg/cm²)〜6.0×10^-5J/cm² (６００erg/cm²)の
範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲に
ある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃で
の表面の水分子の量は１〜１０個/100オンク゛ストロームが適当
である。水中での等電点のｐＨは３〜９の間にあること
が好ましい。

【００２６】これらの非磁性無機粉末の表面には表面処
理によりAl₂O₃ 、SiO₂、TiO₂、ZrO₂、SnO₂、Sb₂O₃ 、Zn
O を存在させることが好ましい。特に分散性に好ましい
のはAl₂O₃ 、SiO₂、TiO₂、ZrO₂であるが、更に好ましい
のはAl₂O₃ 、SiO₂、ZrO₂である。これらは組み合わせて
使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、
目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、
先ずアルミナを表層に存在させた後でシリカを存在させ
る方法、またはその逆の方法を採ることもできる。ま
た、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わな
いが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００２７】本発明の非磁性層に用いられる非磁性無機
粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学
製HIT-100,ZA-G1、戸田工業社製DPN-250，DPN-250BX、DP
N-245,DPN-270BX、DPB-550BX、DPN-550RX 石原産業製酸
化チタンTTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55C、TTO-55S、T
TO-55D、SN-100,MJ-7 α−酸化鉄E270,E271,E300,チタン
工業製STT-4D、STT-30D、STT-30、STT-65C、テイカ製MT
-100S、MT-100T、MT-150W、MT-500BMT-600BMT-100F、MT-500
HD。堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-M、同和鉱
業製DEFIC-Y,DEFIC-R、日本アエロジル製AS2BM,TiO2P25,
宇部興産製100A,500A、チタン工業製Y-LOP及びそれを焼
成したものが挙げられる。

【００２８】特に好ましい非磁性無機粉末は二酸化チタ
ンとα−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以
下のような諸条件の基で実施される。α−Ｆｅ₂Ｏ₃粉末
は、通常の第一鉄水溶液に等量以上の水酸化アルカリ
水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸
濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素を含有
ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト
粒子を生成させる方法、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカ
リ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ₃を含む懸濁
液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により紡
錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、第一
鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸
アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイ
ドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化
反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、
次いで、該針状ケータイト該粒子を含む第一鉄塩水溶液
に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等量以上の水酸
化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気し
て前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法及び、
第一鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または
炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コ
ロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して
酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成さ
せ、次いで、酸性または中性領域で前記針状ゲータイト
核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイ
ト粒子を前駆体粒子とする。

【００２９】尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉
末の特性向上等の為に通常添加されている、Ｎｉ、Ｚ
ｎ、Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障がな
い。前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５
００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３
５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しを
して針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃の粒子を得る。

【００３０】尚、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータ
イト粒子は表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等を含有す
る化合物である焼結防止剤が付着していても支障はな
い。３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き
鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃
粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒
子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態
とさせる事が好ましいからである。

【００３１】また、前記脱水または焼き鈍しをして得ら
れた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子は水溶液中に分散して懸濁液
とし、例えば、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記
α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆し
た後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気、
圧密処理等を施されてもよい。用いられるＡｌ化合物は
酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸
ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することが出来
る。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉
末に対してＡｌ換算で通常、０．０１〜５０重量％であ
る。また、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとし
て、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂか
ら選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆す
ることもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化
合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対して
通常、０．０１〜５０重量％の範囲である。

【００３２】二酸化チタンの製法に関しては以下の通り
である。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素
法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解
し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、８００〜１０００℃で焼成す
れば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加
水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。
この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して
作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが
用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、Ｔｉは
ＴｉＣｌ ₄ にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体
となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得ら
れた粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後核生成剤を添
加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応さ
せ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した
粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は
硫酸法と同じである。

【００３３】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。
まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，
Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、また
はアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン
粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテー
ション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐ
Ｈを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケ
ーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾
燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕さ
れ、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉
体にAlCl₃,SiCl₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入して
表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法
についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing”Characteriz
ation of Powder Surfaces”Academic Press,1976を参
考にすることができる。

【００３４】非磁性層にカーボンブラックを混合させて
公知の効果であるＲｓを下げること、光透過率を小さく
することができるとともに、所望のマイクロビッカース
硬度を得る事ができる。

【００３５】非磁性層のマイクロビッカース硬度は通
常、0.25〜0.59 GPa(２５〜６０kg／mm²)、好ましくは
0.29〜0.49 GPa(３０〜５０kg／mm²)であり、ＮＥＣ製
薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、 稜角８０度、先
端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端
に用いて、測定する。光透過率は一般に波長９００ｎｍ
程度の赤外線の吸収が３％以下、たとえばＶＨＳでは
０．８％以下であることが規格化されている。このため
にはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラ
ック、アセチレンブラック、等を用いることができる。

【００３６】非磁性層に用いられるカーボンブラックの
比表面積は通常、１００〜５００ｍ ²／ ｇ、好ましくは
１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜
４００ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gであ
る。カーボンブラックの粒子径は通 常、５nm〜８０n
m、好ましく１０〜５０nm、さらに好ましくは１０〜４
０nmである。通常、カーボンブラックのｐＨは、２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／ml、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９０
０、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７
２、三菱化学社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５
０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５
０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０BMＡ−６００、コロンビア
ンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥ
Ｎ 8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,1800,1
500,1255,1250、アクゾー 社製ケッチェンブラックECな
どがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面
処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の
一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは上記非磁性無機粉末に対して５０重量％を
越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲
で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、また
は組合せで使用することができる。

【００３７】非磁性層で使用できるカーボンブラックは
例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会
編」を参考にすることができる。また非磁性層には有機
質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例え
ば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、
メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔 料が挙げられるが、ポリ
オレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリ
アミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化
エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭62
-18564号、特開昭60-255827号に記されているよ うなも
のが使用できる。

【００３８】下塗層は一般の磁気記録媒体において設け
ることが行われているが、これは支持体と磁性層又は非
磁性層との接着力を向上させるために設けられるもので
あって、溶剤可溶性のポリエステルが使用される。厚さ
も０．５μｍ以下が一般的である。非磁性層の結合剤樹
脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は
磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種
類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に
関する公知技術が適用できる。

【００３９】磁性層及び非磁性層に使用し得る熱可塑性
樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、
数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましく
は１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜
１，０００程度のものである。このような例としては、
塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン
酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデ
ン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチ
ラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成
単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹
脂、各種ゴム系樹脂がある。

【００４０】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの
樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブ
ック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬
化型樹脂を非磁性層、または磁性層に使用することも可
能である。

【００４１】これらの例とその製造方法については特開
昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいも
のとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、の中から選ばれ
る少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、または
これらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげ
られる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウ
レタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリ
エステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタ
ン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリ
カプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレ
タン、など公知のものが使用できる。特に、前記した環
状構造を有する短鎖ジオールとエーテル基を含む長鎖ジ
オールからなるポリウレタンが好ましい。ここに示した
すべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を
得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−
ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）
₂、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩
基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ₃ （Ｒは炭化水素
基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、
ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものを用いることが好ましい。このような極
性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１
０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４２】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製 ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、
ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポ
リウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ
２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０
５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４
００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０
９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、
ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミ
ン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２
０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００
４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３
００３、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあ
げられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１１０、ＵＲ−
８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、およびジオ
ールと有機ジイソシアネートを主原料とした反応生成物
であり、環状構造とエーテル基を持つポリウレタンが好
ましい。

【００４３】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合は，破断伸びが１００〜２，０００％、破断応力
は4.9×10^-6〜9.8×10^-4 GPa(０．０５〜１０kg／c
m²)、降伏点は4.9×10^-6〜9.8×10^-4 GPa (０．０５〜
１０kg／cm²)が好ましい。

【００４４】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等が好ましい。これらのイソシアネート類の
市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社
製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３
０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タ
ケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネ
ートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュール
Ｌ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジ
ュールＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで非磁性
層、磁性層とも用いることができる。これらポリイソシ
アネートは、磁性層の全結合剤樹脂に対し、通常、０〜
５０重量％、好ましくは０〜３０重量％用いられ、非磁
性層の全結合剤樹脂に対し通常、０〜４０重量％、好ま
しくは０〜２５重量％用いられる。

【００４５】本発明の磁気記録媒体を二層以上から構成
した場合は、結合剤樹脂量、結合剤中に占める塩化ビニ
ル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あ
るいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の
分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性
などを必要に応じ非磁性層と磁性層とで変えることはも
ちろん可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用
できる。

【００４６】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックは非磁性層で例示したものを適用できる。カーボン
ブラックは磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。カーボンブ
ラックを使用する場合は強磁性金属粉末に対する量の
０．１〜１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％、更
に好ましくは０．５〜１．５重量％でもちいることが好
ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカーボンブラックは磁性層、
非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、
吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに
目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本
発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば
「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参
考にすることができる。

【００４７】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、チタンカーバイト、
二酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主として
モース６以上の公知の材料が単独または組合せで使用さ
れる。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を
他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。こ
れらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含ま
れる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にか
わりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２
μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研
磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度
は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは
２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。

【００４８】本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、
球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に
角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用い
られる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製、Ａ
ＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０Ａ，ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０，Ｈ
ＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ
−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤
は非磁性層、磁性層で種類、量および組合せを変え、目
的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これ
らの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性
塗料中に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体
の磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は５個
／１００μｍ²以上が好ましい。

【００４９】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコー
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。

【００５０】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オ
レイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。

【００５１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点のことなる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御
する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのに
じみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗
布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で
多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここ
に示した例のみに限られるものではない。

【００５２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性金属粉末と混
合する場合、強磁性金属粉末と結合剤と溶剤による混練
工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後
に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、目的に応じて磁性塗布層を塗布した後、同時また
は逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布すること
により目的が達成される場合がある。また、目的によっ
てはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層
表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００５３】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーン
Ｌ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート、ブ
チルラウレート、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジェルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社
製、アーマイドＰ、アーマイドＣ，アーモスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デュオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００、イオネットＤＬ−２００、イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００、イ
オネットＤＯ−２００などが挙げられる。

【００５４】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずし
も１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含ま
れてもかまわない。これらの不純分は３０重量％以下が
好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。本
発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は
同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかま
わない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサ
ノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、
具体的には磁性層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤
組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散
性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好まし
く、溶剤組成の内、誘電率が１５以上２０以下の溶剤が
５０重量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パ
ラメータは８〜１１であることが好ましい。

【００５５】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は支持体
が１〜１００μｍであるが、特に、１〜８μｍの薄い支
持体を用いる場合に有効である。磁性層と非磁性層を合
わせた厚みは支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で
用いられる。また、支持体と非磁性層の間に密着性向上
のための接着層を設けることが好ましい。

【００５６】接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、このま
しくは０．０２〜０．５μｍである。また、支持体の磁
性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわな
い。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜
１．０μｍである。これらの接着層、バックコート層は
公知のものが使用できる。本発明に用いられる支持体
は、マイクロビッカース硬度が0.74 GPa(７５kg/mm ²)以
上のものであり、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタ
レート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、
芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公
知のフィルムが使用できる。特に、東レ社製「アラミ
ド」又は旭化成製「アラミカ」として入手できる芳香族
ポリアミドもしくはポリエチレンナフタレートを用いた
支持体が好ましい。

【００５７】これらの支持体にはあらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、
などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するに
は、支持体の磁性層を塗布する面の中心線平均表面粗さ
が１０ｎｍ以下０．１ｎｍ以上、好ましくは６ｎｍ以下
０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは４ｎｍ以下０．５ｎ
ｍ以上のものを使用することが好ましい。また、これら
の支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また
表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィ
ラーの大きさと量により自由にコントロールされるもの
である。これらのフィラーとしては一例としてはＡｌ，
Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶
質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微
粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るた
めには、バック層を塗布する面の粗さは磁性層を塗布す
る面の粗さより粗い事が好ましい。バック層塗布面の中
心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以上２０ｎｍ以下、更
に好ましくは２ｎｍ以上８ｎｍ以下である。磁性層塗布
面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュア
ル構成の支持体を用いても良いし、コーテイング層を設
ける事によって変えても構わない。

【００５８】本発明に用いられる支持体のテープ走行方
向のＦ−５値は好ましくは0.098〜0.49 GPa(１０〜５０
kg／mm²)、テープ幅方向のＦ−５値は好ましくは0.098
〜0.29 GPa(１０〜３０kg／mm²)であり、テープの長手
方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが
一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があ
るときはその限りでない。また、支持体のテープ走行方
向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好まし
くは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃
３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ま
しくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも0.04
9〜0.98 GPa(５〜１００kg／mm²)、弾性率は0.98〜19.6
GPa(１００〜２，０００kg／mm²)、が好ましい。ま
た、本発明での９００nmでの光透過率は３０％以下が好
ましく、更に好ましくは３％以下である。

【００５９】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性金属粉末、結合
剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添
加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工
程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タン樹脂を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のた
めの混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的
を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工
程としてを用いることができることはもちろんである
が、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練
力をもつものを使用することにより高いＢｒを得ること
ができるので好ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを
用いる場合は強磁性金属粉末と結合剤のすべてまたはそ
の一部（ただし全結合剤の３０重量％以上が好ましい）
および強磁性金属粉末１００部に対し１５〜５００部の
範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につい
ては特開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７
４号に記載されている。また、磁性層液、非磁性層液、
あるいは研磨剤分散液等を調製する場合には高比重の分
散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ
が好適である。

【００６０】本発明において重層構成の磁気記録媒体を
同時重層塗布する装置、方法の例として以下のような構
成を提案できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず非磁性層塗布層を塗布し、非磁性
層塗布層がウェット状態にのうちに特公平1-46186号や
特開昭60-238179号，特開平2-265672号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
磁性層を塗布する。

【００６１】２，特開昭63-88080号、特開平2-17971号，
特開平2-265672号に開示されているような塗布液通液ス
リットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上非磁性
層をほぼ同時に塗布する。 ３，特開平2-174965号に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上非磁性層
をほぼ同時に塗布する。

【００６２】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号や特開平1-236968号に開示されているような方法に
より塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが
望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3-
8471号に開示されている数値範囲を満足することが好ま
しい。

【００６３】本発明の磁気記録媒体を得るためには強力
な配向を行うことが好ましい。磁気テープの場合は長手
方向に配向されるが、100mT(１，０００Ｇ)以上、好ま
しくは300mT(３，０００Ｇ)以上のソレノイドと希土類
磁石を同極対向で200mT(２，０００Ｇ)以上、好ましく
は400mT(４，０００Ｇ)以上、さらに好ましくは600mT
(６，０００Ｇ)以上の磁場を併用することが好ましく、
さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に
予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。また、フ
ロッピー（登録商標）ディスクの場合は、ランダム配向
が施される。配向条件としては、磁気テープの場合と同
じようにテープ長手方向に配向したのち、例えば周波数
５０Ｈｚで磁場強度２５ｍＴ（２５０ガウス）また周波
数５０Ｈｚで磁場強度１２ｍＴ（１２０ガウス）の二つ
の磁場強度等の交流磁場発生装置の中を通過させて、ラ
ンダム配向される。

【００６４】また、非磁性層、磁性層を同時重層塗布す
る以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることや
コロナ放電、紫外線（ＵＶ）照射、電子線照射すること
により接着性を高める公知の手法を組み合わせることが
好ましい。さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロール、または金属ロールを使
用する。また、金属ロール同志、プラスチックロール同
志または金属ロールとプラスチックロールの対ロールで
処理することが出来る。処理温度は、好ましくは７０〜
１２０℃、さらに好ましくは８０〜１００℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００〜５００kg／cm、さらに
好ましくは３００〜４００kg／cm以上である。

【００６５】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３で
ある。表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オーム
／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、
幅方向とも好ましくは0.98〜19.6 GPa(１００〜２，０
００kg／mm²)、破断強度は好ましくは9.8×10^-5〜2.9×
10^-3 GPa(１〜３０kg／cm²)、磁気記録媒体の弾性率は
走行方向、幅方向とも好ましくは0.98〜14.7 GPa(１０
０〜１，５００kg／mm²)、残留伸びは好まし くは０．
５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は
好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、
もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想であ
る。磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾
性測定の損失弾性率の極大点)は３０℃以上１５０℃以
下が好ましく、非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好ま
しい。損失弾性率は１×１０³〜８×１０⁴N/cm²(１×１
０⁸〜８×１０⁹dyne/cm²)の範囲にあることが好まし
く、損失正接は０．２以下であることが好ましい。

【００６６】損失正接が大きすぎると粘着故障がでやす
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
り、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に含まれる残
留溶媒より少ないほうが好ましい。空隙率は非磁性層、
磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましく
は２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすため
には小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確
保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重
視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい
方が走行耐久性は好ましいことが多い。カレンダ成形性
向上の観点で、カレンダ前シートにおける非磁性層、磁
性層の空隙率は２０容量％以上、好ましくは４０容量％
以上である。

【００６７】本発明の磁気記録媒体の磁性層の磁気特
性、即ち、Ｈｃ及びＳＦＤ、更にBm、Ｂｒは、特に断ら
ない限り、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて磁場79
6kA/m(１０ｋＯｅ)で磁性層面内方向で測定した値を言
う。磁気テープの場合、テープ走行方向において、Ｈｃ
は前述した通りであり、角形比（ＳＱ）は通常、０．８
５以上であり、好ましくは０．８５〜０．９５である。
テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比、即ち、テ
ープ面に平行かつテープ走行方向に直交する方向とテー
プ面に垂直な方向の二つの各角形比は、走行方向の角型
比の８０％以下となることが好ましい。長手方向のレマ
ネンス抗磁力Ｈｒも143 kA/m(１８００Ｏｅ)以上239 kA
/m(３０００Ｏｅ)以下が好ましい。垂直方向のＨｃ及び
Ｈｒは80kA/m(１０００Ｏｅ)以上398 kA/m(５０００Ｏ
ｅ)以下であることが好ましい。

【００６８】磁性層の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による
評価で求めた２乗平均粗さＲRMSは２ｎｍ〜１５ｎｍの
範囲にあることが好ましい。

【００６９】本発明の磁気記録媒体は非磁性層と磁性層
を有することが好ましいが、目的に応じ非磁性層と磁性
層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に
推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高く
し走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を
磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良
くするなどである。また、支持体のテンシライズ方法を
変更して、ヘッド当たりを改良することが本発明におい
ても有効であり、テープ長手方向に対し、直角な方向に
テンシライズした支持体の方が、ヘッド当たりが良好に
なる場合が多い。

【００７０】

【実施例】以下の記載の「部」は「重量部」を示し、％
は重量％を示す。 〔強磁性金属粉末〕磁気記録媒体の製造に使用した強磁
性金属粉末の特性、組成を表１に示す。

【００７１】

【表１】

【００７２】〔ポリウレタン樹脂の調製〕 （ポリウレタン樹脂Ａの合成）還流式冷却器、攪拌機を
具備し、予め窒素置換した容器に下記のジオールである
ＨＢｐＡ、下記のジオールであるＢｐＡ−ＰＰＯ７０
０、その他のジオールのＰＰＧ４００およびＤＥＩＳを
モル比でＨＢｐＡ：ＢｐＡ−ＰＰＯ７００：ＰＰＧ４０
０：ＤＥＩＳ＝２４：１４：１０：２としてシクロヘキ
サノンとジメチルアセトアミドを５０：５０の重量比で
含む混合溶媒に溶解し、窒素気流下で６０℃で溶解し
た。触媒として、ジ−ｎ−ジブチルスズジラウレートを
使用した原料の総量に対して６０ｐｐｍ加えた。

【００７３】次に、ＭＤＩ（４，４−ジフェニルメタン
ジジイソシアネート）をジオールの総和と等モル加え９
０℃にて６時間加熱反応し、エーテル基を４．０ｎｍｏ
ｌ／ｇ含有し、かつ−ＳＯ₃Ｎａ基が８×１０^-5モル／
ｇ導入されたＭｗ４５０００でＭｎ２５０００のポリウ
レタン樹脂Ａを得た。

【００７４】尚、略号は、下記のものを示す。 ＨＢｐＡ：水素化ビスフェノールＡ（新日本理化製リカ
ビノールＨＢ） BpA-PPO700：ビスフェノールＡのポリプロピレンオキシ
ド付加物（分子量７００） PCL400：ポリカプロラクトンポリオール（分子量４０
０） PPG400：ポリプロピレングリコール（分子量４００） ＤＥＩＳ：ビス（２−ヒドロキシエチル）スルホイソフ
タレートのナトリウム塩 上記強磁性金属粉末及びポリウレタン樹脂Ａを使用して
以下の磁性層液及び非磁性層液を調製した。

【００７５】 塗布液処方 非磁性下層 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ８５部 カーボンブラック １５部 平均一次粒子径 １６nm ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０m²/g 揮発分 １．５％ 塩化ビニル共重合体 ７部 日本ゼオン社製ＭＲ−１１０ ポリエステルポリウレタン樹脂Ａ ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １２０部 シクロヘキサノン １２０部 フェニルホスホン酸（ＰＰＡ） ３部 磁性層 強磁性金属粉末（表１参照） １００部 ポリエステルポリウレタン樹脂Ａ １０部 α−アルミナ(粒子サイズ0.18μm) ５部 カーボンブラック（粒子サイズ0.10μm） ０．５部 ブチルステアレート １．５部 ステアリン酸 ０．５部 メチルエチルケトン １２０部 シクロヘキサノン １２０部 フェニルホスホン酸（ＰＰＡ） ５部 〔磁気記録媒体の製造〕 実施例１〜5、比較例１〜2 磁性層液処方及び非磁性層液処方の各成分を混練分散し
たあと、非磁性層液処方の混合液にのみポリイソシアネ
ート硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製コロネート
Ｌ）を５部添加し、１μｍの平均孔径を有するフィルタ
ーを用いて濾過し、各塗布液を調製した。得られた非磁
性層塗布液を乾燥後の厚さが１．４μｍとなるように、
厚さ５．２μｍで磁性層塗布面の中心線表面粗さが０．
００１μｍのポリエチレンナフタレート支持体の表面に
リバースロールを用いて塗布し、更にその直後に磁性層
塗布液をその上に乾燥後の厚さが表２記載のものとなる
ように同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にある
うちに600mT(６０００Ｇ)の磁力をもつコバルト磁石と4
00mT(４０００Ｇ)の磁力をもつソレノイドにより配向さ
せ乾燥後、厚み０．５μｍのハ゛ック層を塗布した。その
後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールから構成される７
段のカレンダで温度８０℃、線圧３５０kg／cm、速度５
０m/minにて処理を行い、６．３５mmの幅にスリット
し、ＤＶＣビデオ用テープを作成した。

【００７６】以上のようにして得られた実施例および比
較例の磁気記録媒体の特性を下記の測定方法によって測
定し、その結果を表２に示す。 〔測定方法〕 磁性層の平均厚みｄ及びその標準偏差σ：磁性層の平均
厚みｄ及び磁性層の厚みの標準偏差σは、重層構成の場
合、以下の方法により測定した。磁性層単層の場合もそ
れに準じて測定した。磁気記録媒体を長手方向に渡って
ダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出
し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００倍〜１００００
０倍、好ましくは２００００倍〜５０，０００倍で観察
し、その写真撮影を行う。写真のプリントサイズはＡ４
〜Ａ５である。その後、磁性層、非磁性層の強磁性金属
粉末や非磁性無機粉末の形状差に注目して界面を目視判
断して黒く渕どり、かつ磁性層表面も同様に黒く渕ど
る。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２に
て渕どりした線の長さを測定する。試料写真の長さが２
１ｃｍの場合、測定を８５〜３００回行う。その際の測
定値の平均値をｄとし、以下の式から標準偏差σを求め
る。 σ＝[｛(d1-d)2+(d2-d)2+……+(dn-d)2｝/(n-1)]1/2 d1、d2、……dn は各測定値を示す。ｎは８５〜３００
である。

【００７７】磁性層厚み方向に存在する磁性粒子の平均
個数ｍは透過型電子顕微鏡で倍率50000〜100000倍で写
真撮影を行う。試料写真から任意の２００点について磁
性層厚み方向に存在する磁性粒子の個数を求めて、それ
らの平均個数ｍを算出する。 磁気特性（Ｈｃ、ＳＦＤ、ＳＱ、Bm、φm）：振動試料
型磁束計（東英工業社製）を用い、印加磁場Ｈｍ796kA/
m(１０ｋＯｅ)で測定した。上記の磁性層の平均厚みと
φmからBmを算出した。 ・ＳＲａ：光干渉式表面粗さ計であるデジタルオプチカ
ルプロフィラー（ＷＹＫＯ製ＨＤ−２０００）を用い、
カットオフ０．２５ｍｍの条件で中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）を測定した。 ・３Ｄミロ−ＰＳＤ：上記ＷＹＫＯ製ＨＤ−２０００を
使用して表面粗さを測定した。ＰＳＤ（Power Spectrum
Density）はサンプリング間隔と高さの2乗を掛け合わ
せて算出し、nm³単位で測定されたパワーを表す。5μm
及び10μmピッチの粗さ成分についてPSD値を算出した。 ・AFM:PSD-4.3μm: デジタルインスツルメンツ社ナノス
コープ3装置を使用し、稜角70度、SiN製の四角錐を探針
で、30μm平方角の表面粗さを測定する。表面粗さの周
波数分析により、パワースペクトルを作成する。ＰＳＤ
（Power SpectrumDensity）はサンプリング間隔と高さ
の2乗を掛け合わせて算出し、nm²単位で測定されたパワ
ーを表す。4.3μmピッチの粗さ成分についてPSD値を算
出した。 ・ＡＦＭ表面突起： ４０ｎｍ↑：デジタルインスツル
メンツ社ナノスコープ３装置を使用し、稜角７０度、Ｓ
ｉＮ製の四角錐を探針で、３０μｍ平方角の表面粗さを
測定する。上述したＡＦＭ表面粗さ測定において、基準
面からの高さが４０ｎｍ以上の表面突起高さを有する突
起個数をカウントした。 ・DVC 1/2Tb出力、トータルC/N比、媒体C/N比: 1/2TbC/
N比はドラムテスタを用いて測定する。使用ヘッドは記
録再生用にBs1.2T、ギャップ長0.22μmのMIGヘッドを使
用。記録再生時のヘッド/媒体相対速度は10.5m/secで、
21MHzの単一周波数を記録して、再生スペクトラムをシ
バソク製スペクトラムアナライザーで観測した。C/N比
は、21MHzのキャリア出力と18.7MHzのノイズの比とし
た。媒体C/N比は上記からアンプノイズを差し引いて算
出した。

【００７８】

【表２】

【００７９】実施例１は比較例１に対して、上層磁性層
厚み方向に存在する磁性粒子個数を上層厚を薄く塗るこ
とで、減じた例である。この変化に伴い、Bm及び磁性層
表面の１０μｍピッチの粗さ成分や表面突起高さが減
り、媒体Ｃ／Ｎ比が向上した。実施例２は実施例１より
更に上層磁性層を薄く塗ることで、上層磁性層厚み方向
に存在する磁性粒子個数を少なくした例である。実施例
１に比べてBmが更に向上し、磁性層表面が平滑になっ
た。表面の電磁変換特性の測定にＭＩＧヘッドを使用し
ているため、上層磁性層厚みの低減に伴って、出力は低
下するが、媒体ノイズが面平滑化により低減し、媒体Ｃ
／Ｎ比の低下は少なかった。実施例３は実施例１に対し
て、上層磁性層を厚く塗ることで、上層磁性層厚み方向
に存在する磁性粒子数を増やした例である。実施例１に
比べてBm及び磁性層表面の平滑性が低下するが、比較例
１に比べてはBmが高く、かつ磁性層表面も平滑であっ
た。実施例４は強磁性粉末について、より偏平針状粒子
を用い上層磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数をｍ＝
７にした例である。実施例１に比べて、Bmが向上し、磁
性層表面も平滑になった。又、媒体Ｃ／Ｎ比も実施例１
に比べて向上した。実施例５は強磁性粉末に紡錘型針状
粒子を用い、上層磁性層厚み方向に存在する磁性粒子数
をｍ＝５にした例である。偏平針状粒子を用いた上層磁
性層の厚みが近い値である実施例１,４に比べて、Bmが
低下し、磁性層表面性も低下した。比較例２は実施例３
に対して非磁性下層を省略した例である。非磁性下層の
省略に伴い、カレンダ成形性低下や上層磁性層中の研磨
剤、カーボン粒子及び凝集物の影響やベース表面突起の
影響が出て、磁性層Bmや磁性層表面性の著しい低下が発
生した。実施例１〜５は全て媒体Ｃ／Ｎ比測定におい
て、−５dB以上を満たすものであった。

【発明の効果】本発明によれば、MRヘット゛を用いるシステムに
おいて採用されているような高密度磁気記録において
も、媒体ノイス゛の低減が可能で、高いＣ／Ｎ比を示すこと
ができる磁気記録媒体を提供することができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性可撓性支持体上に、非磁性粉末と
   結合剤とを含む非磁性層及び強磁性粉末と結合剤とを含
   む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、前記
   磁性層の平均厚みｄが0.01〜0.3μｍであり、該磁性層
   の厚み方向に存在する強磁性粉末の平均個数mが1〜20の
   範囲であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁性層に含まれる強磁性粉末は針状
   であり、平均長軸長lが0.02〜0.15μmであり、前記磁性
   層の平均厚みdと強磁性粉末の平均長軸長lの比d/lが4以
   下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒
   体。
3. 【請求項３】 前記磁性層に含まれる強磁性粉末は偏平
   針状であり、かつこの偏平針状強磁性粉末は長軸と直角
   方向の断面のアスペクト比が1を超えることを特徴とす
   る請求項１または2に記載の磁気記録媒体。