JP2946262B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特に記録
波長が１μｍ以下の高密度の塗布型磁気記録媒体に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は録音用テープ、ビデオテ
ープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。この高密度化の要求に
対して磁性層 に金属薄膜を用いた磁気記録媒体が提案
されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の点で充分
ではなく、強磁性粉末を結合剤中に分散して支持体上に
塗布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体の方が優れる。
しかしながら、金属薄膜に対して塗布型は磁性体の充填
度が低いために電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒
体としては強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、Ｃｒ
Ｏ₂、強磁性合金粉末を結合剤中に分散した磁性層 を非
磁性支持体に塗設したものが広く用いられている。

【０００３】これらの高密度塗布型磁気記録媒体の性能
向上の為に、磁性体として特に強磁性合金粉末を用いる
検討が鋭意行われてきている。磁性体の抗磁力（Ｈｃ）
は従来の８ｍｍビデオでは１４００〜１６００Oeが最適
値があったが、近年、ヘッドの飽和磁束密度が１０００
０ガウスを越えるようなものが見いだされてきており、
また、特開昭６３−１８７４１８号公報のような手法で
磁性層を薄くすることによって約２１００Oe程度までは
消去、オーバーライト適性上も問題なく、使用できるよ
うになった。このため、より高Ｈｃの磁性体が望まれる
ようになってきている。

【０００４】しかし、Ｈｃを高くするためには形状異方
性が支配する合金針状磁性体の場合その長軸長を長くす
ることが有効であるが、長軸長を長くすると磁性体の粒
子サイズが大きくなり、ノイズが増加し短波長出力が低
下する。このため、磁性体の粒子サイズを微粒子に保ち
つつ、抗磁力を高くする必要がある。このためには、長
軸長を短く保ったまま、短軸長や結晶子サイス゛を小さくし
て、針状比をある一定の値にしなければならない。Ｈｃ
と針状比、長軸長、短軸長、結晶子サイス゛にはそれぞれに
最適な値が存在することになる。また、σsはある程度
高くなければ磁気記録媒体の磁化が不十分であり、短波
長出力を確保するためにも高ければ高いほど良いが、結
晶子サイス゛や減磁との兼ね合いで最適値がある。磁性体は
このように、単独ではＨｃ、σsは高ければ高いほどよ
いし、長軸長、短軸長、結晶子サイス゛は短波長出力向上、
ノイズ低減のために小さければ小さいほど良いことにな
っているが、Ｈｃと粒子サイズとは相反する関係にあ
り、Ｎ２ガスによるＢＥＴ法比表面積も粒子サイズと密
接に関連するが、更にＨｃを高めるためには表面のポア
が少なくなければならずＨｃを高くするためにはむしろ
比表面積は粒子サイズに対してなるべく小さい方が良い
という、それぞれに微妙な最適点が存在する。

【０００５】また、近年実用化が進んでいるデジタル記
録媒体において、連続する高密度の磁化反転においては
隣接する磁化反転の間に相互干渉が生じ、孤立反転波形
に対して出力ピーク値の低下とピーク位置のずれが生
じ、検出誤り（エラー）の原因となるため、記録密度の
向上を妨げている。これを解決して記録密度を向上させ
るためには孤立反転波形の半値幅を小さくして符合間の
干渉を小さくする必要がある。 このためには磁性層厚
みを薄くすること、Ｂｒ／Ｈｃを小さくすること、表面
粗さ低減が有効であることが分かっているが、これを具
体的にどのように達成するかについては未だ知られてい
なかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好な磁気記録媒体を提供することであり、特に記録
波長が１μｍ以下の短波長出力が高い磁気記録媒体を提
供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】われわれは上述のような
磁性体とその磁気記録媒体を作る実験を通して、Ｈｃ、
σｓ、長軸長、短軸長、針状比、結晶子サイズ、比表面
積の微妙なバランスを探索した結果、非磁性可撓性支持
体上に磁性体を結合剤中に分散した磁性層を設けてなる
磁気記録媒体において、前記磁性体が紡錘型ゲータイト
から還元することにより得られるα−Ｆｅを主体とする
強磁性合金粉末であり、その粉末の抗磁力Ｈｃが１６２
０Ｏｅ以上２１００Ｏｅ（エルステッド）以下、飽和磁
化量σｓが１２０〜１６０ｅｍｕ／ｇ、Ｎ₂ ガス吸着に
よる比表面積が４８〜６５ｍ² ／ｇ、長軸長０．０８〜
０．２１μｍ、短軸長１０〜２０ｍμ、針状比７〜１１
で結晶子サイズが１１０〜１７０オングストロームであ
ることが、全ての磁気特性バランス上良好であることを
見いだした。

【０００８】即ち本発明は上述の特定の範囲のバランス
によってきわめて優れた効果を発揮するものであり具体
的にはＨｃが２１００Oeを越えると、磁気記録媒体の記
録特性や消去特性が劣化して満足な短波長出力が得られ
ない。Ｈｃが１６２０Oe未満であると、短波長出力が低
下してしまい、十分な面積記録密度が得られない。飽和
磁化σsが１２０emu/g未満であると磁気記録媒体の飽和
磁化が不十分で、出力が低下し飽和磁化が１５０emu/g
を越えると減磁が著しく、また、短軸長、結晶子サイス゛が
大きくなりやすく、所望の微粒子化が果たせない。比表
面積が４８ｍ²/g未満であると、粒子サイズが大きくな
り、ノイズが増加し、短波長出力が低下し、比表面積が
６０ｍ²/gを越えると粒子サイズにもよるが、非常に微
粒子であるため分散が困難になり、かつ表面のポアが多
くなって所望のＨｃが得られない。長軸長が０．０８μ
ｍ未満であると、微粒子であるがための磁性体凝集が発
生し分散が困難になる。また、長軸長が０．０８μｍ未
満で針状比が７未満であると形状異方性による 合金磁
性体では所望のＨｃを得ることが出来ない。短軸長も同
じく、１０ｍμ未満になると超常磁性が支配的になり所
望のＨｃが得られないし、酸化皮膜の厚みが全体に占め
る割合が増加しσsが低下してしまう。結晶子サイス゛が１
１０オンク゛ストローム未満では短軸長と同様、超常磁性が支配
する領域に近づき、所望のＨｃが得られない。長軸長が
０．２１μｍを越えると、粒子サイズが大きくなりノイ
ズ特性や短波長出力が低下する。短軸長、結晶子サイス゛が
それぞれ大きすぎると、長軸長との関係で、針状比が低
下し、所望のＨｃが得られない。以上のように、磁性体
特性のバランスを考えると非常に狭い範囲が好ましい範
囲であることを我々は実験的に見いだした。

【０００９】本発明に使用する磁性体としては、紡錘型
ゲータイトから還元することにより得られるα−Ｆｅを
主体（Ｆｅ６５重量％以上）とする強磁性合金粉末が使
用できる。前記α−Ｆｅが主成分であり、Ｎｉが１０ｗ
ｔ％以下、Ｃｏが３０ｗｔ％以下であることが好まし
い。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＣａ，Ａ
ｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍ
ｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔ
ａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂ，
Ｓｍなどの原子を含んでもかまわない。これらの強磁性
粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯
電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかま
わない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号公報、
特公昭４５−１８３７２号公報、特公昭４７−２２０６
２号公報、特公昭４７−２２５１３号公報、特公昭４６
−２８４６６号公報、特公昭４６−３８７５５号公報、
特公昭４７−４２８６号公報、特公昭４７−１２４２２
号公報、特公昭４７−１７２８４号公報、特公昭４７−
１８５０９号公報、特公昭４７−１８５７３号公報、特
公昭３９−１０３０７号公報、特公昭４８−３９６３９
号公報、米国特許３０２６２１５号明細書、同３０３１
３４１号明細書、同３１００１９４号明細書、同３２４
２００５号明細書、同３３８９０１４号明細書などに記
載されている。

【００１０】上記磁性体の中で強磁性合金微粉末につい
ては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強
磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを
用いることができ、下記の方法をあげることができる。
１，複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの
還元性気体で還元する方法、２，酸化鉄を水素などの還
元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを
得る方法、３，金属カルボニル化合物を熱分解する方
法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次
亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して
還元する方法、４，金属を低圧の不活性気体中で蒸発さ
せて微粉末を得る方法などである。このようにして得ら
れた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機
溶剤に侵漬したのち乾燥させる方法、５，特に紡錘型ゲ
ータイトを還元して得られる合金磁性粉末が好ましく、
これはｐＨ５〜８の状態で第１鉄塩（例えばＦｅＣ
ｌ₂）とＮａＯＨ、Ｎａ₂ＣＯ₃水溶液を反応させて、空
気を吹き込みつつ更に常温以上の温度で酸化を行う。次
いで、フィルタープレス等によりＮａＣｌ，ＮａＯＨを
除去した後、Ｚｎ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｓｉ，Ｃｏ，Ｎｄ等に
よる表面処理剤、及び、公知の凝集剤、焼結防止剤（珪
酸塩、アルミニウム塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩）を加えて、アルカリ状態中で表面処理を行う。その
後オリバーフィルター等で真空濾過を行い、造粒、乾燥
して、還元を行う。還元は静置式還元炉でも流動層式還
元炉でもよい。還元温度は３００〜５００℃程度にコン
トロールした水素気流中で行う。その後、合金に酸化皮
膜を形成するために徐酸化を行うが、これは有機溶剤に
浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を
形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成
する方法のいずれを施したものでも用いることができる
が、気相反応で行う方が均一な酸化皮膜が出来るので好
ましい。ここで紡錘型とは錘（つむ）に似た形、即ち円
柱形の両端の尖った形を言う。即ち円柱状の巻芯に糸を
中央に太く、両末端に細く巻いたような形を言う。この
ような紡錘型とすることにより顕著に充填度が向上し好
ましい。

【００１１】本発明の磁性層の磁性体粒子をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば４８〜６５ｍ ²／ｇであり、好ま
しくは５２〜５９ｍ²／ｇである。４８ｍ²/g未満ではノ
イズが高くなり、６６ｍ²/gより大では表面性が得にく
く好ましくない。本発明の磁性層の磁性体粒子の結晶子
サイス゛は１００〜１８０オングストロ−ムであり、好まし
くは１２０〜１７０オングストロ−ムである。σsは１
２０ｅｍｕ／ｇ以上が好ましく、さらに好ましくは１２
０emu/g〜１６０emu/gである。抗磁力は１６００Oe以
上、２１００Oe以下が好ましく、更に好ましくは１７０
０Oe以上２０００Oe以下である。磁性体の針状比は５以
上１５以下が好ましく、更に好ましくは７以上１２以下
である。磁性粉末の角形比＝σｒ／σsは０．４５〜
０．５５、好ましくは０．４７〜０．５２である。磁性
体の含水率は０．０１〜２重量％とするのが好ましい。
結合剤の種類によって磁性体の含水率は最適化するのが
好ましい。嵩密度は０．２〜０．７g/mlが好ましく、
０．７g/ml以上にすると磁性体の圧密過程で酸化が進み
やすく、また、還元ガスの通過が不充分なので所望のＨ
ｃ，σsを得ることが困難になる。嵩密度０．２g/ml以
下では分散が不十分になりやすい。

【００１２】合金磁性体の発火点は磁性体の減磁を極力
抑える為には高い方が好ましいが、酸化皮膜の厚みによ
りσs低下の弊害を伴う。合金磁性体の発火点は概ね９
０℃以上であれば十分である。磁性体のｐＨは用いる結
合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その
範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。
磁性体は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸
化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は磁
性体に対し０．１〜１０重量％であり、特に好ましくは
アルミニウムが１〜５重量％、シリコンが３重量％以下
が好ましい。表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸
着が１１０ｍｇ／磁性体１ｇ以下になり好ましい。特に
ステアリン酸の吸着量は８０〜１１０ｍｇ／磁性体１ｇが好
ましい。磁性体には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが２００ｐｐｍ
以下であれば特に特性に影響を与えない。２００ｐｐｍ
を越えると長期保存や高湿状態で保存したときに磁性層
表面に塩が析出してヘッド目詰まりや走行不良の原因に
なる。

【００１３】また、本発明に用いられる磁性体は空孔が
少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに
好ましくは５容量％以下である。また形状については先
に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、
棒状、紡錘状、米粒状、いずれでもかまわないが、特に
紡錘型が望ましい。この磁性体のＳＦＤ（Ｓｗｉｔｃｈ
ｉｎｇ Ｆｉｅｌｄ Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）０．
６以下を達成するためには、磁性体のＨｃの分布、サイ
ズの分布を小さくする必要がある。

【００１４】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニル
エ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−ト
プレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリ
イソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。これらの樹脂について
は朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を上
層、または下層に使用することも可能である。これらの
例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９
に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合
せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコ−ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレ
イン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリ
ウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ
−トを組み合わせたものがあげられる。

【００１５】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、 Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化水
素基）エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少な
くともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導
入したものをを用いることが好ましい。このような極性
基の量は１０ ^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０
^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００１６】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製 ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ
−１２１，ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウ
レタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３
０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ
−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、
Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東
洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、UR-860
0、UR-5500、UR-4300、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日
精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５１０
０，５３００，９０２０，９０２２，７０２０，三菱化
成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製、サンプレンＳＰ
−１５０，旭化成社製、サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。

【００１７】本発明の磁性層に用いられる結合剤は磁性
体に対し、５〜５０ｗｔ％の範囲、好ましくは１０〜３
０ｗｔ％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用い
る場合は５〜４０ｗｔ％、ポリウレタン樹脂合を用いる
場合は２〜２０ｗｔ％、ポリイソシアネ−トは２〜２０
ｗｔ％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好まし
い。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラ
ス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²、降
伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。本発明
の磁気記録媒体は二層以上の構成をとっても構わない。
従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるいは
それ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ下層の非磁性層と上層の磁性層とで変える
ことはもちろん可能である。

【００１８】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭＲ
ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ−１
０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２０
０、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモ
ジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ルＮデ
スモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反
応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで上
層、下層とも用いることができる。

【００１９】本発明の磁性層に使用されるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ
μ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に
用いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャ
ボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３
００、１０００、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡ
Ｎ ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃
５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００
Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４
０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カ−ボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カ−ボンブラックを使用する場合は磁性体に
対する量の０．１〜３０重量％で用いることが好まし
い。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層、下層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能である。例えば、下層
に導電性の高いカ−ボンブラックを用いることにより帯
電を防止し、磁性層に粒子径の大きいカ−ボンブラック
を用い摩擦係数を下げるなどがあげられる。本発明の磁
性層で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボン
ブラック便覧」カ−ボンブラック協会編 を参考にする
ことができる。

【００２０】本発明の磁性層に用いられる有機質粉末は
アクリルスチレン系樹脂粉末、ヘ゛ンソ゛ク゛アナミン樹脂粉末、メラミン系樹
脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ホ゜リオレフィン系樹
脂粉末、ホ゜リエステル系樹脂粉末、ホ゜リアミト゛系樹脂粉末、ホ゜リイ
ミト゛系樹脂粉末、ホ゜リフッ化エチレン樹脂が使用される。その製
法は特開昭62-18564号公報、特開昭60-255827号公報に
記されているようなものが使用できる。

【００２１】本発明の磁性層に用いられる研磨剤として
はα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭
化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コ
ランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタ
ンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、
など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独また
は組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの
複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使
用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物
または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０重量％
以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子
サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて
粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は
０．１〜５重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３
０ｍ²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の
形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、
形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００２２】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、
ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、Ｈｉｔ−５５、Ｈｉｔ−
８０Ｇ，HIT-100、日本化学工業社製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ
−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ−１４０など
があげられる。本発明に用いられる研磨剤は上層、下層
で種類、量および組合せを変え、目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらか
じめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加しても
かまわない。本発明の磁気記録媒体の磁性層表面および
磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ²以上
が好ましい。

【００２３】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。これらの具体例としてはラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル
酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチ
ル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、
ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソ
ルビタンジステアレ−ト 、アンヒドロソルビタントリ
ステアレ−ト、オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−
ル、があげられる。また、アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチ
レンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒ
ダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスル
ホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、
スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル
基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸
類、アミノスルホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸また
は燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面
活性剤等も使用できる。

【００２４】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれてもか
まわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０％以下である。本発明で使用される
これらの潤滑剤、界面活性剤は中間層、磁性層でその種
類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、
中間層、磁性層で融点のことなる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類
を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を
調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添
加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考え
られ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。

【００２５】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場
合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場
合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、
塗布直前に添加する場合などがある。本発明で使用され
るこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製、ＮＡ
Ａ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ
−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−
１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３
５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４
２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂
肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カ
チオンＭＡ、カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミ−ン
Ｌ−２０１，ナイミ−ンＬ−２０２，ナイミ−ンＳ−２
０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニ
オンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−
２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０
６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−
４，ノニオンＯ−２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオン
ＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−
８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２
１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モ
ノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノン
ＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブチルラウレ−ト、エルカ
酸、関東化学社製、オレイン酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ
−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製、エヌジェ
ルブＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０
３０，、信越化学社製、ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−
９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９
６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０７，Ｋ
Ｆ８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ
９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ
−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１
０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１
０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３
５，ライオンア−マ−社製、ア−マイドＰ、ア−マイド
Ｃ，ア−モスリップＣＰ、ライオン油脂社製、デユオミ
ンＴＤＯ、日清製油社製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社
製、プロファン２０１２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イ
オネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００ イオ
ネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００、イオネ
ットＤＳ−１０００イオネットＤＯ−２００、ＩＣＩ製
ソルスパース３０００，５０００，９０００，１３３４
５，２２０００，その他 フェニルホスホン酸、安息香
酸、などがあげられる。

【００２６】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。
これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好まし
くは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は必要
ならば磁性層と非磁性層でその種類、量を変えてもかま
わない。中間層に揮発性の高い溶媒を用い表面性を向上
させる、磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノ
ン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、磁
性層の溶解性パラメ−タの高い溶媒を用い充填度を上げ
るなどがその例としてあげられるがこれらの例に限られ
たものではないことは無論である。

【００２７】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
可撓性支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜１５μ
ｍ、可撓性支持体と磁性層との間に下層の非磁性層をも
うける場合は０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは１〜５
μｍ、磁性層は１μｍ以上１０μｍ未満、可撓性支持体
と磁性層との間に下層の非磁性層をもうける場合は０．
０５μｍ以上０．８μｍ以下、好ましくは０．０８μｍ
以上０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以
上、０．３μｍ以下である。磁性層と中間層を合わせた
厚みは非磁性可撓性支持体の厚みの１／１００〜２倍の
範囲で用いられる。また、非磁性可撓性支持体性と下層
の非磁性層、磁性層との間に密着性向上のためのの下塗
り層、を設けてもかまわない。これらの厚みは０．０１
〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。ま
た、非磁性支持体性の磁性層側と反対側にバックコ−ト
層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、
好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下層の
非磁性層、バックコ−ト層は公知のものが使用できる。

【００２８】本発明に用いられる非磁性可撓性支持体は
ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−
ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミ
ド、芳香族ホ゜リアミト゛などの公知のフィルムが使用でき
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性
可撓性支持体として中心線平均表面粗さ（カットオフ値
０．２５ｍｍ）が０．０３μｍ以下、好ましくは０．０
２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下のもの
を使用する必要がある。また、これらの非磁性支持体は
単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ
以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ
形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大き
さと量により自由にコントロ−ルされるものである。こ
れらのフィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉ
などの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉
末があげられる。本発明に用いられる非磁性支持体のテ
−プ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０ｋｇ／ｍ
ｍ²、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０ｋ
ｇ／ｍｍ²であり、テ−プ長手方向のＦ−５値がテ−プ
幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅
方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。

【００２９】また、非磁性支持体のテ−プ走行方向およ
び幅方向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは
３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０
分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１０
０ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍ
ｍ²、が好ましい。

【００３０】本発明には非磁性可撓性支持体と磁性層と
の間に下層の非磁性層を設けることができる。この下層
の非磁性層には非磁性粉末と結合剤からなることが好ま
しくその非磁性粉末として、例えば金属酸化物、金属炭
酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化
物、等の無機質化合物とカーホ゛ンブラックとを混合するこ
とで選択することができる。無機化合物としては例えば
α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α
−酸化鉄、α−ゲータイト、β−ゲータイト、γ−ゲー
タイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸
化チタン、二酸化珪素、酸化スス゛、酸化マク゛ネシウム、酸化タン
ク゛ステン、酸化シ゛ルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カル
シウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリフ゛テ゛
ンなどが単独または組合せで使用される。特に、酸化チ
タン、弁柄、硫酸バリウム、酸化アルミニウムが好まし
い。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．０１〜２μｍ
が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性
粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布
を広くして同様の効果をもたせることもできる。非磁性
粉末が粒状、球状の場合は平均粒子径が０．０１μｍ以
上、０．０８μｍ以下、針状の場合は長軸長０．０５〜
０．３μｍ、短軸長５ｍμ〜３０ｍμであるものが好ま
しい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは
０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。含水率は０．１〜５重
量％好ましくは０．２〜３重量％で。ｐＨは２〜１１で
ある。比表面積は１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜
７０m²/g、更に好ましくは７〜５０m²/gである。結晶子
サイス゛は０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。DBPを用いた
吸油量は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/
100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重
は１〜１２、好ましくは２〜８である。形状は針状、球
状、サイコロ状、板状のいずれでも良い。上記の非磁性
粉末は必ずしも100%純粋である必要はなく、目的に応じ
て表面を他の化合物で処理してもよい。その際、純度は
７０％以上であれば効果を減ずることにはならない。例
えば、酸化チタンを用いる場合、表面をアルミナで処理
することが一般的に用いられているし、弁柄の場合は
０．１〜１０wt％の範囲でシリカ、アルミナで表面を覆
って、表面の極性をコントロールすることが好ましい。
強熱減量は２０重量％以下であることが好ましい。本発
明に用いられる上記無機粉体のモース硬度は４以上のもの
が好ましい。酸化チタンの製法、応用は「酸化チタン−
物性と応用技術」清野 学著，技報堂出版（株）１９９
１年に記載の方法を参考にすることができる。また、弁
柄の場合は磁性酸化鉄や磁性合金を生産する場合の中間
体として得られるα−ヘマタイトを表面処理したものを
使用することが望ましい。

【００３１】本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な
例としては、昭和電工製UA5600、UA5605、住友化学製ＡＫ
Ｐ−２０、ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５
０、ＨｉＴ−１００、ZA-G1、日本化学工業社製、Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ
−１２０，ＴＦ−１４０、DNS-230，DNS-235，DNA-24
0，DPN-245，DPN-250BX、石原産業製TTO-51B、TTO-55A,T
TO-55B、TTO-55C、TTO-55S、TTO-55D、TTO-55G，FT-1000、F
T-2000、FTL-100、FTL-200、M-1，S-1，SN-100,E-270，
E-271,E272，チタン工業製ECT-52、STT-4D、STT-30D、S
TT-30、STT-65C、三菱マテリアル製T-1、日本触媒NS-O、NS-3
Y,NS-8Y、テイカ製MT-100S、MT-100T、MT-150W、MT-500B、M
T-600B、MT-100F、堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,
BF-1L,BF-10P、同和鉱業製DEFIC-Y,DEFIC-R、チタン工
業製Ｙ−ＬＯＰが挙げられる。

【００３２】また、カ−ボンブラックを用いる場合はゴ
ム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、
アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面
積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４０
０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、好ましくは３０〜２００ml/100gである。粒子径は
５ｍμｍ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、さらに
好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜１０、含
水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は０．１〜１ｇ
／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラッ
クの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰ
ＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、
８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、
三菱化成工業社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５
０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５
０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コンロ
ンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡ
ＶＥＮ 8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,18
00,1500,1255,1250、アクソ゛ー社製ケッチェンフ゛ラックECなどがあげ
られる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカーホ゛ンフ゛ラックは上記
無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性
層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これら
のカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。本発明で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会
編」を参考にすることができる。

【００３３】本発明に用いられる有機質粉末はアクリルスチレン
系樹脂粉末、ヘ゛ンソ゛ク゛アナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フ
タロシアニン系顔料が挙げられるが、ホ゜リオレフィン系樹脂粉末、ホ゜
リエステル系樹脂粉末、ホ゜リアミト゛系樹脂粉末、ホ゜リイミト゛系樹脂
粉末、ホ゜リフッ化エチレン樹脂が使用される。その製法は特開
昭62-18564号公報、特開昭60-255827号公報に記されて
いるようなものが使用できる。これらの非磁性粉末はハ゛
インタ゛ーに対して、重量比率で２０〜０．１、体積比率で
１０〜０．１の範囲で用いられる。なお、一般の磁気記
録媒体において下塗層を設けることが行われているが、
これは支持体と磁性層、非磁性層等の接着力を向上させ
るために設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以
下で本発明の下層とは異なるものである。本発明におい
ても下層と支持体との接着性を向上させるために下塗層
を設けることが好ましい。

【００３４】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する磁性体、結合剤、カ−ボ
ンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などす
べての原料はどの工程の最初または途中で添加してもか
まわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割し
て添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練
工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で
分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するため
には、従来の公知の製造技術のを一部の工程としてを用
いることができることはもちろんであるが、混練工程で
は連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを
使用することにより初めて本発明の磁気記録媒体の高い
Ｂｒを得ることができた。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダ
を用いる場合は磁性体と結合剤のすべてまたはその一部
（ただし全結合剤の３０重量％以上が好ましい）および
磁性体１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で
混練処理される。これらの混練処理の詳細については特
開平１−１０６３３８号公報，特開平１−７９２７４号
公報に記載されている。

【００３５】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルーシ゛ョン塗布装置等
により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態にのう
ちに特公平1-46186号公報や特開昭60-238179号公報，特
開平2-265672号公報に開示されている支持体加圧型エクスト
ルーシ゛ョン塗布装置により上層を塗布する。 ２，特開昭63-88080号公報、特開平2-17971号公報，特開
平2-265672号公報に開示されているような塗布液通液ス
リットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層を
ほぼ同時に塗布する。 ３，特開平2-174965号公報に開示されているハ゛ックアッフ゜ロー
ル付きエクストルーシ゛ョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗
布する。 なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特
性等の低下を防止するため、特開昭62-95174号公報や特
開平1-236968号公報に開示されているような方法により
塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ま
しい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3-8471
号公報に開示されている数値範囲を満足する必要があ
る。

【００３６】本発明の磁気記録媒体を得るためには強力
な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウス）以上の
ソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併用する
ことが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くな
るように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好
ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用する場
合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が必要
である。また、必要に応じて垂直方向の磁界を加えるこ
とにより、面内に対して斜めの磁化成分をもたせること
も電磁変換特性向上のうえからは好ましい。

【００３７】さらに、カレンダ−処理ロ−ルとしてエポ
キシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の
耐熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金
属ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好
ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上であり、その際の処理速度
は１００ｍ／分〜５００ｍ／分で５段以上１１段以下の
カレンダー機が好ましい。

【００３８】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．５以下、さらに０．３以下、表面固有抵抗は好ま
しくは１０^-5〜１０^-12オ−ム／ｓｑ、磁性層の０．５
％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好ましくは１
〜３０ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体の弾性率は走行方
向、長い方向とも好ましくは１００〜１５００ｋｇ／ｍ
ｍ²、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以
下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは
０．１％以下である。磁性層中に含まれる残留溶媒は好
ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０
ｍｇ／ｍ²以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層
に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層
が有する空隙率は下層の非磁性層、磁性層とも好ましく
は３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下で
ある。下層の非磁性層の空隙率が磁性層の空隙率より小
さいほうが好ましいが、目的により非磁性下層の空隙率
を高くする方が好ましいこともある。例えば、繰り返し
用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では逆の方
が好ましいことが多い。

【００３９】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ｋＯｅで測定した場合、テ−プ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テ−プ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤ（Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ
Ｆｉｅｌｄ Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は０．６以
下であることが好ましい。磁性層の中心線表面粗さ（３
Ｄ ＭＩＲＡＵ法）Ｒａは１ｎｍ〜１０ｎｍが好ましい
が、その値は目的により適宜設定されるべきである。電
磁変換特性を良好にする為にはＲａは小さいほど好まし
いが、走行耐久性を良好にするためには逆に大きいほど
好ましい。ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃ
ｒｏ Ｓｃｏｐｅ）による評価で求めたＲＭＳ表面粗さ
ＲRMS（２乗平均粗さ）は３ｎｍ〜１６ｎｍの範囲にあ
ることが好ましい。

【００４０】本発明の磁気記録媒体では二層以上の多層
構成とすることもできるが、目的に応じ上層と下層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、上層の弾性率を高くし走行耐
久性を向上させると同時に下層の弾性率を上層より低く
して磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどであ
る。

【００４１】

【実施例】次に本発明を実施例によって更に具体的に説
明する。なお実施例中「部」との表示は「重量部」を意
味する。

【００４２】磁性体製造方法 炭酸ソーダ（Ｎａ₂ＣＯ₃）１０ｋｇを１２０ｋｇの水に
溶解した後、気泡塔方式反応槽にＮ²ガスを流しながら
いれ、次に塩化第一鉄（ＦｅＣｌ₂）８ｋｇを３０ｋｇ
の水に溶解した後、この反応槽に入れて第一鉄イオンを
沈澱させた。スラリー温度を３５℃に保ったまま、コハ
ク酸２ｋｇを加えてＮ2ガスを空気に変更してｐＨを２
〜３に保って約２時間の反応をさせた。 ついでスラリ
をフィルタープレスで濾過し、中性になるまで洗浄を行
い、長軸長０．２μｍ、軸比８、比表面積１４０ｍ²/ｇ
の紡錘型ゲータイトを得た。次にこのゲータイトを固形
分として２ｋｇを取り蒸留水４０リットルに珪酸ソー
ダ、アルミン酸ソーダ、硫酸コバルト、硫酸ニッケルを
加えてｐＨ１０程度で３０℃に保ちつつ、十分撹拌して
表面処理を行った。その後、洗浄、濾過、造粒、乾燥を
経て表面処理されたゲータイトを得た。その後静置式還
元炉で窒素ガス置換後、５０リットル／分の水素気流中
で温度を上昇し、３５０℃で還元した。これを更に降温
しつつ窒素で置換して、更にそこへ酸素ガスを導入して
徐酸化を行い、紡錘型金属磁性粉末を得た。得られた金
属磁性粉末のＨｃは１７５０Oe、BET法による比表面積
は５５ｍ²/g、結晶子サイズ１５０オングストローム、
長軸長０．１５μｍ、針状比 ８、σs:１２５emu/gで
あった。抗磁力を変更するためには、還元の温度、時間
と水素気流速の条件を変更することで調整した。粒子サ
イズの調整にはゲータイトのサイズを変更することでお
こなったが、ゲータイトのサイズはｐＨの程度とＦｅ⁺⁺
の濃度と反応時間を変更することで行った。 σsは徐
酸化の際の酸素ガスの量と徐酸化温度を変更することで
調整した。

【００４３】上記のような条件で作製した磁性体の特性
評価は以下の表１の通りである。なお、磁性体Ｄは、長
軸長が０．２１μｍ、針状比が１１であるから、その短
軸長は０．２１×１０ ³ ｍμ／１１＝１９ｍμとなる。

【００４４】

【表１】

【００４５】 実施例１〜４、比較例１〜６（磁性層単層） 磁性層形成用塗布液は以下のように調製した。 強磁性金属微粉末 １００部 （組成；表参照） 塩化ビニル系共重合体 １２部 -SO₃Na含有量：１×１０^-4eq/g 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝ ０．９／２．６／１ -SO₃Na基 １×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部

【００４６】上記の塗料について、各成分をラボプラス
トミル（東洋精機製）で混練したのち、サンドミルを用
いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネート
３部を加え、さらに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの
平均孔径を有するフィルタを用いて濾過し、磁性層形成用の
塗布液を調製した。得られた磁性層の厚さが３μｍの厚
みになるように、厚さ７μｍで中心線表面粗さが０．０
１μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布を
おこない、層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの
磁力をもつコバルト磁石と１５００Ｇの磁力をもつソレ
ノイドにより配向させ乾燥後、バック層を設け、その後
金属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度９
０℃にて２５０ｍ／分で処理を行い、硬化させた後、８
ｍｍの幅にスリットし、８ｍｍビデオテープを製造し
た。

【００４７】実施例５〜８、比較例７〜１２ 非磁性層形成用塗布液 非磁性粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ αヘマタイト ８０部 平均長軸長０．１４μｍ 短軸長２４ｍμ、 BET 法による比表面積 ５０ｍ² ／ｇ ｐＨ ７ 表面処理剤Al₂O_3,ＳｉＯ₂ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ² ／ｇ 揮発分 １．５重量％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 -SO₃Naの極性基を５×１０^-4eq/g含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度300 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝ ０．９／２．６／１ -SO₃Na基 １×１０^-4eq/g含有 α−Ａｌ₂ Ｏ₃ （平均粒子径０．２μｍ） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部

【００４８】磁性層には上記のように調製した磁性層形
成用塗布液を用い、非磁性層については上記各成分をラ
ボプラストミル（東洋精機製）で混練したのち、サンド
ミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシ
アネートを１部加え、さらに酢酸ブチル４０部を加え、
１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いて濾過し、下層の
非磁性層形成用塗布液を調製した。得られた下層の非磁
性層用塗布液を乾燥後の厚さが２μｍになるように塗布
し、さらにその直後にその上に上層磁性層形成用塗布液
を乾燥後の厚さが０．１５μｍの厚みになるように、厚
さ７μｍで中心線表面粗さが０．０１μｍのポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に同時重層塗布をおこない、
両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁力をも
つコバルト磁石と１５００Ｇの磁力をもつソレノイドに
より配向させ乾燥後、金属ロールのみから構成される７
段のカレンダで温度９０℃、カレンダー速度２５０ｍ／
分にて処理を行い、８ｍｍの幅にスリットし、８ｍｍビ
デオテープを製造した。

【００４９】磁性層の厚みが３μｍの単層の場合の結果
を以下の表２及び表３に示す。

【００５０】

【表２】

【００５１】

【表３】

【００５２】磁性層の厚みを０．１５μｍにした重層の
場合の結果を以下の表４及び表５に示す。

【００５３】

【表４】

【００５４】

【表５】

【００５５】評価方法 （ＢＥＴ法による比表面積）カンターソープ（ＵＳカン
タークロム社製）を用いた。２５０℃，３０分間窒素雰
囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３０）で測定し
た。

【００５６】（Ｈｃ，σｒ、角形比、σs）振動試料型
磁束計（東英工業製）を用い、粉体試料の場合はＨｍ１
０ｋOe、テープ試料の場合は５ｋＯｅで測定した。

【００５７】（中心線平均表面粗さ）三次元表面粗さ計
（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄ）を用い、ＭＩＲＡＵ法で
２５０nm×２５０nmの面積のＲａ，Ｒrms，peak to val
ley値を測定した。測定波長は約６５０ｎｍで球面補
正、円筒補正を加えている。本測定法は非接触で測定す
る光干渉式の表面粗さ計である。

【００５８】（ＡＦＭ ｒｍｓ平均表面粗さ）ＳＴＭ
（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｍｉｃ
ｒｏ Ｓｃｏｐｅ）の測定はDigital Instrument社のNa
noscope２を用い、トンネル電流：10nA、ハ゛イアス電圧：40
0mVの条件で、６μm×６μmの範囲をスキャンした。表
面粗さはこの範囲のＲrmsを求めて比較した。

【００５９】（磁性体の長軸径、短軸径）透過型電子顕
微鏡１０万倍の写真により長軸、短軸の平均粒子径を求
めた。

【００６０】（結晶子サイズ）Ｘ線回折により（４，
４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅のひろ
がり分から求めた。

【００６１】（出力、Ｃ／Ｎ測定方法）外当て式ドラム
テスターを用いた。テープヘッド相対速度は３．８ｍ／
ｓｅｃ、使用したヘッドはギャップ長０．２μｍ、トラ
ック幅２０μｍの積層センダストヘッドである。使用周
波数は７．６ＭＨｚ(記録波長λ＝０．５μｍ）の時の
最適記録電流で再生した時の出力と６．６ＭＨｚでのノ
イズからＣ／Ｎ比とした。なお、リファレンスは富士写
真フィルム製８ｍｍビデオテープｓｕｐｅｒＡＧであ
る。

【００６２】（オーバーライトＯ／Ｗ適性評価方法）上
記ドラムテスターを用いて、消去後のサンプルにまず
１．９ＭＨｚの正弦波記録を行いその出力をスペクトラ
ムアナライザーを用いて測定する。その後、７．６ＭＨ
ｚの正弦波信号を重畳記録した後の１．９ＭＨｚ出力を
再度スペクトラムアナライザーを用いて測定し、その差
を評価した。その差が大きいほどオーバーライト（Ｏ／
Ｗ）適性が良好である。記録波長が１μｍ以下のデジタ
ル記録システムにおいては−２３．５ｄＢ以下であるこ
とが好ましい。

【００６３】（ｄ、σの測定方法） 磁気記録媒体を長手方向に渡ってダイアモンドカッター
で約０．１μｍの厚みに切り出し、透過型電子顕微鏡で
倍率１００００から１０００００倍、好ましくは２００
００倍〜５０，０００倍で観察し、その写真撮影を行な
った。写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５である。その
後磁性層、下層非磁性層の磁性体や非磁性粉体の形状差
に注目して界面を目視判断して黒く縁どり、かつ磁性層
表面も同様に黒く縁どった。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画
像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁どりした線の間隔の長さを
測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの場合、測定を１
００〜３００回行っている。その際の測定値の平均値を
ｄとし、その測定値の標準偏差をσとした。

【００６４】

【発明の効果】非磁性可撓性支持体上に磁性体を結合剤
中に分散した磁性層を設けてなる磁気記録媒体におい
て、前記磁性体がα−Ｆｅを主体とする強磁性合金粉末
であり、その粉末抗磁力Ｈｃが１６２０Oe以上２１００
Oe以下、飽和磁化量σsが１２０〜１５０emu/g、Ｎ₂ガ
ス吸着による比表面積が４８〜６０ｍ²/g、長軸長０．
０８〜０．２１μｍ、短軸長０．０１〜０．０２μｍ、
針状比７〜１１で結晶子サイス゛が１１０〜１７０オンク゛ストロー
ムであることが、全ての媒体特性バランス上良好であ
り、具体的にはテ−プＨｃ、テ−プＢｍ、テ−プ角形
比、テ−プＲａ、出力、オ−バ−ライト（Ｏ／Ｗ）の特
性がすべて優れていることがわかった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−238111（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−290359（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 5/706 G11B 5/704

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性可撓性支持体上に磁性体を結合剤
   中に分散した磁性層を設けてなる磁気記録媒体におい
   て、前記磁性体が紡錘型ゲータイトから還元することに
   より得られるα−Ｆｅを主体とする強磁性合金粉末であ
   り、その粉末の抗磁力Ｈｃが１６２０Ｏｅ以上２１００
   Ｏｅ以下、飽和磁化量σｓが１２０〜１６０ｅｍｕ／
   ｇ、Ｎ₂ ガス吸着による比表面積が４８〜６５ｍ² ／
   ｇ、長軸長０．０８〜０．２１μｍ、短軸長１０〜２０
   ｍμ、針状比７〜１１で結晶子サイズが１１０〜１７０
   オングストロームであることを特徴とする磁気記録媒
   体。
2. 【請求項２】 前記α−Ｆｅを主体とする強磁性合金粉
   末の抗磁力Ｈｃが１７２０Ｏｅ以上２０００Ｏｅ以下、
   飽和磁化量σｓが１２２〜１４０ｅｍｕ／ｇ、角型比が
   ０．４８〜０．５１、Ｎ₂ ガス吸着による比表面積が５
   ２〜５９ｍ² ／ｇ、長軸長０．１〜０．１８μｍ、短軸
   長１０〜１８ｍμ、針状比７〜１１で結晶サイズが１２
   ０〜１６０オングストロームであることを特徴とする請
   求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 非磁性可撓性支持体上に主として無機質
   非磁性粉末を結合剤中に分散させた下層と強磁性粉末を
   結合剤中に分散した上層を設けてなる少なくとも二層以
   上の複数の層を有する磁気記録媒体において、前記上層
   の磁性層厚みの平均値ｄが０．０５μｍより大きく０．
   ８μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気
   記録媒体。
4. 【請求項４】 前記下層に用いられる無機質非磁性粉末
   が酸化チタン、弁柄（α−ヘマタイト）、硫酸バリウ
   ム、酸化アルミニウムの中から選ばれる１種以上であ
   り、粒状の場合は平均粒子径が０．０８μｍ以下、針状
   の場合は長軸長０．０５〜０．３μｍ、短軸長５ｍμ〜
   ３０ｍμであることを特徴とする請求項３記載の磁気記
   録媒体。