JPH09231526A

JPH09231526A - 磁気記録装置用クリーニング媒体

Info

Publication number: JPH09231526A
Application number: JP8042506A
Authority: JP
Inventors: Hiroo Inami; 博男稲波; Masaki Suzuki; 雅樹鈴木; Satoshi Matsubaguchi; 敏松葉口; Hiroaki Takano; 博昭高野
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1996-02-29
Filing date: 1996-02-29
Publication date: 1997-09-05
Also published as: US5847905A

Abstract

(57)【要約】【課題】ヘッド磨耗が少なくて、ヘッド先端を鋭く整
えることが可能で蒸着テープとメタルテープとのヘッド
当たり互換性が良好で、クリーニング性に富む磁気ヘッ
ドのクリーニングを可能とする。【解決手段】非磁性支持体上に、主として非磁性無機
粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少な
くとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリ
ーニング層を設けてなり、クリーニング層の厚みを０．
０５〜１．０μｍ、角型比を０．６〜０．９８に設定し
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、オーディオ、ビデ
オ、コンピューター用磁気記録再生装置に使用されてい
る磁気ヘッドもしくは走行系の清浄に利用されるクリー
ニングテープ等の磁気記録装置用クリーニング媒体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般にビデオ用、オーディオ用、コンピ
ューター用の磁気記録装置の記録・再生は、磁気ヘッド
と磁気テープ等の磁気メディアをお互いに接触させつつ
摺動して行われる。この時、磁気ヘッドの表面に磁気テ
ープの削れ粉や装置の周辺の塵埃が付着すると再生出力
が低くなり、さらには出力が全く得られなくなる。この
ように低下した再生出力を回復するために、磁気ヘッド
の表面に付着した汚れをクリーニングして再生出力を復
元するクリーニングテープ等のクリーニング媒体が用い
られる。

【０００３】一方、磁気記録は年々高密度化が進んでお
り、磁気ヘッド先端と磁気テープとの接触の様子を良好
にしてやらなければ、十分な記録再生ができないことが
多くなってきた。いわゆる、ヘッド当たりを良好に保つ
ために、クリーニングテープは磁気ヘッドの汚れを取る
ばかりでなく、ある程度ヘッドの形状を整えてやること
も必要になってきている。特に、近年は最短記録波長が
１μｍ以下となるような高密度記録を行う磁気記録再生
装置の磁気ヘッドも使用され、この磁気ヘッドにおける
ギャップ長は０．４μｍ以下であり、僅かなヘッドの汚
れも記録再生性能に支障を来すことになる。

【０００４】また、磁気ヘッドの材質も従来は表面硬度
が高いフェライトが主流であったが、高密度化を進める
ために、センダスト等の金属ヘッドが用いられるように
なってきた。金属ヘッドはフェライトヘッドに較べて、
柔らかいためヘッドの摩耗も多くなるので、クリーニン
グテープによるヘッド摩耗量も小さいことが重要にな
る。

【０００５】また、近年、Ｈｉ−８やＤＶＣのように、
蒸着テープ（ＭＥテープ）とメタルテープ（ＭＰテー
プ）との両方が使用できる磁気記録装置が登場してきて
いる。蒸着テープは剛性の高い金属薄膜が磁気ヘッドと
接触するので、この磁気ヘッド先端が鋭くなっていない
と良好な接触状態すなわち記録再生特性が得られにく
い。さらに、蒸着テープは研磨剤を含まないので、その
接触における磁気ヘッドの摩耗が少なく、磁気ヘッドと
のなじみ性が低いものである。一方、メタルテープはそ
の磁性層に磁性粉末が結合剤中に含まれているので、磁
気ヘッドと柔らかく接触することになり、ヘッド先端の
形状によってそれほどテープとのヘッド当たりが変化す
ることはないし、また、摩耗力を有しているので磁気ヘ
ッドとのなじみも良好である。

【０００６】それゆえ、蒸着テープを走行させた後の磁
気ヘッドに対してメタルテープを走行させても、ヘッド
当たりの変化はそれほど見られないが、その逆に、メタ
ルテープを走行させた後に蒸着テープを走行させると、
ヘッド当たりが不調になる場合がある。

【０００７】磁気ヘッドの研磨に使用する研磨テープの
先行技術としては、例えば特開昭６２−９２２０５号に
は、非磁性支持体上に、非磁性粉末を含む中間層と、非
磁性研磨剤を含む研磨層を順に積層した研磨テープが開
示されている。この研磨テープは、２層構成を採用し、
中間層の表面性を粗くする一方、上層研磨層の研磨剤粒
子径を細かくすることにより、研磨力を維持しつつヘッ
ド傷の発生を防ぐようにしているが、この研磨テープは
磁気ヘッドの仕上げ研磨用であって、表面粗さが０．０
３〜０．３μｍであることからも、ヘッド摩耗が多くク
リーニングテープとしての用途には不適当である。

【０００８】また、磁気ヘッドのクリーニングテープと
しては、特開平６−１３９５３１号には、可撓性支持体
上に２つのクリーニング層を設けた２層構成とし、上層
クリーニング層のヤング率を下層クリーニング層のヤン
グ率より大きくして、良好なクリーニング性と少ないヘ
ッド摩耗を両立させようとした技術が開示されている。
しかし、この先行例のクリーニングテープでは、２つの
クリーニング層共に強磁性粉末を含む構成であり、テー
プ全体としてのヤング率の異方性が顕著に発生して、磁
気ヘッドのクリーニング後の先端形状が鋭くならず、蒸
着テープとの良好なヘッド当たりをもたらすことはでき
ず、メタルテープと蒸着テープとの互換性の回復が不十
分であるという問題を有している。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかして、クリーニン
グテープの使用によって磁気ヘッドの汚れを除去すると
ともに、磁気ヘッド先端を鋭く整えることができれば、
蒸着テープのヘッド当たりを良好にすることが可能であ
り、メタルテープと蒸着テープとの互換性の回復が十分
に図れることが判明した。

【００１０】そこで、本発明は高密度磁気記録再生装置
等の磁気ヘッドに対するクリーニングを行うについて、
ヘッド摩耗が少なくて金属ヘッドに使用可能であるとと
もに、汚れの除去が良好で再生出力を復元するクリーニ
ング性に富み、かつクリーニング後の磁気ヘッド先端を
鋭く整えることができて蒸着テープとメタルテープとの
ヘッド当たり互換性を良好にした磁気記録装置用クリー
ニング媒体を提供せんとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の磁気記録装置用クリーニング媒体は、非磁性支持体
上に、主として非磁性無機粉末と結合剤とを含む下層塗
布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末による無機
粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなり、前
記クリーニング層の厚みが０．０５〜１．０μｍである
とともに、角型比すなわち磁化曲線における残留磁束密
度Ｂｒと最大磁束密度Ｂｍの比が０．６〜０．９８であ
ることを特徴とするものである。

【００１２】前記のようなクリーニング媒体によって、
そのクリーニング層を磁気ヘッドの表面に接触摺動させ
てクリーニングを行うと、厚みが薄くかつ強磁性粉末が
含まれて適度な配向性を有するクリーニング層と、この
クリーニング層と支持体との間の非磁性体粉末を含みヤ
ング率の異方性の少ない下層塗布層があることで、この
クリーニング媒体のクリーニング層表面性状および磁気
ヘッドに対する接触状態が良好となり、磁気ヘッドの磨
耗は少ない反面、磁気ヘッドの汚れを短時間で除去する
クリーニング性に富むとともに、磁気ヘッドの先端を鋭
く整えて蒸着テープに対するヘッド当たりを得ることが
でき、メタルテープの使用後におけるクリーニング処理
で蒸着テープを使用した際の再生出力を高めてテープ互
換性を確保している。

【００１３】また、前記クリーニング層に含まれる無機
粉末は、モース硬度６以上の研磨剤を強磁性粉末１００
重量％に対して１〜４５重量％含有することが望まし
い。

【００１４】さらに、クリーニング層に含まれる強磁性
粉末は、Ｆｅを主成分とし、Ｆｅに対しＣｏを２〜４０
重量％含有し、そのクリーニング媒体の磁化量が０．０
３〜０．３ガウス・ｃｍであるものを使用することが好
適である。

【００１５】前記クリーニング層は、下層塗布層を塗布
形成した後に湿潤状態にある内に、その上に塗布形成す
るウェットオンウェット塗布方式で形成するのが好適で
ある。

【００１６】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、非磁性支
持体上に、主として非磁性無機粉末と結合剤とを含む下
層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末による
無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてな
り、前記クリーニング層の厚みが０．０５〜１．０μｍ
であるとともに、角型比が０．６〜０．９８であること
により、ヘッド摩耗が少なく、クリーニング性に富み、
かつ磁気ヘッド先端を鋭利に整えることができるもので
ある。

【００１７】このためには、まず、下層塗布層のヤング
率の異方性が少ないことが好ましく、この下層塗布層に
は非磁性無機粉末を含むことで粒子の配向が少なく異方
性の発生が抑制されている。ただし、クリーニング層の
ヤング率は強磁性粉末を含むことで長手方向に比較的強
い異方性を持たせて、かつ、非常に薄くすることにより
クリーニング力が良好になっている。このクリーニング
層は、長手方向にヤング率の異方性を持たせても、非常
に薄いので、異方性の少ない下層塗布層のヤング率の寄
与で磁気ヘッド先端の形状が比較的対称性よく整えられ
ることになる。

【００１８】なお、特開平６−１３９５３１号では、下
層塗布層にも強磁性粉末を用いていることから、ウェッ
トオンウェット塗布方式による成膜時に強磁性粉末は配
向性に富むため、長手方向のヤング率が大きく、幅方向
のそれが小さくなってしまうため、磁気ヘッドの先端を
整えて、蒸着テープとの互換性を良化させることはでき
なかった。ヤング率の異方性を減らすためには、下層塗
布層に配向性に乏しい非磁性粉末を配合してなるもので
ある。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。本発明のクリーニング媒体（クリーニン
グテープ）の基本構造は、非磁性で可撓性の支持体上
に、非磁性無機粉末と結合剤とを主成分とする下層塗布
層と、その上に少なくとも強磁性粉末による無機粉末と
結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる。

【００２０】前記クリーニング層の厚みは、０．０５〜
１．０μｍと薄く形成され、その形成は前記下層塗布層
を支持体上に塗布形成した後、この下層塗布層がまだ湿
潤状態にある内に、その上にクリーニング層を塗布する
いわゆるウェットオンウェット塗布方式（同時又は逐次
湿潤塗布方式）で塗布されている。なお、クリーニング
媒体（クリーニングテープ）としての全体の厚みは４〜
１５μｍで、支持体の厚みが２〜１０μｍ、下層塗布層
の厚みは０．２〜５．０μｍが好適である。

【００２１】また、クリーニング層の磁気特性として
は、外部磁場１０ｋＯｅで測定した磁化曲線における角
型比（残留磁束密度Ｂｒ／最大磁束密度Ｂｍ）が０．６
〜０．９８であり、抗磁力Ｈｃは５００〜３０００Ｏｅ
である。また、クリーニング層の中心線平均表面粗さＲ
ａが１．０〜８．０ｎｍが好適で、そのためには支持体
表面の中心線平均表面粗さＲａは０．５〜７．０ｎｍが
好ましい。

【００２２】次に下層塗布層の詳細な内容について説明
する。まず、本発明の下層塗布層に用いられる無機粉末
は、非磁性粉末であり、金属酸化物、金属炭酸塩、金属
硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機
質化合物から選択することができる。

【００２３】無機化合物としては、例えば、α化率９０
％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、
θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウ
ム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、入手
の容易さ、コスト、粒度分布の小ささ、機能付与の手段
が多いことなどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化
鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタ
ン、α酸化鉄である。

【００２４】これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００
５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末で
も粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは
０．０１〜０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜
２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌであ
る。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましく
は０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重
量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐ
Ｈは５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面
積は１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／
ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ²／ｇである。非磁性
粉末の結晶子サイズは０．００４〜１μｍが好ましく、
０．０４〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰを用いた
吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜
８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／
１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６で
ある。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも
良いが、粒状非磁性無機粉末の場合には平均粒径が０．
０８μｍ以下のものを無機粉末全体に対して５０重量％
以上含むのが望ましく、また、針状非磁性無機粉末の場
合には平均長軸長が０．０５〜０．３μｍで針状比が３
〜２０のものを無機粉末全体に対して５０重量％以上含
むのが好適である。

【００２５】強熱減量は２０重量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記無機粉末のモース硬度は４以上、
１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネ
スファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好まし
いラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉
末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μモル／ｍ
²、更に好ましくは２〜１５μモル／ｍ²である。下層
塗布層非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００〜
６００ｅｒｇ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましい。ま
た、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができ
る。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０
個／１００Ａが適当である。水中での等電点のｐＨは３
〜６の間にあることが好ましい。

【００２６】これらの非磁性粉末の表面には、Ａｌ₂Ｏ
₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂
Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃で表面処理することが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、
ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのはＡｌ₂
Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせ
て使用しても良いし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良い
し、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処
理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。
また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００２７】本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉
末の具体的な例としては、昭和電工社製ナノタイト、住
友化学社製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製
αヘマタイト、ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、
ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０
ＢＸ、石原産業社製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ
−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−
５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイト
Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業社製ＳＴＴ
−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５
Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−
１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１
００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学社製ＦＩＮＥＸ−２
５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同
和鉱業社製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエ
ロジル社製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産社製
１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれ
を焼成したものが挙げられる。

【００２８】上記のうち特に好ましい非磁性粉末は、α
−酸化鉄と二酸化チタンである。α−酸化鉄（ヘマタイ
ト）は、以下のような諸条件の基で得られたものが使用
できる。まず、α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末は、次の方法に
より前駆体粒子としての針状ゲータイト粒子を得る。第
１の方法としては、第一鉄水溶液に等量以上水酸化アル
カリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含
む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含
有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータ
イト粒子を生成させる方法。第２の方法としては、第一
鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られ
るＦｅＣＯ₃を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸
化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子
を生成させる方法。第３の方法としては、第一鉄塩水溶
液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカ
リ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含
む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を
行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次い
で、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、
該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等量以上の水酸化ア
ルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前
記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法。第４の方法
としては、第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリま
たは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一
鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気
して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を
生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータ
イト核粒子を成長させる方法等である。なお、ゲータイ
ト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等のために通
常添加されているＮｉ，Ｚｎ，Ｐ，Ｓｉ等の異種元素が
添加されていても支障はない。

【００２９】そして、前駆体粒子である前記針状ゲータ
イト粒子を２００〜５００℃の温度範囲で脱水するか、
必要に応じて、更に３５０〜８００℃の温度範囲で加熱
処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃を粒子を
得る。なお、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト
粒子が表面にＰ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｓｂ等の焼結防止剤
が付着していても支障はない。また、３５０〜８００℃
の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水
されて得られた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の粒子表面に生
じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融さ
せて空孔ををふさいで平滑な表面形態とさせることが好
ましいからである。

【００３０】本発明において用いられるα−Ｆｅ₂Ｏ₃
粒子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状
α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、
Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ₂Ｏ₃
粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、
水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を
施すことにより得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸
アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、
硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソー
ダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。
この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末
に対してＡｌ換算で０．０１〜５０重量％である。０．
０１重量％未満である場合には、結合剤樹脂中における
分散が不十分であり、５０重量％を超える場合には粒子
表面に浮遊するＡｌ化合物同士が相互作用するために好
ましくない。

【００３１】本発明における下層塗布層の非磁性無機粉
末においては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めと
して、Ｐ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｓｂ
から選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆
することもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの
化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対
して０．０１〜５０重量％の範囲である。０．０１重量
％未満である場合には添加による分散性向上の効果が殆
どなく、５０重量％を超える場合には、粒子表面以外に
浮遊する化合物同士が相互作用をするために好ましくな
い。

【００３２】また、下層塗布層に使用する二酸化チタン
の製法に関しては、以下の通りである。これらの酸化チ
タンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイル
ミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫
酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残り
の硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行っ
て、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、
夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した
後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとな
る。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加され
る核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉
砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原
鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高
温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄にＦｅはＦ
ｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体
のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄は精
留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃以上
の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得
る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的
性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。

【００３３】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に
移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。ま
ず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚ
ｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、または
アルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒
子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーシ
ョン、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨ
を調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケー
キはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥
される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、
製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉末に
ＡｌＣｌ₃，ＳｉＣｌ₄の蒸気を通じその後水蒸気を流
入してＡｌ，Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。そ
の他の顔料の製法については、 G.D.Parfitt and K.S.
W.Sing”Characterization of Powder Surfaces”Acade
mic Press,1976を参考にすることができる。

【００３４】上記のような非磁性無機粉末にはカーボン
ブラックを含んでもよく、また、これらの無機粉末を分
散する結合剤については後述する。

【００３５】カーボンブラックを下層塗布層に混合させ
ることで、公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げて
帯電防止効果を得ること、光透過率を小さくすることが
できるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る
ことができる。下層塗布層のマイクロビッカース硬度は
通常、２５〜６０kg／mm²、好ましくはヘッド当たりを
調整するために、３０〜５０kg／mm²であり、ＮＥＣ製
薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、稜角８０度、先端
半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に
用いて測定する。

【００３６】使用できるカーボンブラックとしては、ゴ
ム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、
アセチレンブラック等があげられる。これらのカーボン
ブラックの比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好まし
くは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４
００ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gである。
カーボンブラックの一次粒子径は１０〜８０ｎｍ、好ま
しく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍ
である。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は
０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ま
しい。

【００３７】本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としては、キャボット社製のＢＬＡＣＫＰＥＡ
ＲＬＳ２０００，１３００，１０００，９００，８０
０，８８０，７００，ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、三菱
化成工業社製の＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０
Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０
Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２
３０，＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン
社製のＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ，ＲＡＶＥＮ８８０
０，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５０
０，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５
５，１２５０、アクゾー社製のケッチェンブラックＥＣ
などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表
面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面
の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。

【００３８】これらのカーボンブラックは上記無機質粉
末に対して５〜４９重量％の範囲、非磁性層総重量の４
０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブ
ラックは単独、または組合せで使用することができる。
本発明で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カーボ
ンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にする
ことができる。

【００３９】また、下層塗布層には、有機質粉末を目的
に応じて添加することもできる。例えば、アクリルスチ
レン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン
系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポ
リオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポ
リアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ
化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特
開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号
に記されているようなものが使用できる。

【００４０】その他、下層塗布層の結合剤、潤滑剤、分
散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが
適用できる。特に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の
添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用
できる。

【００４１】次に上層のクリーニング層に関する詳細な
説明をする。まず、クリーニング層に混合する無機粉末
としては強磁性粉末を含み、この強磁性粉末としては、
γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−
ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、α−ＦｅまたはＮ
ｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金
粉末、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト
など公知の強磁性粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成
分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉
末には所定の原子以外に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｃ
ａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａ
ｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，
Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃ
ｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂ，Ｍｇなどの原子を含
んでもかまわない。特に、メタル磁性体の場合はＡｌ，
Ｓｉ，Ｃａ，Ｙ，Ｂａ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｂが
α−Ｆｅ以外に含まれる元素として重要である。とりわ
け、Ｓｉ，Ａｌ，Ｙが表面処理や焼結防止剤として重要
である。ＣｏはＦｅに対し２〜４０重量％含有したもの
が好ましい。Ｓｉ，Ａｌ，Ｙは０〜１０重量％の間で含
まれる。これらの強磁性粉末には後で述べる分散剤、潤
滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじ
め処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４
−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４
７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭
４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公
昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公
昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特
公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、
特公昭４８−３９６３９号、米国特許３０２６２１５
号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２
４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されてい
る。

【００４２】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法を挙げることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。

【００４３】本発明のクリーニング層の強磁性粉末をＢ
ＥＴ法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ²／ｇであ
り、好ましくは５０〜７０ｍ²／ｇである。４０ｍ²／
ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表
面性が得にくく好ましくない。本発明のクリーニング層
の強磁性粉末の結晶子サイズは３００〜１００Ａであ
り、好ましくは２５０〜１００Ａ、更に好ましくは２０
０〜１４０Ａである。

【００４４】強磁性粉末の飽和磁化σs は１００〜１８
０emu/g が好ましく、さらに好ましくは１１０〜１７０
emu/g 、更に好ましくは１２５〜１６０emu/g である。
強磁性粉末の抗磁力Ｈｃは５００〜３０００Oeが好まし
い。角型比は０．６〜０．９８が好ましく、磁化量は
０．０３〜０．３ガウス・ｃｍが好ましい。一方、強磁
性粉末の針状比は４〜１８が好ましく、更に好ましくは
５〜１２である。強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％
とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末
の含水率は最適化するのが好ましい。

【００４５】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１
２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は
必要に応じ、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末
に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸な
どの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好まし
い。強磁性粉末には可溶性のＮａ，Ｃａ，Ｆｅ，Ｎｉ，
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本
質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば
特に特性に影響を与えることは少ない。また、強磁性粉
末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以
下、さらに好ましくは５容量％以下である。

【００４６】本発明のクリーニング層および前記下層塗
布層に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系
樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使
用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−
１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２０
０，０００、好ましくは１０，０００〜１００，００
０、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。

【００４７】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体
または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂が
ある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を下層塗布層、または上層クリーニング層に使用
することも可能である。

【００４８】これらの例とその製造方法については特開
昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいも
のとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる
少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこ
れらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげら
れる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレ
タン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエ
ステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、
ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプ
ロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタン
など公知のものが使用できる。ここに示したすべての結
合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るために
は必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ
₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、
（以上につきＭは水素原子またはアルカリ金属塩基）、
−ＯＨ、−ＮＲ²、−Ｎ⁺Ｒ³（Ｒは炭化水素基）、エ
ポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、ホスホベ
タイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくと
もひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入し
たものを用いることが好ましい。このような極性基の量
は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜
１０^-6モル／ｇである。

【００４９】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製のＶＡＧＨ，Ｖ
ＹＨＨ，ＶＭＣＨ，ＶＡＧＦ，ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製のＭＰＲ−ＴＡ，ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ，
ＭＰＲ−ＴＭ，ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製の１００
０Ｗ，ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３，１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４，ＭＲ−１０
５，ＭＲ１１０，ＭＲ１００，４００Ｘ−１１０Ａ、日
本ポリウレタン社製のニッポランＮ２３０１，Ｎ２３０
２，Ｎ２３０４、大日本インキ社製のパンデックスＴ−
５１０５，Ｔ−Ｒ３０８０，Ｔ−５２０１，バーノック
Ｄ−４００，Ｄ−２１０−８０，クリスボン６１０９，
７２０９，東洋紡社製のバイロンＵＲ８２００，ＵＲ８
３００，ＵＲ８６００、大日精化社製のダイフェラミン
４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，
９０２２，７０２０、三菱化学社製のＭＸ５００４、三
洋化成社製のサンプレンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００
３，ＴＩＭ−３００５、旭化成社製のサランＦ３１０，
Ｆ２１０などがあげられる。この中でＭＲ−１０４，Ｍ
Ｒ１１０，ＭＰＲ−ＴＡＯ，ＭＰＲ−ＴＡ，ＵＲ−８２
００，ＵＲ８３００，ＴＩＭ−３００５が好ましい。

【００５０】本発明のクリーニング層に用いられる結合
剤は強磁性粉末を含む無機粉末に対し、５〜２４重量％
の範囲、好ましくは８〜２２重量％の範囲で用いられ
る。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、
ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリ
イソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み
合わせて用いるのが好ましい。特に、上層にポリイソシ
アネートを含まず、下層にポリイソシアネートを含む構
成が望ましい。

【００５１】本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１
００〜２，０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／
ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好まし
い。

【００５２】本発明のクリーニング媒体は二層以上から
なる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル
系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、ある
いはそれ以外の樹脂の量、クリーニング層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層塗布層とクリーニング層と
で変えることはもちろん可能であり、公知技術を適用で
きる。

【００５３】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１・
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製のタケネートＤ
−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製のデス
モジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ルＮ
デスモジュ−ルＨＬ、大日本インキ社製のバーノックＤ
５０２等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利
用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層塗布層、上
層クリーニング層ともに用いることができる。

【００５４】本発明のクリーニング層にも下層塗布層と
同様にカーボンブラックを無機粉末として混合してもよ
く、このカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を
用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、
ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は
５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１
〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／cc、が好まし
い。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例
としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２
０００、１３００、１０００、９００、８００，７０
０、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８
０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社
製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃５，＃９００，＃９
５０，＃９７０，＃１０００、＃３０，＃４０、＃１０
Ｂ、コンロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０，４０，１５などがあ
げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理し
たり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部を
グラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カーボンブラックをクリーニング層用塗料に添加す
る前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これ
らのカーボンブラックは単独、または組合せで使用する
ことができる。

【００５５】カーボンブラックを使用する場合は強磁性
粉末に対する量の５重量％以下で用いることが好まし
い。カーボンブラックはクリーニング層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックはク
リーニング層、下層塗布層でその種類、量、組合せを変
え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示し
た諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。

【００５６】また、前記クリーニング層には無機粉末と
して研磨剤を含んでもよく、この研磨剤としては、α化
率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、モ
ース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用
される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤
を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。
これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含
まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果に
かわりはない。研磨剤の具体的な例としては、住友化学
社製のＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，Ｈ
ＩＴ−５０，ＨＩＴ−６０，ＨｉＴ−６０Ａ，ＨＩＴ−
７０Ａ，ＨＩＴ−８０，ＨＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１０
０、日本化学工業社製のＧ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業
社製のＴＦ−１００，ＴＦ−１４０などがあげられる。

【００５７】これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２
μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研
磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度
は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ＰＨは
２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。
本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコ
ロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するも
のがクリーニング性が高く好ましい。クリーニング層の
無機粉末としての研磨剤の配合量は、前記強磁性粉末１
００重量％に対して１〜４５重量％である。本発明に用
いられる研磨剤は前述の下層塗布層、上層クリーニング
層で種類、量および組合せを変え、目的に応じて使い分
けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあら
かじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加して
もかまわない。本発明のクリーニング媒体のクリーニン
グ層表面およびクリーニング層端面に存在する研磨剤は
５個／１００μｍ²以上が好ましい。

【００５８】本発明の下層塗布層またはクリーニング層
に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効
果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。
二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、
窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を
もつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シ
リコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステ
ル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、
フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金
属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、およ
び、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）また
は、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五
価、六価アルコ−ル（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキ
シアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六
価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、
また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸
エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エス
テル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテ
ルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、
炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。

【００５９】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オ
レイルアルコール、ラウリルアルコールがあげられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加
体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複
素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオ
ン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫
酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニ
オン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、ア
ミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキル
ベダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これら
の界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図
書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤
滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、
主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸
化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純
分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以
下である。

【００６０】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層塗布層、クリーニング層でその種類、量を
必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層塗布
層、クリーニング層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へ
のにじみ出しを制御するか、沸点や極性の異なるエステ
ル類を用い表面へのにじみ出しを制御するか、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させるか、潤
滑剤の添加量を下層塗布層で多くして潤滑効果を向上さ
せることなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限
られるものではない。

【００６１】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、塗料製造のどの工程で添加してもかま
わない。例えば、混練工程前に無機粉末と混合する場
合、無機粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する
場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場
合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に
応じてクリーニング層を塗布した後、同時または逐次塗
布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目
的が達成される場合がある。また、目的によってはカレ
ンダー処理した後、またはスリット終了後、クリーニン
グ層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００６２】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製のＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４，カチオンＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーン
Ｌ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２，ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト，ブ
チルラウレート，エルカ酸、関東化学社製のオレイン
酸、竹本油脂社製のＦＡＬ−２０５，ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製のエヌジェルブＬＯ，エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０、信越化学社製のＴＡ−
３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６Ｌ，ＫＦ９６Ｈ，ＫＦ４１
０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，Ｋ
Ｆ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１９，
Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９
３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−
２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１
０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ
−９１０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製のア
ーマイドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライ
オン油脂社製のデュオミンＴＤＯ、日清製油社製のＢＡ
−４１Ｇ、三洋化成社製のプロファン２０１２Ｅ，ニュ
ーポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネッ
トＭＯ−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネット
ＤＳ−３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネット
ＤＯ−２００などが挙げられる。

【００６３】本発明の下層塗布層およびクリーニング層
で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロ
フラン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコ
ール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢
酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエス
テル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノ
エチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル
系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン
等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれても
かまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、
さらに好ましくは１０％以下である。

【００６４】本発明で用いる有機溶媒はクリーニング層
と下層塗布層でその種類は同じであることが好ましい
が、その添加量は変えてもかまわない。下層塗布層に表
面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンな
ど）を用い塗布の安定性を向上するのが好ましく、具体
的にはクリーニング層の溶剤組成の算術平均値が下層塗
布層の溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要で
ある。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い
方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５〜２０の溶
剤が５０重量％以上含まれることが好ましい。また、溶
解パラメ−タは８〜１１であることが好ましい。

【００６５】本発明のクリーニング媒体の厚み構成は、
非磁性支持体が２．０〜１０μｍと薄いもので有効であ
る。クリーニング層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁
性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられ
る。また、非磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上
のための接着層を設けてもよい。この接着層の厚みは
０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍで
ある。また、非磁性支持体のクリーニング層側と反対側
にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは
０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍであ
る。これらの接着層、バックコート層は公知のものが使
用できる。

【００６６】本発明に用いられる非磁性支持体は、マイ
クロビッカース硬度が７５kg／mm²以上のものであり、
二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾ
ールなどの公知のフィルムが使用できる。特に、アラミ
ド樹脂、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレ
フタレートを用いた非磁性支持体が好ましい。これらの
非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても良
い。

【００６７】本発明の目的を達成するには、非磁性支持
体のクリーニング層を塗布する面の中心線平均表面粗さ
Ｒａが０．５〜７ｎｍのものを使用する必要がある。ま
た、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが
小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないこと
が好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて非磁性
支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由に
コントロールされるものである。これらのフィラーとし
ては、Ａｌ，Ｃａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で
結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラミン系
などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性との
両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗さはク
リーニング層を塗布する面の粗さより粗いことが好まし
い。バック層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは１ｎ
ｍ以上、更に好ましくは４ｎｍ以上である。クリーニン
グ層塗布面とバック層塗布面との粗さを変える場合に
は、デュアル構成の支持体を用いても良いし、コーティ
ング層を設けることによって変えても構わない。

【００６８】本発明に用いられる非磁性支持体のテ−プ
走行方向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０ｋｇ／ｍｍ
²、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ²であり、テ−プの長手方向のＦ−５値がテ−
プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に
幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向および幅方向
の１００℃×３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃×３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜３，０００Ｋｇ／ｍｍ
²、が好ましい。また、本発明での９００nmでの光透過
率は３０％以下が好ましく、更に好ましくは３％以下で
ある。

【００６９】本発明のクリーニング媒体の下層塗布層お
よびクリーニング層の塗料を製造する工程は、少なくと
も混練工程、分散工程およびこれらの工程の前後に必要
に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞ
れ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使
用する強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、
個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、
分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入して
もよい。

【００７０】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することが好
ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強
磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結
合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１６６３３８
号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。ま
た、下層塗布層の非磁性層液を調整する場合には高比重
の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビ
ーズが好適である。

【００７１】本発明のような重層構成のクリーニング媒
体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を
提案できる。

【００７２】１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられる
グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストル
ージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、
下層塗布層がまだ湿潤状態にある内に、特公平１−４６
１８６号、特開昭６０−２３８１７９号、特開平２−２
６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストル
ージョン塗布装置により上層クリーニング層を塗布す
る。

【００７３】２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２
−１７９７１号、特開平２−２６５６７２号に開示され
ているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの
塗布ヘッドにより下層塗布層とクリーニング層をほぼ同
時に塗布する。

【００７４】３．特開平２−１７４９６５号に開示され
ているバックアップロール付きエクストルージョン塗布
装置により下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗
布する。

【００７５】なお、磁性粒子の凝集を防止するため、特
開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に
開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布
液にせん断力を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１号に開示され
ている数値範囲を満足する必要がある。

【００７６】本発明のクリーニング媒体を得るためにク
リーニング層の強磁性粉末の配向処理を行っても良い。
この配向は、１，０００Ｇ以上の磁力をもつソレノイド
と、２，０００Ｇ以上の磁力をもつコバルト磁石を同極
対向で併用して行うことが好ましく、さらには乾燥後の
配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工
程を設けることが好ましい。

【００７７】また、非磁性の下層塗布層とクリーニング
層を同時重層塗布する以前に、ポリマーを主成分とする
接着層を設けることや、コロナ放電、ＵＶ照射、ＥＢ照
射することにより接着性を高める公知の手法を組み合わ
せることが好ましい。

【００７８】さらに、必要に応じて、表面粗さを調整す
るためにカレンダ処理を行うことができる。カレンダ処
理ロ−ルとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを
使用することができる。また、金属ロール同志で処理す
ることもできる。処理温度は好ましくは１５〜５０℃、
線圧力は好ましくは５〜１００ｋｇ／ｍ、速度は５０〜
４００ｍ／分である。

【００７９】本発明のクリーニング媒体のクリーニング
層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係
数は、好ましくは０．１〜０．５、さらに好ましくは
０．２〜０．３である。表面固有抵抗は好ましくは１０
⁴〜１０¹²オ−ム／ｓｑ、クリーニング層の０．５％伸
びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００
〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好ましくは１〜
３０Ｋｇ／ｃｍ²、クリーニング媒体の弾性率は走行方
向、長い方向とも好ましくは１００〜１，５００Ｋｇ／
ｍｍ²、残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃
以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましく
は０．１％以下で、０％が理想である。クリーニング層
のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が
好ましく、下層塗布層のそれは０℃〜１００℃が好まし
い。損失弾性率は１×１０⁸〜８×１０⁹dyne／cm²の
範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であ
ることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が
でやすい。クリーニング層中に含まれる残留溶媒は好ま
しくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍ
ｇ／ｍ²以下であり、上層クリーニング層に含まれる残
留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほう
が好ましい。空隙率は下層塗布層、クリーニング層とも
好ましくは５０容量％以下、さらに好ましくは４０容量
％以下である。

【００８０】本発明のクリーニング媒体のクリーニング
層の磁気特性は、前述のように磁場１０ｋOeでＶＳＭで
測定した場合、テープ走行方向の抗磁力Ｈｃは５００〜
３０００Oeである。角型比は０．６〜０．９８であり、
好ましくは０．８０以上であり、さらに好ましくは０．
８５以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の
角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好
ましい。クリーニング層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましく、更に好ましくは０．５以下、理想的には
０である。長手方向のレマネンス抗磁力Ｈｒも１８００
〜３０００Oeが好ましい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１
０００〜５０００Oeであることが好ましい。さらに、ク
リーニング層の中心線表面粗さＲａは１〜１０ｎｍが好
ましいが、その値は目的により適宜設定されるべきであ
る。。ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲ_RMS
は２〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。

【００８１】本発明のクリーニング媒体は下層塗布層と
クリーニング層を有するが、目的に応じ下層塗布層とク
リーニング層でこれらの物理特性を変えることができる
のは容易に推定されることである。例えば、クリーニン
グ層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に
下層塗布層の弾性率をクリーニング層より低くしてクリ
ーニング媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッド当
たりを改良することが本発明においても有効であり、テ
ープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズした支
持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多い。

【００８２】

【実施例】次に本発明の実施例、比較例により具体的に
本発明を説明する。実施例中、「部」との表示は「重量
部」を表す。

【００８３】＜実施例１＞［下層塗布層用塗布液組成］非磁性粉末 αＦｅ₂Ｏ₃（ヘマタイト）８０部長軸長０．１５μｍＢＥＴ法による比表面積５２ｍ²／ｇｐＨ８タップ密度０．８ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｇ／１００ｇ表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂ カーボンブラック２０部平均一次粒子径１６ｍμ ＤＢＰ吸油量８０ｍｌ／１００ｇｐＨ８．０ＢＥＴ法による比表面積２５０ｍ²／ｇ揮発分１．５％塩化ビニル系共重合体１２部日本ゼオン製ＭＲ−１１０ポリエステルポリウレタン樹脂５部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．２μｍ）１部ブチルステアレート１部ステアリン酸１部メチルエチルケトン１００部シクロヘキサノン５０部トルエン５０部［クリーニング層用塗布液組成］強磁性金属微粉末（Ｆｅ／Ｃｏ＝７０／３０）１００部Ｈｃ２２００Oe ＢＥＴ法による比表面積５９ｍ²／ｇ結晶子サイズ１７０Ａ表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，Ｙ₂Ｏ₃ 粒子サイズ（長軸径）０．０８μｍ針状比８ σs １３７ｅｍｕ／ｇポリエステルポリウレタン樹脂１２部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．１５μｍ）５部カーボンブラック（平均粒径０．０８μｍ）０．５部ブチルステアレート１部ステアリン酸５部メチルエチルケトン９０部シクロヘキサノン３０部トルエン６０部上記の塗料のそれぞれについて、各成分をオープンニー
ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン
社製コロネートＬ）を下層塗布層用の塗布液には５部加
え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの平均孔径を有す
るフィルターを用いて濾過し、下層塗布層、クリーニン
グ層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。

【００８４】得られた下層塗布層用の塗布液を、乾燥後
の厚さが１．５μｍになるように、さらにその直後にそ
の上に、クリーニング層用の塗布液を乾燥後の厚さが
０．２μｍになるように、厚さ６．５μｍでクリーニン
グ層塗布面の中心線表面粗さが２ｎｍのポリエチレンナ
フタレート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ
湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁力をもつコバルト
磁石と１５００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向さ
せ乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールから構成さ
れる７段のカレンダで温度４０℃にて分速２００ｍ／ｍ
ｉｎで処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層
を塗布した。これを、８mmの幅にスリットし、８mmビデ
オ用クリーニングテープを作成した。

【００８５】＜実施例２＞この実施例は、クリーニング
層の厚みを０．１μｍと薄くしたもので、その他は実施
例１と同様にして試料を作成した。

【００８６】＜実施例３＞この実施例は、クリーニング
層の厚みを０．９μｍと厚くしたもので、その他は実施
例１と同様にして試料を作成した。

【００８７】＜比較例１＞この比較例は、更にクリーニ
ング層の厚みを１．１μｍと厚くしたもので、その他は
実施例１と同様にして試料を作成した。

【００８８】＜比較例２＞この比較例は、クリーニング
層の強磁性体に対し、実施例１の配向装置の代わりに、
磁性体をランダマイズさせる配向処理を実施したもの
で、その他は実施例１と同様にして試料を作成した。

【００８９】＜実施例４＞この実施例は、クリーニング
層の強磁性体に対し、実施例１の配向装置のソレノイド
を動作させず、かつコバルト磁石をとり外して無配向と
したもので、その他は実施例１と同様にして試料を作成
した。

【００９０】＜比較例３＞この比較例は、実施例１にお
ける下層塗布層の非磁性無機粉末を、α−ヘマタイトか
ら下記の強磁性粉末へ変更したもので、その他は実施例
１と全く同様にして試料を作成した。

【００９１】強磁性粉末（Ｃｏ変性γ酸化鉄）１００部Ｈｃ７５０Oe ＢＥＴ法による比表面積４２ｍ²／ｇ結晶子サイズ２２０Ａ表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂ 粒子サイズ（長軸径）０．２６μｍ針状比１０ σs ７２ｅｍｕ／ｇ＜比較例４＞この比較例は、下層塗布層を有しないで、
実施例１のクリーニング層だけを支持体上に塗布したも
ので、その他は実施例１と同様にして試料を作成した。

【００９２】＜実施例５＞この実施例は、実施例１の下
層塗布層における非磁性無機粉末を、α−ヘマタイトか
ら下記のルチルＴｉＯ₂へ変更したもので、その他は実
施例１と同様にして試料を作成した。

【００９３】非磁性無機粉末（ＴｉＯ₂結晶系ルチル）平均一次粒子径０．０３５μｍＢＥＴ法による比表面積４０ｍ²／ｇＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇｐＨ７．５ＴｉＯ₂含有量９０％以上＜比較例５＞この比較例は、クリーニング層を有さず、
下層塗布層は実施例５のルチルＴｉＯ₂を使用したもの
で、その他は実施例１と同様にして試料を作成した。

【００９４】＜比較例６＞この比較例は、クリーニング
層の無機粉末を強磁性体粉末に代えて研磨剤としての下
記のα−アルミナを使用したもので、その他は実施例１
と同様にして試料を作成した。

【００９５】研磨剤（α−アルミナ住友化学製ＨＩＴ−５５）比表面積８．３ｍ²／ｇ遠心沈降径０．４２μｍモース硬度９上記のような各実施例および比較例のようなクリーニン
グ媒体の試料におけるそれぞれのクリーニング層、下層
塗布層の厚み、粉末種類および角型比を求めた結果を表
１〜表３に示す。また、各試料によるクリーニングテス
トを行った結果としてのヘッド磨耗量、ヘッドクリーニ
ング力、蒸着テープ互換性（ＭＥ互換性）を同様に示
す。

【００９６】ここに、各測定値の測定方法を示す。

【００９７】（クリーニング層、下層塗布層の厚み測定
方法）クリーニング媒体の長手方向に渡ってダイアモン
ドカッターで約０．１μｍの厚みに切り出し、透過型電
子顕微鏡で倍率３万倍で観察し、その写真撮影を行っ
た。写真のプリントサイズはＡ４版である。

【００９８】その後、クリーニング層、下層塗布層の強
磁性粉末や非磁性粉末の形状差に着目して界面を目視判
断して黒く縁どり、かつクリーニング層表面も同様に黒
く縁どった。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢ
ＡＳ２にて縁どりした線の間隔を測定した。試料写真の
長さが２１ｃｍの範囲に渡り、測定点を点取って測定し
た。その際の測定値の単純加算平均値をクリーニング
層、下層塗布層の厚みとした。

【００９９】（ＢＥＴ法による比表面積）カンターソー
プ（ＵＳカンタークロム社製）を用いた。２５０℃，３
０分間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３
０）で測定した。

【０１００】（磁気特性）抗磁力Ｈｃ、残留磁束密度Ｂ
ｒ、角型比、磁化量等の測定は、振動試料型磁束計（東
英工業社製）を用い、外部磁場Ｈｍ１０ｋOeで測定し、
磁化曲線に基づき求める。最大磁束密度Ｂｍは上記クリ
ーニング層厚み測定方法により求めた。

【０１０１】（中心線平均表面粗さ）ＷＹＫＯ社製ＴＯ
ＰＯ３Ｄを用いて、媒体表面をＭＩＲＡＵ法で約２５０
μｍ×２５０μｍの面積のＲａを測定した。測定波長は
約６５０ｎｍで球面補正、円筒補正を加えている。本方
式は光干渉にて測定する非接触の表面粗さ計である。

【０１０２】（強磁性粉末、非磁性粉末の粒子径）透過
型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から強磁性粉末の
短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画像解析装置カ
ールツァイス社製ＩＢＡＳＳ１で透過型顕微鏡写真をト
レースして読みとる方法とを適宜併用して平均粒子径を
求めた。

【０１０３】（強磁性粉末結晶子サイズ）Ｘ線回折によ
りγ酸化鉄強磁性粉末では（４，４，０）面と（２，
２，０）面の回折線の半値幅の広がり分から求めた。メ
タル強磁性粉末の場合は同様に（１，１，０）面と
（２，２，０）面の回折線の半値幅の広がり分から求め
られる。

【０１０４】（ヘッド摩耗）Ｈｉ−８デッキＥＶ−Ｓ９
００を用いて、２３℃×７０％ＲＨで１０分間、当該ク
リーニングテープを走行させ、その前後のヘッド高さを
測定して、１分間当たりのヘッド摩耗を算出した。

【０１０５】（ヘッドクリーニング力）予め、富士写真
フイルム社製Ｈｉ−８スーパーＤＣＰ６−１２０を用
いて、ＥＶ−Ｓ９００で出力を測定しておく。その後、
目詰まりを起こさせることを目的に作成した標準テープ
をそのＥＶ−Ｓ９００で走行させ、ストロボでヘッド状
態を観察して、ヘッドに汚れが多くついた時点で走行を
止めて出力が皆無であることを確認する。その後、試料
の各クリーニングテープを１分間走行させた後に、事前
に記録した富士写真フイルム社製Ｈｉ−８スーパーＤＣ
Ｐ６−１２０の出力を測定して、最初に測定した出力
と最後に測定した出力の差ｄＢをヘッドクリーニング力
の評価とした。

【０１０６】（蒸着テープとメタルテープ互換性）予
め、前記Ｈｉ−８デッキＥＶ−Ｓ９００を用いて、偏摩
耗を起こしやすいメタルテープ（富士写真フイルム社製
のサンプルテープ）を５℃×８０％ＲＨの環境で２時間
以上走行させておく。その後、ソニー社製Ｈｉ−８ＭＥ
Ｅ６−１２０に７．４ＭＨｚのＲＦ信号を記録、再生
し、その平坦度が８０％以下であることを確認する。そ
の後、試料の各クリーニングテープを１分間走行させ、
再び、ソニー社製Ｈｉ−８ＭＥＥ６−１２０に７．４
ＭＨｚ信号を記録、再生してエンベロープ平坦度を測定
する。

【０１０７】（エンベロープ平坦度）再生エンベロープ
中の、最も出力の大きい箇所で最も出力の小さい箇所を
除して％表示したものである。

【０１０８】

【表１】

【０１０９】

【表２】

【０１１０】

【表３】

【０１１１】上記表によれば、比較例１はクリーニング
層の厚みが大きいことで、クリーニング後の磁気ヘッド
先端形状が鋭くならずにＭＥ互換性が低くなっている。
比較例２は磁性体の配向がランダムで角型比が低くな
り、ヘッド磨耗が大きくなっている。比較例３は下層塗
布層に磁性粉末を含むことで、クリーニング媒体のヤン
グ率の等方性が得られずＭＥ互換性が低くなっている。

【０１１２】また、比較例４は下層塗布層がなく厚いク
リーニング層を有することで、ヘッド磨耗が大きくＭＥ
互換性が低い。比較例５は逆にクリーニング層がなく、
磁性体を含まないことでクリーニング力が不足する。比
較例６は研磨剤のみによる研磨テープであって、ヘッド
磨耗が過大となっている。

【０１１３】これらに対して、本発明の実施例１〜５で
はヘッド磨耗が過大とならずに、良好なクリーニング力
と、ＭＥ互換性を有し、磁気ヘッドのクリーニング媒体
として好適な結果が得られている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高野博昭神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号富士写真フイルム株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に、主として非磁性無機
粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少な
くとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリ
ーニング層を設けてなり、前記クリーニング層の厚みが０．０５〜１．０μｍであ
るとともに、角型比が０．６〜０．９８であることを特
徴とする磁気記録装置用クリーニング媒体。
【請求項２】前記クリーニング層に含まれる無機粉末
は、モース硬度６以上の研磨剤を強磁性粉末１００重量
％に対して１〜４５重量％含有することを特徴とする請
求項１に記載の磁気記録装置用クリーニング媒体。
【請求項３】前記クリーニング層に含まれる強磁性粉
末は、Ｆｅを主成分とし、Ｆｅに対しＣｏを２〜４０重
量％含有し、そのクリーニング媒体の磁化量が０．０３
〜０．３ガウス・ｃｍであることを特徴とする請求項１
に記載の磁気記録装置用クリーニング媒体。
【請求項４】前記下層塗布層と前記クリーニング層
が、下層塗布層が湿潤状態にある内に、その上にクリー
ニング層を塗布するウェットオンウェット塗布方式で形
成されたことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録装
置用クリーニング媒体。