JPH0652566B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0652566B2 JPH0652566B2 JP8719687A JP8719687A JPH0652566B2 JP H0652566 B2 JPH0652566 B2 JP H0652566B2 JP 8719687 A JP8719687 A JP 8719687A JP 8719687 A JP8719687 A JP 8719687A JP H0652566 B2 JPH0652566 B2 JP H0652566B2
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- JP
- Japan
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- magnetic layer
- magnetic
- recording medium
- magnetic recording
- fine particles
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/733—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the addition of non-magnetic particles
- G11B5/7334—Base layer characterised by composition or structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体、特に、高密度記録に適し、走
行耐久性が改良された磁気記録媒体に関する。
行耐久性が改良された磁気記録媒体に関する。
近年、開発が進められてきている高密度記録用磁気記録
媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆ
る間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高
度なものとすることが要求される。この目的のために
は、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗
布、表面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向
上させることが必要であると同時に、支持体の表面性を
向上させることもまた必要となる。とくに、記録密度が
高くなるにともない記録波長が小となることにより、厚
み損失を逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされ
てきている。それにより、支持体の表面性が磁性層の表
面性に与える影響はますます大となってきている。
媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆ
る間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高
度なものとすることが要求される。この目的のために
は、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗
布、表面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向
上させることが必要であると同時に、支持体の表面性を
向上させることもまた必要となる。とくに、記録密度が
高くなるにともない記録波長が小となることにより、厚
み損失を逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされ
てきている。それにより、支持体の表面性が磁性層の表
面性に与える影響はますます大となってきている。
最近、さらに高密度記録を実現させるために、蒸着、ス
パッタリング等により、Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｆｅ
−Ｎ等の強磁性金属薄膜を設けた磁気記録媒体も開発さ
れつつあるが、磁性層が塗布型の磁性層にくらべてはる
かに薄いので上記の問題はさらに増大している。
パッタリング等により、Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｆｅ
−Ｎ等の強磁性金属薄膜を設けた磁気記録媒体も開発さ
れつつあるが、磁性層が塗布型の磁性層にくらべてはる
かに薄いので上記の問題はさらに増大している。
しかしながら磁気記録媒体に使用される支持体の表面性
を向上させることは下記の理由から限界がある。つま
り、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性
が良いと搬送ローラーに対する摩擦抵抗が大となり、し
ばしば蛇行を起こしたり、シワが生じたりする。またフ
ィルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にユ
ガミが生じたりもする。
を向上させることは下記の理由から限界がある。つま
り、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性
が良いと搬送ローラーに対する摩擦抵抗が大となり、し
ばしば蛇行を起こしたり、シワが生じたりする。またフ
ィルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にユ
ガミが生じたりもする。
前期の背反する問題点の解決のために、これまでに種々
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５には、支持体上には熱可塑性樹脂の微粒子を突
出させ、その后溶剤にて溶解除去しその表面に磁性層を
形成する方法が記載されている。
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５には、支持体上には熱可塑性樹脂の微粒子を突
出させ、その后溶剤にて溶解除去しその表面に磁性層を
形成する方法が記載されている。
また、特公昭４６−１４５５５には、支持体上にポリア
ミド、ポリエステル等のポリマー溶液を塗布、乾燥させ
て、微小しわを形成し、その表面に磁性層を形成する方
法が記載されている。特公昭４７−６１１７には、支持
体上に塗布するポリマーとして、ポリエステル等を使っ
て、また特公昭５０−３８００１には、熱可塑性ポリエ
ステル等を使って、特公昭４６−１４５５５と同じよう
に表面に微小しわを形成し、その表面に磁性層を形成す
る方法が記載されている。
ミド、ポリエステル等のポリマー溶液を塗布、乾燥させ
て、微小しわを形成し、その表面に磁性層を形成する方
法が記載されている。特公昭４７−６１１７には、支持
体上に塗布するポリマーとして、ポリエステル等を使っ
て、また特公昭５０−３８００１には、熱可塑性ポリエ
ステル等を使って、特公昭４６−１４５５５と同じよう
に表面に微小しわを形成し、その表面に磁性層を形成す
る方法が記載されている。
しかし、上述の４つの方法のいずれも、高密度記録用磁
気記録媒体としての満足すべき特性を安定的に賦与しう
るにはいたっていない。
気記録媒体としての満足すべき特性を安定的に賦与しう
るにはいたっていない。
本出願人は先に、上記問題を解決するために、放射線に
より重合可能な化合物と微粒子とを含有する非磁性層を
支持体上に設け、紫外線照射した下塗層に磁性層を設け
た磁気記録媒体を提案した（特開昭６０−２５１５１０
号公報）。
より重合可能な化合物と微粒子とを含有する非磁性層を
支持体上に設け、紫外線照射した下塗層に磁性層を設け
た磁気記録媒体を提案した（特開昭６０−２５１５１０
号公報）。
上記提案によって磁性層の表面性と耐久性にかなりの改
良が見られたが、その走行耐久性が十分とは云えず、ま
た下塗層（非磁性層）を設けた支持体の耐熱性に問題が
あり、特に支持体両面に蒸着、スパッタリング等によっ
て金属薄膜を形成する場合に両面に下塗層を形成し、一
方の面に蒸着、スパッタリング等によって磁性層を設け
る場合にバック面の下塗層が基板やキャンの表面にはり
付くという問題がある。また、この問題は塗布により磁
性層を両面に設ける場合にも、磁性層を乾燥後カレーダ
ロールによって表面処理する場合にバック面の下塗層
（非磁性層）に生ずる。
良が見られたが、その走行耐久性が十分とは云えず、ま
た下塗層（非磁性層）を設けた支持体の耐熱性に問題が
あり、特に支持体両面に蒸着、スパッタリング等によっ
て金属薄膜を形成する場合に両面に下塗層を形成し、一
方の面に蒸着、スパッタリング等によって磁性層を設け
る場合にバック面の下塗層が基板やキャンの表面にはり
付くという問題がある。また、この問題は塗布により磁
性層を両面に設ける場合にも、磁性層を乾燥後カレーダ
ロールによって表面処理する場合にバック面の下塗層
（非磁性層）に生ずる。
従って、本発明の目的は走行耐久性が改良された磁気記
録媒体を提供することにある。
録媒体を提供することにある。
本発明の他の目的は支持体の耐熱変形性を改良し、支持
体の両面に磁性層を設ける場合基板やロール等にはり付
きを生じない下塗層を提供することにある。
体の両面に磁性層を設ける場合基板やロール等にはり付
きを生じない下塗層を提供することにある。
本発明者らは上記の目的を達成するために、下塗層（非
磁性層）の放射線により重合可能な化合物と、微粒子に
ついて種々検討を重ね、同化合物として、トリアジン環
を有する（メタ）アクリレート化合物、微粒子として、
径が１８〜１０００ｍμのシリカ（ＳｉＯ２）の微粒子
を用いた場合、その目的を達成し得ることを見出した。
しかしながら、シリカを固体粒子として用いる場合には
分散しにくく、塗布液を作るのが困難であるか著しく時
間がかかったが、シリカゾルの状態で用いることによ
り、短時間で均一に分布でき、上記目的を達し得ること
を見出し、本発明を達成した。
磁性層）の放射線により重合可能な化合物と、微粒子に
ついて種々検討を重ね、同化合物として、トリアジン環
を有する（メタ）アクリレート化合物、微粒子として、
径が１８〜１０００ｍμのシリカ（ＳｉＯ２）の微粒子
を用いた場合、その目的を達成し得ることを見出した。
しかしながら、シリカを固体粒子として用いる場合には
分散しにくく、塗布液を作るのが困難であるか著しく時
間がかかったが、シリカゾルの状態で用いることによ
り、短時間で均一に分布でき、上記目的を達し得ること
を見出し、本発明を達成した。
すなわち、本発明は非磁性支持体と磁性層との中間に結
合剤と微粒子とを含有する非磁性層を設け、該非磁性層
が放射線により照射されている磁気記録媒体において、
該微粒子がシリカゾルから導入された微粒子であり且つ
該結合剤の４５重量％以上がトリアジン環を有する（メ
タ）アクリレート化合物であることを特徴とする磁気記
録媒体である。
合剤と微粒子とを含有する非磁性層を設け、該非磁性層
が放射線により照射されている磁気記録媒体において、
該微粒子がシリカゾルから導入された微粒子であり且つ
該結合剤の４５重量％以上がトリアジン環を有する（メ
タ）アクリレート化合物であることを特徴とする磁気記
録媒体である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は後記する如き、蒸着、スパッタリング等による
強磁性金沿薄膜型の磁気記録媒体に適用することが好ま
しいが、塗布型の磁気記録媒体にも適用することができ
る。
強磁性金沿薄膜型の磁気記録媒体に適用することが好ま
しいが、塗布型の磁気記録媒体にも適用することができ
る。
本発明の非磁性層（下塗層）に使用される結合剤のう
ち、放射線照射により重合可能な化合物はトリアジン環
を含む（メタ）アクリレート化合物であって、例えば、
トリス（２−アクリロイロキシエチル）インシアヌレー
ト、 が好ましい。
ち、放射線照射により重合可能な化合物はトリアジン環
を含む（メタ）アクリレート化合物であって、例えば、
トリス（２−アクリロイロキシエチル）インシアヌレー
ト、 が好ましい。
上記化合物の添加量は全結合剤に対し４５重量％以上で
あり、７０重量％以上が好ましい。４５重量％より少な
い場合には、塗布後はりつきが生じ易く、また十分な走
行耐久性が得られない。
あり、７０重量％以上が好ましい。４５重量％より少な
い場合には、塗布後はりつきが生じ易く、また十分な走
行耐久性が得られない。
上記化合物は単独で用いても２種以上用いてもよく、さ
らにまた他の共重合性化合物例えば、ウレタン（メタ）
アクリレート、オリゴエスル（メタ）アクリレート、エ
ポキシ（メタ）アクリレート、スチレン、塩化ビニル、
塩化ビニリデンジエチレングリコールジアクリレート、
ヘキサメチレンシアクリレート等と共に用いることがで
きる。
らにまた他の共重合性化合物例えば、ウレタン（メタ）
アクリレート、オリゴエスル（メタ）アクリレート、エ
ポキシ（メタ）アクリレート、スチレン、塩化ビニル、
塩化ビニリデンジエチレングリコールジアクリレート、
ヘキサメチレンシアクリレート等と共に用いることがで
きる。
本発明で用いる上記放射線により重合可能な化合物はさ
らに他の結合剤と共に用いることができ、これらの結合
剤としては、例えば塩ビ酢ビ系共重合体、セルロース系
樹脂、アセタール系樹脂、塩ビ−塩化ビニリデン系樹
脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン樹脂
等の熱可塑性樹脂の如き従来の磁気記録媒体の結合剤と
して用いられているものを用いることができる。
らに他の結合剤と共に用いることができ、これらの結合
剤としては、例えば塩ビ酢ビ系共重合体、セルロース系
樹脂、アセタール系樹脂、塩ビ−塩化ビニリデン系樹
脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン樹脂
等の熱可塑性樹脂の如き従来の磁気記録媒体の結合剤と
して用いられているものを用いることができる。
本発明に用いられる微粒子としては、シリカゾル（ここ
ではシリカゾルとは、有機溶媒中に不定形の無水ケイ酸
（シリカ）微粒子が分散されたものをいう）から導入さ
れるシリカ微粒子が用いられる。シリカ粒子の径として
は１８〜１０００ｍμ、好ましくは３０〜１６０ｍμで
ある。このように微細なシリカは、前記したように固体
粉末としてはバインダー塗布液に分散しにくいが、例え
ばメタノール、イソプロピルアルコール、トルエン等中
の分散液の如きシリカゾル（たとえば、商品名「ＯＳＣ
ＡＬ」、触媒化成工業(株)製）として用いると分散性が
良く、均一な塗布液が得られる。下塗層（非磁性層）と
して塗布後乾燥して溶媒を除くと均一に分散したシリカ
微粒子となる（本発明では、このような微粒子をシリカ
ゾルから導入される微粒子と称する）。
ではシリカゾルとは、有機溶媒中に不定形の無水ケイ酸
（シリカ）微粒子が分散されたものをいう）から導入さ
れるシリカ微粒子が用いられる。シリカ粒子の径として
は１８〜１０００ｍμ、好ましくは３０〜１６０ｍμで
ある。このように微細なシリカは、前記したように固体
粉末としてはバインダー塗布液に分散しにくいが、例え
ばメタノール、イソプロピルアルコール、トルエン等中
の分散液の如きシリカゾル（たとえば、商品名「ＯＳＣ
ＡＬ」、触媒化成工業(株)製）として用いると分散性が
良く、均一な塗布液が得られる。下塗層（非磁性層）と
して塗布後乾燥して溶媒を除くと均一に分散したシリカ
微粒子となる（本発明では、このような微粒子をシリカ
ゾルから導入される微粒子と称する）。
シリカ微粉末（乾燥されたもの）の非磁性層における含
有量はバインダー全量の０．０４〜２０重量％、好まし
くは１〜１２重量％である。
有量はバインダー全量の０．０４〜２０重量％、好まし
くは１〜１２重量％である。
本発明では、上記バインダーとシリカゾルを有機溶媒を
用いて分散調合し、支持体に塗布する。
用いて分散調合し、支持体に塗布する。
本発明の分散、調合、塗布の際に使用する有機溶媒とし
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケントン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸
エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステ
ル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコ
ールジメチルエーテル、グリーコールモノエチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレン
などのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサ
ン等のものが使用できる。
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケントン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸
エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステ
ル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコ
ールジメチルエーテル、グリーコールモノエチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレン
などのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサ
ン等のものが使用できる。
本発明の支持体の素材としては、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート等のポリ
エステル類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオ
レフィン類、セルローストリアセテート等のセルロース
誘導体、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド等のプラスチック、さらにアルミニウム、またはそ
の合金、銅、ガラス、セラミックス等が用いられる。
レート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート等のポリ
エステル類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオ
レフィン類、セルローストリアセテート等のセルロース
誘導体、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド等のプラスチック、さらにアルミニウム、またはそ
の合金、銅、ガラス、セラミックス等が用いられる。
上記のように支持体に非磁性層を塗布した後に乾燥し、
次いで放射線を照射して前記化合物を重合させる。
次いで放射線を照射して前記化合物を重合させる。
放射線としては電子線加速器による電子線や紫外線を用
いることができる。
いることができる。
電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャ
ニング方式あるいはカーテンビーム方式ブロードビーム
カーテン方式などが採用できる。
ニング方式あるいはカーテンビーム方式ブロードビーム
カーテン方式などが採用できる。
電子線特性としては、加速電圧が１００〜1000ｋＶ、好
ましくは１５０〜３００ｋＶであり、吸収線量として
１．０〜２メガラッド、好ましくは２〜１０メガラッド
である。加速電圧が１００ｋＶ以下の場合は、エネルギ
ーの透過量が不足し1000ｋＶを超えると重合に使われる
エネルギー効率が低下し経済的でない。吸収線量とし
て、１．０メガラッド以下では硬化反応が不充分で非磁
性層強度が得られず、２０メガラッド以上になると、硬
化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照射体
が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するので好
ましくない。
ましくは１５０〜３００ｋＶであり、吸収線量として
１．０〜２メガラッド、好ましくは２〜１０メガラッド
である。加速電圧が１００ｋＶ以下の場合は、エネルギ
ーの透過量が不足し1000ｋＶを超えると重合に使われる
エネルギー効率が低下し経済的でない。吸収線量とし
て、１．０メガラッド以下では硬化反応が不充分で非磁
性層強度が得られず、２０メガラッド以上になると、硬
化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照射体
が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するので好
ましくない。
なお、放射線として紫外線を用いる場合には、光重合開
始剤として、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケター
ル、ベンジルエチルケタール等の芳香族ケトン族を添加
する。添加量はバインダに対して１〜１０重量％であ
る。
始剤として、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケター
ル、ベンジルエチルケタール等の芳香族ケトン族を添加
する。添加量はバインダに対して１〜１０重量％であ
る。
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２
０〜２００Ｗ／cmのランプを用い、速度０．３ｍ／分〜
２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般
に１〜３０cmであることが好ましい。
０〜２００Ｗ／cmのランプを用い、速度０．３ｍ／分〜
２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般
に１〜３０cmであることが好ましい。
上記のようにして形成された非磁性層上に蒸着、スパッ
タリング等によって強磁金属薄膜からなる磁性層を設け
るか、強磁性微粉末バインダー中に分散した磁性層を塗
設する。
タリング等によって強磁金属薄膜からなる磁性層を設け
るか、強磁性微粉末バインダー中に分散した磁性層を塗
設する。
本発明に適用される磁性金属薄膜の形成法は真空槽内で
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であるこ
と、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有
する真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽内
で形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中にお
いて析出させようとする物質またはその化合物を蒸気あ
るいはイオン化した蒸気として基体となる支持体上に析
出させる方法で真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、化学気相メッキ法等がこれに相当す
る。
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であるこ
と、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有
する真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽内
で形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中にお
いて析出させようとする物質またはその化合物を蒸気あ
るいはイオン化した蒸気として基体となる支持体上に析
出させる方法で真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、化学気相メッキ法等がこれに相当す
る。
さらに本発明において磁気記録層となるべき強磁性金属
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−
Ｓｉ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｂ、Ｃｏ−Ｓｉ、
Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｃｅ、Ｃｏ−
Ｐｒ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ａｇ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｎａ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｗ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｒｅ、Ｃｏ−Ｓｍ−Ｃｕ等の強磁性合金を真
空槽内で膜を形成する方法あるいはメッキ法によって薄
膜状に形成せしめたもので、その膜厚は磁気記録媒体と
して使用する場合０．０５μｍ〜２μｍの範囲であり特
に０．１μｍ〜０．４μｍが好ましい。
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−
Ｓｉ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｂ、Ｃｏ−Ｓｉ、
Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｃｅ、Ｃｏ−
Ｐｒ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ａｇ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｎａ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｗ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｒｅ、Ｃｏ−Ｓｍ−Ｃｕ等の強磁性合金を真
空槽内で膜を形成する方法あるいはメッキ法によって薄
膜状に形成せしめたもので、その膜厚は磁気記録媒体と
して使用する場合０．０５μｍ〜２μｍの範囲であり特
に０．１μｍ〜０．４μｍが好ましい。
本発明で塗布型の磁性層に用いられる強磁性粉末として
は、強磁性酸化鉄微粉末、Ｃｏドープの強磁性酸化鉄微
粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末バリ
ウムフェライトなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸
化クロムの針状比は２／１〜２０／１程度、好ましくは
５／１以上平均長は０．２〜２．０μｍ程度の範囲が有
効である。強磁性合金粉末は金属分が７５ｗｔ％以上で
あり、金属分の８０ｗｔ％以上が強磁性金属（即ち、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ）で長径が役１．０μｍ以下の粒
子である。
は、強磁性酸化鉄微粉末、Ｃｏドープの強磁性酸化鉄微
粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末バリ
ウムフェライトなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸
化クロムの針状比は２／１〜２０／１程度、好ましくは
５／１以上平均長は０．２〜２．０μｍ程度の範囲が有
効である。強磁性合金粉末は金属分が７５ｗｔ％以上で
あり、金属分の８０ｗｔ％以上が強磁性金属（即ち、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ）で長径が役１．０μｍ以下の粒
子である。
磁性層のバインダーとしては、一般に用いられる熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂又はこれらの混合物
が使用できる。
性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂又はこれらの混合物
が使用できる。
これらを塗布するに用いる溶媒としては、非磁性層を塗
布するに用いた前記溶媒から適宜選択して用いることが
できる。
布するに用いた前記溶媒から適宜選択して用いることが
できる。
また、本発明の磁性塗液には、潤滑剤、研磨剤、分散
剤、帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。
剤、帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。
なお、本発明の非磁性層及び磁性層は支持体の片面に設
けてもよいし、また両面に設けてもよい。
けてもよいし、また両面に設けてもよい。
以下、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例 １ ５０μｍ厚のポリイミドベースの両面に次に示す処方の
塗布液をそれぞれ乾燥厚が０．７μｍになるように塗布
乾燥し、８０Ｗ／cmの水銀灯を用いＵＶ照射を各面に３
秒間づつ行い硬化させた。
塗布液をそれぞれ乾燥厚が０．７μｍになるように塗布
乾燥し、８０Ｗ／cmの水銀灯を用いＵＶ照射を各面に３
秒間づつ行い硬化させた。
成分 (A) トリス（２アクリロイロキシエチル）イソシアヌ
レート（メチルエチルケトン１０％溶液） Ｘ重量部 (B) ウレタンアクリレート分子量８０００ （メチルエチルケトン１０％溶液） Ｙ重量部 (C) シリカゾル 固形分１０％、平均粒径８０ｍμ イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン（１／１
VoLtt ）Ｚ重量部 (D) ベンジルエチルケタール ４重量部 得られたサンプル＃１〜＃６について、片方の非磁性層
上に次の方法でスパッタリングを行いＣｏ−Ｃｒの薄膜
磁性層を設け、スパッタリング中の基板へのサンプルの
バック面はり付け状態をテストした。
レート（メチルエチルケトン１０％溶液） Ｘ重量部 (B) ウレタンアクリレート分子量８０００ （メチルエチルケトン１０％溶液） Ｙ重量部 (C) シリカゾル 固形分１０％、平均粒径８０ｍμ イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン（１／１
VoLtt ）Ｚ重量部 (D) ベンジルエチルケタール ４重量部 得られたサンプル＃１〜＃６について、片方の非磁性層
上に次の方法でスパッタリングを行いＣｏ−Ｃｒの薄膜
磁性層を設け、スパッタリング中の基板へのサンプルの
バック面はり付け状態をテストした。
銅製の基板に上記下塗層を有するバック面を密着させて
サンプルをはり付け、真空槽内にセットし、３×１０-7
torrに排気した後に３×１０-3torrまでアルゴンを導入
した。基板温度を１７０℃に保ちながら、ＤＣマグネト
ロンスパッタ法でパワー密度３Ｗ／cm2にてＣｏ−Ｃｒ
膜を２０００Å厚に設けた。磁性膜形成後、サンプルの
基板へのはり付き具合をしらべた。次に得られたＣｏ−
Ｃｒ膜にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を５０〜１
００Å厚に塗布し、乾燥後、３．５吋のフロッピーディ
スに打ち抜き、走行耐久性テストを次のように行った。
すなわち、６００r.p.m.５００Hzの記録再生を最外周ト
ラックで行った。この場合、ヘッド圧２０ｇ、雰囲気２
３℃、５０％RHであった。
サンプルをはり付け、真空槽内にセットし、３×１０-7
torrに排気した後に３×１０-3torrまでアルゴンを導入
した。基板温度を１７０℃に保ちながら、ＤＣマグネト
ロンスパッタ法でパワー密度３Ｗ／cm2にてＣｏ−Ｃｒ
膜を２０００Å厚に設けた。磁性膜形成後、サンプルの
基板へのはり付き具合をしらべた。次に得られたＣｏ−
Ｃｒ膜にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を５０〜１
００Å厚に塗布し、乾燥後、３．５吋のフロッピーディ
スに打ち抜き、走行耐久性テストを次のように行った。
すなわち、６００r.p.m.５００Hzの記録再生を最外周ト
ラックで行った。この場合、ヘッド圧２０ｇ、雰囲気２
３℃、５０％RHであった。
得られた結果を次表に示した。
実施例２ 実施例１における（Ａ）成分を次のものに変え、（Ｃ）
成分を４重量部に変え、且つ（Ｄ）成分を添加せずに非
磁性層を乾燥厚０．７μｍになるように両面に塗布、乾
燥した。
成分を４重量部に変え、且つ（Ｄ）成分を添加せずに非
磁性層を乾燥厚０．７μｍになるように両面に塗布、乾
燥した。
次いで、各面にそれぞれ加速電圧１５０ｋＶ、ビーム電
流５ｍＡで５Ｍrad の電子線照射を行った。
流５ｍＡで５Ｍrad の電子線照射を行った。
得られたサンプリングについて、実施例１と同様にスパ
ッタリングによってＣｏ−Ｃｒ膜を形成し、はり付き具
合をしらべると共に、走行耐久性をしらべた。
ッタリングによってＣｏ−Ｃｒ膜を形成し、はり付き具
合をしらべると共に、走行耐久性をしらべた。
実施例３ 実施例１において、（Ａ）成分を次のものに変え且つ
（Ｃ）成分を１６重量部に変えて同様に非磁性層を乾燥
厚０．７μｍになるように両面に塗布、乾燥した。
（Ｃ）成分を１６重量部に変えて同様に非磁性層を乾燥
厚０．７μｍになるように両面に塗布、乾燥した。
次いで各面に実施例と同様ＵＶ照射を行い、片面にＣｏ
−Ｃｒ膜を同様にスパッタリングで設け、裏面のはり付
き具合とサンプルの走行耐久性をしらべ次の結果を得
た。
−Ｃｒ膜を同様にスパッタリングで設け、裏面のはり付
き具合とサンプルの走行耐久性をしらべ次の結果を得
た。
〔発明の効果〕 上記の各結果から明らかなように、本発明による非磁性
層（下塗層）を設けた磁気記録材料は走行耐久性に優
れ、且つ磁性層を設ける場合、バックの面の下塗層が基
体等へのはり付きを生ぜず、支持体の耐熱変形性が改良
されていることがわかる。
層（下塗層）を設けた磁気記録材料は走行耐久性に優
れ、且つ磁性層を設ける場合、バックの面の下塗層が基
体等へのはり付きを生ぜず、支持体の耐熱変形性が改良
されていることがわかる。
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性支持体と磁性層との中間に結合剤と
微粒子とを含有する非磁性層を設け、該非磁性層が放射
線により照射されている磁気記録媒体において、該微粒
子がシリカゾルから導入された微粒子であり且つ該結合
剤の４５重量％以上がトリアジン環を有する（メタ）ア
クリレート化合物であることを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8719687A JPH0652566B2 (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 磁気記録媒体 |
| US07/433,399 US4943479A (en) | 1987-04-10 | 1989-11-07 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8719687A JPH0652566B2 (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63253526A JPS63253526A (ja) | 1988-10-20 |
| JPH0652566B2 true JPH0652566B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=13908227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8719687A Expired - Lifetime JPH0652566B2 (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4943479A (ja) |
| JP (1) | JPH0652566B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3843442A1 (de) * | 1988-12-23 | 1990-06-28 | Basf Ag | Magnetische aufzeichnungstraeger |
| US5645917A (en) * | 1991-04-25 | 1997-07-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US5827600A (en) * | 1991-01-21 | 1998-10-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US5639546A (en) * | 1991-09-03 | 1997-06-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated article having improved adhesion to organic coatings |
| EP0962917B1 (en) * | 1992-01-08 | 2003-10-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| EP0562395A1 (de) * | 1992-03-25 | 1993-09-29 | Bayer Ag | Magnetisches Aufzeichnungssystem zur Herstellung von Computer-Festspeicherplatten |
| US6579592B1 (en) | 1996-11-29 | 2003-06-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd | Magnetic recording tape with controlled Hc and magnetic flux/unit area value and controlled Cl/Fe intensity |
| KR20010029493A (ko) | 1997-02-10 | 2001-04-06 | 무네유키 가코우 | 자기기록매체 |
| US6432503B2 (en) | 1997-03-31 | 2002-08-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| EP0889464B1 (en) | 1997-06-30 | 2003-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6096406A (en) * | 1997-07-15 | 2000-08-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPH11185240A (ja) | 1997-10-14 | 1999-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US6444290B1 (en) | 1998-06-11 | 2002-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium comprising a support containing a specific size filler and having a specific concentration of surface protrusions |
| JP2000011352A (ja) | 1998-06-22 | 2000-01-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US6572922B1 (en) | 2000-07-25 | 2003-06-03 | Seagate Technology Llc | Eliminating gel particle-related defects for obtaining sub-micron flyability over sol-gel—coated disk substrates |
| US7026371B2 (en) * | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
| JP4119704B2 (ja) | 2002-07-31 | 2008-07-16 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6098520A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS60109020A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US4619856A (en) * | 1984-05-28 | 1986-10-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPS6151620A (ja) * | 1984-08-21 | 1986-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0715736B2 (ja) * | 1985-02-21 | 1995-02-22 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| DE3609261C2 (de) * | 1985-03-19 | 1997-03-06 | Tdk Corp | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
-
1987
- 1987-04-10 JP JP8719687A patent/JPH0652566B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-07 US US07/433,399 patent/US4943479A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63253526A (ja) | 1988-10-20 |
| US4943479A (en) | 1990-07-24 |
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