JPH0673172B2

JPH0673172B2 - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0673172B2
Application number: JP60179163A
Authority: JP
Inventors: 正俊中山; 国博上田
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1985-08-14
Filing date: 1985-08-14
Publication date: 1994-09-14
Anticipated expiration: 2009-09-14
Also published as: JPS6238522A

Description

【発明の詳細な説明】Ｉ発明の背景技術分野本発明は、磁気記録媒体に関する。さらに詳しくは、耐
久性、耐スクラッチ性等の改善のため、所定のプラズマ
重合膜を下地層膜として有する磁気記録媒体に関する。

先行技術とその問題点非磁性基板上に、γ−Fe₂O₃、Co被着γ−Fe₂O₃等の酸化
物系磁性粉と結合剤とを主体とする磁性層を形成した磁
気記録媒体が出現してすでに久しい。

また、最近では、記録密度をさらに向上する目的で、F
e、Co、Ni、Fe−Co、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Co−
Ｂ、Fe−Co−Cr−Ｂ、Mn−Bi、Mn−Al、Fe−Co−Ｖ等の
強磁性粉と結合剤等からなる塗布膜を磁性層とする磁気
記録媒体が一般に多く用いられている。

これらの磁気記録媒体においては、特に磁気テープおよ
び磁気ディスクの用途では、摩擦係数が小さく、円滑で
安定な走行性を示すこと、耐摩耗性に優れ、長時間にわ
たって安定走行を行いうること、置かれた環境条件に対
して安定でいつでも確実な再生ができること、耐久性お
よび耐スクラッチ性のあること等が強く求められる。

従来より、耐久性および耐スクラッチ性を改善する目的
で基板に対し、種々の前処理が行われてきた。

そして、前処理としては、薬液処理、コーティング処
理、コロナ放電処理等がある。

しかしながら、これらの中でコロナ処理では十分な効果
が上がらない。

また、薬液処理、コーティング処理では、処理工程が煩
雑であり、しかも処理に要するコストが高いという問題
がある。

このような実状から、本研究者らは、基板に対するプラ
ズマ処理を提案している（特願昭59−107178号等）。

プラズマ処理法は、一工程のみから成り、ドライプロセ
スであるので乾燥、廃液処理が必要でなく、バインダー
等の原材料を消費しないという利点がある。さらに、プ
ラズマ処理法は、高速での連続生産が可能であるため、
磁気記録媒体製造工程に容易に組み込むことができ、そ
の生産性を阻害しない。

このようなプラズマ処理法は、一般に、空気、酸素、窒
素、水素、ヘリウム、アルゴン等を処理ガスとして用い
る。

これらプラズマ処理によれば、基板と磁性層との接着力
が向上し、耐久性が向上する。

しかしながら、磁気記録媒体の耐久性および対スクラッ
チ性に関する要求は厳しく、より一層の改善が要望され
ている。

II 発明の目的本発明の目的は、耐久性および耐スクラッチ性が格段と
向上した磁気記録媒体を提供することにある。

III 発明の開示このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち、第１の発明は、基板上に、ＣとＨとＮまたは
ＮおよびＯとを含み、Ｃの含有量が30〜90at％であり原
子比でC/Hが1/6〜１、N/Cが1/20〜3/10、O/Nが０〜3/10
である膜厚５〜80Åのプラズマ重合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは下地層を介し
て、磁性塗料を塗布して磁性層を設けたことを特徴とす
る磁気記録媒体である。

第２の発明は、プラズマ処理した基板上に、ＣとＨとＮ
またはＮおよびＯとを含み、Ｃの含有量が30〜90at％で
あり原子比でC/Hが1/6〜１、N/Cが1/20〜3/10、O/Nが０
〜3/10である膜厚５〜80Åのプラズマ重合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは下地層を介し
て、磁性塗料を塗布して磁性層を設けたことを特徴とす
る磁気記録媒体である。

IV 発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。

本発明のプラズマ重合膜は、Ｃと、Ｈと、ＮまたはＮ＋
Ｏとを含有する。

原料ガスとしては、通常操作性の良いことから、常温で
気体のメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、
エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、アセチレ
ン、メチルアセチレン、その他の飽和ないし不飽和の炭
化水素の１種以上を用いるが、必要に応じて常温で液体
の炭化水素を原料としてもよい。

このような炭化水素の１種以上にH₂、O₂、O₃、H₂O、
N₂、NO、N₂O、NO₂などのNO_X、NH₃、CO、CO₂等の１種以
上を加えたものを原料ガスとして用いて前記のＣ＋Ｈ＋
ＮやＣ＋Ｈ＋Ｎ＋Ｏの組成を実現する。

さらに必要に応じて、原料にSi、Ｂ、Ｐ、Ｓ等のソース
を微量成分として添加することもできる。

このような原料を用いて形成されるプラズマ重合膜の膜
厚は５〜80Åである。

この膜厚が80Åをこえると、成膜時の内部応力が膜中に
残留し、膜自体の強度が低下し、しかもプラズマ重合膜
自体が硬いためフレキシブルな媒体としての耐久性に劣
り、磁気記録媒体として実用に耐えない。

また、５Å未満であると、本発明の実効がなくなる。

なお、膜厚の測定は、エリプソメーター等を用いればよ
い。

このような膜厚の制御は、プラズマ重合膜形成時の反応
時間、原料ガス流量等を制御すればよい。

プラズマ重合膜は、前述の原料ガスの放電プラズマを基
板に接触させることにより重合膜を形成するものであ
る。

プラズマ重合の原理について概説すると、気体を低圧に
保ち電場を作用させると、気体中に少量存在する自由電
子は、常圧に比べ分子間距離が非常に大きいため、電界
加速を受け５〜10eVの運動エネルギー（電子温度）を獲
得する。

この加速電子が原子や分子に衝突すると、原子軌道や分
子軌道を分断し、これらを電子、イオン、中性ラジカル
など、通常の状態では不安定の化学種に解離させる。

解離した電子は再び電界加速を受けて、別の原子や分子
を解離させるが、この連鎖作用で気体はたちまち高度の
電離状態となる。そしてこれはプラズマガスと呼ばれて
いる。

気体分子は電子との衝突の機会が少ないのでエネルギー
をあまり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。

このように、電子の運動エネルギー（電子温度）と、分
子の熱運動（ガス温度）が分離した系は低温プラズマと
呼ばれ、ここでは化学種が比較的原型を保ったまま重合
等の加成的化学反応を進めうる状況を創出しており、本
発明はこの状況を利用して基板上にプラズマ重合膜を形
成しようとするものである。なお低温プラズマを利用す
るため、基板への熱影響は全くない。

基板表面にプラズマ重合膜を形成する装置例が第１図に
示してある。第１図は、周波数可変型の電源を用いたプ
ラズマ重合装置である。

第１図において、反応容器Ｒには、原料ガス源511また
は512から原料ガスがそれぞれマスフローコントローラ5
21および522を経て供給される。ガス源511または512か
ら別々のガスを供給する場合は、混合器53において混合
して供給する。

原料ガスは、各々１〜250ml/分の流量範囲をとりうる。

反応容器Ｒ内には、基板支持装置が装置され、ここでは
磁気テープ用の基板の処理を目的として、繰出しロール
561と巻取りロール562が示してある。

磁気記録媒体の形態に応じて様々の支持装置が使用で
き、例えば載置式の回転支持体装置も使用されうる。

基板を間に挟んで対向する電極551、552が設けられてお
り、一方の電極551は例えば周波数可変型の電源54に接
続され、他方の電極552は接地されている。

さらに、反応容器Ｒ内には、容器内を排気するための真
空系統が配備され、そしてこれは液体窒素トラップ57、
油回転ポンプ58および真空コントローラ59を含む。これ
ら真空系統は反応容器内を0.01〜10Torrの真空度の範囲
に維持する。

操作においては、反応容器Ｒ内がまず10^-3Torr以下にな
るまで油回転ポンプにより容器内を排気し、その後原料
ガスが所定の流量において容器内に混合状態で供給され
る。

このとき、反応容器内の真空は0.01〜10Torrの範囲に管
理される。

基板の移行速度ならびに原料ガスの流量が安定すると、
電源がオンにされる。こうして、移行中の基板にプラズ
マ重合膜が形成される。

また、キャリアガスとして、Ar,N₂,He,H₂などを使用し
てもよい。

なお、印加電流、処理時間等は通常の条件とすればよ
い。

プラズマ発生源としては、高周波数放電の他に、マイク
ロ波放電、直流放電、交流放電等いずれでも利用でき
る。

このように形成されるプラズマ重合膜は、前述したよう
に、Ｃ＋Ｈ＋ＮまたはＣ＋Ｈ＋Ｎ＋Ｏを含有しており、
Ｃの含有量はプラズマ重合膜中に30〜90at％である。

Ｃの含有量が30at％未満であると、プラズマ重合膜の膜
強度が低下し、実用に耐えない。

また、Ｃに加えて１種以上含有されるＨ、Ｎ、Ｏの含有
量は、水素と炭素の原子比（H/C比）が1/6〜１、窒素と
炭素の原子比（N/C比）が1/20〜３〜10、酸素と炭素の
原子比（O/C比）が3/10以下、特に1/20〜3/10の範囲で
ある。このようにＣに加えてＨとＮまたはＮ＋Ｏとを含
有させることによって耐スクラッチ性が向上する。

なお、プラズマ重合膜中のＣ、Ｈ、Ｎ、Ｏおよびその他
の元素の含有量の分析は、SIMS（２次イオン質量分析）
等に従えばよい。SIMSを用いる場合、本発明のプラズマ
重合膜は５〜80Åであるので、プラズマ重合膜表面に
て、Ｃ、Ｈ、Ｎ、Ｏおよびその他の元素をカウントして
算出すればよい。

あるいは、Ar等でイオンエッチングを行いながら、Ｃ、
Ｈ、Ｎ、Ｏおよびその他の元素のプロファイルを測定し
て算出してもよい。

SIMSの測定については、表面科学基礎講座第３巻（19
84）表面分析の基礎と応用（P70）“SIMSおよびLAMMA"
の記載に従えばよい。

このようなプラズム重合膜は、基板上、特にプラズマ処
理された基板上に形成されることが好ましい。

基板表面をプラズマ処理することによって、基板との接
着力が向上し、ひいてはこの基板とプラズマ重合膜との
接着力が向上する。

基板表面のプラズマ処理法の原理、方法および形成条件
等は前述したプラズマ重合法のそれと基本的には、ほぼ
同一である。

ただし、プラズマ処理は原則として、無機ガスを処理ガ
スとして用い、他方、前述したプラズマ重合法によるプ
ラズマ重合膜の形成には原則として、有機ガス（場合に
よっては無機ガスを混入させてもよい）を原料ガスとし
て用いる。

本発明のプラズマ処理ガスとしては、特に制限はない。
すなわち、H₂、Ar、He、O₂、N₂、空気等いずれであって
もよい。

このような中では、Ｏ、Ｎ、Ｈの１種以上を含む無機ガ
スを用いることが好ましい。

このような無機ガスとしては、N₂、H₂、NH₃、O₂、O₃、H
₂O、NO、N₂O、NO₂などのNO_X等の中から適宜選定し、こ
れらの単独ないし混合したものか、これらとAr、He、Ne
等とを混合したものが好適である。

さらに、プラズマ処理電源の周波数については、特に制
限はなく、直流、交流、マイクロ波等いずれであっても
よい。これらの中では、10KHz〜200KHzが特に好まし
い。

周波数10KHz〜200KHzでは、耐久性と接着強度がきわめ
て高くなる。

このように、より好ましい態様としてプラズマ処理され
た基板上には、前述のプラズマ重合膜が形成され、さら
にこの重合膜上には、直接あるいは下地層を介して、磁
性層が形成される。

そして、この磁性層は、磁性粒子、バインダー、そして
必要なその他の成分を含有する。

磁性粒子としては、金属磁性粒子、コバルト被着酸化鉄
粒子、γ−Fe₂O₃粒子、バリウムフェライト粒子、CrO₂
等が含まれていてもよい。

本発明に用いる金属磁性粒子は、１）α−FeOOH（Goethite），β−FeOOH（Akaganit
e），γ−FeOOH（Lepidocrocite）等のオキシ水酸化鉄
や；α−Fe₂O₃,γ−Fe₂O₃,Fe₃O₄,γ−Fe₂O₃−Fe₃O₄（固
溶体）等の酸化鉄や； Co,Mn,Ni,Ti,Bi,Bo,Ag等の金属の１つまたは２つ以上が
ドープされ、その表面にアルミニウム化合物またはケイ
素化合物を吸着、被着したものを、還元性ガス気流中で
加熱還元して、鉄または鉄を主成分とする磁性粉末を製
造する方法、２）金属塩水溶液よりNaBH₄により液相還元して作製す
る方法、３）あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。

金属磁性粒子の組成としては、Fe,Co,Niの単体および、
これらの合金、またはこれらの単体および合金に、Cr,M
n,Co,Ni、さらにはZn,Cu,Zr,Al,Ti,Bi,Ag,Pt等を添加し
た金属が使用できる。

また、これらの金属にB,C,Si,P,Nなどの非金属元素を少
量添加したものでも本発明の効果は失われない。

あるいは、Fe₄N等、一部窒化ないし炭化された金属磁性
粒子であってもよい。

さらに、金属磁性粒子は、粒子表面に酸化被膜を有する
ものであってもよい。

このような酸化被膜をもつ金属磁性粒子を用いた磁気記
録媒体は、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低
下、磁性層のサビの発生による特性劣化に有利である
が、磁性層の電気抵抗が上昇し、使用時の帯電によるト
ラブルを生じやすい。

金属磁性粒子は針状形態あるいは粒子形態のものを使用
し、磁気記録媒体として用いる用途によって選択され
る。磁気ディスクに使用する場合は針状形態のものが好
ましい。

また、γ−Fe₂O₃粒子としては、α−FeOOH（goethite）
を400℃以上で脱水してα−Fe₂O₃とし、H₂ガス中で350
℃以上で還元してFe₃O₄とし、さらに250℃以下で酸化し
て作製したものを用いればよい。

コバルト被着酸化鉄粒子としては、γ−Fe₂O₃粒子の表
面から数10Å以内のごく薄い層にCo²⁺を拡散させたもの
を用いればよい。

バリウムフェライトとしては、BaFe₁₂O₁₉等の六方晶バ
リウムフェライトやバリウムフェライトのBa、FEの一部
をCa、Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、In、Mn、Cu、Ge、
Nb、Zrその他の金属で置換したもの等が挙げられる。

バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。これらの方法
の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミックス
18（1983）No.10"などを参照することができる。

以上の磁性粒子は針状形態、粒子形態あるいは多面体状
のものを使用し、磁気記録媒体として用いる用途によっ
て選択される。

なお、磁性粒子は0.01〜１μｍ程度の粒径とする。

このような磁性粉末は、通常バインダー100重量部に対
し100〜900重量部含有される。

バインダーとしては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹
脂、反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。

放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いる場合、放射
線感応変性樹脂と放射線感応変性硬質樹脂を組合わせて
用いることが好ましい。

この両者の混合比率は、放射線感応変性樹脂と放射線感
応変性軟質樹脂が8:2より2:8の比率が特に望ましい。こ
こでいう放射線感応変性樹脂とは、放射線感応変性前の
状態での100Hzでの動的弾性率が20℃から60℃の温度範
囲で1.0×10⁹dyn/cm²以上を示すものが特に望ましい。

他方、放射線感応変性軟質樹脂は、溶剤可溶性エラスト
マーであり、合成ゴムとしてのゴム弾性、柔軟性、ポリ
エステル基体との接着性に優れた性質を有するエラスト
マーないしはそのプレポリマー、オリゴマー、テロマー
を意味し、100Hzでの動的弾性率が20℃から60℃での範
囲で1.0×10⁹dyn/cm²未満の力学的性質を示す。

これら熱可塑性樹脂溶剤可溶性エラストマーは、後に述
べるように放射線によりラジカルを生じ架橋構造を生ぜ
しめるべく放射線感応変性が施される。

また、放射線感応変性後のプラスチック成分とエストラ
マーないしはそのプロポリマー、オリゴマー、テロマー
は、磁性微粒子粉末分散の見地から相溶性がよいことが
望まれる。

このように放射線感応変性を施された樹脂成分とエラス
トマー成分を組合わせ、放射線照射により三次元網状構
造を形成させるバインダーを活用することは、オーディ
オ用、ビデオ用、メモリー、計測用等各種用途に活用さ
れる磁気記録媒体の電磁変換特性はもとより、磁性塗膜
に要求される各種物性、例えば硬さ、柔軟性、耐摩耗
性、適度の摩擦係数とスティックスリップ現象がない
事、表面成型性、ベースとの接着性弾性率、以上の各種
物性の低温度から高温度、低湿度から高湿度にわたる種
々の環境条件下での安定性を保持する上できわめて効果
的である。

本発明で使用する放射線感応変性に有効な熱可塑性樹脂
としては、次のようなものを挙げることができる。

（１）塩化ビニル系共重合体塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロプオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイン酸共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−末端OH側鎖アルキル基共
重合体、例えばUCC社製VROH、VYNC、VYBGX、VERR、VYE
S、VMCA、VAGH等が挙げられ、このものに特開昭56−124
119号等の手法により、アクリル系二重結合、マレイン
酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応
変性を行う。

特に、放射線感応変性塩化ビニル系共重合体を20Mrad以
下の低線量で使用するときには、その反応機構は明確で
はないが、アクリル系二重結合等に放射線官能基より生
ずるラジカル反応以外に放射線照射による何らかの反応
によりラジカルを発生し、架橋構造を形成し、磁気記録
媒体用バインダーとして有効であることを確認した。

（２）飽和ポリエステル樹脂フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2−プロピレングリコール、
1,3−ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4−
ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグ
リコール、1,4−シクロヘキサンジメタノールのような
多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和ポ
リエステル樹脂、またはこれらのポリエステル樹脂をSO
₃Na等で変性した樹脂（例えばバイロン53S）が例として
挙げられ、これらも同様にして放射線感応変性を行う。

（３）不飽和ポリエステル樹脂分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第２項の熱可塑製樹脂として記
載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合からなる
飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン酸と
した放射線硬化性不法和二重結合を含有する不飽和ポリ
エステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げること
ができる。

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第１項に記載した各化合物を挙げることができ、
放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、フマ
ル酸等を挙げることができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分１種以上と、多価アルコール成分１種以上にマレ
イン酸、フマル酸等を加え、常法、すなわち触媒存在下
180〜200℃窒素雰囲気下脱水、あるいは脱アルコール反
応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mmHgの減圧下縮
合反応によりポリエステル樹脂を得ることができる。マ
レイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射
線硬化性等から酸成分中１〜40モル％で好ましくは10〜
30モル％である。

（４）ポリビニルアルコール系樹脂ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸機に対し、特開昭56−1241
19号等の手法により放射線感応変性を行う。

（５）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン、メチルエピク
ロルヘドリンの反応によりエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピコート152、154、828、100
1、1004、1007）、ダウケミカル製（DEM431、DER732、D
ER511、DER331）、大日本インキ製（エピクロン400、80
0）、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製
フェノキシ樹脂（PKHA、PKHC、PKHH）、臭素化ビスフェ
ノールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本イ
ンキ化学工業製（エピクロン145、152、153、1120）等
があり、またこれらにカルボン酸基を含有するものも含
まれる。

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感
応変性を行う。

（６）繊維素誘導体各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセテトブチレート、エチルセルロー
ス、ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適で
ある樹脂中の水酸基を活用して公知の方法により放射線
感応変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、他官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（PVPオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも１種含むアクリル系樹脂等も
有効である。

（７）ポリエーテル樹脂その例としては、水酸基を１個以上含有する化合物とし
ては、アデカポリエーテルＰ−700、アデカポリエーテ
ルＰ−1000、アデカポリエーテルＧ−1500（以上、旭電
化社製）、ポリメグ1000、ポリメグ650（以上、クォー
カーコーツ社製）等の多官能性ポリエーテル類。

（８）ポリカプロラクトンその例としては、ポリカプロラクトンPCP−2000、ポリ
カプロラクトンPCP−0240、ポリカプロラクトンPCP−03
00（以上、チッ素社製）等の多官能ポリエステル類。

その他、熱可塑性プラスチックとしては、ポリエーテル
エステル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体
（PVPオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水
酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエス
テルを、少なくとも１種以上重合成分として含むアクリ
ル系樹脂等も本発明の目的に対して有効であり、かつ放
射線感応変性により、さらにその効果を発揮させること
ができる。

他方、放射線感応変性可塑性樹脂と組合せるべき放射線
感応変性熱可塑性エラストマーまたはプレポリマーは、
下記のとおりである。

ｉ）ポリウレタンエラストマーおよびプレポリマーおよ
びテロマー熱可塑性エラストマーの系統としては、磁気記録媒体に
要求される磁性塗膜の耐摩耗性、PEPフィルムとの接着
性、磁性材粒子との湿潤性のバランスが優れている点
で、特にウレタン系化合物は本発明目的に適する。

このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トル
エンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネー
ト、1,4−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレン
ジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、
ｐ−フェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−
4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビ
フェニレンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イ
ソフォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート、デスモジュールＬ、デスモジュール
Ｎ等の各種多価イソシアネートと、網状飽和ポリエステ
ル（エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリ
セリン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソ
ルビトール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘ
キサンジメタノール、のような多価アルコールと、フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と
の縮重合によるもの）、網状飽和ポリエーテル（ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテ
トラエチレングリコール）やカプロラクタム、ヒドロキ
シ含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ含有メタアクリ
ル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重合物よりな
るポリウレタンエラストマー、プレポリマー、テロマー
が有効である。

これらのエラストマーを、前記放射線感応変性各種熱可
塑性プラスチックとそのまま組合せてもよいが、さらに
上記ウレタンエラストマーの末端のイソシアネート基、
または水酸基と反応するアクリル系二重結合、アリル系
二重結合を有する単量体と反応させることにより、放射
線感応性に変性することは非常に効果的である。

ii）アクリルニトリル−ブタジエン共重合体エラストマ
ーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリクイッドレンジ
として市販されている末端水酸基のあるアクリルニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー1432j等のエラストマーは、特にブタジ
エン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ、架橋
および重合させるエラストマー成分として適する。

iii）ポリブタジエンエラストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリクイッドレジン
Ｒ−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマー
が、特に熱可塑性プラスチックとの相溶性、磁性粉との
親和性の上で好適である。

Ｒ−15プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基とな
っているため、分子末端をアクリル系不飽和二重結合を
付加することにより、放射線感応性を高めることが可能
であり、バインダーとしてさらに有利となる。

また、ポリブタジエンの環化物日本合成ゴム製CBR−M90
1も熱可塑性プラスチックとの組合わせにより優れた性
能を発揮する。

特に、環化されたポリブタジエンは、ポリブタジエン本
来の有する不飽和結合のラジカルによる放射線による架
橋重合の効率がよく、バインダーとして優れた性能を有
している。

その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、塩化ゴム、アクリルゴム、
イソブレンゴムおよびその環化物（日本合成ゴム製CIR7
01）、エポキシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエス
テル（東洋紡バイロン＃300）等のエラストマーの公知
の放射線感応変性処理を施すことにより、本発明に対し
て有効である。

前述の放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合
性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリ
ル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリ
ル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル型二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合
等の放射線照射による架橋、あるいは重合乾燥する基を
分子中に導入することである。

その他、放射線照射により、架橋重合する不飽和二重結
合であれば用いることができる。

さらに具体的な放射線感応変性の手法としては、A.分子
中に水酸基を２個以上有する上記の熱可塑性樹脂または
熱可塑性エラストマー、プレポリマー１分子中に１分子
以上のポリイソシアネート化合物のイソシアネート基を
反応させ、次に、イソシアネート基と反応する基、およ
び放射線硬化性を有する不飽和二重結合を有する単量体
１分子以上との反応物、例えば、ケン化された酢酸ビ共
重合体（UCC社製VAOH）の水酸基１個当りにトルエンジ
イソシアネート１分子を反応させ、その後、１分子の２
−ヒドロキシエチルメタクリレートを反応させてえた酢
酸ビ系共重合体樹脂に、アクリル系二重結合をペンダン
ト状に有する樹脂を挙げることができる。

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエン
ジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、
1,4−キシレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイ
ソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ートやデスモジュールＬ、デスモジュールIL（西ドイツ
バイエル社製）等がある。

イソシアネート基と反応する基、および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸ある
いはメタクリル酸の２−ヒドロキシエチルエステル、２
−ヒドロキシプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチ
ルエステル等、水酸基を有するエステル類；アクリルア
マイド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリル
アマイド等のイソシアネート基と反応する活性水素を持
ち、かつアクリル系二重結合を含有する単量体；さら
に、アリルアルコール、マレイン酸多価アルコールエス
テル化合物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノ
あるいはジグリセリド等のイソシアネート基と反応する
活性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する飽和二重結
合を含有する単量体も含まれる。

B.分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物１分子と、
エポキシ基と反応する基、および電子線硬化性不飽和二
重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例えば、
グリシジルメタクリルレートをラジカル重合させて得た
エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂に、アクリル酸を反
応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反応によ
り、分子中にアクリル系二重結合をペンダントさせた樹
脂、プレポリマーもしくはオリゴマー、またマレイン酸
を反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反応
により分子骨格中に放射線硬化性不飽和二重結合を有す
る樹脂プレポリマー、オリゴマーを挙げることができ
る。

ここで、分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物とし
ては、グリシジルアクリレート、グリシシルメタクリレ
ートのごときエポキシ基を含むアクリルエステル、ある
いはメタクリルエステルのホモポリマーあるいは他の重
合性モノマーとの共重合体として、先の熱可塑性樹脂
（５）項で述べた、エピコート828、エピコート1001、
エピコート1007、エピコート1009（以上シエル化学社
製）等、その他種々のタイプのエポキシ樹脂がある。

エポキシ基と反応する基、および放射線硬化製不飽和二
重結合を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸等のカルボキシル基を含有するアクリル系単量体、
メチルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタク
リレート等の第１級、もしくは第２級アミノ基を有する
アクリル単量体に加え、マレイン酸、フマル酸やクロト
ン酸、ウンデシレン酸等、放射線硬化性不飽和二重結合
を有する多塩基酸単量体も使用できる。

C.分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分子
と、カルボキシル基と反応する基および放射線硬化不飽
和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例え
ばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル基を
含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレートを反
応させ、第２項と同様に、カルボキシル基とエポキシ基
の開環反応により、分子中にアクリル系二重結合を導入
させた樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることが
できる。

分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物として
は、分子鎖中または分子末端にカルボキシル基を含む先
に述べた樹脂中のポリエステル類；アクリル酸、メタク
リル酸、無水マレイン酸、フマル酸等のラジカル重合性
を持ち、かつカルボキシル基を有する単量体のホモポリ
マーあるいは他の重合性モノマーとの共重合体等であ
る。

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としては、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート等がある。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量が10000〜200000、重合度が約200〜2000程度のもの
で、例えば塩化ビニル−酢酸ビニール共重合体（カルボン酸
導入のものも含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、
塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニール
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−ア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共重
合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、メタクリル酸エステル−塩化ビニルデン共重合体、
メタクリル酸エステル−ステレン共重合体、ウレタンエ
ラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロ
ース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリ
ロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニールブ
チラール、セルロース誘導体（セルロースアセテート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース
等）、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合
体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およ
びこれらの混合物が使用される。

熱硬化性樹脂また反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱する
ことにより、縮合、付加等の反応により分子量が無限大
のものとなる。また、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでのあいだに軟化または溶融しないものが好
ましい。

具体的には、例えばフェノー樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキ
ッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、アクリル系反
応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロース
メラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体と
ジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステル
ポリオールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルム
アルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオー
ル／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、
ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物である。

上述したようなバインダーの中で、耐久性および磁性層
との接着強度を向上させるには、特に放射線硬化性樹脂
を含有させることが好ましい。

このような放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いた
場合、磁性塗膜の架橋に使用する活性エネルギー線とし
ては、電子線加速器を線源とした電子線、Co 60を線源
としたγ−線、Sr 90を線源としたβ−線、Ｘ線発生器
を線源としたＸ線等が使用される。

特に、照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ラ
インへの導入、電離放射線のしゃ閉等の見地から電子線
加速器による電子線を使用する方法が有利である。

磁性塗膜を硬化する際に使用する電子線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜3
00KVの電子線加速器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラ
ッドになるように照射するのが好都合である。

特に、磁気テープの場合、硬化すべき塗膜層が小さいの
で、米国エナージーサイエンス社にて製造されている低
線量タイプの電子線加速器（エレクトロカーテンシステ
ム）等がテープコーティング加工ラインへの導入、加速
器内部の２次Ｘ線のしゃ閉等にきわめて有利である。

もちろん、従来より電子線加速材として広く活用されて
いるファンデグラフ型加速器を使用してもよい。

また、放射線架橋に際しては、H₂ガス、Heガス等の不活
性ガス気流中で放射線を記録媒体に照射することが重要
であり、磁性塗膜のように非常に磁性顔料充填度の高い
塗膜は、非常に多孔質となっている為に、空気中で放射
線を照射することは、バインダー成分の架橋に際し、放
射線照射により生じたO₃等の影響でポリマー中に生じた
ラジカルが有効に架橋反応に働くことを阻害する。

その影響は磁性層表面は当然として、多孔質のため塗膜
内部までバインダー架橋阻害の影響を受ける。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は特
に酸素濃度が最大で１％のN₂、He、CO₂等の不活性ガス
雰囲気に保つことが重要となる。

なお、磁性塗膜の硬化に際して、紫外線を用いる場合、
上述したような、放射線硬化性樹脂を含有するバインダ
ーの中には、光重合増感剤が加えられる。

この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシエン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができ
る。光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量％
の範囲が望ましい。

紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。

磁性層の塗布に際し、溶剤を使用する場合には、アセト
ンメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類、メタノール、エタノール、イソブロバノ
ール、ブタノール等のイソシアネート熱硬化では使用で
きなかったアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル結合を有するもの、ジメチルフォルム
アミド、ビニルピロリドン等の溶剤トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素の希釈剤ないし溶剤を用いる。

このような溶剤は、通常バインダー100重量部に対し、1
0〜10000重量部程度、特に100〜5000重量部用いればよ
い。

さらに加えて、バインダー中に通常使用される各種帯電
防止剤、潤滑剤、研磨剤、分散剤、塗膜強度添加剤を用
途に合わせて適宜活用することは有効である。

以上述べてきたような磁性粒子、バインダー、有機溶剤
等を含有する磁性層は、基板上に設けられたプラズマ重
合膜の上に直接あるいは下地層を介して形成される。

下地層としては、アルミニウム、銅、チタン、クロム等
の合金をイオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリ
ング等によって形成したものであってもよい。

また、樹脂を塗布してもよい。この場合、樹脂層中に微
粒子を含有させることもできる。

なお、本発明の磁気記録媒体に用いられる基板の材質し
ては、非磁性プラスチックであれば特に制限はないが、
通常は、ポリエチレンテレフタルート、ポリエチレン2,
6−ナフタレート等のポリエステル等を用いる。また、
その形状、寸法、厚さには制限はなく、用途に応じたも
のとすればよい。

Ｖ発明の具体的作用効果本発明の磁気記録媒体は、種々の用途に用いられ、有用
である。

本発明によれば、より好ましい態様としてプラズマ処理
された基板上に所定の組成膜厚５〜80Åのプラズマ重合
膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは下
地層を介して塗布膜からなる磁性層を形成して磁気記録
媒体が構成される。

そのため、基板と磁性層との接着強度が向上し、さらに
は媒体としての耐久性および耐スクラッチ性が格段と向
上する。

この耐スクラッチ性向上の結果、粉（磁性粉）落ち量が
大巾に減少するというメリットが生じる。

VI 発明の具体的実施例以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレート（PET）製の
基板を真空チャンバ中に入れ、連続搬送しながら、一旦
10^-3Torrの真空に引いた後、処理ガスとしてO₂、キャリ
アガスとしてArを用い、O₂含有量:10％、流量:50ml/分
にてガス圧0.1Torrに保ちながら100KHzの高周波電圧を
かけてプラズマを発生させ、基板表面をプラズマ処理し
た。

その後、さらに下記の条件にてプラズマ重合膜を基板上
に形成した。

これらのプラズマ重合膜の元素分析はSIMSで測定し、ま
た膜厚はエリプソメーターにて測定した。結果を表１に
示す。

このように形成されたプラズマ重合膜上に下記に示され
る磁性層を形成した。

（磁性層の形成）磁性層１コバルト被着γ−Fe₂O₃ （長軸0.4μｍ、短軸0.005μｍ、Hc 600 Oe） 120重量部カーボンブラック（帯電防止用、三菱カーボンブラック MA−600）５重量部 α−Al₂O₃粉末（0.5μｍ粒状）２重量部分散剤（大豆精製レシチン）３重量部溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、針状磁性
酸化鉄を分散剤によりよく湿潤させる。

アクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂 10重量部
（固形分換算）アクリル二重結合導入塩酸ビ共重合体10重量部（固形分
換算）アクリル二重稀有合導入ポリエーテルウレタンラストマ
ー 10重量部（固形分換算）溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 200重量部潤滑剤（高級脂肪酸変性シリコーンオイル）３重量部上記バインダーの混合物をよく混合溶解させる。

これを先の磁性粉処理を行ったボールミル中に投入し、
再び42時間混合分散させる。

このようにして得られた磁性塗料を上記のPETフィルム
上に塗布し、永久磁石（1600ガウス）上で配向させ、赤
外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後、表面
平滑化処理後、ESI社製エレクトロカーテンタイプ電子
線加速装置を使用して、加速電圧150KeV、電極電流20m
A、全照射量10Mradの条件でN₂雰囲気下にて電子線を照
射し、塗膜を硬化させた。

磁性層２ Fe合金針状磁性粉（長軸0.3μｍ、短軸0.04μｍ、Hc 1100 Oe） 120重量部分散剤（オレイン酸）２重量部溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 100重量部上記組成物を強力ミキサーにて３時間混合し、磁性合金
粉末を分散剤によりよく湿潤させる。

次に、アクリル二重結合導入ブチラール樹脂18重量部（固形分
換算）アクリル二重混合導入ウレタンエラストマー 12重量部
（固形分換算）溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 200重量部潤滑剤（高級脂肪酸）３重量部の混合物をよく混合溶解させる。

これを先の磁性分処理物と高速ミキサーにより、１時間
十分混合し、サンドグランドミルを用いて４時間混合分
散を行った。

このようにして得られた磁性塗料を上記のPETフィルム
状に塗布し、磁場配向、溶剤乾燥、表面平滑化処理後、
エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、
加速電圧150KeV、電極電流20mA、全照射量5Mradの条件
でN₂ガス雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させ
た。

磁性層３ γ−Fe₂O₃（長軸0.8μｍ、短軸0.2μｍ、Hc300Oe） 120
重量部カーボンブラック（帯電防止用、三菱カーボンブラック
MA−600） α−Al₂O₃粉末（0.5μｍ粒状）２重量部分散剤（ソルビタンモノオレエート）３重量部溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、磁性酸化
鉄を分散剤によりよく湿潤させる。アクリル二重結合導
入エポキシ樹脂 15重量部アクリル二重結合導入ポリブタジエンエラストマー 15重量部溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 200重量部潤滑剤３重量部（フッ素オイルデュポン製クライトックス）の混合物を
よく混合溶解させる。

これを先の磁性分処理を行ったボールミル中に投入し、
再び42時間混合分散させる。

このようにして得られた磁性塗料を、上記のPETフィル
ム上に塗布乾燥を行い、次いで表面平滑化処理を施した
後、エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用し
て、加速電圧175KeV、電極電流15mA、全照射量2Mradの
条件でN₂ガス雰囲気下で電子線を照射し、塗膜を硬化さ
せた。

磁性層４ Fe合金針状磁性粉（長軸0.3μｍ、短軸0.04μｍ、Hc 1
100 Oe） 120重量部分散剤（オレイン酸）２重量部溶剤（メチルエチルケトン／トルエン 50/50） 100重量部上記組成物を強力ミキサーにて３時間混合し、磁性合金
鉄粉末を分散剤によりよく湿潤させる。

次に、ポリビニルブチラール樹脂（セキスイ化学製BMS） 15重量部 B.F.Goodrich社製熱可塑性ウレタンエステン5715 15重量部溶剤（メチルエチルケトン） 200重量部潤滑剤（高級脂肪酸変性シリコンオイル）３重量部これを先の磁性粉処理物と高級ミキサーにより１時間十
分混合し、サンドグラインドミルを用いて４時間混合分
散を行った。

分散後、磁性塗料中のバインダーの水酸基を主体とした
官能基と反応し、架橋結合し得るイソシアネート化合物
（バイエル社製デスモジュールＬ）を５重量部（固形分
換算）上記サンドグラインドミル仕込塗料に20分混合を
行った。

磁性塗料を上記のPETフィルム状に塗布し、磁場配向、
溶剤乾燥、表面平滑化処理後、80℃に保持した熱処理炉
中で48時間保持し、熱硬化を行った。

磁性層５ Fe−Co金属粉 100重量部研磨剤（Al₂O₃）３重量部ニトロセルロース６重量部エポキシ樹脂４重量部（商品名エピコート1004）ポリウレタン 10重量部（商品名ニッポサン5033）溶剤 250重量部上記組成物をサウンドミルにて５時間分散させ、イソシ
アネート（コロネートＬ）４重量部を加え、磁性配向処
理を施しながら、上記のPETフィルムに塗布し、従来方
式にしたがいビデオテープを作成した。

磁性層６平均粒径0.08μｍ、平均厚み0.008μｍ、平均板状比10
をもつ六方晶系バリウムフェライト（BaFe₁₂O₁₉のBa、F
eを一部置換したものを水熱合成法で合成）を用いて以
下のようにして磁性塗料を作成した。

バリウムフェライト 120重量部（Hc＝800 Oe） α−Al₂O₃（0.5μｍ粉状）２重量部カーボンブラック（20mμ） 10重量部溶剤（MEK/トルエン:50:50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。

次に、バインダーとして塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（マレイン酸含有;MW40,000）６重量部（固形分換算）アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
（マレイン酸含有;MW20,000） 12重量部（固形分換算）アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（MW40,000）９重量部（固形分換算）ペンタエリスリトールトリアクリレート３重量部溶解（MEK/トルエン;50/50） 200重量部ステアリン酸を４重量部、およびステアリン酸ブチル２重量部を混合溶解させた。

これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。このようにして得られた磁性
塗料を上記のPETフィルム上にグラビアコートを行い、
永久磁石（3000G）上で乾燥させながら垂直配向させ、
その後遠赤外ランプまたは熱風により溶解を乾燥させ
た。表面平滑化処理をした後、ESI社製エレクトロカー
テンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧150KeV、
電極電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN₂雰囲気下に
て電子線を照射し、塗膜を硬化させた。なおバリウムフ
ェライトの平均粒径、平均厚みは、電子顕微鏡写真〔走
査形電子顕微鏡（SEM）および透過形電子顕微鏡（TE
M）〕を用いて測定した。また平均板状比は平均粒径／
平均厚みによって算出した。

得られたテープを1/2インチ巾に切断し、ビデオテープ
を得た。

これら各サンプルについて特性を測定した。

なお、特性の測定は以下のとおりである。

（１）耐スクラッチ試験新東科学（株）製の連続引っかき強度試験機（TYPE-HEI
DON-18）により、引っかききずが入る垂直荷重を測定し
た。

評価値としては、プラズマ重合膜を設けていない媒体サ
ンプルのひっかき垂直荷重W₀に対するプラズマ重合膜を
設けた媒体サンプルのひっかき垂直荷重Ｗの比W/W₀で表
示した。

なお、値の評価は、同一磁性層で比較する。

（２）接着強度（ｇ）作製したサンプルの磁性層側に、接着テープを一定の圧
力で接着させい、この接着テープを180゜の角度方向に
一定の速度で引き離し剥離に要した力を測定した。

（３）粉（磁性粉）落ち量の測定耐スクラッチ性の良否はビデオテープの使用上粉（磁性
粉）落ち量に大きな影響を与える。そこで、粉落ち量を
下記のように測定した。

市販のビデオ・デッキのヘッド下に磁性粉収集用のケト
ン紙を置く。作製した各ボデオテープを500時間走行さ
せその紙の重量増を電子天秤で正確に測定する。

粉落ち量はプラズマ重合膜のないサンプルの重量増を10
0として各サンプルの粉落ち量を相対量で表示した。

結果を表１に示す。

これらの結果から、本発明の効果が明らかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は直流、交流および周波数可変型電源を使用した
プラズマ処理装置の概略図である。符号の説明 53……混合器 54……直流、交流および周波数可変型電源 57……液体窒素トラップ 58……油回転ポンプ 511,512……処理ガス源 521,522……マスフローコントローラ 561,562……繰り出しおよび巻取りロール

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、ＣとＨとＮまたはＮおよびＯと
を含み、Ｃの含有量が30〜90at％であり原子比でC/Hが1
/6〜１、N/Cが1/20〜3/10、O/Nが０〜3/10である膜厚５
〜80Åのプラズマ重合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは下地層を介し
て、磁性塗料を塗布して磁性層を設けたことを特徴とす
る磁気記録媒体。
【請求項２】プラズマ処理した基板上に、ＣとＨとＮま
たはＮおよびＯとを含み、Ｃの含有量が30〜90at％であ
り原子比でC/Hが1/6〜１、N/Cが1/20〜3/10、O/Nが０〜
3/10である膜厚５〜80Åのプラズマ重合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは下地層を介し
て、磁性塗料を塗布して磁性層を設けたことを特徴とす
る磁気記録媒体。