JPS6238522A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 工　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体に関する。　さらに詳しくは、
耐久性、耐スクラッチ性等の改善のため、所定のプラズ
マ重合膜を下地層膜として有する磁気記録媒体に関する
。

先行技術とその間運点 非磁性基板上に、γ−Ｆｅ２０３　、Ｃｏ被被着−Ｆｅ
２Ｏ２等の酸化物系磁性粉と結合剤とを主体とする磁性
層を形成した磁気記録媒体が出現してすでに久しい。

また、最近では、記録密度をさらに向上する目的で、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ％Ｃ。

−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ。

Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ％Ｍｎ−Ｂ１％Ｍｎ−Ａ１、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｖ等の強磁性粉と結合剤等からなる塗布膜を磁
性層とする磁気記録媒体が一般に多く用いられている。

これらの磁気記録媒体においては、特に磁気テープおよ
び磁気ディスクの用途では、摩擦係数が小さく、円滑で
安定な走行性を示すこと、耐摩耗性に優れ、長時間にわ
たって安定走行を行いうること、置かれた環境条件に対
して安定でいつでも確実な再生ができること、耐久性お
よび耐スクラッチ性のあること等が強く求められる。

従来より、耐久性および耐スクラッチ性を改善する目的
で基板に対し、種々の前処理が行われてきた。

そして、前処理としては、薬液処理、コーティング処理
、コロナ放電処理等がある。

しかしながら、これらの中でコロナ処理では十分な効果
が上がらない。

また、薬液処理、コーティング処理では、処理工程が煩
雑であり、しかも処理に要するコストが高いという問題
がある。

このような実状から、本研究者らは、基板に対するプラ
ズマ処理を提案している（特願昭５９−１０７１７８号
等）。

プラズマ処理法は、一工程のみから成り、ドライプロセ
スであるので乾燥、廃液処理が必要でなく、バインダー
等の原材料を消資しないという利点がある。　さらに、
プラズマ処理法は、高速での連続生産が可能であるため
、磁気記録媒体製造工程に容易に組み込むことができ、
その生産性を阻害しない。

このようなプラズマ処理法は、一般に、空気、酸素、窒
素、水素、ヘリウム、アルゴン等を処理ガスとして用い
る。

これらプラズマ処理によれば、基板と磁性層との接着力
が向上し、耐久性が向上する。

、しかしながら、磁気記録媒体の耐久性および耐スクラ
ッチ性に関する要求は厳しく、より一層の改善が要望さ
れている。

■　発明の目的 本発明の目的は、耐久性および耐スクラッチ性が格段と
向上した磁気記録媒体を提供することにある。

■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成さかる。

すなわち、第１の発明は、基板上に、ＣまたはＣとＨ，
Ｎおよび０の１種以上を含む膜厚５〜８０人のプラズマ
重合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるい
は下地層を介して、磁性層を設けたことを特徴とする磁
気記録媒体である。

第２の発明は、プラズマ処理した基板上に、ＣまたはＣ
とＨ，Ｎおよび０の１種以上を含む膜厚５〜８０人のプ
ラズマ重合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接
あるいは下地層を介して、磁性層を設けたことを特徴と
する磁気記録媒体である。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。

本発明のプラズマ重合膜は、Ｃを含む薄膜であることが
好ましく、この場合、Ｃ単独で形成してもよいし、Ｃと
その他の元素を含有させて形成してもよい。

Ｃとその他の元素を含有させてプラズマ重合膜を形成す
る場合、その他の元素として、ＨｌＮ、Ｏの１種以上を
含有させることが好ましい。

原料ガスとしては、通常操作性の良いことから、常温で
気体のメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、
エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジェン、アセチレ
ン、メチルアセチレン、その他の飽和ないし不飽和の炭
化水素の１種以上を用いるが、必要に応じて常温で液体
の炭化水素を原料としてもよい。

このような炭化水素の１種以上にＮ２．０２　、ｏ３、
Ｎ２０、Ｎ２　、Ｎｏ、Ｎ２０、ＮＯ２などのＮｏｘ、
ＮＨ３、Ｃｏ、ｃｏ２等の１種以上を加えたものを原料
ガスとして用いても好適である。

さらに必要に応じて、原料にＳｉ、Ｂ、Ｐ、Ｓ等のソー
スを微量成分として添加することもできる。

なお、プラズマ重合膜をＣ単独で形成する場合には、炭
化水素ガスに対して大量の水素を加えた混合ガスに対し
てプラズマ重合を行うことによって炭素膜が生成可能で
ある。　この炭素膜は混合ガス比、プラズマパワー、基
板温度等の条件により炭素の構造が変化する。

このような原料を用いて形成されるプラズマ重合膜の膜
厚は５〜８０人である。

この膜厚が８０人をこえると、成膜時の内部応力が膜中
に残留し、膜自体の強度が低下し、しかもプラズマ重合
膜自体が硬いためフレキシブルな媒体としての耐久性に
劣り、磁気記録媒体として実用に耐えない。

また、５人未満であると、本発明の実効がなくなる。

なお、膜厚の測定は、エリプソメーター等を用いればよ
い。

このような膜厚の制御は、プラズマ重合膜形成時の反応
時間、原料ガス流量等を制御すればよい。

プラズマ重合膜は、前述の原料ガスの放電プラズマを基
板に接触させることにより重合膜を形成するものである
。

プラズマ重合の原理について概説すると、気体を低圧に
保ち電場を作用させると、気体中に少量存在する自由電
子は、常圧に比べ分子間距離が非常に大きいため、電界
加速を受け５〜１０ｅＶの運動エネルギー（電子温度）
を獲得する。

この加速電子が原子や分子に衝突すると、原子軌道や分
子軌道を分断し、これらを電子、イオン、中性ラジカル
など、通常の状態では不安定の化学種に解離させる。

解離した電子は再び電界加速を受けて、別の原子や分子
を解離させるが、この連鎖作用で気体はたちまち高度の
電離状態となる。　そしてこれはプラズマガスと呼ばれ
ている。

気体分子は電子との衝突の機会が少ないのでエネルギー
をあまり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。

このように、電子の運動エネルギー（電子温度）と、分
子の熱運動（ガス温度）が分離した系は低温プラズマと
呼ばれ、ここでは化学種が比較的原型を保ったまま重合
等の加酸的化学反応を進めつる状況を創出しており、本
発明はこの状況を利用して基板上にプラズマ重合膜を形
成しようとするものである。　なお低温プラズマを利用
するため、基板への熱影響は全くない。

基板表面にプラズマ重合膜を形成する装置例が第１図に
示し・である。　第１図は、周波数可変型の電源を用い
たプラズマ重合装置である。

第１図において、反応容器Ｒには、原料ガス源５１１ま
たは５１２から原料ガスがそれぞれマスフローコントロ
ーラ５２１および５２２を経て供給される。ガス源５１
１または５１２から別々のガスを供給する場合は、混合
器５３において混合して供給する。

原料ガスは、各々１〜２５０ｍＭ／分の流量範囲をとり
うる。

反応容器Ｒ内には、基板支持装置が設置され、ここでは
磁気テープ用の基板の処理を目的として、繰出しロール
５６１と巻取りロール５６２が示しである。

磁気記録媒体の形態に応じて様々の支持装置が使臣でき
、例えば載置式の回転支持体装置も使用されつる。

基板を間に挟んで対向する電極５５１．５５２が設けら
れており、一方の電極５５１は例えば周波数可変型の電
源５４に接続され、他方の電極５５２は接地されている
。

さらに、反応容器Ｒ内には、容器内を排気するための真
空系統が配備され、そしてこれは液体窒素トラップ５７
、油回転ポンプ５８および真空コントローラ５９を含む
。　これら真空系統は反応容器内を０．０１〜１０Ｔｏ
ｒｒの真空度の範囲に維持する。

操作においては、反応容器Ｒ内がまず１Ｏ−３Ｔｏｒｒ
以下になるまで油回転ポンプにより容器内を排気し、そ
の後原料ガスが所定の流量において容器内に混合状態で
供給される。

このとき、反応容器内の真空は０．０１〜１０Ｔｏｒｒ
の範囲に管理される。

基板の移行速度ならびに原料ガスの流量が安定すると、
電源がオンにされる。　こうして、移行中の基板にプラ
ズマ重合膜が形成される。

また、キャリアガスとして、Ａｒ、Ｎ２゜Ｈｅ、Ｎ２な
どをイ吏用してもよい。

なお、印加電流、処理時間等は通常の条件とすればよい
。

プラズマ発生源としては、高周波数放電の他に、マイク
ロ波放電、直流放電、交流放電等いずれでも利用できる
。

このように形成されるプラズマ重合膜は、前述したよう
に、ＣまたはＣとＨ，Ｎ、０の１種以上を含有しており
、Ｃの含有量はプラズマ重合膜中に３０〜１００ａＬ％
、より好ましくは３０〜９０ａＬ％である。

Ｃの含有量が３０ａｔ％未満であると、プラズマ重合晴
の膜強度が低下し、実用に耐えない。

また、Ｃに加えて１種以上含有されるＨｌＮ、０の含有
量は、水素と炭素の原子比（Ｈ／Ｃ比）が１以下、特に
１／６〜１、窒素と炭素の原子比（Ｎ／Ｃ比）が３７１
０以下、特に１／２０〜３／１０、酸素と炭素の原子比
（０／Ｃ比）が３／１０以下、特に１／２０〜３／１０
の範囲が好適である。　このようにＣに加えてＨ，Ｎ、
０の１種以上を含有させることによって耐スクラッチ性
が向上する。

なお、プラズマ重合膜中のＣ，Ｈ，Ｎ、Ｏおよびその他
の元素の含有量の分析は、ＳＩＭＳ（２次イオン質量分
析）等に従えばよい。　ＳＩＭＳを用いる場合、本発明
のプラズマ重合膜は５〜８０人であるので、プラズマ重
合膜表面にて、Ｃ，Ｈ，Ｎ、Ｏおよびその他の元素をカ
ウントして算出すればよい。

あるいは、Ａｔ、等でイオンエツチングを行いながら、
Ｃ，Ｈ，Ｎ、Ｏおよびその他の元素のプロファイルを測
定して算出してもよい。

ＳＩＭＳの測定については、表面科学基礎講座　第３巻
（１９８４）表面分析の基礎と応用（Ｐ２Ｏ）　　“Ｓ
ＩＭＳおよびＬＡＭＭＡ”の記載に従えばよい。

このようなプラズマ重合膜は、基板上、特にプラズマ処
理された基板上に形成されることが好ましい。

基板表面をプラズマ処理することによって、基板との接
着力が向上し、ひいてはこの基板とプラズマ重合膜との
接着力が向上する。

基板表面のプラズマ処理法の原理、方法および形成条件
等は前述したプラズマ重合法のそれと基本的には、はぼ
同一である。

ただし、プラズマ処理は原則として、無機ガスを処理ガ
スとして用い、他方、前述したブラズマ重合法によるプ
ラズマ重合膜の形成には原則として、有機ガス（場合に
よっては無機ガスを混入させてもよい）を原料ガスとし
て用いる。

本発明のプラズマ処理ガスとしては、特に制限はない。

　すなわち、Ｎ２　、Ａｒ、Ｈｅ、０２　、　Ｎ２　、
空気等いずれであってもよい。

このような中では、０、Ｎ、Ｈの１種以上を含む無機ガ
スを用いることが好ましい。

このような無機ガスとしては、Ｎ２　、Ｎ２、ＮＨ３，
０２，０３，Ｎ２０、Ｎ０％Ｎ２０゜ＮＯ２などのＮＯ
ｘ等の中から適宜選定し、これらの単独ないし混合した
ものか、これらとＡｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等とを混合したもの
が好適である。

さらに、プラズマ処理電源の周波数については、特に制
限はなく、直流、交流、マイクロ波等いずれであっても
よい。　これらの中では、１０ＫＨｚ　〜２００ＫＨｚ
が特に好ましい。

周波数１０にＨｚ〜２００　ＫＨｚでは、耐久性と接着
強度がきわめて高くなる。

このように、より好ましい態様としてプラズマ処理され
た基板上には、前述のプラズマ重合膜が形成され、さら
にこの重合膜上には、直接あるいは下地層を介して、磁
性層が形成される。

そして、この磁性層は、磁性粒子、バインダー、そして
必要なその他の成分を含有する。

磁性粒子としては、金属磁性粒子、コバルト被着酸化鉄
粒子、γ−Ｆｅ２０３粒子、バリウム７５９１８粒子、
ＣｒＯ２等が含まれていてもよい。

本発明に用いる金属磁性粒子は、 １　）　ａ　−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ｇｏｅｔｈｉｔｅ）。

β−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ａｋａｇａｎｉｔｅ）、ｙ　−Ｆ
　ｅ　ＯＯＨ（ＬｅｐｉｄｏｃｒｏｃｉＬｅ）等のオキ
シ水酸化鉄や：（！−Ｆ　ｅ２０３　、　ｙ　−Ｆ　ｅ
２０３　。

Ｆｅ３０４　、ｙ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４　　（固溶
体）等の酸化鉄や； Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｂｏ、Ａｇ等の金属の
１つまたは２つ以上がドープされ、その表面にアルミニ
ウム化合物またはケイ素化合物を吸着、被着したものを
、還元性ガス気流中で加熱還元して、鉄または鉄を主成
分とする磁性粉末を製造する方法、 ２）金属塩水溶液よりＮａＢＨ４により液相還元して作
製する方法、 ３）あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。

金属磁性粒子の組成としては、Ｆｅ、Ｃｏ。

Ｎｉの単体および、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ。

Ｎｉ、さらにはＺｎ、Ｃｕ、Ｚｒ、ＡＩ。

Ｔｉ、Ｂｉ、Ａｇ、Ｐｔ等を添加した金属が使用できる
。

また、これらの金属にＢ、Ｃ，Ｓｉ、Ｐ、Ｎなどの非金
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。

あるいは、Ｆｅ４Ｎ等、一部室化ないし炭化された金属
磁性粒子であってもよい。

さらに、金属磁性粒子は、粒子表面に酸化被膜を有する
ものであってもよい。

このような酸化被膜をもつ金属磁性粒子を用いた磁気記
録媒体は、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低下
、磁性層のサビの発生による特性劣化に有利であるが、
磁性層の電気抵抗が上昇し、使用時の帯電によるトラブ
ルを生じやすい。

金属磁性粒子は針状形態あるいは粒状形態のものを使用
し、磁気記録媒体として用いる用途によフて選択される
。　磁気ディスクに使用する場合は針状形態のものが好
ましい。

また、γ−Ｆｅ２０３粒子としては、α−Ｆ　ｅ　ＯＯ
Ｈ（ｇｏｅＬｈｉｔｅ）を４００℃以上で脱水してａ−
Ｆｅ２０３とし、Ｈ２ガス中で３５０℃以−１で還元し
てＦｅ３Ｏ４とし、さらに２５０℃以下で酸化して作製
したものを用いればよい。

コバルト被着酸化鉄粒子としては、γ−Ｆｅ２０３粒子
の表面から数１０λ以内のごく薄い層にＣＯ２＋を拡散
させたものを用いればよい。

バリウムフェライトとしては、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０
１９等の六方晶バリウムフェライトやバリウムフェライ
トのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ
、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｉｎ。

Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒその他の金属で置換した
もの等が挙げられる。

バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの方
法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミック
ス１８　（１９８３）Ｎｏ、１０”などを参照すること
ができる。

以上の磁性粒子は針状形態、粒状形態あるいは多面体状
のものを使用し、磁気記録媒体として用いる用途によっ
て選択される。

なお、磁性粒子は０．０１〜１μｍ程度の粒径とする。

このような磁性粉末は、通常バインダー１００重量部に
対し１００〜９００重量部含有される。

バインダーとしては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂
、反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。

放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いる場合、放射
線感応変性樹脂と放射線感応変性軟質樹脂を組合わせて
用いることが好ましい。

この両者の混合比率は、放射線感応変性樹脂と放射線感
応変性軟質樹脂が８＝２より２二８の比率が特に望まし
い。　ここでいう放射線感応変性樹脂とは、放射線感応
変性前の状態での１００Ｈｚでの動的弾性率が２０℃か
ら６０℃の温度範囲で１　、　ＯＸ　１０９ｄｙｎ／ｃ
＋ｍ２以上を示すものが特に望ましい。

他方、放射線感応変性軟質樹脂は、溶剤可溶性エラスト
マーであり、合成ゴムとしてのゴム弾性、柔軟性、ポリ
エステル基体との接着性に優れた性質を有するエラスト
マーないしはそのプレポリマー、オリゴマー、テロマー
を意味し、１００Ｈｚでの動的弾性率が２０℃から６０
℃での範囲で１　、　ＯＸ　１０９　ｄｙｎ／ｃｍ２未
満の力学的性質を示す。

これら熱可塑性樹脂溶剤可溶性エラストマーは、後に述
べるように放射線によりラジカルを生じ架橋構造を生せ
しめるべく放射線感応変性が施される。

また、放射線感応変性後のプラスチック成分とエストラ
マーないしはそのプレポリマー、オリゴマー、テロマー
は、磁性微粒子粉末分散の見地から相溶性がよいことが
望まれる。

このように放射線感応変性を施された樹脂成分とエフス
トマー成分を組合わせ、放射線照射により三次元網状構
造を形成させるバインダーを活用することは、オーディ
オ用、ビデオ用、メモリー、計測用等各種用途に活用さ
れる磁気記録媒体の電磁変換特性はもとより、磁性塗膜
に要求される各種物性、例えば硬さ、柔軟性、耐摩耗性
、適度の摩擦係数とスティックスリップ現象がない事、
表面成型性、ベースとの接着性弾性率、以上の各種物性
の低温度から高温度、低湿度から高湿度にわたる種々の
環境条件下での安定性を保持する上できわめて効果的で
ある。

本発明で使用する放射線感応変性に有効な熱可塑性樹脂
としては、次のようなものを挙げることができる。

（１）塩化ビニル系共重合体 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロブオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイン酸共重合体
、塩化ビニル−酢酸ビニル−末ＱＯＨ側鎖アルキル基共
重合体、例えばＵＣＣ社製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ１ＶＹＢ
ＧＸ％ＶＥＲＲ。

ＶＹＥＳ％ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ等が挙げられ、このもの
に特開昭５６−＋２４１１９号等の手法により、アクリ
ル系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結
合を導入して放射線感応変性を行う。

特に、放射線感応変性塩化ビニル系共重合体を２０　Ｍ
ｒａｄ以下の低線量で使用するときには、その反応機構
は明確ではないが、アクリル系二重結合等の放射線官能
基より生ずるラジカル反応以外に放射線照射による何ら
かの反応によりラジカルを発生し、架橋構造を形成し、
磁気記録媒体用バインダーとして有効であることを確認
した。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチプールプロパン　１．２−プロピレングリコール
、１．３−ブタンジオール、ジプロピレングリコール、
１．４−ブタンジオール、１．６−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオ
ペンチルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツ
ールのような多価アルコールとのエステル結合により得
られる飽和ポリエステル樹脂、またはこれらのポリエス
テル樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロ
ン５３Ｓ）が例として挙げられ、これらも同様にして放
射線感応変性を行う。

（３）ＸＱ和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第２項の熱可塑製樹脂として記
載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合からなる
飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン酸と
した放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和ポリ
エステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げること
ができる。

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第１項に記載した各化合物を挙げることができ、
放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、フマ
ル酸等を挙げることができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分１種以上と、多価アルコール成分１種以上にマレ
イン酸、フマル酸等を加え、常法、すなわち触媒存在下
１８０〜２００℃窒素雰囲気下脱水、あるいは脱アルコ
ール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し、０．５〜
１　ｍ１ＩＨＨの減圧下縮合反応によりポリエステル樹
脂を得ることができる。　マレイン酸やフマル酸等の含
有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１
〜４０モル％で好ましくは１０〜３０モル％である。

（４）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水陸機に対し、特開昭５６−１
２４１１９号等の手法により放射線感応変性を行う。

（５）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエビクロルヘトリン
の反応によるエポキシ樹脂、 例えばシェル化学型（エピコート１５２．１５４．８２
８．１００１．１００４．１００７）、ダウケミカル製
（ＤＥＭ４３１、ＤＥＲ７３２、ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ
３３１）、大目本インキ製（エビクロン４００、ａＯＯ
）、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社
製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣｌＰＫＨＨ）、
臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日本インキ化学工業製（エビクロン１４５．１
５２．１５３．１１２０）等があり、またこれらにカル
ボン酸基を含有するものも含まれる。

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感
応変性を行う。

（６）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して公知の方法により放射線感応変
性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹（支）
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐ
ｖｐオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少なくとも１種含むアクリル系樹脂
等も有効である。

（７）ポリエーテル樹脂 その例としては、水酸基を１個以上含有する化合物とし
ては、アクリルエステルＰ−７００、アクリルエステル
Ｐ　−１０００、アクリルエステルＧ−１５００（以上
、旭電化社製）、ポリメグ１０００、ポリメグ６５０（
以上、フォーカーコーラ社製）等の多官能性ポリエーテ
ル類。

（８）ポリカプロラクトン その例としては、ポリカプロラクトンＰｃＰ−２０００
、ポリカプロ−ｙクトンＰＣＰ−０２４０、ポリカプロ
ラクトンＰＣＰ−０３００（以上、チッ素社製）等の多
官能ポリエステル類。

その他、熱可塑性プラスチック又としては、ポリエーテ
ルエステル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導
体（ｐｖｐオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂
、水酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリル
エステルを、少なくとも１種以上型合成分として含むア
クリル系樹脂等も本発明の目的に対して有効であり、か
つ放射線感応変性により、さらにその効果を発揮させる
ことができる。

他方、放射線感応変性熱可塑性樹脂と組合せるべき放射
線感応変性熱可塑性エラストマーまたはプレポリマーは
、下記のとおりである。

ｉ）ポリウレタンエラストマーおよび プレポリマーおよびテロマー 熱可塑性エラストマーの系統としては、磁気記録媒体に
要求される磁性塗膜の耐摩耗性、ＰＥＰフィルムとの接
着性、磁性材粒子との湿潤性のバランスが優れている点
で、特にウレタン系化合物は本発明目的に適する。

このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６
−トルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソ
シアネート、１．４−キシレンジイソシアネート、１．
５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイ
ソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．
３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート
、４．４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモ
ジュールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネ
ートと、網状飽和ポリエステル（エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、１．４−ブタンジオール、１．６＝ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペン
チルグリコール、ｌ、４−シクロヘキサンジメタツール
、のような多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、
セバシン酸のような飽和多塩基酸との縮重合によるもの
）、網状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコ
ール）やカプロラクタム、ヒドロキシ含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシ含有メタアクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物よりなるポリウレタンエラ
ストマー、プレポリマー、テロマーが有効である。

これらのエラストマーを、前記放射線感応変性各種熱可
塑性プラスチックスとそのまま組合せてもよいが、さら
に上記ウレタンエラストマーの末端のイソシアネート基
、または水酸基と反応するアクリル系二重結合、アリル
系二重結合を有する単量体と反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。

ｉｉ）アクリルニトリル−ブタジェン共重合体エラスト
マー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリクイッドレン
ジとして市販されている末端水酸基のあるアクリルニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社製ハイカー１４３２ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
、架橋および重合させるエラストマー成分として適する
。

１ｉｉ）ポリブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリクイットレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基そ有するプレポリマ
ーが、特に熱可塑性プラスチックとの相溶性、磁性粉と
の親和性の上で好適である。

Ｒ−１５プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基と
なっているため、分子末端をアクリル系不飽和二重結合
を付加することにより、放射線感応性を高めることが可
能であり、バインダーとしてざらに存利となる。

また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム％ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性プラスチックとの組合わせにより優
れた性能を発揮する。

特に、環化されたポリブタジェンは、ポリブタジェン本
来の有する不飽和結合のラジカルによる放射線による架
橋重合の効率がよく、バインダーとして優れた性能を有
している。

その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、塩化ゴム、アクリルゴム、
インブレンゴムおよびその環化物（日本合成ゴム製Ｃｌ
Ｒ７０１）、エポキシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポ
リエステル（東洋紡バイロン＄３００）等のエラストマ
ーの公知の放射線感応変性処理を施すことにより、本発
明に対して有効である。

前述の放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合
性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリ
ル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリ
ル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル型二
重結合、マレイン酸、マレインｉｉ１１誘導体等の不飽
和結合等の放射線照射による架橋、あるいは重合乾燥す
る基を分子中に導入することである。

その他、放射線照射により、架橋重合する不飽和二重結
合であれば用いることができる。

さらに具体的な放射線感応変性の手法としては、Ａ９分
子中に水酸基を２個以上有する上記の熱可塑性樹脂また
は熱可塑性エラストマー、プレポリマー１分子中に１分
子以上のポリイソシアネート化合物のイソシアネート基
を反応させ、次に、イソシアネート基と反応する基、お
よび放射線硬化性を有する不飽和二重結合を有する重量
体１分子以上との反応物、例えば、ケン化された塩酢ビ
共重合体（ＵＣＣ社製ＶＡＯＨ）の水酸基１個当りにト
ルエンジイソシアネート１分子を反応させ、その後、１
分子の２−とドロキシエチルメタクリレートを反応させ
てえた塩酢ビ系共重合体樹脂に、アクリル系二重結合を
ペンダント状に有する樹脂を挙げることができる。

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−ト
ルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシア
ネート、１．４−キシレンジイソシアネート、ｍ−フェ
ニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インホロンジ
イソシアネートやデスモジュールＬ、デスモジュールＩ
Ｌ（西ドイツバイエル社製）等がある。

イソシアネート基と反応する基、および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸ある
いはメタクリル酸の２−とドロキシエチルエステル、２
−ヒドロキシプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチ
ルエステル等、水酸基を有するエステル類；アクリルア
マイド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリル
アマイド等のイソシアネート基と反応する活性水素を持
ち、かつアクリル系二重結合を含有する単量体；さらに
、アリルアルコール、マレイン酸多価アルコールエステ
ル化合物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあ
るいはジグリセリド等のイソシアネート基と反応する活
性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する飽和二重結合
を含有する単量体も含まれる。

Ｂ８分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物１分子と
、エポキシ基と反応する基、および電子峠硬化性不飽和
二重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例えば
、グリシジルメタクリルレートをラジカル重合させて得
たエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂に、アクリル酸を
反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反応に
より、分子中にアクリル系二重結合をペンダントさせた
樹脂、プレポリマーもしくはオリゴマー、またマレイン
酸を反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反
応により分子骨格中に放射線硬化性不飽和二重結合を有
する樹脂プレポリマー、オリゴマーを挙げることができ
る。

ここで、分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物とし
ては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ートのごときエポキシ基を含むアクリルエステル、ある
いはメタクリルエステルのホモポリマーあるいは他の重
合性子ツマ−との共重合体として、先の熱可塑性樹脂（
５）項で述べた、エピコート８２８、エピコート１００
１、エピコート１００７、エピコート１００９　（以上
シェル化学社製）等、その他種々のタイプのエポキシ樹
脂がある。

エポキシ基と反応する基、および放射線硬化性不飽和二
重結合を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸等のカルボキシル基を含有するアクリル系単量体、
メチルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタク
リレート等の第１級、もしくは第２級アミノ基を有する
アクリル単量体に加え、マレイン酸、フマル酸やクロト
ン酸、ウンデシレン酸等、放射線硬化性不飽和二重結合
を有する多塩基酸単量体も使用できる。

Ｃ０分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分
子と、カルボキシル基と反応する基およγに放射線硬化
性不飽和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物
、例えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシ
ル基を含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレー
トを反応させ、第２項と同様に、カルボキシル基とエポ
キシ基の開環反応により、分子中にアクリル系二重結合
を導入させた樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げる
ことができる。

分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物としては
、分子鎖中または分子末端にカルボキシル基を含む先に
述べた樹脂中のポリエステル類ニアクリル酸、メタクリ
ル酸、無水マレイン酸、フマル酸等のラジカル重合性を
持ち、かつカルボキシル基を有する単量体のホモポリマ
ーあるいは他の重合性子ツマ−との共重合体等である。

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としては、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート等がある。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１００００〜２０００００、重合度が約２００〜
２０００程度のもので、例λば塩化ビニール−酢酸ビニ
ール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（カルボ
ン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共重合体
、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、ア
クリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル
酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル
−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−
塩化・ビニルデン共重合体、メタクリル酸エステル−ス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シ
リコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポ
リフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリ
アミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース誘導
体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテート
、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネー
ト、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェン共重
合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−アク
リル酸エステル共重合体、アミン樹脂、各種の合成ゴム
系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物が使用される。

熱硬１ｔｓ性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の
状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥
後に加熱することにより、縮合、付加等の反応により分
子量が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のな
かで、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶融
しないものが好ましい。

具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオ
ール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物である、 上述したようなバインダーの中で、耐久性および磁性層
との接着強度を向上させるには、特に放射線硬化性樹脂
を含有させることが好ましい。

このような放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いた
場合、磁性塗膜の架橋に使用する活性エネルギー線とし
ては、電子線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ　　６０
を線源としたγ−線、Ｓｒ　　９０を線源としたβ−線
、Ｘ線発生器を線源としたＸ線等が使用される。

特に、照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ラ
インへの導入、電離放射線のしゃ閉等の見地から電子線
加速器による電子線を使用する方法が有利である。

磁性塗膜を硬化する際に使用する電子線特性としては、
透過力の面から加速電圧１００〜７５０　ＫＶ、好まし
くは１５０〜３００ＫＶの電子線加速器を用い、吸収、
１！ｆｆｉを０．５〜２０メガラツドになるように照射
するのが好都合である。

特に、磁気テープの場合、硬化すべき塗膜層が小さいの
で、米国エナージーサイエンス社にて製；告されている
低線量タイプの電子線加速器（エレクトロカーテンシス
テム）等がテープコーティング加エラインへの導入、加
速器内部の２次Ｘ線のしゃ閑等にきわめて有利である。

もちろん、従来より電子線加速材として広く活用されて
いるファンデグラフ型加速器を使用してもよい。

また、放射線架橋に際しては、Ｈ２ガス、Ｈｅガス等の
不活性ガス気流中で放射線を記録媒体に照射することが
重要であり、磁性塗膜のように非常に磁性顔料充填塵の
高い塗膜は、非常に多孔質となっている為に、空気中で
放射線を照射することは、バインダー成分の架橋に際し
、放射線照射により生じた０３等の５１１でポリマー中
に生じたラジカルが有効に架橋反応に働くことを阻害す
る。

その影響は磁性層表面は当然として、多孔質のため塗膜
内部までバインダー架橋阻害の影響を受ける。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は特
に酸素濃度が最大で１％のＮ２．Ｈｅ、ＣＯ２等の不活
性ガス雰囲気に保つことが重要となる。

なお、磁性塗膜の硬化に際して、紫外線を用いる場合、
上述したような、放射線硬化性樹脂を含：ｆｌｌ−るバ
インダーの中には、光重合増感剤が加えられる。

この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。

　光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量
％の範囲が望ましい。

紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。

磁性層の塗布に際し、溶剤を使用する場合には、アセト
ンメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール、ブタノール等のイソシアネート熱硬化では使用で
きなかったアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル結合を有するもの、ジメチルフォルム
アミド、ビニルピロリドン等の溶剤トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素の希釈剤ないし溶剤を用いる。

このような溶剤は、通常バインダー１００重１部に対し
、１０〜ｔｏｏｏｏ重量部程度、特に１００〜５０００
重量部用いればよい。

さらに加えて、バインダー中に通常使用される各種帯電
防止剤、潤滑剤、研磨剤、分散剤、塗膜強度添加剤を用
途に合わせて適宜活用することは有効である。

以上述べてきたような磁性粒子、バインダー、有機溶剤
等を含有する磁性層は、基板上に設けられたプラズマ重
合膜の上に直接あるいは下地層を介して形成される。

下地層としては、アルミニウム、銅、チタン、クロム等
の合金をイオンブレーティング、真空蒸着、スパッタリ
ング等によって形成したものであってもよい。

また、樹脂を塗布してもよい。　この場合、樹脂層重に
微粒子を含有させることもできる。

なお、本発明の磁気記録媒体に用いられる基板の材質と
しては、非磁性プラスチックであれば特に制限はないが
、通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
２，６−ナフタレート等のポリエステル等を用いる。　
また、その形状、寸法、厚さには制限はなく、用途に応
じたものとすればよい。

■　発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は、種々の用途に用いられ、有用
である。

本発明によれば、より好ましい態様としてプラズマ処理
された基板上にＣまたはＣとＮ、Ｈｌｏのうち少なくと
も１種以上の元素を含む膜厚５〜８０人のプラズマ重合
膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは下
地層を介して塗布膜からなる磁性層を形成して磁気記録
媒体が構成される。

そのため、基板と磁性層との接着強度が向上し、さらに
は媒体としての耐久性および耐スクラッチ性が格段と向
上する。

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１ 厚さ１４μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
製の基板を真空チャンバ中に入れ、連続搬送しながら、
一旦１０−３Ｔｏｒｒの真空に引いた後、処理ガスとし
て０２、キャリアガスとしてＡｒを用い、０２含有量：
１０％、流量＝５０ＩＩＩｆＬＺ分にてガス圧０．ＩＴ
ｏｒｒに保ちながら１００　ＫＨｚの高周波電圧をかけ
てプラズマを発生させ、基板表面をプラズマ処理した。

その後、さらに下記の条件にてプラズマ重合膜を基板上
に形成した。

これらのプラズマ重合膜の元素分析はＳＩＭＳで測定し
、また膜厚はエリプソメーターにて測定した。　結果を
表１に示す。

このように形成されたプラズマ重合膜上に下記に示され
る磁性層を形成した。

（磁性層の形ｆｌｊ、） １作土ユ コバルト被着γ−Ｆｅ２０３ （長軸０．４μｍ１短軸ｏ、ｏｏｓμｍ、Ｈｃ　　６０
０　０ｅ）　　　１２０重量部カーボンブラック （帯電防止用、三菱カーボンブラック ＭＡ−６００）　　　　　　　　　５ｆｆｉ量部Ｃｘ−
Ａｊ２２０３粉末（０，５μｍ粒状）２重■部 分偕剤（大豆精製レシチン）　　３重量部溶剤（メチル
エチルケトン／トルエン ５０１５０）　　　　　　１００重量部上記組成物をボ
ールミル中にて３時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤
によりよく湿潤させる。

アクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂１０重量部
（固型分換算） アクリル二重結合導入塩酸ビ共重合体 １０重量部（固型分換算） アクリル二重稀存合導入ポリエーテルウレタンラストマ
ー　　１０重量部（固型分換算）溶剤（メチルエチルケ
トン／トルエン ５０１５０　）　　　　　　２００重■部′ｌＪＩ滑剤
（高級脂肪酸変性シリコーンオイル）３重量部 一ト記バインダーの混合物をよく混合溶解させる。

これを先の磁性粉処理を行ったボールミル中に投入し、
再び４２時間混合分散させる。

このようにして得られた磁性塗料を上記のＰＥＴフィル
ム上に塗布し、永久磁石（１６００ガウス）上で配向さ
せ、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後
、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社製エレクトロカーテンタ
イプ電子線加速装置を使用して、加速電圧１５０ＫｅＶ
、電極電流２０ｍＡ、全照射量１０Ｍｒａｄの条件でＮ
２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。

吐ユ旦ユ Ｆｅ合金針状磁性粉 （長軸０．３μｍ、短軸０．０４μｍ、Ｈｅ　　１１０
０　０ｅ）　　１２０重量部分散剤（オレイン酸）　　
　　　２重量部溶剤（メチルエチルケトン／トルエン ５０１５０）　　　　　　１００重量部上記組成物を強
力ミキサーにて３時間混合し、磁性合金粉末を分散剤に
よりよく湿潤させる。

次に、 アクリル二重結合導入ブチラール樹脂 １８重量部（固型分換算） アクリル二重結合導入ウレタンエラストマー１２重量部
（固型分換算） 溶剤（メチルエチルケトン／トルエン ５０１５０）　　　　　　２００重量部潤滑刑（高級詣
肋Ｍ）　　　　　　３重量部の混合物をよく混合溶解さ
せる。

これを先の磁性分処理物と高速ミキサーにより、１時間
中分混合し、サンドグランドミルを用いて４時間混合分
散を行った。

このようにして得られた磁性塗料を上記のＰＥＴフィル
ム上に塗布し、磁場配向、溶剤乾燥、表面平滑化処理後
、エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して
、加速電圧１５０ＫｅＶ、Ｔ！、極電流２０ｍＡ、全照
射量５Ｍｒａｄの条件でＮ２ガス雰囲気下にて電子線を
照射し、塗膜を硬化させた。

１１里ユ γ　Ｆｅ２Ｏ：＋（長軸０．８μｍ＋、短軸０．２μｍ
、Ｈｃ３０００ｅ）　　１２０重量部カーボンブラック
（帯電防止用、三菱カーボンブラックＭＡ−６００） ａ−ＡＲ２０３粉末（０，５μｍ粒子）２重量部 分散剤（ソルビタンモノオレエート） ３ｆｉ量部 溶剤（メチルエチルケトン／トルエン ５０１５０）　　　　　　１００重量部上記組成物をボ
ールミル中にて３時間混合し、磁性酸化鉄を分散剤によ
りよく湿潤させる。　アクリル二重結合導入エポキシ樹
脂１５重量部 アクリル二重結合導入ポリブタジェンエラストマー　　
　　　　　　　　　　　１５重量部溶剤（メチルエチル
ケトン／トルエン ５０１５０）　　　　　　２００重量部潤浸剤　　　　
　　　　　　　　３重量部（フッ素オイルデュポン製タ
ライトツクス）の混合物をよく混合溶解させる。

これを先の磁性分処理を行ったボールミル中に投入し、
再び４２時間混合分散させる。

このようにして得られた磁性塗料を、上記のＰＥＴフィ
ルム上に塗布乾燥を行い１次いで表面平滑化処理を施し
た後、エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用
して、加速電圧１７５ＫｅＶ、電極電流１５ｍＡ、全照
射量２Ｍｒａｄの条件でＮ２ガス雰囲気下で電子線を照
射し、塗膜を硬化させた。

１１健Ａ Ｆｅ合金針状磁性粉（長軸０．３μｌ、短軸０．０４ａ
ｔｓ、Ｈａ　　１１００　０ｅ）１２０重量部 分散剤（オレイン酸）　　　　　　２重量部溶剤（メチ
ルエチルケトン／トルエン ５０１５０）　　　　　１００重量部 上記組成物を強力ミキサーにて３時間混合し、磁性合金
鉄粉末を分散剤によりよく湿潤させる。

次に、 ポリビニルブチラール樹脂（セキスイ化学製ＢＭＳ）　
　　　　　　　　　　１５重量部Ｂ、Ｆ、　Ｇｏｏｄｒ
ｉｃｈ社製熱可塑性ウレタンニステン５７１５　　　　
　　１５重量部溶剤（メチルエチルケトン）２００重量
部潤滑剤（高級脂肪酸変性シリコンオイル）３重量部 これを先の磁性粉処理物と高級ミキサーにより１時間子
分混合し、サンドグラインドミルを用いて４時間混合分
散を行った。

分散後、磁性塗料中のバインダーの水酸基を主体上した
官能基と反応し、架橋結合し得るイソシアネート化合物
（バイエル社製デスモジュールし）を５重量部（固型分
換算）上記サンドグラインドミル仕込塗料に２０分混合
を行った。

磁性塗料を上記のＰＥＴフィルム上に塗布し、磁場配向
、溶剤乾燥、表面平滑化処理後、８０℃に保持した熱処
理炉中で４８時間保持し、熱硬化を行った。

吐血１ｊ Ｆｅ−Ｃｏ金属粉　　　　　１００重量部研磨剤（ＡＩ
Ｌ２０３　）　　　　　　３重量部ニトロセルロース　
　　　　　　６重量部エポキシ樹脂　　　　　　　　　
４重量部（商品名エピコート１００４） ポリウレタン　　　　　　　　　１０重量部（商品名ニ
ッポサン５０３３） 溶剤　　　　　　　　　　　２５０重量部上記組成物を
サウンドミルにて５時間分散させ、イソシアネート（コ
ロネートＬ）４重量部を加え、磁性配向処理を施しなが
ら、上記のＰＥＴフィルムに塗布し、従来方式にしたが
いビデオテープを作成した。

敏五一層−ｑ 平均粒径０．０８μｍ、平均厚みｏ、ｏｏｓμ山、平均
板状比１０をもつ六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ
　Ｆ　ｅ　１２０１ｇのＢａ、Ｆｅを一部置換したもの
を水熱合成法で合成）を用いて以下のようにして磁性塗
料を作成した。

バリウムフェライト　　　　　１２０ｆｉｉ１部（Ｈｅ
＝８００　０ｅ） α−ＡＪ２２　ｏ３ （０，５μｍ粉状）　２重量部 カーボンブラック （２０ｍμ）　　　　１０重量部 溶剤 （ＭＥＫ／トルエン： ５０：５０）　　　　ｉｏｏ重１部 上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。

次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有；ＭＷ４０，０００）　　　　　　　　
６重量部（固型分換算）アクリル二重結合導入塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体（マレイン酸含有；ＭＷ２０，
０００）　　　　　　１２ｆｉ量部（固型分換算）アク
リル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマー（
ＭＷ４０，０００） ９重量部（固型分換算） ペンタエリスリトールトリアクリレート３重量部 溶剤（ＭＥＫ／トルエン；５０１５０）２００重量部 ステアリン酸を４重量部、 および ステアリン酸ブチル２重量部 を混合溶解させた。

これヲ磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び４２時間混合分散させた。　このようにして得られた
磁性塗料を上記のＰＵＴフィルム上にグラビアコートを
行い、永久磁石（３０００Ｇ）上で乾燥させながら垂直
配向させ、その後遠赤外ランプまたは熱風により溶剤を
乾燥させた。　表面平滑化処理をした後、ＥＳｒ社製エ
レクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して加速
電圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射ｉ５Ｍｒ
ａｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜
を硬化させた。　なおバリウムフェライトの平均粒径、
平均厚みは、電子顕微鏡写真（走査形電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）および透過形電子顕微鏡（ＴＥＭ））を用いて測定
した。　また平均板状比は平均粒径／平均厚みによって
算出した。

得られたテープを１／２インチ巾に切断し、ビデオテー
プを得た。

これら各サンプルについて特性を測定した。

なお、特性の測定は以下のとおりである。

（１）耐スクラッチ試験 新束科学＠製の連続引っがき強度試験機（ＴＹＰＥ−Ｈ
ＥＩＤＯＮ−１８）により、引っがききずが入る垂直荷
重を測定した。

評価値としては、プラズマ重合膜を設けていない媒体サ
ンプルのひっかき垂直荷重ｗｏに対するプラズマ重合膜
を設けた媒体サンプルのひっかき垂直荷重Ｗの比Ｗ／Ｗ
Ｑで表示した。

なお、値の評価は、同一磁性層で比較する。

（２）接着強度（ｇ） 作製したサンプルの磁性層側に、接着テープを一定の圧
力で接着させ、この接着テープを１８０°の角度方向に
一定の速度で引き離し剥離に要した力を測定した。

結果を表１に示す。

これらの結果から、本発明の効果が明らかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は直流、交流および周波数可変型電源を使用した
プラズマ処理装置の概略図である。 符号の説明 ５３−・・混合器 ５４−・・直流、交流および周波数可変型電源５７　＝
−液体窒素トラップ ｇ　８＋＋＋油回転ポンプ ５１１．５１２−・・処理ガス源 ５２１．５２２・・・マスフローコントローラ５６１．
５６２・・・繰り出しおよび巻取りロール

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に、ＣまたはＣとＨ、ＮおよびＯの１種以
   上を含む膜厚５〜８０Åのプラズマ重合膜を有し、この
   プラズマ重合膜の上に、直接あるいは下地層を介して、
   磁性層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）磁性層が塗設されている特許請求の範囲第１項に
   記載の磁気記録媒体。
3. （３）プラズマ重合膜のＣ含有量が３０〜 １００ａｔ％である特許請求の範囲第１項または第２項
   に記載の磁気記録媒体。
4. （４）プラズマ処理した基板上に、ＣまたはＣとＨ、Ｎ
   およびＯの１種以上を含む膜厚５〜８０Åのプラズマ重
   合膜を有し、このプラズマ重合膜の上に、直接あるいは
   下地層を介して、磁性層を設けたことを特徴とする磁気
   記録媒体。
5. （５）磁性層が塗設されている特許請求の範囲第４項に
   記載の磁気記録媒体。