JPS637515A - 磁気記録媒体用ベ−スフイルムおよび磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

工　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体用のベースフィルムと磁気記録
媒体に関するものである。　さらに詳しくは、特にコン
ピューター、○Ａ機器、ビデオフロッピー等で用いられ
るテープ状もしくはディスク状の磁気記録媒体用のベー
スフィルムとそのペースフィルを用いた磁気記録媒体に
関する。 先行技術 ］ンピューター、０８機器等で用いられるテープ状もし
くはディスク状の磁気記録媒体は通常、ポリエステル等
の可とう性を有する樹脂基板をベースフィルムとし、こ
の上に電気記録層、さらにはトップコート層等を設層し
て形成される。 この際に、ベースフィルムとして用いられる可とう性基
板の表面粗度は最終製品の品質に大きな影習を及ぼし、
たとえばドロップアウト等の原因になる。　従フて、可
とう性基板の表面粗度の値はきわめて厳しい値が要求さ
れるが、このような要求値を満足する基板のコストは非
常に高価なものになる。 また、可とう性基板の表面は、搬送ローラー等によって
ケズレ等のキズも発生しやすく、このような厳しい表面
粗度を保証していくには、部材受入れ、製造工程中等の
管理に要する工数も必要となってくる。 これらの要因が、必然的に製品のコストアップをまねく
結果となフている。 そのため、比較的に廉価で、表面粗度が太きく、そのま
まの状態では、通常実用に耐えないような可とう性基板
を、何らかの方法で使用可能にでき、しかも使用目的、
用途等に応じて任意に表面粗度を調整することができ、
さらにはこのように処理された表面はケズレ等のキズが
容易に発生しないという特性を有する磁気記録媒体用の
ベースフィルムおよびそのベースフィルムを用いた磁気
記録媒体が要望されている。 そこで、本発明者らは、これらの要望に対して、Ｒ２゜
＝０．０２μ田以上の可とう性基板上に、重合性バイン
ダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有
する被覆層を設層する旨の提案を行なっている（特願昭
第６０−４５４６１号）。 この提案によれば、上記の目的は達成されるが、さらに
基板と被覆層との接着性を向上させて、先に提案した効
果をより一層向上させ、しかも耐スクラッチ性に優れた
ベースフィルムおよび媒体を実現することが必要である
。 ■　発明の目的 本発明の目的は、比較的、表面粗度が大きく、そのまま
の状態では通常実用に耐えないような可とう性基板を、
表面処理によって使用可能にし、しかも使用目的、用途
等に応じて任意に表面粗度を調整することができ、さら
には、このように処理された表面ばケズレ等のキズが容
易に発生しないという特性を有し、しかも基板との接着
力に優れ、耐スクラッチ性、耐久性の向上した磁気記録
媒体用のベースフィルムおよびこのベースフィルムを利
用した暖気記録媒体を提供することにある ■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち第１の発明は、表面粗度Ｒ２’０　＝０．０２
μｍ以上の可とう性基板上に、プラズマ重合膜を有し、
この重合膜上に重合性バインダーと平均粒径５０〜１５
００人の微粒子顔料とを含有する被覆層を有することを
特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムである。 第２の発明は、表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２μｍ以上の可
とう性基板上にプラズマ重合膜を有し、この重合膜上に
設けられた被覆層と、この被覆層上に設けられた磁気記
録層とを有する磁気記録媒体において、上記被覆層が、
重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子
顔料とを含有することを特徴とする磁気記録媒体である
。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明の磁気記録媒体用ベースフィルムは、表面粗度Ｒ
？Ｑ＝０．０２μ田以上の可とう性基板と、この基板上
に設けられるプラズマ重合膜と被覆層とを有している。 　さらにこの被覆層は重合性バインダーと平均粒径５０
〜１５００人の微粒子顔料とを含有している。 さらに詳しく説明すると、基板は可とう性を有し、通常
ポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレ
ンテレフタレート、芳香族アラミドなとの樹脂材料によ
って形成される。　そして基板の表面粗度はＲ２ｏ＝０
．０２μｍ以上である。 表面粗度がＲ２ｇ＝０．０２μｍ未満の基板では、表面
粗度を向上させるための表面処理の必要性がないからで
ある。 また、基板のコストはＲ２０＝０．０２μｍを界にして
、臨界的に著しく高くなるために、Ｒ２０＝０．０２μ
ｍ未満の基板では容易に製品のコストダウンが図れない
からである。 この場合、２０点平均表面粗度Ｒ７Ｄの定義と表示は、
ＪＩＳＢＯ６０１に記載されている１０点平均粗さＲＩ
ｎに準じ、測定点を１０点から２０点に増して新たに規
定したものである。 すなわち、２０点平均表面粗度Ｒ？０は、例えば触針針
により描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から
基準長さだけ抜き取った部分において、記録チャート進
行方向に記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断
面曲線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に
測定した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と
、最深か６１０番目までの谷底の標高の平均値との差を
マイクロメーター（μｍ）で表わしたものをいう。 なお、２０点平均表面粗度Ｒ２０を求める場合の基準長
ざしは、原則として２０点平均表面粗度Ｒ２０の範囲に
よって異なり、 ０．８μｍ≦Ｒ２０の場合　　Ｌ＝０．２５ｍｍ０．８
μｍ＜Ｒ２０≦６．３の場合 Ｌ＝０．８ｍｍ ６．３μｍ＜Ｒ２０≦２５μ田の場合 Ｌ＝２．５ｍ＋ｎ ２５μｍ＜Ｒ２ｇ≦ｆ００Ａｔｍの場合Ｌ　＝　８　ｍ
ｍ １００μｍ＜Ｒ２ｏ≦４００　μｍの場合Ｌ＝２５＋ｎ
ｍ とする。 また、カットオフ値は、触針スピード３０μｍ／ｓｅｃ
で、０．１８〜９Ｈｚ程度とする。 また触針針の針先端面の大きさは０．１×２．５μｍ、
針圧は２ｍｇとする。 この場合、Ｒ２Ｏが０．０２〜０．５０μｍの基板であ
ると、本発明の効果は、より一層大きいものとなる。 そして、後述の被覆層を設けることにより、表面粗度は
３０％以上改良され、被ＮＲ表面の表面粗度は、可とう
性基板表面の表面粗度の７０％以下となる。 このような基板の上には、プラズマ重合膜を形成す乙。 本発明のプラズマ重合膜は、Ｃを含む７ｉｉ膜であるこ
とが好ましく、この場合、Ｃ単、独で形成してもよいし
、Ｃとその他の元素を含有させて形成してもよい。 Ｃとその他の元素を含有させてプラズマ重合膜を形成す
る場合、その他の元素として、Ｈ１Ｎ、Ｏの１種以上を
含有させることが好ましい。 原料ガスとしては、通常操作性の良いことから、常温で
気体のメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、
エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジェン、アセチレ
ン、メチルアセチレン、その他の飽和ないし不飽和の炭
化水素の１種以上を用いるか、必要に応じて常温で液体
の炭化水素を原料としてもよい。 このような炭化水素の１種以上にＮ２．０２．０３、Ｎ
２０．Ｎ２．Ｎｏ、Ｎ２０、ＮＯ２などのＮＯｘ、ＮＨ
３、Ｃｏ、ＣＯ２等の１種以上を加えたものを原料ガス
として用いても好適である。 さらに必要に応して、原料にＳｉ、Ｂ、Ｐ、Ｓ等のソー
スを微量成分として添加することもできる。 なお、プラズマ重合膜をＣ、Ｇｌ独で形成する場合には
、炭化水素ガスに対して大量の水素を加えた混合ガスに
対してプラズマ重合を行うことによって炭素膜が生成可
能である。　この炭素膜は混合ガス比、プラズマパワー
、基板温度等の条件により炭素の構造が変化する。 このような原料を用いて形成されるプラズマ重合膜の膜
厚は５〜８０人である。 この膜厚が８０人をこえると、成膜時の内部応力が膜中
に残留し、膜自体の強度が低下し、しかもプラズマ重合
膜自体が硬いためフレキシブルな媒体としての耐久性に
劣り、磁気記録媒体として実用に耐えない。 また、５人未満であると、本発明の実効がなくなる。 なお、膜厚の測定は、エリプソメーター等を用いればよ
い。 このような膜厚の制御は、プラズマ重合膜形成時の反応
時間、原料ガス流量等を制御すればよい。 プラズマ重合膜は、前述の原料ガスの放電プラズマを基
板に接触させることにより重合膜を形成するものである
。 プラズマ重合の原理について概説すると、気体を低圧に
保ち電場を作用させると、気体中に少量存在する自由電
子は、常圧に比べ分子間距離が非常に大きいため、電界
加速を受け５〜１０ｅＶの運動エネルギー（電子温度）
を獲得する。 この加速電子が原子や分子に衝突すると、原子軌道や分
子軌道を分断し、これらを電子、イオン、中性ラジカル
など、通常の状態では不安定の化学種に解離させる。 解離した電子は再び電界加速を受けて、別の原子や分子
を解離させるか、この連鎖作用で気体はたちまち高度の
電謝状態となる。　そしてこれはプラズマガスと呼ばれ
ている。 気体分子は電子との衝突の機会が少ないのでエネルギー
をあまり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。 このように、電子の運動エネルギー（電子温度）と、分
子の熱運動（ガス温度）が分離した系は低温プラズマと
呼ばれ、ここでは化学種が比較的原型を保ったまま重合
等の加酸的化学反応を進めつる状況を創出しており、本
発明はこの状況を利用して基板上にプラズマ重合膜を形
成しようとするものである。　なお低温プラズマを利用
するため、基板への熱影響は全くない。 基板表面にプラズマ重合膜を形成する装置例が第１図に
示しである。　第１図は、周波数可変型の電源を用いた
プラズマ重合装置である。 第１図において、反応容器Ｒには、原料ガス源５１１ま
たは５１２から原料ガスがそれぞれマスフローコントロ
ーラ５２１および５２２を経て供給される。ガス源５１
１または５１２がら別々のガスを供給する場合は、混合
器５３において混合して供給する。 原料ガスは、各々１〜２５０ｍｆｌ／分の流量範囲をと
りつる。 反応容器Ｒ内には、基板支持装置が設置され、ここでは
磁気テープ用の基板の処理を目的として、繰出しロール
５６１と巻取りロール５６２が示しである。 磁気記録媒体の形態に応じて様々の支持装置が使用でき
、例えば載置式の回転支持体装置も使用されうる。 基板を間に挟んで対向する電極５５１．５５２が設けら
れており、−方の電極５５１は例えば周波数可変型の電
源５４に接続され、他方の電極５５２は接地されている
。 さらに、反応容器Ｒ内には、容器内を排気するための真
空系統が配備され、そしてこれは液体窒素トラップ５７
、油回転ポンプ５８および真空コントローラ５９を含む
。　これら真空系統は反応容器内を０．０１〜１０　　
Ｔｏｒｒの真空度の範囲に維持する。 操作においては、反応容器Ｒ内がまず１Ｏ−３Ｔｏｒｒ
以下になるまで油回転ポンプにより容器内を排気し、そ
の後原料ガスが所定の流量において容器内に混合状態で
供給される。 このとき、反応容器内の真空は０．０１〜１０Ｔｏｒｒ
の範囲に管理される。 基板の移行速度ならびに原料ガスのｔ、量か安定すると
、電源かオンにされる。　こうして、移行中の基板にプ
ラズマ重合膜が形成される。 なお、キャリアガスとして、Ａｒ、Ｎ２゜Ｈｅ、Ｎ２な
どを使用してもよい。 また、印加電流、処理時間等は通常の条件とすればよい
。 プラズマ発生源としては、高周波数放電の他に、マイク
ロ波放電、直流放電、交流放電等いずれでも利用できる
。 このように形成されるプラズマ重合膜は、前述したよう
に、ＣまたはＣとＨ，Ｎ、Ｏの１種以上を含有しており
、Ｃの含有量はプラズマ重合膜中に３０〜１００ａｊ％
、より好ましくは３０〜９０ａｔ％である。 Ｃの含有量が３０ａｔ％未満であると、プラズマ重合膜
の膜強度が低下し、実用に耐えない。 また、Ｃに加えて１種以上含有されるＨｌＮ、０の含有
量は、水素と炭素の原子比（Ｈ／Ｃ比）が１以下、特に
１／６〜１、窒素と炭素の原子比（Ｎ／Ｃ比）が３／１
０以下、特に１／２０〜３／１０、酸素と炭素の原子比
（ＯＺＣ比）が３／１０以下、特に１／２０〜３／１０
の範囲が好適である。　このようにＣに加えてＨ，Ｎ、
０の１種以上を含有させることによって耐スクラッチ性
が向上する。 なお、プラズマ重合膜中のＣ，Ｈ，Ｎ、０およびその他
の元素の含有量の分析は、ＳＩＭＳ（２次イオン質量分
析）等に従えばよい。 ＳＩＭＳを用いる場合、本発明のプラズマ重合膜は５〜
８０人であるので、プラズマ重合膜表面にて、Ｃ，Ｈ，
Ｎ、Ｏおよびその他の元素をカウントして算出すればよ
い。 あるいは、Ａｒ等でイオンエツチングを行いながら、Ｃ
，Ｈ，Ｎ、０およびその他の元素のプロファイルを測定
して算出してもよい。 ＳＩＭＳの測定については、表面科学基礎講座　第３巻
（１９８４）表面分析の基礎と応用（Ｐ２Ｏ）　　“Ｓ
ＩＭＳおよびＬＡＭＭＡ”の記載に従えばよい。 このようなプラズマ重合膜は、基板上、特にプラズマ処
理された基板上に形成されることが好ましい。 基板表面をプラズマ処理することによって、基板との接
着力が向上し、ひいてはこの基板とプラズマ重合膜との
接着力が向上する。 基板表面のプラズマ処理法の原理、方法および形成条件
等は前述したプラズマ重合法のそれと基本的には、はぼ
同一である。 ただし、プラズマ処理は原則として、無機ガスを処理ガ
スとして用い、他方、前述したプラズマ重合法によるプ
ラズマ重合膜の形成には原則として、有機ガス（ｉ：Ｊ
合によっては無機ガスを混入させてもよい）を原料ガス
として用いる。 本発明のプラズマ処理ガスとしては５、特に制限はない
。　すなわち、Ｎ２　、Ａｒ、、Ｈｅ、０２、Ｎ２、空
気等いずれであってもよい。 このような中では、Ｏ，Ｎ、Ｈの１種以上を含む無機ガ
スを用いることが好ましい。 このような無機ガスとしては、Ｎ２．Ｎ２、ＮＨ３，０
２，０３，Ｎ２０、Ｎｏ、Ｎ２０、Ｎｏ２などのＮＯｘ
等の中から適宜選定し、これらの単独ないし混合したも
のか、これらとＡｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等とを混合したものが
好適である。 さらに、プラズマ処理電源の周波数については、特に制
限はなく、直流、交流、マイクロ波等いずれであっても
よい。 このようなプラズマ重合膜の上には、被覆層が設層され
る。　被覆層は、重合性バインダー中に微粒子顔料等を
分散させたものを、プラズマ重合膜を有する基板上に塗
布設層し、その後硬化させたものである。 重合性バインダーは放射線硬化型化合物または熱硬化型
化合物を、架橋重合させたものである。 放射線硬化型化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誂導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合がら成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二１゛

【結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙
げることができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル
樹脂は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種
以上にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触
媒の存在下で、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水
あるいは脱アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで
昇温し、０．５〜１＋ｎｍＨｇの減圧下、縮合反応によ
り得ることができる。　マレイン酸やフマル酸等の含有
量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜
４０モル％、好ましくは１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化とニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ヒニールー酢酸ビニー
ルー末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、例えばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣｌＶＹＥＧＸ、ＶＥＲＲｌＶＹＥ
Ｓ、ＶＭＣＡ。 ＶＡＧＨ，ＵＣＡＲＭＡＧ５２０．ＵＣＡＲＭＡＧ５２
８等が挙げられ、このものにアクリル系二重結合、マレ
イン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線
感応変性を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１．２プロピレングリコール、
１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１゜
４ブタンジオール、１，６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、１，４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をＳ
Ｏ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。 （４）エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２．１５４　、８２８　、１００１．１００
４、＋００７）　、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１　、
ＤＥＲ７３２、ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３３１）、大日本
インキ製（エビクロン４００．８００）、さらに上記エ
ポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂
（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本イン
キ化学工業製（エビクロン＋４５．１５２　、１５３　
、１１２０）等があり、またこれらにカルボン酸基を含
有するものも含まれる。　これら樹脂中に含まれるエポ
キシ基を利用して放射線感応変性を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐｖｐ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−
トルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシ
アネート、１，４−キシレンジイソシアネート、１，５
−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３
′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、
４．４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソフオロンジイソシアネート
、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジ
ュールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネー
トと、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、１．４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチ
ルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツールの
様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽
和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエー
テル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタ
ム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ
ル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の
縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレポ
リマーが有効である。 こわらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。　
また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有する
ものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を存する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイノドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー＋４３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋および重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ボリブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイノドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。　
Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基とな
っている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム族ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物（日本合成ゴム族ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＃３００）等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート
、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレー
ト（アロニックスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５０
０，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマーに
ッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記−数式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはεカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物、式中、ｍ＝１
、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペンタエリスリ
トール縮合物Ａという）、 ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃ
という）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および下記
式−数式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる
。 １　）　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）　３−Ｃ（ｊ
（２０Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２
ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈｓ　）ｎ　−
０ＣＨ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） ８）　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−
ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリ）Ｌ４ｔｉ、　　　Ｘ：多価アルコールＹ：
多塩基酸　　　　　（特殊アクリレートＫ）−１凸Ｏ− １）　　　Ａ千Ｍ−Ｎ−）−Ｍ−Ａ Ａニアクリル酸、　　　Ｍ：２価アルコールＮ：２塩基
酸　　　　　（特殊アクリレートし）次に、放射線感応
性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体く平均重合度　ｎ＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、
８０℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−とドロキ
シエチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、
さらにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０
．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部を加
え希釈する。 【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−とドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つ目フラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し、
反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−Ｓ１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１．４分と共に５１
の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さらに
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％
以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃昇ｆ：Ｌ後、ＴＤＴの２Ｈ
ＥＭＡアダクト※を３．５５部加え、ざらにオクチル酸
スズ０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え
、８０℃てＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となる
まで反応せしめる。 ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放゛　射線
感応変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルヘンシルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０００３部を添加し８０℃とし、ア
クリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となるま
で反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３１の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２とドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤ　Ｉ　）系ウレタンプレポリマーく日本ポリウ
レタン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３
２．５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ
０−００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、Ｔ
ＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となる
ように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応
率９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
７部、オクチル酸スズ０゜００９部を反応缶にいれ、８
０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアベトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジエンボリＢＤリク
イットレジンＲ−１５２５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部
、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．００
９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３
．５部を反応缶内の温度か８０〜９０℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５％
以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ボッスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。　このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 熱硬化型化合物である熱硬化性樹脂または反応型樹脂と
しては、塗布液の状態では２０００００以下の分子量で
あり、塗布、乾燥後に加熱することにより、縮合、付加
等の反応により分子量は無限大のものとなる。　また、
これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟
化または溶融しないものが好ましい。 具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン軟化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、ジノコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂
、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリ
マーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネ
ートの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量
グリコール／高分子ジオール／トリフェニルメタントリ
イソシアネートの混合物、ポリラミン樹脂およびこれら
の混合物である。 特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、ある
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボンサン導入のものも含む）およびウレタンア
クリレートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであ
り、放射線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せ
の他に、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示す
アクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル
化合物のようなアクリル系二重結合、ジアクリルフタリ
ートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あ
るいは重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有ま
たは導入した樹脂等を用いることができる。 その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸アクリルアミド等がある
。　二重結合のあるハインダーとしては、種々のポリエ
ステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結
合を有する化合物で変性することもできる。　さらに、
必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を配合す
ることによって種々の分子量のものもできる。　放射線
感応樹脂として上記のものはその一部であり、こわらは
混合して用いることもてきる。 このような重合性バインダー中には微粒子顔料が添加・
分散される。 用いる微粒子顔料としては、通常コロイド粒子として知
られているものであって、例えばＳ　ｉ　０２　　（ニ
ア０イダ）Ｌｉ　シリカ）、Ａ１２０３（アリミナゾル
）、ＭｇＯ，ＴｉＯ２、Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、Ｃ
ｅＯ２，５ｎ０２、Ｓｂ２０５　、ＺｎＯ１Ｆｅ２０３
、 Ｆｅ３０４　、Ｃｅ０ｚジルコニア、ＺｎＯ１ＺｎＳ　
ｉ　０４　、Ｃｄ０１ＮｉＯ，ＣａＷＯ４、ＣａＣＯ３
、ＢａＣＯ３、ＣｏＣＯ３、ＢａＴｉＯ３、Ｔｉ　（チ
タンブラック）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、各種
ヒドロシルや、樹脂粒子等が使用可能である。　この場
合、特に無機物質を用いるのが好ましい。 また、タルク、カオリン、ＣａＳＯ４、’ｌ化硼素、テ
フロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ジルコニ
ア、Ｃａ５ｉ０２．アスベスト、チタンホワイト、ホワ
イトカーボン、クロムイエロー、オイルイエロー、オイ
ルブルー、オイルレッドなどのものであってもよい。 これら微粒子は、例えばＳ　ｉ　０２の場合、■無水珪
酸の超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メ
タノールシリカゾル、日産化学） ■特製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シソ力（標準品１００人）（アエロジル、日本ア
エロジル株式会社）などが挙げられる。　また前記■の
超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製造さ
れるＭ微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタン
および前述微粒子顔料が使用され得る。 このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布乾燥してもよい。 なお、これらの微粒子顔料は必ずしも１種ずつ使用する
とは限らず、２種、３種とする場合もある。 そして、この微粒子顔料の平均粒径は５０〜１５００人
であり、より好ましくは、５０〜１０００人である。さ
らにより好ましくは８０〜５００人である。 平均粒径が５０人未満になると安定に基板上に固着でき
ず、被覆層にスジが発生しやすく、またガイドローラー
に付着したりするという不都合が生じ、１５００人をこ
えると表面粗度が悪く、電磁変換特性に悪影響を及ぼす
という不都合を生しる。 このような微粒子顔料の平均配設密度は１０４〜１０９
個／　［［１ｍ２であり、より好ましくは１０４〜１０
７個／　０ＩＩＢ　２である。 この平均配設密度が１０４個／ｍｍ２未満であると、被
覆層の耐摩耗性が悪く、ケズレが発生しやすく１０９個
／１ｍ２をこえると被覆層がもろくなるという欠点があ
る。 さらにバインダー中には、微粒子顔料のほかに、潤滑剤
、帯電防止剤を添加してもよい。 バインダー中に潤滑剤を添加することにより、被覆層上
の摩擦抵抗を下げることができ、搬送工程中でのベース
フィルム表面のケズレおよびホコリ等の異物付着を防止
するのに特に有効である。 潤滑剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、へヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨ５Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）；前記の脂肪
酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に等）またはアルカリ
土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）から成る金属石鹸；レ
シチン等が使用される。 この他に炭素数１２以上の高級アルコール、およびこれ
らの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング剤
、シランカップリング剤等も使用可能である。 これらの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に
対して０．１〜２５重量部の範囲で添加される。 潤滑剤としては上記の他にシリコーンオイル、フッ素オ
イル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤、グラ
ファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭
素数１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個
のｍ個のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数
１７個以上の一塩基性詣肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計
して炭素数が２１〜２３個より成るｍ個のアルコールと
から成る脂肪酸エステル等が使用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性によりなるもの、−部
フッ素変性されているものが使用される。 アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリ
ゼーション等によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ。 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ０ＯＲ。 ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＣＨ２０ＣＯＲ
１ ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＲＣ○○ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又
は分子状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で炭素数は７
以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これらは弗
素置換体とすることもできる。　弗素置換体としては ＣｎＦ　　　−１ＣｎＦ　　　（ＣＨ２）２ｎ＋１　　
　　　　　　　　　２ｎ＋１ｍ−（但し、ｍ＝１〜５）
、 Ｃｎ　Ｆ　２ｏ＋、ＳＯ２ＮＣＨ２ＣＨ２−１ＣｎＦｎ
ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−２ＣｎＦ　　Ｏボ！Ｘ
Ｃ０ＩＣｌ２ＧＨｚ−ｎ−１ 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 さらにバインダー中に帯電防止剤を添加することによっ
て、搬送中に、ベースフィルム上に静電気が発生するの
を防ぐことかできる。　そのため、工程流動中に静電気
によるベースフィルム上のゴミ・ホコリ等の異物付着は
なくなる。　これらの処理によりドロップアウトの発生
を抑えることができる。 帯電防止剤としては、界面滑性剤を用いることが好まし
い。 帯電防止剤としての界面滑性剤は、アニオン型として、
脂肪酸石鹸、エーテルカルボン酸およびその塩（高級）
脂肪酸とアミノ酸の結合物等のカルボン酸塩類、（高級
）アルコール硫酸エステル塩、アルキルおよびアルキル
アリルエーテル硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸エステ
ルの硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸アルキロールアミ
ドの硫酸エステル塩等の硫酸誘導体、りん塩アルギル塩
（高級）アルコールよりなるアルキルりん酸エステル塩
、りん酸アミド塩、（高級）アルコールよりなるアルコ
ールりん酸エステル、天然界面活性剤としてレシチン、
ケファリン等のりん酸誘導体、ペンタアルキルポリホス
フェート、ヘキサアルキルテトラポリホスフェート、ジ
アルキルホスホン酸、（高級）アルキルスルホン酸塩、
α−オレフィンスルホン酸塩、（高級）脂肪酸エステル
のスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩（高級）
脂肪酸アミドのスルホン酸塩等のスルホン酸等である。 またカチオン型として、アルキルアミン塩、ポリアミン
およびアミノアルコール脂肪酸誘導体等のアミン類、ア
ルキル４級アンモニウム塩、アルキルトリメチルアンモ
ニウム塩、アルキルアミド４級アンモニウム塩、ジアル
キルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩、環式４級アンモニウム塩、エーテル
結合を有する４級アンモニウム塩等の第４級アンモニウ
ム塩、エーテル結合を有する４級アンモニウム塩等の第
４級アンモニウム塩類、イミダシリン、ポリオキシエチ
レン付加リン酸塩等のイミダシリン、ポリオキシエチレ
ンアルキルアミン、アルキルアミン、アルキルアミンオ
キシド等のアミン酸化エチレン付加体、フィチン酸第４
級等である。 ノニオン型として、アルキルエーテル、ポリエチレング
リコール等の多価アルコール類、ポリオキシソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンプロピレングリコールモ
ノ脂肪酸エステル等の多価アルコールエステル類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテルアルキルフェ
ノールホルマリン縮金物の酸化エチレン誘導体等のアル
キルフェノール酸化エチレン付加体、ポリオキシエチレ
ン脂肪酸エステル、（高級）脂肪酸グリセリンエステル
、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、
ペンタエリスリトール脂肪酸エステル等の脂肪酸化エチ
レン付加体、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、等のア
ミド酸化エチレン付加体、トリエタノールアミン脂肪酸
部分エステル等のアミン酸化エチレン付加体、アルキロ
ールアミド等のアミド等である。 両性型として、アミノ酸型、ベタイン型等のカルボン酸
類、スルホン酸型等のスルホン酸類、アミド型金属塩等
の金１属塩類、アルキルベタイン、アルキルアミトベタ
インイミダソリウムヘタイン等のアルキルベタイン類等
である。 界面活性剤の量としては樹脂に対し１重量部以上でない
とバック層の帯電防止効果がなく、２０重世部以上にす
ると、表面−一のにじみたしが出るため望ましくない。 また、これらの界面活性剤として末端にアクリル系二重
結合を付加して のようにしたものを用いたり、耐滑剤としてやはり、末
端にアクリル二重結合を付加することによって （１１２−（：Ｈ（：ＯＯＲＮＣＨ２−ＣＨＣｏＮＣｌ
−１２０ＣＯＲ（ＲはＣｎＨ−、ＣｎＨ等でよい） ２ｎ＋ｌ　　　　　２ｎ−１ などを用いることによって、アクリル系二重結合が放射
線の照射処理によってラジカルを発生し、バインダー成
分に生じたラジカルと反応して強固に結合し、表面性が
一層優れ、電磁特性も向上する。　また、塗布溶媒とし
ては特に制限はないが、バインダーの溶解性および相溶
性等を考慮して適宜選択される。　例えば、アセトン、
メチメエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、イ
ンプロパツール、ブタノール等のアルコール類、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
イソプロピルエーテル、エチルエーテル、ジオキサン等
のエーテル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等の
フラン類等を単一溶剤またはこれらの混合溶剤として用
いられる。 以上、述べたように、重合性化合物中に微粒子顔料等の
添加剤を加えてさらに必要に応じ溶媒を加えて混合・分
散した組成物を、グラビアコート、リバースロールコー
ト、エアーナイフコート、エアードクターコート、ブレ
ードコート、キスコート、スプレィコート等を用いて基
板上に塗布する。　その後、バインダーを架橋重合させ
て固化させる。 重合性バインダーとして放射線硬化型化合物を用いた場
合、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Ｃ０６０を線源とした
γ−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線
源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。 上記被覆層を硬化する際に使用する放射線特性としては
、透過力の面から加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好まし
くは１５０〜３００ＫＶの放射線加速器を用い吸収線量
を０．５〜１０メガラツドになるように照射するのが好
都合である。 本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティン
グ加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽等
に極めて有利である。 勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのコアンデグラフ型加速器を使用してもよい。 また放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の不
活性ガス気流中で放射線を被覆層に照射することが重要
であり、空気中で放射線を照射することは、バインダー
成分の架橋に際し放射線照射により生じた０３等の影響
でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働く
ことを阻害するので極めて不利である。 従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％である、Ｎ２　、Ｈｅ、ＣＯ
２等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。 本発明の被覆層には光重合増感剤を加えることにより紫
外線硬化を行なうこともてきる。 このような光重合増感剤としては従来公知のものでよく
、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、α−メチルヘンゾイン、α−クロルデオキシ
ベンゾイン等のベンゾイン系、ヘンシフエノン、アセト
フェノン、アセトフェノン、ビスジアルキルアミノベン
ゾフェノン等のケトン類、アントラキノン、フェナント
ラキノン等のキノン類、ベンジルジスルフィド、テトラ
メチルチウラムモノスルフィド等のスルフィド類、等を
挙げることができる。 光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量％
の範囲が望ましい。 本発明では、放射線硬化性バインダーを用いた時は、巻
きしまりによる電磁変換特性の劣化やポットライフの低
下が少ない等の点で有利である。 なお、重合性バインダーとして熱硬化型化合物を用いた
場合は、公知の種々の加熱装置および加熱室を用いて、
架橋重合させればよい。 このようにして設層された被覆層の厚さは２０〜２００
００人であり、より好ましくは４０〜ｔｏｏｏｏ人ざら
により好ましくは、４０〜６０００人である。　　２０
人未満では本発明の実効がなく、２００００人をこえる
と被覆層がもろくなるからである。 そして、このようなプラズマ重合膜、被覆層と基板とか
らなる磁気記録媒体用ペースフィルムの被覆層の上には
、通常、α−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３Ｏ４，Ｃｏ被着ａ−Ｆ
ｅ２０３　、　Ｃ。 被着ａ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４固溶体、ＣｒＯ２，Ｃ
ｏ系化合物被着型ａ−Ｆｅ２０３、Ｃｏｉ化合物被着型
Ｆｅ３Ｏ４、（γ−Ｆｅ２Ｏ３との中間酸化状態も含む
。　又ここで言うＣｏ系化合物とは、酸化コバルト、水
酸化コバルト、コバルトフェライト、コバルトイオン吸
着物等コバルトｍ気異方性を保磁力向上に活用する場合
をいう。）等の磁性体微粉末とバインダーを主成分とす
る磁気記録層あるいはＣ０１Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ、　ｃｏ−Ｎｉ等の強磁性金属粉末とバインダーを
主成分とする磁気記録層が設層されて、磁気記録媒体が
形成される。 バインダーとしては、熱硬化性、放射線硬化性のバイン
ダーのいずれを用いてもよい。 なお用いるこれらの強磁性金属微粉末の製法としては、
ＢＨ４等の還元剤による湿式還元法や酸化快表面をＳｉ
化合物で処理後Ｈ２ガス等により、乾式還元法により、
あるいは低圧アルゴンガス気流中で真空蒸発させること
によって得られる手法等があげられる。 また、上述したような磁性金属微粉末の他に単結晶バリ
ウムフェライト微粉末あるいはバリウムフェライトのバ
リウム、鉄の一部をＣｕ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ａ、Ｚｎ、Ｔｉ。 Ｃｒ、Ｚｒ、Ｉ　ｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｓｎその他金
属で置換したものを用いることもできる。 これらは、セラミック法、ガラス化結晶化法、水熱合成
法、共沈焼成法等を用いて製造される。 以上の磁性体微粒子は、針状形態、粒状形態、あるいは
多面体状のものを使用し、磁気記録媒体として用いる用
途によって選択される。 さらに、磁気記録層はＣ０１ＣｏＮ　ｉ、ＣｏＣｒ、Ｃ
ｏＰ、ＣｏＮ１Ｐ等の蒸着膜、スパッタ膜、メツキ膜等
であってもよい。 可とう性基板の表面には、コロナ放電処理、プラズマ処
理、スパッタ処理等の処理を行なうことが好ましい。 また、磁気記録層の上やベースフィルムの表面には、公
知の種々のトップコート層、バックコート層を形成する
こともできる。 ■　発明の具体的作用効果 本発明のベースフィルムおよび磁気記録媒体は、コンピ
ューター、ＯＡ機器等で用いられるテープ状もしくはデ
ィスク状の磁気記録媒体用のベースフィルムおよび磁気
記録媒体として用いられる。 本発明のヘースフイルムは、表面［度Ｒ２０＝０．０２
μｍ以上の可とう性基板トに、プラズマ重合膜を有し、
プラズマ重合股上に設けられた被覆層とによって形成さ
れており、しかもこの被覆層は、重合性バインダーと平
均粒径５０〜１５００人の微粒子を含有している。 このようなベースフィルムを用いることによって、表面
粗度を任意に調整することができ、表面のケズレ等のキ
ズの発生を防止し、低廉でしかも基板との接着力に優れ
、耐スクラッチ性、耐久性が良好で、ドロップアウト等
がきわめて少ない品質の安定した磁気記録媒体が得られ
る。 ■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 実施例１ 厚さ５０μｍであり、表面粗度Ｒ２ｏが表１に示される
値を示すポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製の基
板を真空チャンバ中に入れ、連続搬送しながら、−旦１
０−３Ｔｏｒｒの真空に引いた後、処理ガスとして０２
、キャリアガスとしてＡｒを用い、０２含有量：１０％
、流量：５０　のｆＬＺ分にてガス圧０．ＩＴｏｒｒに
保ちながら１００　ＫＨｚの高周波電圧をかけてプラズ
マを発生させ、基板表面をプラズマ処理した。 次に、下記の条件にてプラズマ重合膜を基板上に形成し
た。 プラズマ重合膜１ このプラズマ重合膜の元素分析はＳＩＭＳで測定し、ま
た膜厚はエリプソメーターにて測定した。 このように形成されたプラズマ重合膜上に下記に示され
る被覆層を形成した。 （１）被覆層の形成 被」Ｌ層」１（放射線硬化型化合　　　重量部物バイン
ダー） 微粒子顔料 コロイダル５ｉ０２　　　　０．０５ 平均粒径５００人 重合性バインダー フェノキシアクリレート変性体　　６０分子量３０００
０　　　（固形分換算）カプロラクタム　　　　　　　
　４０ 分子量ｔ　ｏｏｏ　　　　（固形分換算）混合溶剤 ＭＥＫ／）ルエン−１７１１０００ 上記混合物を攪拌機中で１時間分散させ、表１に示され
る表面粗度および厚さを有するポリエチレンテレフタレ
ートの基板上に、乾燥厚１０００人になるようにグラビ
アコートし、その後カレンダ加工を行い、エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０Ｋ
ｅＶ、電極電流１０ｍＡ、吸収線量３Ｍｒａｄ、Ｎ２ガ
ス中で電子線を被覆層に照射した。 なお、被覆層形成後のバインダー中に分散した微粒子顔
料の平均配設密度および被奮層の表面粗度は表１に示さ
れているとおりであった。 礼１届副＜放射線硬化型　　　　　重量部化合物バイン
ダー） 微粒子顔料 コロイダルＳ　ｉ　０２ 平均粒径２５０人　　　　　　０．１ 重合性バインダー アクリル変性ポリウレタン エラストマー　　　　　　　　　１０ 分子量４０００　　　　（固形分換算）アクリル変性ポ
リエステル　　　１０ 分子量２００００　　　（固形分換算）混合溶剤 ＭＥＫ／トルエン−１／１　１０００ これらを、被覆層１の場合と同様に、表１に示されるよ
うなポリエチレンテレフタレート基板上に処理、設層し
た。 １１ユ（放射線硬化型　　　　　重量部化合物バインダ
ー） 微粒子顔料 ５ｉ０２平均粒径３００人　　　　　５重合性バインダ
ー　　・ アクリル変性塩ビ　　　　　　　　　６分子量２０００
０　　　　（固形分換Ｗ）アクリル変性ポリウレタン　
　　　７０分子量６０００　　　　　（固形分換算）Ｎ
ビニルピロリドン　　　　　　　１０混合溶剤 ＭＥＫ／）−ルエン＝１７１　　１０００これらを、上
記と同様に表１に示されるようなポリエチレンテレフタ
レート基板上に処理、設層した。 ｎ（放射線硬化型　　　　　重量部 化合物バインダー） 微粒子顔料 ＺｒＯ２平均粒径２００人　０００１ 重合性バインダー エポキシ　分子量３０００　　　　２０ポリウレタン　
分子量２０００　　１０（固形分換算） 混合溶剤 ＭＥＫ／トルエン＝１７１　　　１０００これらの混合
物を攪拌機中１時間分散させ表１に示される表面粗度お
よび厚さを有するポリエチレンテレフタレートの基板上
に、乾燥厚４００人になるように塗布し８０℃２４時間
で架橋させた。 １１屋ｊ 被覆層１で用いた微粒子顔料Ｓ　ｉ　０２の平均粒径を
３０人とした。　その他の組成は被覆層１の組成と同一
とした。 喪１１Ｊ 被覆層１で用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を１７
００人とした。　その他の組成は被覆層ｌの組成と同一
とした。 １１２ユ 被覆層１で用いた微粒子顔料Ｓ　ｉ　０２の重量部をｏ
、ｏｏｏｔ重量部とした。　その他の組成は被覆層１の
組成と同一とした。 挟ｊしｌ旦 被覆層１で用いた微粒子顔料Ｓ　ｉ　０２の重量部を３
００重量部とした。　その他の組成は被覆層１の組成と
同一とした。 なお、被覆層１〜８形成後のバインダー中に分散した微
粒子顔料の平均配設密度および被覆層の表面粗度は表１
に示すとおりであった。 表面粗度の測定は、下記の方法に従って行った。 （１）表面粗度Ｒ２ｏの測定 ＪＩＳＢＯ６０１に規定しである１０点平均粗さの求め
方に準じて行なった。　なおＪＩＳでは１０点平均法を
規定しているが、本発明の評価方法として、さらに厳密
にするため２０点平均とした。 カットオフ値は、触針スピード３０μｍ／ｓｅｃで０．
１８〜９Ｈｚ程度、また触針計の針先端面の大きさは０
．ＩＸ２．５μｍ、針圧は２Ｂとした。 使用した触針式表面粗さ測定ｔ）はタリステッブー１　
、ＴＡＹＬＯＲ）ＩＯＢｓＯＮ社製である。 結果を表１に示す。 （２）磁気記録層の設層 上述した各々の被覆層１〜８の上に、以下に示すような
磁気記録層を設層した。 ″″′′記録　　　線　ヒ型磁＝記録　）重量部 コバルト被覆針状γ−Ｆｅ２０３　１２０部（長軸０．
４−１短ｌ１ｌｌｌＩＯ１０５−Ｈｃ６０００ｅ） α−ＡＭ２０３粉末（０，５−粉状）　２部分散剤（大
豆油精製レシチン）　　　　３部溶剤（ＭＥＫ／トルエ
ン　５０１５０　）　１００部上記組成物をボールミル
中にて３時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤により良
く湿拐させる。 次に アクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂１０部（固
形分換算） アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体 １０部（固形分換算） アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー　　　１０部（固形分換算）溶剤（ＭＥＫ／トルエン
　５０１５０　）　２００部潤滑剤（高級脂肪酸変性シ
リコーンオイル）３部 のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に没入し
再び４２時間混合分散させる。 この様にして得られた磁性塗料を上記の各々の被覆層上
に２−の厚さに塗布し、赤外線ランプ又は熱風により溶
剤を乾燥させた後、表面平滑化処理後、ＥＩＩ社エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電
圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５Ｍｒａ
ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。 これらを用いて、実際に磁気テープを作製し、電磁変換
特性を測定した。 （１）出力 ４０ＭＨｚの相対出力をＶＨＳデツキで測定した。 結果を表１に示した。 実施例２ 下記に示すような磁気記録層を用い、実施例１の被覆層
の上に、３．５−の厚さに塗布し、電子線硬化とカレン
ダ加工を行い、実施例１と同様に、磁気テープを作製し
、電磁変換特性を測定した。 ｉ笈星亘旦ユ　　　　　　　　　　　重量部Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ合金粉末　　　　１００（Ｈｃ＝　１２０００ｅ
、 長袖０．４−１ 短軸０．０５戸 ＢＥＴ比表面積５２ｒｎ”７ｇ） 塩化ビニル・酢酸ビニル・ ビニルアルコール共重合体　　　　１５（米国ＵＣＣ社
製ＶＡＧＨ） ポリビニルブラチール樹脂　　　　　１０アクリル二重
結合導入ウレタン　　　１０メチルエチルケトン／トル
エン　　２５０なお、被覆層の下には、プラズマ重合膜
１のかわりに、下記の条件にて下記のプラズマ重合膜２
を設層した。 プラズマ重合膜２ 原料ガス　　　　　ＣＨ４５０ＳＣ（ＪＮＨ３５０Ｓｆ
、ＣＭ キャリアーガス　　　　　　　５０ＳＣＣＭ（Ａｒ） 動作圧力　　　　　　　０．ＩＴｏｒｒプラズマ出力　
　　　　２００Ｗ プラズマ周波数　　　　１３．５６ＭＨｚ膜　　　厚　
　　　　　　　　　　２５人組成（原子比）　　　　　
Ｈ／Ｃ＝０．３Ｎ／Ｃ＝０．０８ 結果を表２に示した。 実施例３ 下記に示すような磁気記録層を用い、実施例１と同様に
磁気テープを作製し、電磁変換特性を測定した。 札入ヱ旦１ユ ベースフィルムを円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移
動させ、０２＋Ａｒ（容積比１：１）を毎分８００ｃｃ
の早さで流し、真空度を１、Ｏｘ　１０−’Ｔｏｒｒと
したチャンバー内で、Ｃｏ８０、Ｎｉ２Ｏよりなる合金
を溶融し、入射角９０°〜３０°の部分のみ斜め蒸看し
、膜厚０．１５−のＣｏ−Ｎｉ−０薄膜を形成した。 また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみに覆わ
れていた。 Ｈｃ＝１０００　０ｅ。 膜中の平均酸素量は、ＣＯとＮｉに対するで４０％であ
った。 なお、被覆層の下には、プラズマ重合膜１のかわりに、
下記の条件にて、下記のプラズマ重合膜３を設層した。 結果を表３に示した。 プラズマ重合膜３ 原料ガス　　　　　ＣＨ４６０ＳＣにＭＣＯ２２０ＳＣ
ＣＭ 動作圧力　　　　　　　０．１Ｔｏｒｒプラズマ出力　
　　　　１５０Ｗ プラズマ周波数　　　　１３．５６帽１ｚ膜　　　厚　
　　　　　　　　　　　３５人組成（原子比）　　　　
　Ｈ／Ｃ＝０．３０／Ｃ＝０．０４ 実施例４ 上記実施例のサンプル１０１，２０５゜３０６において
、各プラズマ重合膜を設けないもの、あるいは下記のプ
ラズマ重合膜４を設けたものを作製した。 プラズマ重合膜４ 原料ガス　　　　　ｃＨ，７０ＳＣＣＭＮＨ３７０ＳＣ
（：Ｍ キャリアーガス　　　　　　５０ＳＣＣＭ（Ａｒ） 動作圧力　　　　　　　０．ＩＴｏｒｒプラズマ出力　
　　　　２００Ｗ プラズマ周波数　　　　１３．５６ＭＨｚ膜　　　厚　
　　　　　　　　　　１００人組成（原子比）　　　　
　Ｎ／Ｃ＝０．０８これらにつき、下記の特性を測定し
た。 （１）耐スクラッチ試験 新東科学■製の連続引っかき強度試験機（ＴＹＰＥ−Ｈ
ＥＩＤＯＮ−１８）により、引っかききすが入る垂直荷
重を測定した。 評価値としては、プラズマ重合膜を設けてぃない媒体サ
ンプルの引っかき垂直荷重Ｗ０に対するプラズマ重合膜
を設けた媒体サンプルのひっかき垂直荷重Ｗの比Ｗ　／
　Ｗ　Ｏで表示した。 なお、値の評価は、同一磁性層で比較する。 （２）接着強度 テープの磁性塗膜側に接着テープを一定の圧力で接着さ
せ、この接着テープを一定の圧力で接着させ、この接着
テープを１８０°の角度方向に一定の速度で引き離し、
剥離に要した力を測定した。 プラズマ重合膜なしを基準とし、その値を１としてその
相対値で示した。 結果を表４に示した。 実施例５ 被ＪコＵ工 実施例１に示される被覆層１の組成に、さらに潤滑剤と
してミリスチン酸を７重量部加えて、これらの混合物を
プラズマ重合膜１、被覆層１の場合と同様に厚さ３０−
のポリエステル基板上に処理・設層した。 なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
ｌＩｌ［ｌ＋２であった。 １１豆互ユ 実施例１に示される被覆層１の組成に、さらに帯電防止
剤として第４級アンモニウム塩を１０重量部加えて、こ
れらの混合物をプラズマ重合膜１、被覆層１の場合と同
様に厚さ３ｏ、ｍのポリエステル基板上に処理・設層し
た。 なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
ｌｌ１ｍ２であった。 この被覆層５１および５２を有するベースフィルムを工
程流動させた時、スムーズに走行するために、フィルム
巻き取り時の巻きしまりがなく、しかも工程走行中での
フィルム表面の帯電がないために、巻き取りによるハリ
ツキを防止することができた。 実施例６ １４戸厚さ、Ｒ２０＝０．０１５−のポリエチレンテレ
フタレートの基板上に、実施例１で用いたプラズマ重合
膜１、被覆層１および磁気記録層１をプラズマ処理なし
で設層した。 ベースフィルムの接着強度を下記のように測定した。 すなわち作製した１／４インチ幅テープの磁性塗膜側に
接着テープを一定の圧力で接着させ、この接着テープを
１８０°の角度方向に一定の速度で引き離し、剥離に要
した力を測定した。 この結果、プラズマ重合膜をプラズマ処理なしで設層し
たものは、プラズマ処理したものに比べ、接着強度は６
０％程度の値であった。 以上、これらの結果より本発明の効果が明らかである。 　また本発明のベースフィルムを用いることにより、そ
の製造コストは従来のものに比べ３０〜７０％安価にす
ることができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は直流、交流および周波数可変型電源を使用した
プラズマ重合装置の概略図である。 符号の説明 ５３−・・混合器、 ５４・−直流、交流および周波数可変型電源、５７・・
・液体窒素トラップ、 ５８・・・油回転ポンプ、 ５１１．５１２・・・処理ガス源、 ５２１．５２２−−・マスフローコントローラ、５６１
．５６２・・・繰り出しおよび巻取り口−ル

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２μｍ以上の可とう
   性基板上に、プラズマ重合膜を有し、この重合膜上に重
   合性バインダーと平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔
   料とを含有する被覆層を有することを特徴とする磁気記
   録媒体用ベースフィルム。
2. （２）プラズマ重合膜がＣまたはＣとＨ、ＮおよびＯの
   １種以上を含む特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録
   媒体用ベースフィルム。
3. （３）プラズマ重合膜の膜厚が５〜８０Åである特許請
   求の範囲第１項または第２項に記載の磁気記録媒体用ベ
   ースフィルム。
4. （４）重合性バインダーが、放射線硬化型化合物を架橋
   重合させたものである特許請求の範囲第１項ないし第３
   項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。
5. （５）重合性バインダーが、放射線硬化型化合物を架橋
   重合させたものである特許請求の範囲第１項ないし第３
   項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。
6. （６）微粒子顔料の平均配設密度が、１０＾４〜１０＾
   ９個／ｍｍ＾２である特許請求の範囲第１項ないし第５
   項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。
7. （７）被覆層表面の表面粗度が、可とう性基板の表面粗
   度の７０％以下である特許請求の範囲第１項ないし第６
   項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。
8. （８）可とう性基板がプラズマ処理されたものである特
   許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の磁
   気記録媒体用ベースフィルム。
9. （９）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２μｍ以上の可とう
   性基板上にプラズマ重合膜を有し、この重合膜上に設け
   られた被覆層と、この被覆層上に設けられた磁気記録層
   とを有する磁気記録媒体において、上記被覆層が、重合
   性バインダーと平均粒径５０〜１５００＿Ａの微粒子顔
   料とを含有することを特徴とする磁気記録媒体。