JPS6292123A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｔ　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体に関し、特に高密度化が可能な
電気記録媒体に関する。

先行技術とその問題点 近年、磁気記録媒体において記録の高密度化が要求され
てきている。　　しかし、従来広く使用されてきた磁化
の方向が記録媒体の面内にある面内磁気記録方式では相
互に磁化か反発し合い、一定態上の高密度化は不可能と
なる。　そこで、磁化の方向が記録媒体の面に東向であ
るため磁化の反発かない垂直磁気記録方式か注目されて
きている。　この方式にはＣｏ−Ｃｒスバ・・・夕！Ｉ
Ｑを記録膜とするものやバリウムフェライト等の磁性粒
子を用いて塗ＩＨ＋型の記録層を形成するものが提案さ
ねでいる。

ｑ、／Ｉｉ型の記録層を形成する際には、垂直配向か行
ない易いとの理由から六方晶系の板状のバリウムフェラ
イトなどがよく用いられており、特開昭５７−５８２４
６号、同５７−５８２４０号、同５７−２１２６２３号
、同５８−６５２６壮、［司５８−２２２４４６号、同
５９−９６５３２号等に開示されている。

このような垂直磁気記録方式では用いる磁性粒子の大き
さ、粒度分布、塗膜の表面粗度などといった因子か小筒
配向度や記録再生時のノイズ等の一気記録媒体としての
特性に深く関わっていると考えられており、上記の特許
文献においても様々な改良か試みられている。

しかし、まだ十分とはいえず、磁性粒子も含めて磁性層
についての一層の改良が望まれている。

ＩＴ　　発明の「１的 本発明の「１的は、垂直配向度が改良された磁性層を有
し、電電変換特性に優わた磁気記録媒体を提供すること
にある。

■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は平均粒径をｄ（μｍ）、平均板状比を
Ｒとした場合、このｄとＲの関係が０．１＜ｄ≦０，１
５かつＲ≧２８０ｄ−２２を満足するような板状磁性粉
と、バインダーとを含有する磁性層を支持体上に有する
ことを特徴とする磁気記録媒体である。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の磁気記録媒体は下記のような磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を有する。

磁性粉は、好ましくは六角板状のバリウムフェライト系
のものである。

そして、本発明においては、この板状磁性粉の・ト均粒
径をｄ（μｍ）、平均板状比をＲとした場合、このｄと
Ｒの関係が０．１＜ｄ≦０１５かつＲ≧２８０ｄ−２２
を満足するような板状磁性粉を用いる。

ここで、平均粒径ｄ（μｍ）とは、電子顕微鏡写真［走
査形顕微鏡（ＳＥＭ）および透過形顕微鏡（ＴＥＭ）］
によって、例えば六万晶系のバリウムフェライト粒子の
断面５０個程度を観察し、粒径についての測定値を平均
にしたものである。　゛Ｙ均厚みは、Ｘ線回折による２
θの゛姓値巾によってｄ）１定することが好ましい。

平均板状比Ｒは平均粒径／Ｖ均厚みの値である。

゛Ｖ均粒径ｄが０１μｍ以下になると、微粒ｒ粉となる
ため、分散性か悪く垂直配向しにくい。　そのため主情
、特に、Ｃ／Ｎ比、エンベロープ特性か悪くなる。

また、０．１５μｍをこえると粒径か大きくなるため、
Ｃ／Ｎ比か低下するという不都合が生じる。　また平均
粒径ｄか０．１＜ｄ≦０．１５の範囲内であってもＲ≧
２８０ｄ−２０の範囲を満足しない場合には、垂直配向
しにくいために、Ｃ／Ｎ比が低下するという不都合か生
しる。

このような場合、０．１＜ｄ≦０．１３、より好ましく
は０．１１＜ｄ≦０．１３であることが好ましい。

また、Ｒ≧２００ｄ−１０、より好ましくはＲ≧２０で
あることが好ましい。

なお、Ｒの上限値には特に制限はないが、通常、６０以
下である。

バリウムフェライトとしては、ＢａＦｅ、□Ｏ１９等の
六方晶系バリウムフェライトやバリウムフェライトのＢ
ａ、Ｆｅの一部をＣａ。

Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｎ。

Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎその他の金
属で置換したもの等が挙げられる。

これらは併用してもよい。

また、六方晶ストロンチウムフエライトト５ｒＦｅ、□
ＯＩ９、あるいはこれを上記に準じて置換したものであ
ってもよい。

バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの方
法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミック
ス１８（１９８３）陽、１０”などを参照することがで
きる。

そして、このような磁性粉を含有する磁性層の厚さは、
用いる磁性粉の形状寸法によって様々の値をとりうるが
、通常３．５μｌ以下、特に好ましくは０．１〜１．５
μｍである。

この値が上記の範囲をこえ磁性層を厚くしすぎると、磁
性粉の垂直配向度が悪くなるため磁性層表面の表面粗度
も悪くなる。　またＣ／Ｎ比も悪くなる。

この磁性層表面の表面粗度Ｒ２０＝０．０８μｍ以下で
あり、特にＲ２０＝０．０６μｍ以下であることが好ま
しい。　通常、このＲ２ｏの限界値は０．０１程度であ
る。

Ｒ２０が０．０８μｍをこえると、表面粗度が悪くなっ
てヘッドタッチが悪くなり、Ｃ／Ｎ比が悪化するからで
ある。

ここで、表面粗度Ｒ２゜の定義と表示は１．Ｊ　Ｉ　５
８０６０１に記載されている１０点平均表面粗度Ｒ１ｏ
に準じ、測定点を１０点から２０点に増して新たに規定
したものである。

すなわち、２０点平均表面粗度Ｒ２゜は、例えば触針針
により描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から
基準長さだけ抜き取った部分において、記録チャート進
行方向に記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断
面曲線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に
測定した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と
、最深から１０番目までの谷底の標高の平均値との差を
マイクロメーター（μｍ）で表わしたものをいう。

なお、２０点平均表面粗度Ｒ２ｏを求める場合の基準長
さしは、原則として２０点平均表面粗度Ｒ２０の範囲に
よって異なり、 ０．８μｍ≦Ｒ２ｏの場合　Ｌ＝０．２５ｍｍ０　、８
　μｍ　＜　Ｒ２０≦６．３μｍの場合Ｌ＝０．８ｍｍ ６、３　μｍ　＜　Ｒ２０＝２５μｍの場合Ｌ＝２．５
ｍｍ ２５μｍ＜Ｒ２ｏ≦１００μｌの場合 Ｌ　　＝　　８　　ｍｍ １００μｍ＜Ｒ２ｏ≦４００　μｍの場合Ｌ＝２５ｍｍ とする。

また、カットオフ値は、触針スピード３０４ｚｎ／ｓｅ
ｃで、０．１８〜９Ｈｚ程度とする。

また、触針針の針先端面の大きさはＯ６１×２．５μｍ
、針圧は２ｍｇとする。

磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量１０，０００〜 ２００．０００、重合度２００〜２，０００程度のもの
である。

熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。　そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。

具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エボキ
シーボリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カル
ボン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。

そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３．０５８．８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物が好ましい。

このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で５０〜８０℃にて６〜１００時間加熱すれ
ばよい。

バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。

放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
存する化合物であれば用いることができる。

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。

分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上
にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水ある
いは脱アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温
し、０．５〜ｌｍｍＨｇの減圧下、縮合反応により得る
ことができる。　マレイン酸やフマル酸等の含有量は、
製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モ
ル％、好ましくは１０〜３０モル％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、例えばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ１ＶＹＥＧＸ、　　ＶＥＲＲ，Ｖ
ＹＥＳ、　　ＶＭＣＡ。

ＶＡＧＨ，ＵＣＡＲＭＡＧ５２０　　、　ＵＣＡＲＭＡ
Ｇ５２８等が挙げられ、このものにアクリル系二重結合
、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して
放射線感応変性を行う。

これらはカルボン酸を含有してもよい。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１，２プロピレングリコール、
１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１゜
４ブタンジオール、１，６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、１．４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂を５
０３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。

（３）ポリビニルアルコール系１Ｍ店 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。

（４）エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２．１５４　、８２８　、１００１．１００
４．１００７）　、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１　、
ＤＥＲ７３２、ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３３１）、大日本
インキ製（エビクロン４００．８００）、さらに上記エ
ポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂
（ＰにＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本イン
キ化学工業製（エビクロン１４５．１５２　、１５３　
、＋１２０）等があり、またこれらにカルボン酸基を含
有するものも含まれる。　これら樹脂中に含まれるエポ
キシ基を利用して放射線感応変性を行う。

（５）ｗＡ維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。

（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−
トルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシ
アネート、１．４−キシレンジイソシアネート、１．５
−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．３
′−ジメチル＝４．４′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、
４．４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート
、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジ
ュールＬ、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネー
トと、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、１．４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチ
ルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツールの
様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽
和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエー
テル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタ
ム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ
ル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の
縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレポ
リマーが有効である。

これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。　
また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有する
ものも含む。

さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を存する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。

（２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋および重合させるエラストマー成分として適する。

（３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。　
Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基とな
っている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。

またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。

その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インブレンゴムおよびその
環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＃３００）等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。

オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート
、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレー
ト（アロニックスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５０
０，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマーに
ッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはεカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物、式中、ｍ＝１
、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペンタエリスリ
トール縮合物Ａという）、 ｒｎ＝＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、
ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合
物Ｃという）、ｍ＝＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以
下、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、およ
び下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げ
れる。

り　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２０Ｈ
（特殊アクリレ−）Ａ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ２）３　　ＣＣ８
２ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈａ　）ｎ　−
０ＣＨ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） ８）　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−
ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） ■ ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートり Ａニアクリノー唆、　　　Ｘ：多価アルコールＹ：多塩
基酸　　　　　（特殊アクリレートＫ）１２）　　　　
Ａ（−Ｍ−Ｎ＋−Ｍ−ＡＡニアクリル酸、　　　Ｍ：２
価アルコール次に、放射線感応性バインダー合成例を説
明する。

ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、
８０℃昇温昇温ジトリレンジイソシアネート−とドロキ
シエチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、
さらにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０
．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。

反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部を加
え希釈する。

［Ｘ’トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの
製法 ＴＤＩ３４Ｂ部をＮ２気流中１１の４つ目フラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０，０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し、
反応を完結させる。

反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−Ｓ１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１．４分と共に５１
の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さらに
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％
以上となるまで反応せしめる。

反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。

Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃昇温後、ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸スズ
０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８
０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるまで
反応せしめる。

ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。

◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２とドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。

このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。

ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤ　Ｉ　）　系ウレタンプレポリマー（日本ポリ
ウレタン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ
３２．５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸ス
ズ０．００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、
ＴＤ１４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃とな
るように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反
応率９５％以上となるまで反応せしめる。

ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性ニラストアーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２）（ＨＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．
０７部、オクチル酸スズ０゜００９部を反応缶にいれ、
８０℃に加熱溶解後、ＴＤ１４３．５部を反応缶内の温
度が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴
−Ｆ終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応
せしめる。

ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアベトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
イットレジンＲ−１５２５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部
、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．００
９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３
．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５％
以上となるまで反応せしめる。

高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。

分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。　このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま使用可能である。

このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。

なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。

この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。

　光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量
％の範囲が望ましい。

紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。

一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧１００〜７５０にＶ、好ましくは１５０〜３０
０ＫＶの放射線加速器を用い、吸収線量を０．５〜２０
メガラツドになるように照射するのが好都合である。

特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および時運した紫外線
を使用する方法が有利である。

ざらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。

このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。　またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。

磁性粉／バインダーは、重量比で１／１〜９／１、特に
２／１〜８／１であることが好ましい。

このような割合とするのは１／１未満では飽和磁束密度
が低くなり、９／１をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。

本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。　
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。

例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。

これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００ｗ
ｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ％の割合で用いる。

磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。

無機顔料としては、ｌ）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た２）無機充填剤として５ｉ０２　、ＴｉＯ２、Ａ１２
０３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｓ　ｉＣ，Ｃａｂ、ＣａＣＯ３、酸
化亜鉛、ゲーサイト、γ−Ｆｅ２０３．タルク、カオリ
ン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブ
デン、ＺｎＳ等がある。　またこの他、次のような微粒
子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイプ）：５ｉ
０２．ＡＪＺ２０３　、ＴｉＯ２，２ｒ０２、 Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ２、Ｆｅ３０４　、
Ｆｅ２０３　、ＺｒＳ　ｉ　０４、Ｓｂ２０５．５ｎ０
２等も用いられる。　これら微粒子顔料は、例えば５ｉ
０２の場合、■無水珪酸の超微粒子コロイド溶液（スノ
ーテックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産化学
）、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微
粒子状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、日
本アエロジル株式会社）などが挙げられる。　また、前
記■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で
製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化
チタンおよび前述の微粒子顔料が使用され得る。　この
様な無機顔料の使用量は１）に関してはバインダー１０
０重量部に対して１〜３０重叶部、また２）に関しては
１〜３０重量部が適当であり、これらかあまり多くなる
と、塗膜かもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。

また、無機顔料の径については１）に関しては０１μ■
以下、さらには０．０５μｍ以下が好ましく５２）に関
しては０．７μｍ以下、さらには０．５μｍ以下が好ま
しい。

磁性層には分散剤が含まれていてもよい。

分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；高
級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤：カルポン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等の
両性活性剤などが使用される。

磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。

ｌＥ１滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用い
られる潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、
脂肪酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および
／または脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨｌＲは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪
酸エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂
肪酸と炭素数３〜１２個のｍ個のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、炭素数１７個以トの一塩基性脂肪酸と
脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３個より
なるｍ個のアルコールとからなる脂肪酸エステル等が使
用され、また前記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ
土類金属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。

シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。　アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られるものが使用される。

潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。　これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２ＣＯＯＲ１ＣＨ２Ｃ０ＯＲ
。

ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖ま
たは分校状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これら
はフッ素置換体とすることもできる。

フッ素置換体としては、 Ｃｎ　Ｆ　２ｎ＋ｌ−１Ｃｎ　Ｆ　２ｎ＋１　（ＣＨ２
）　ｍ−（ただし、ｍ＝１〜５）、 ＣｎＦ２．．１ＳＯ２ＮＣＨ２ＣＨ２−１ＣｎＦｎＣＨ
２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−１（：ｎＦ　　００ＣＯＯ
（：１１２　ＣｌＩ２−ｎ−１ 等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート　（アクリレート）等が挙げられる。

分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０．１〜２０
重量部含ませるがよい。

支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。

これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体では通常、支持体の両面に磁性層
が設けられる。　このような媒体としては、例えばフロ
ッピーディスク、ハードディスク等がある。

また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。

なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。

バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量ｓ、ｏｏｏ〜１００，０００のプラスチック状化
合物、（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を１個以上有するか、または放射線硬化性を有しない、
分子ｉ３，０００〜ｔｏｏ、ｏｏｏのゴム状化合物、お
よび（Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を
１個以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物を
、（Ａ）２０〜７０重量％、（Ｂ）２０〜８０重１％、
（Ｃ）１０〜４０重量％の割合で用いた組合せが好まし
い。

また、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることが
でき、これらは平均分子量 ２００．０００以下のものが好ましい。

特に好ましいものは、Ｍｌ維素樹脂（硝化綿等）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）であ
る。

顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。　そのなかの１）に関してバインダー
１００重量部に対して２０〜３００重量部、２）に関し
ては１０〜３００重量部含ませることが好ましい。

潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用できる
。　なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用
いるのが好ましい。

本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従フて行え
ばよく、磁性粉をバインダー、打機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、プレートコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や垂直方
向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ましくは
常法に従い放射線硬化すればよい。　そして必要に応じ
てバックコートおよびトップコートを設ければよい。

配向処理は、常法に従う。

配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等、種々のものが用いられる。

そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
、反磁場が働いてもそれらの影習が出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必要
がある。

磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。　
この場合、本発明では、板状比が大きく配向しやすいた
め、１０００〜４０００Ｇ程度でも十分目的にかなうも
のとなる。

本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗膜のアン
ダーコート層を設けることもできる。　これらは併用し
てもよい。

塗膜のアンダーコート層には、前述したような熱硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。

導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。　
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディ
スクブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい
。

カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して１０
〜１００　　ｍμｍ、特に好ましくは１０〜８０ＩＩＩ
μＩである。　さらに粒子径について言えば、粒子径１
００ｍＡＬｍを超えるとアンダーコート層面の表面粗度
か悪くなり、磁性層塗布後の型持低下の原因となる。

また１０ｍμｍ未満では分散がうまくいかず、やはりア
ンダーコートの表面粗度が悪くなる。

カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラフアイ１〜化
カーボンブラツクも用いることができる。

このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。

アンダーコート層の厚さは１０人〜５μｍ程度とするこ
とが好ましい。

■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、平均粒径をｄ（μｍ）、板状比をＲと
した場合、このｄとＲの関係が０．１＜ｄ≦０．１５か
つＲ≧２８０ｄ−２２を満足するような板状磁性粉を含
有するため、塗料化での分散性が良好でしかも塗膜形成
時に磁性粉が垂直配向しやすい。　そのため型持面でエ
ンへローブ、Ｃ／Ｎ特性が良好となる。

このような磁気記録媒体は、デジタルオーディオチーブ
、フロッピーディスク、８ミリビデオテープ、ビデオフ
ロッピー、ハードディスク等に用いて有効である。

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例！ 表１に示すような粒径、厚み、板状比をもつ六方晶系バ
リウムフェライトＡ （Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　Ｈ２０１ｇのＢａ、Ｆｅを一部置換
したものを水熱合成法で合成）を用いて以下のようにし
て磁性塗料を作製した。

バリウムフェライト　　　　１２０重量部（Ｈｃ＝８０
０） α−Ａ１２０３ （０，５μｍ粉状）　７重量部 カーボンブラック （２０ｌＩＩＡｔｍ）　　　１０重量部溶剤 （ＭＥＫ／トルエン： ５０１５０）　　　　１００重量部 上記組成物をボールミル中にて２時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。

次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有： ＭＷ４０，０００）３重量部（固型分換算）、アクリル
二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体（マレイン酸含有： ＭＷ２０，０００）１５重量部（固型分換算）、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（ＭＷ４０，０００）６重量部（固型分換算）、 トリメチロールプロパントリアクリレート６重量部、 溶剤（ＭＥＫ／ｌ−ルエン、５０１５０）２００重量部 ステアリン酸を４重量部、 および ステアリン酸ブチル２重量部 を混合溶解させた。

これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び４２時間混合分散させた。　このようにして得られた
磁性塗料を３３μＩのポリエステルフィルム上にグラビ
アコートを行ない、永久磁石（２０００Ｇ）上で乾燥さ
せながら垂直配向させ、その後遠赤外ランプまたは熱風
により溶剤を乾燥させた。　表面平滑化処理をした後、
ＥＳＩ社製エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を
使用して加速電圧 １５０にｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５Ｍｒａｄ
の条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬
化させた。　硬化後の塗膜（磁性層）の厚さは１．５μ
ｍであった。

なお、このＩＳ厚の測定は電子マイクロメーターで行っ
た。

このようにして作製したものを試料１０１〜１０８（表
１）および試料２０１〜２１３（表２）とする。　これ
らの試料について特性を調べた。

特性は以下のように評価した。

（１）平均板状比 電子顕微鏡写真［走査形電子顕微鏡（ＳＥＭ）および透
過形電子顕微ｆｉ　（ＴＥＭ）］およびＸ線Ｘ折回よる
２θの半値巾によって六方晶系のバリウムフェライト粒
子５０個について観察して平均粒径を測定値し、また、
Ｘ線回折の２０から平均厚みを求め、この　平均粒径／
平均厚みを算出し、平均板状比とした。

（２）表面粗度　Ｒ２［１ タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用
いて得たチャートから２０点平均法で求めた。

カットオフ０．１７ｍｍ、触針針の針先端面の大きさは
０．ＩＸ２．５μｍ、針圧は２ｍｇとした。

（３）垂直配向度 磁気テープの垂直方向の角形比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍを測
定し、反磁場補正を行った。

（４）Ｃ／Ｎ−１、Ｃ／Ｎ　−２ ビデオフロツピーで中心周波数７ＭＨｚ、９ＭＨｚ　　
ＲＦ倍信号て記録再生した場合のＣＺＮ比（相対値）を
示す。

Ｃ／Ｎ−１は中心周波数より０．１ＭＨｚ、Ｃ／Ｎ−２
は、０．３ＭＨｚ離れたところの測定値である。

回転数３６００ｒｐｍ、相対速度６．６ｍ／ＳｅＣとし
た。

これらの結果を表１、表２および第１図に示す。　なお
、第１図は平均粒径をｄ（μｍ）、平均板状比をＲとし
、本発明で用いる磁性粉の好′Ｊｆ！ｉ範囲を示すグラ
フであり、その範囲内を斜線で示したものである。　そ
してさらに表１の各試料について、平均粒径ｄ（μｍ）
と平均板状比Ｒの関係をプロットしたものである。

本発明（Ｎｏ、１０５〜１０８，２０２〜２０５．２０
７〜２１１）をＯで、比較（Ｎｏ、１０１〜１０４，２
０１，２０６゜２１２〜２１３）を・で示した。

表１、表２および第１図の結果より、以下のことがわか
る。

すなわち、所定の平均粒径および平均板状比を有する磁
性粉を用いた本発明の磁気記録媒体は表面粗度Ｒ２ｏ、
垂直配向度がよく、そのためＣ／Ｎ比がきわめて良好と
なる。

実施例２ 実施例１で用いた支持体上の表面と裏面の両面上に下記
に示すようなアンダーコート層を設層した。

アンダーコート−重量部 カーボンブラック　２０　　ｍμｍ　　　　　　　５０
（八）アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共重
合体　分子量４５．０００　　４５（Ｂ）アクリル変性
ポリウレタンエラストマー分子量５．０００　　　　　
　　　　　　４５（Ｃ）ペンタエリスリトールトリアク
リレートステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　
２ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合溶
剤（Ｍｉｌｌに／トルエン＝１／１）　　３００上記混
合物をボールミル中５時間分散させ、上記のポリエステ
ル（ＰＥＴ）フィルム上に乾燥厚０．７μｌになるよう
に塗布し、表面平滑化処理を行ない、エレクトロンカー
テンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０Ｋｅ
Ｖ、電極電流１０ｍＡ、吸収線量５Ｍ　ｒ　ａ　ｄ、　
Ｎ２ガス中で電子線をアンダーコート層に照射した。

このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成した。

平均粒径０．１２μｍ、平均厚み０．０１μ■の六方晶
系バリウムフェライト （Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０１９のｎａ、Ｆｅを一部変換
したものを共沈法で合成Ｈｃ＝７０００ｅ）１２０重量
部、 α−Ａｊ２２０３　　（０，５μ粉末）２重量部、 溶剤（ＭＥに／シクロへキサノン： ７０／３０）１００重量部 を用いて実施例１と同様にして磁性粉混合物を作った。

次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有； ＭＷ２０，０００）４重量部（固型分換算）、アクリル
変性フェノキシ （ＭＷ３５，０００）８重量部（固型分換算）、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー（ＭＷ
２０，０００）１８重量部（固型分換算）、 溶剤（ＭＥに／シクロヘキサノンニ ア０／３０）２００重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル３重量部、および ミリスチン酸ブチル３重量部 を混合溶解させた。

その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作製し、
特性を調べた。

たたし、配向処理は交流磁場（３０００Ｇ）を用いて行
った。

この試料Ａの特性を以下に示す。

Ｒ７００，０５μｍ 垂直配向度　　　０．８２ Ｃ／Ｎ−２比　　＋１．０ｄＢ 試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬化型に
かえて同様に処理した。

すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（マレイン酸含有）、アクリル変性フェノキシ、
アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー計３０
重量部を塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（ユニオンカーバイド社製ＶＡＧＨ）１５重量部
およびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラン３０２
）１５重量部にかえる以外は試料Ａと同様とし試料Ｂを
作製した。　ただし、この場合、分散後退性塗料中にイ
ソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネート
し）を５重量部（固型分換算）加えた。　また、表面平
滑後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。

試料ＡおよびＢについて８インチ径の巻きとりロールに
５０００ｍ＠きとったときのジャンボロールの外側と内
側でのＣ／Ｎ−１比およびＣ／Ｎ−２比の値を求めた。

これらの結果を以下に示す。

Ｃ／Ｎ−１比　　　　Ｃ／Ｎ−２比 （ｄＢ）　　　　　　　　（ｄＢ） 外　　側　　　内　　側　　　外　　側　　　内　　側
試料Ａ　　Ｏ，００，０＋１．０　　＋１．０（本発明
） 試料Ｂ−０，１−１，３＋１．０　　＋０．２（比　較
） この結果より試料Ｂではジャンボロールでの巻きしまり
があり、内側でのＣ／Ｎ−１比およびＣ／Ｎ−２比の低
下が著しいことがわかる。

実施例３ 実施例１の試料Ｎｏ、２０３　（表２）と同一の下均粒
径および板状比を有する板状磁性粉ならびにバインダー
を用いて、表３に示されるような磁性層の厚さを種々か
えた試料を作製した。

なお、製造方法は実施例１の場合と同様に行った。

特性は、面記のＲ２０、垂直配向度およびＣＺＮ比を測
定した。

結果を表３に示した。

表　　　　　３ （μｍ）　　　　　　（μｍ）　　　　　　　　　　　
７ＭＨｚ　　　９ＭＨｚ３０１　　　０．５　　　０．
０６　　　０．９２　　　＋２．８　　　＋０．９３０
２　　　０．８　　　０゜０６　　　０．９１　　　＋
２．６　　　＋０．７３０３　　　１．０　　　０．０
６　　　０．９０　　　＋２．１　　　＋０．５３０４
　　　１．２　　　０．０６　　　０．８８　　　＋１
．８　　　＋０．２３０５　　　１．５　　　０，０６
　　　０．８６　　　＋１．３　　−０．５３０６　　
　１．８　　　０．０７　　　０．７４　　　＋０．８
　　−２．０３０７　　　２．０　　　　（ＬＯ７０，
７１＋０．４　　−２．８３０８　　　３．５　　　０
．０７　　　０．６９　　　＋０．１　　−３．０３０
９　　　５．０　　　０．０８　　　０．６６　　−０
．７　　−４．０表３に示される結果より、磁性層の厚
さを規制することによって、垂直配向度が大きくなり、
電磁変換特性に優れた効果を発揮することがわかる。

そして、使用に際して、磁性層の厚さが３．５μｍまで
が実用に耐えうるということが確認された。　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１以上より、本発明の効果
は明らかである。　　　　−山 ≦ ４　、　’ＭｍｏｒｍｉＰ−ｔｔ’Ｑ＃　　　　　　　
　　　　　、４第１図は、平均粒径をｄ（μｍ）、平均
板状　　。

→４ 比をＲとし、本発明で用いる磁性粉の好適範囲、、イオ
ヶウ、アあ９、ヤ、□□□、え　　　“トものである。

　そしてさらに、前記表１の各試料Ｎｏ、についてプロ
ットしたものである。

出願人　　ティーディーケイ株式会社 ＩＧＩ 平均粒径ｄ　（ｐｍ）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）平均粒径をｄ（μｍ）、平均板状比をＲとした場
   合、このｄとＲの関係が０．１＜ｄ≦０．１５かつＲ≧
   ２８０ｄ−２２を満足するような板状磁性粉と、バイン
   ダーとを含有する磁性層を支持体上に有することを特徴
   とする磁気記録媒体。
2. （２）磁性層の厚さが３．５μｍ以下である特許請求の
   範囲第１項に記載の磁気記録媒体。
3. （３）磁性層表面の表面粗度Ｒ＿２＿０が０．０８μｍ
   以下である特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）バインダーが放射線硬化型化合物を硬化したもの
   である特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに
   記載の磁気記録媒体。
5. （５）磁性粉が六方晶系バリウムフェライトである特許
   請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁気
   記録媒体。