JPS6292122A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体に関し、特に高密度化が可能な
垂直磁化方式の磁気記録媒体に関する。

先行技術とその問題点 近年、磁気記録媒体において記録の高密度化が要求され
てきている。　しかし、従来広く使用されてきた磁化の
方向が記録媒体の面内にある面内磁気記録方式では相互
に磁化が反発し合い、−元以上の高密度化は不可能とな
る。　そこで、磁化の方向が記録媒体の面に垂直である
ため磁化の反発がない垂直磁気記録方式が注目されてき
ている。　この方式にはＣｏ−Ｃｒスパッタ膜を記録膜
とするものやバリウムフェライト等の磁性粒子を用いて
塗布型の記録層を形成するものが提案されている。

塗布型の記録層を形成する際には、垂直配向が行ない易
いとの理由から六方晶系の板状のバリウムフェライトな
どがよく用いられており、特開昭５７−５８２４６号、
同５７−５８２４０号、同５７−２１２６２３号、同５
Ｂ−６５２６号、同５８−２２２４４６号、同５９−９
６５３２号等に開示されている。

このような垂直磁気記録方式では用いる磁性粒子の大き
さ、粒度分布、塗膜の表面粗度などといった因子が垂直
配向度や記録再生時のノイズ等の磁気記録媒体としての
特性に深く関わっていると考えられており、上記の特許
文献においても様々な改良が試みられている。

しかし、まだ十分とはいえず、磁性粒子も含めて磁性層
についての一層の改良が望まれている。

ＩＩ　　発明の目的 本発明の目的は、垂直配向度が改良された磁性層を有し
、高周波領域まで周波数特性が良く、Ｃ／Ｎ比も良好な
電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供することにあ
る。

■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は、平均粒径０．１μｍ以下、板状比２
０以−［の板状磁性粉とバインターとを含有する磁性層
を支持体上に有することを特徴とする磁気記録媒体であ
る。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の磁気記録媒体は下記のような磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を存する。

磁性粉は、好ましくは六角板状のバリウムフェライト系
のものであり、電磁変換特性上、平均粒径が０．１μｍ
以下、特に０．０２〜０．０８μａ＋、平均厚みが０．
００５μｍ以下、特にｏ、ｏｏｔ〜０．００５μｍ１さ
らには０．００１〜０．００４μｌのものが好ましい。

板状比は２０以上、特に２２以上であるものが好ましい
。　この場合、板状比の上限値には特に制限はないが、
通常、６０以下である。

ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真（走査形顕微鏡
（ＳＥＭ）および透過形顕微鏡（ＴＥＭ））によって、
例えば六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面５０個
程度を観察し、粒径についての測定埴を平均にしたもの
である。

モ均厚みはＸ線回折による２θの半値［１］によって測
定することが好ましい。

板状比は平均粒径／平均厚みの値である。

平均粒径が０．１μｍをこえるとＣ／Ｎ比が悪くなり、
また、厚みが０．００５μ巾をこえると板状比が２０未
満となり、このものは板状比２０以上のものと比べて、
高周波領域での周波特性が悪く、しかもＣ／Ｎ比が小さ
くなる。

バリウムフェライトとしては、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０
１９等の六方晶系バリウムフェライトやバリウムフェラ
イトのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｔｉ％Ｃｒ、Ｚｎ、Ｉ　ｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎ
ｂ、Ｚｒ、Ｓｎその他の金属で置換したもの等が挙げら
れる。

これらは併用してもよい。

また、六方晶ストロンチウムフェライト５ｒＦｅ＋２０
１９、あるいはこれを上記に準じて置換したものであっ
てもよい。

バリウムフェライト等の製法としては、セラミンク法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの方
法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミック
ス１８　（１９８３）Ｎｏ、１０”などを参照すること
ができる。

磁性層の厚さは、媒体の特性に種々の影習を与えるため
に、その好適な磁性層の厚さは要求される特性に応じて
適宜選定することができる。

たたし、磁性層の厚さが５戸をこえるとＣ／Ｎ比が低下
するので、厚さは５−以下である。

また、電磁変換特性上、厚さは０．１４以上であること
が好ましい。

この場合、０．１〜３．０−１さらには０１〜１．５戸
となると、Ｃ／Ｎ比、特に高周波側のＣ／Ｎ比が良好と
なる。

この磁性層表面の表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０８μｍ以下で
あり、特にＲ２０＝０．０６μｍ以下であることが好ま
しい。

Ｒ２０が０゜０８μｍをこえると、表面粗度が悪くなっ
てヘットタッチが悪くなり、Ｃ／Ｎ比が悪化するからで
ある。

ここで、表面粗度Ｒ２ｏの定義と表示は、Ｊ■５８０６
０１に記載されている１０点平均表面粗度Ｒ１゜に準じ
、測定点を１０点から２０点に増して新たに規定したも
のである。

すなわち、２０点平均表面粗度Ｒ２゜は、例えば触針計
により描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から
基準長さだけ抜き取った部分において、記録チャート進
行方向に記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断
面曲線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に
測定した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と
、最深から１０番目までの谷底までの山頂の標高の平均
値と、最深から１０番目までの谷底の標高の平均値との
差をマイクロメーター（−）で表わしたものをいう。

なお、２０点平均表面粗度Ｒ２ｏを求める場合の基準長
さしは、原則として２０点平均表面粗度Ｒ２゜の範囲に
よって異なり、 ０．８−≦Ｒ２ｏの場合　Ｌ＝０．２５ｍｍ０　、８　
Ｉｊｘｎ＜　Ｒ２０≦６．３−の場合Ｌ＝０．　８ｍｍ ６．３−＜Ｒ２ｏ≦２５−の場合 Ｌ＝２．　　５ｍｍ ２５−＜Ｒ２ｏ≦１００−の場合 Ｌ＝８ｍｍ １００１ｍ＜　Ｒ２０≦４００−の場合Ｌ＝２５ｍｍ とする。

また、カットオフ値は、触針スピード３０−／ｓｅｃで
、０．１８〜９１１７程度とする。

また、触針計の針先端面の大きさは０．１×２．５μｓ
、針圧は２ｍｇとする。

磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるか、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。

熱ｉｉ’Ｊ塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、
平均分子量１０，０００〜 ２００．０００、重合度２００〜２，０００程度のもの
である。

熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。　そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。

具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などのｍ重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物なと、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カル
ボン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。

そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３．０５８，８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物が好ましい。

このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で５０〜８０℃にて６〜１００時間加熱すれ
ばよい。

バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。

放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。

分子鎮中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上
にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で。

１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し、０．５
〜ｌｍｍＨｇの減圧子−１縮合反応により得ることがで
きる。　マレイン酸やフマル酸等の含有星は、製造時の
架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、好
ましくは１０〜３０モル％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、例えばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣｌＶＹＥＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹＥ
Ｓ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ，ＵＣＡＲＭＡＧ５２０、ＵＣ
ＡＲＭＡ０５２８等が挙げられ、このものにアクリル系
二重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を
４人して放射線感応変性を行う。

こねらはカルボン酸を含有してもよい。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１．２プロピレンクリコール、
１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、！。

４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
クリコール、１．４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をＳ
Ｏ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。

（３）ボリヒ゛ニルアルコール ボッビニルアルコール、ブチラール樹脂，アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
こわら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。

（４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２、Ｉ５イ．　８２８、＋００１、＋００４
、＋００７）　、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ４３１　
、　Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２　、　Ｄ　Ｅ　Ｒ５１１、ＤＥＲ
３３１）、大日本インキ製（エビクロン４００　、８０
０）、さらに上記エポキシの高［［今度樹脂であるＵＣ
Ｃ社製フェノキシ樹脂（　Ｐ　Ｋ．　ＨＡ．ＰＫＨＣ，
ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒド
リンとの共重合体、大日本インキ化学工業製（エピクロ
ン＋４５、１５２　、１５３　、　１１２０１等があり
、またこわらにカルホン酸基を含有するものも含まわる
。　これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射
線１２名応変性を行う。

（５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等か好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹ＪＩＷ
としては，多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐ
ｖｐオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂
等も有効である。

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。

（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−
４ルエンジイソシアネート，１．３−キシレンジイソシ
アネート、１．４−キシレンジイソシアネート、１，５
−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．３
′−ジメチル−４、４′−ジフェニルメタンジインシア
ネート、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、
４，４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソフオロンシイソシアネーｉ
・、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、テスモ
シュールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル（エチレンクワコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、１．４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペン
チルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツール
の様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な
飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエ
ーテル（ポリエチレンクリコール、ポリプロピレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラク
タム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキ
シル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマーが有効である。

こわらのウレタンエラストマーの末端のインシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。　
また、末端に極Ｐ［Ｊ、Ｉ；としてＯＨ，Ｃｏｏｔ−１
等を含有するものも含む。

さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。

（２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー＋４３２　Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合か放射線によりラジカルを生じ
架橋および組合させるエラストマー成分として適する。

（３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。　
Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端か水酸基とな
りでいる為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。

またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。

その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物く日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＠３００）等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。

オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６−ヘキサンクリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサンクリコールジアクリレート
、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレー
ト（アロニックスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５０
０，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマーに
ッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにＣ０ＯＨ等の官能基か導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはＣカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物、式中、ｍ＝１
、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以ド、特殊ペンタエリスリ
トール縮合物Ａという）、 ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以■、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃ
という）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および下記
式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる
。

１）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３　　ＣＣＨ
２０Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３　　ＣＣＨ
２ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈｓ　）ｎ　　
０ＣＨ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） ８）　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−
ＣＣＨ２０Ｈｚ（特殊アクリレートＨ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ’＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） １１）　　　　　　　Ａ　　　　　Ａ Ａ−（Ｘ−Ｙ−）−Ｘ−Ａ Ａニアクリル酸、　　　ｘ′り価アルコールＹ：多塩廂
唆　　　　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射線感応
＋Ｌバインダー合成例を説明する。

ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体く放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を存する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、
８０℃昇温昇温ジトリレンジイソシアネート−ヒドロキ
シエチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、
さらにオクチル酸スズ０．０１２部、パイトロキノン０
．０１２部を加え、８０℃てＮ２気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。

反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部を加
え希釈する。

（※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤ　Ｉ　３４８部をＮ２気流中１１の４つ目フラスコ
内で８０°Ｃに加熱後、２−エチレンメタクリレート２
６０部、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０
．０５部を反応缶内の？Ｗ度か８０〜８５℃となるよう
に冷却コントロールしなから滴Ｆ終了後８０℃で３時間
撹拌し、反応を完結させる。

反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−３１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１．４分と共に５１
の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さらに
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＧＯ反応率が９０％
以上となるまで反応せしめる。

反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。

Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０で昇澗接、ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸スズ
０．００７部、ハイドロキノン０．００７ｆｆｌ！を加
え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上とな
るまで反応せしめる。

ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１゜０７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０　”Ｃで酸価５以下と
なるまで反応せしめる。

◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を（「するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社
製　分子　Ａ　３００００　）　６００部、メチルエチ
ルケトン１８００部を３１の４つロフラスコに仕込み、
加熱溶解し、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネート
の２ヒドロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０
部加え、さらにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロ
キノン０．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧ
Ｏ反応率が９０％となるまで反応せしめる。

このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。

ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０，０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤ１
４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるよう
に冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９
５％以上となるまで反応せしめる。

ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 ロ本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
７部、オクチル酸スズ０゜００９部を反応缶にいれ、８
０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。

ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアベトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
イットレジンＲ−１５２５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部
、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．００
９部を反応（丘にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤ１４
３．５部を反応缶内の温度か８０〜９０℃となるように
冷却しなから滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５
％以上となるまで反応せしめる。

高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。

分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンかある。　このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま使用可能である。

このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。

なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。

この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシヘン
ゾイン等のベンゾイン系、ヘンシフエノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。

　光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重世
％の範囲が望ましい。

紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。

一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好ましくは１５０〜３０
０ＫＶの放射線加速器を用い、吸引線噛を０５〜２０メ
ガラツトになるように照射するのか好都合である。

特に照射線源としては、吸収線量の；１．ＩＩ　ｍ、製
造上程ラインへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から
、放射線加熱器により電子線を使用１−る方法および面
述した紫外線を使用する方法か有利である。

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。

このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで谷さしまりかなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上１−る。　またオンラインで行えるので生産性か
良くなる。

磁性粉／バインダーは、重量比で１／′１〜９／１、特
に２／１〜８／１であることか好ましい。

このような’ｌ＃Ｉ：’Ｉ合と１−るのは１／１未満で
は飽■１磁束密度か低くなり、９／１をこえると分散不
良により表面粗度か悪くなり、また塗膜ももろくなり好
ましくなくなるからである。

本発明では必要に応じ、非反応性溶剤か使用される。　
溶剤としては特に制限はないが、バインターの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適１’ｌ’選択される。

例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、キ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール？０、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
ン５′古族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチル
ニーデル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフ
ラン、フルフラール等のフラン類等を皓−溶剤またはこ
れらの混合溶剤として用いられる。

こわらの溶剤はバインダーに対して１０〜＋００００ｗ
ｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ、％の割合で用いる。

磁性層には無機顔料か含まれていてもよい。

無機顔料としては、１）導電性のあるカーホンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た２）無機充填剤として５ｉ０２、ＴｉＯ２，ＡＲ２０
３，Ｃｒ２Ｏ３、Ｓ　ｉ　Ｃ，Ｃａｂ、ＣａＣＯ３、酸
化亜鉛、ゲーサイト、γ−Ｆｅ２Ｏ３，タルク、カオリ
ン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブ
デン、ＺｎＳ等がある。　またこの他、次のような微粒
子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイプ）　：　
Ｓ　ｉ０２　、　Ａｆ１２０３　、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２
、 Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ２、Ｆｅ３０４　、
Ｆｅ２０３　、ＺｒＳ　ｉ０４、Ｓｂ２０５．５ｎ０２
等も用いられる。　これら微粒子顔料は、例えば５ｉ０
２の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノー
テックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産（ヒ学
）、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微
粒子状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、日
本アエロジル株式会社）なとかｆげられる。　また、面
記■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で
製造ざわる超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化
チタンおよび前述の微粒Ｙ−顔料が使用され得る。　こ
の様な無機顔料の使用用はりに関してはバインダー１０
０川量部に対して１〜３０　ｊｌｔ　！□を部、また２
）に関しては１〜３０屯、ｉｉｔ部か適当であり、これ
らかあまり多くなると、塗膜かもろくなり、かえってド
ロップアウトか多くなるという欠点がある。

また、無機顔料の径については１）に関しては０．１μ
ｍ以ド、さらには０．０５μ田以下か好ましく、２）に
関しては０７μｍ以下、さらには０．５μｍ以下か好ま
しい。

磁性層には分散剤か含まれていてもよい。

分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤か、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤：アルキレンオキサイド系、クリセ
リン系、クリシドール系なとのノニオン界面活性剤；高
級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルホン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤ニアミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等の
両性活性剤などが使用される。

磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。

潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることかできるが、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、へヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨ２Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪
酸エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂
肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と
脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３個より
なる一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等が使
用され、また餌記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ
土類金属からなる金属石鹸、レシチン等か使用される。

シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。　　アルコール
としては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては
電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション
等によって得られるものが使用される。

潤滑剤の中ては、放射線硬化型のものも便ｌｌ−１して
好都合である。　これらは裏面への裏型転写を抑えるた
め、ドロップアウトの防止、ロール状に右かわたときの
内外径の個所よる出力差の減少の他、オンライン−トて
の製造か可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示ず分−ｆ−鎖と
アクリル系ニー重結合とを分子中に有する化合物、例え
ばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル
酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアル
コールエステル、メチルビニルアルコールエステル、ア
リルアルコールエステル、グリセライド等かあり、これ
らの潤滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ０ＯＲ。

ＣＨ２−ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２Ｃ００Ｒ１ＲＣＯＯＣＨ＝
ＣＨ２、 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ココテＲは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これら
はフッ素置換体とすることもできる。

フッ素置換体としては、 ＣｎＦ２゜＋、ＳＯ２ＮＣＨ２Ｃ）１２　−１ＣｎＦｎ
ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−５ＣｎＦ　　　　　Ｏ
＋Ｃ００ＣＨ２ＣＨ２−ｎ−１ 等がある。

これら放射線硬化型ｌＬ１滑剤の好ましい具体例として
は、ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ス
デアリルアルコールのメタクリレート　（アクリレート
）、グリセリンのメタクリレート（アクリレート）、ク
リコールのメタクリレート　（アクリレート）、シリコ
ーンのメタクリレート　（７クリレート）等か挙げられ
る。

分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０．１〜２０
　ｍ　’Ｕｋ部含ませるかよい。

支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。

これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体では通常、支持体の両面に磁性層
か設けられる。　このような媒体とし・では、例えばフ
ロッピーティスフ、ハードディスク等かある。

まｆ’ｚ必閾に応じてアンダーコート、バックコートお
よびｌ・ツブコートを設けてもよい。

なお、バックコートを設けるときには、バインター、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのかよい。

バインターとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二１１′ｊ結合を２個以上有
する。分子量５，０００〜ｉｏｏ、ｏｏｏのプラスチッ
ク状化合物、（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二
重結合を１個以上有するか、または放射線硬化性を有し
ない、分子−π３，０００〜ｔｏｏ、ｏｏ。

のゴノ、状化合物、および（Ｃ）放射線により硬化性を
もつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子：？Ｉ１２
００〜３．０００の化合物を、（Ａ）２０〜７０重寸％
、（Ｂ）２０〜８０重量％、（Ｃ）１０〜４０重量％の
割合で用いた組合せか好ましい。

また、熱射ｇノ性樹脂および熱硬化性樹脂も用いること
かでき、これらは平均分子量２００　＋０００以下のも
のが好ましい。

特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）である
。

顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。　そのなかの１）に関してバインダー
１００重量部に対して２０〜２００重量部、２）に関し
ては１０〜３００重量部含ませることが好ましい。

潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用てきる
。　なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用
いるのが好ましい。

本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどのＪ、シ体上にクラヒアコート、リバー
スロールコート、エフ−ナイフコート、エアードクター
コー１−、プレートコート、キスコー（・、スプレ（コ
ートなとの手法を用いて塗Ｉ５シ、必要に応して永″′
Ｖ方向や垂直方向の磁場等による配向処理を行〕て乾燥
し、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。　そ
して必要に応じてバックコートおよびトップコートを設
ければよい。

配向処理は、常法に従う。

配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場か代表
的なものとして用いらね、それらのむのの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機誠的配向や機械的配向とＬ記の組
合せ等、種々のものか用いられる。

そして磁場外で磁性粒子か反磁場のために配向したもの
か乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
、反磁場が働いてもそれらの影響か出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉か動かないようにする必要
がある。

磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。　
この場合、本発明では、板状比か２０以上と配向しやす
いため、１０００〜４０００Ｇ程度でも十分目的にかな
うものとなる。

本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高速Ｗｔ率金属薄１漠や各種塗膜の
アンダーコート層を設けることもできる。　これらは併
用してもよい。

塗ｎｑのアンダーコート層には、前述したような熱硬化
性樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無
機充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ
含まれる。

導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。　
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびティ
スフブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい
。

カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいか
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して１０
〜１００　ｍμｍ、特に好ましくは１０〜８０　　ｍμ
ｍである。　更に粒子径について言えば、粒子径１００
　　ｍμｍを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が
悪くなり、磁性層塗布後の電特低下の原因となる。　ま
た１０ｍ／ｉｍ未満では分散がうまくいかず、やはリア
ンターコートの表面粗度が悪くなる。

カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではクラファイト化カ
ーホンブラックも用いることができる。

このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイトローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。

アンターコート層の厚さは１０人〜５μｍ程度とするこ
とか好ましい。

■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、９Ｐ：均粒径０．１μｍ以下、板状比
２０以１−の板状磁性粉を含有するため、高周波領域ま
で周波数特性か良く、Ｃ／Ｎ比も良好て電磁変換特性に
優れた磁気記録媒体か得られる。

このような磁気記録媒体は、デジタルオーディオチーブ
、フロッピーディスク、８ミリビデオテープ、ビデオフ
ロッピー、ハートティスフ等に用いて（ｒ効である。

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１ 表１に示すような粒径、厚み、板状比をもつ六方晶系バ
リウムフェライトＡ （Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１７０１ｇのＢａ、Ｆｅを一部置換
したものを水熱合成法で合成）を用いて以下のようにし
て磁性塗料を作製した。

バリウムフェライト　　　　１２０重量部（Ｈｃ＝８０
０） α−Ａｆｉ２０３ （０，５μ粉状）　　２重量部 カーボンブラック （２０ｍμ）　　　　１０重量部 溶剤 （ＭＥＫ／ｌルエン： ５０１５０）　　　１００重量部 ト記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿拐させた。

次に、バインターとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体く
マレイン酸含有； ＭＷ４０，０００）６重量部（固型分換算）、アクリル
二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体（マレイン酸含有： Ｍ　Ｗ　２０　、　ＯＯＯ）　１２−＋ｒｊ叶部（固型
分換算）、 アクリルゴー重結合導入ポリニーデルウレタンエラスト
マー（Ｍ　Ｗ　４０　、　ＯＯＯ）　９　＋Ｒ′！辻部
（固（１１Ｊ分換算）、 ペンタエリスリトールトリアクリレート３１−■ｉｆｔ
部、 溶剤（ＭＥＫ／ｌ−ルエン、５０１５０）２００利■部 ステアリン酸を４重量部、 および ステアリン酸ブヂル２重量部 を混合溶解させた。

これをｉ竹粉混合物の入ったホールミル中に没入し、再
び４２時間混合分散させた。　このようにして得られた
磁性塗料を３３μｍのポリニスデルフィルム上にクラヒ
アコートを行ない、永久磁石（２０００Ｇ）上で乾燥さ
せなから小直配向させ、その後遠赤外ランプまたは熱風
により溶剤を乾燥させた。　表面゛Ｖ滑化処理（カレン
ターＪ川下）をした後、ＥＳｒ礼製エレクトロカーデン
タイプ電子線加速装置を使用して加速電圧 １５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５Ｍｒａｄ
の条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬
化させた。　硬化後の塗膜（磁性層）の厚さは１．５μ
ｍであった。　なお、この膜厚の測定は電ｆマイクロメ
ーターで行った。

このようにして作製したものを試料１〜２０（表１）と
する。　これらの試料について特性を、凋へた。

特性は以下のように評価した。

なお、１−記表面平滑化処理（カレンダー加玉）は試Ｐ
−１１０および１１については他の試料とは児なる圧力
で行い、その他は同一条件で行った。

（１）板状比 電子顕微鏡写真（走査形電子顕微鏡（ＳＥＭ）および透
過形電子顕微鏡（ＴＥＭ））およびＸ線回折による２θ
の半値巾によって六方晶系のバリウムフェライト粒子５
０個について観察して、平均粒径を測定し、また、Ｘ線
回折の２０から゛Ｐ−均厚みを求め、その５Ｆ−均粒径
／平均厚みを算出し、板状比とした。

（２ン表面粗度　Ｒ２゜ タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用
いて得たチャートから２０点平均法で求めた。

カットオフ０．１７ｍｍ、触針計の針先端面の大きさは
０．ＩＸ２．５−１針圧は２ｍｇとした。

（３）垂直配向度 磁気テープの垂直方向のｆｉｔ形比１３　ｒ　／　Ｂ　
ｍを測定し、反磁場補正を行った。

（４）Ｃ／Ｎ比 ビデオフロッピーで中心周波数７ＭＨｚおよび９ＭＨｚ
、ＲＦ信号にて記録再生した場合の各々のＣ／Ｎ比（相
対値）を示す。

Ｃ／Ｎは中心周波数より０．３ＭＨｚｊｌすれたところ
の測定値である。

回転数は３６００ｒｐｍ、相対速度は６．６ｍ　／　ｓ
　ｅ　ｃとした。

（５）出力 ビデオフロッピーで７ＭＨｚおよび９ＭＨｚのＲＦ信号
にてそれそわ記録再生した時の出力を示した。

これらの結果を表１、第１図および第２図に／Ｙマ＝１
−　、。

なお、第１図には、平均粒径０．１μｍのものについて
板状比と出力との関係が、第２図にはＬ記と同一平均粒
径にものについて、板状比とＣ／Ｎ比との関係が示され
ている。　そしてこれらの図において、パラメーターと
してそれぞれ中心周波数７ＭＨｚ、９ＭＨｚのものか用
いられている。

表１、第１図および第２図の結果より本発明の試料は１
Ｆ直配向度か大きく、電磁変換特性に（６れることかわ
かる。

そして、特に、第１図および第２図に示されるグラフの
結果より、７ＭＨｚの領域では、板状比に対１−る出力
、Ｃ／Ｎ比の向Ｅ効果か少ないが、９ＭＨｚのより高周
波領域になると、板状比に対して出力、Ｃ／Ｎ比の向上
効果が大きくなる。　これは板状比が大きくなるため、
配向しやすくなり、垂直成分の作用か大きくなり、その
結果、高周波領域まで周波数特性が良くなり、７ＭＨｚ
よりも９ＭＨｚの領域でより効果か大きくなるからであ
る。

特に、ビデオフロッピーのように内、外周での周波数特
性が問題となるものにおいて、高周波領域で周波数特性
が良好で、周波数特性が９ＭＨｚ程度迄伸びているもの
はきわめて良好な媒体といえる。

（実施例２） 実施例Ｉで用いた支持体トの表面と裏１ｍの両面１−に
下記に示すようなアンターコート層を設層した。

二久久ユ旦ユ土考　　　　　　　　　　ｊｌｊ　、ｉ４
ｉ部カーホンブラック　２０ｍｐｎ　　　　　　　５０
（Ａ）アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共屯
合体　分子量４５．０００　　４５（１（）アクリル変
性ポリウレタンエラストマー分子、ｉｉｔ　　５．００
０　　　　　　　　　４５（Ｃ）ペンタエリスリトール
トリアクリレートステアリン酸　　　　　　　　　　　
　　　２ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　　２
混合溶剤（Ｍ１１３に／トルエン＝１／１）　　３００
上記混合物をボールミル中５時間分散させ、Ｆ記のポリ
エステル（ＰＥＴ）フィルム上に乾燥厚０．７−になる
ように塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロンカ
ーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０Ｋ
ｅＶ、電極′ポ流１０ｍＡ、吸収線ｉ５Ｍｒａｄ、Ｎ２
ガス中で電ｆ線をアンターコート層に照射した。

このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成した。

すなわち平均粒径０．０８μの、平均厚み０．０２９μ
ｍ、板状比２７の六方晶系バリウムフェライト ［（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ＋２０１９のＢａ、Ｆｅを一部変換
したものを共沈法で合成（Ｈｃ＝９００）］１１２０重
量部 ａ−ＡＪ２２０３　　（０，５μ粉末）２重量部、 分散剤（大豆油未精製レシチン）３重量部および 溶剤（ＭＥＫ／シクロヘキサノンニ ア０／３０）１００重量部 を用いて実ｈｈ例１と同様にして磁性粉混合物を作った
。

次に、バインターとして 塩化ヒニルー酢酸ヒニルーヒニルアルコール共重合体く
マレイン酸含有。

ＭＷ２０．０００）６重量部く固型分換算）、アクリル
変性フェノキシ （ＭＷ３５，０００）６重ｈ１部（固型分換算）、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラスト７　　（Ｍ
　Ｗ　２０　、　ＯＯＯ）　１８　市Ｑ　部（固型分換
算）、 溶剤（ＭＥＫ／シクロヘキサノン。

７０／３０）２００市寸部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル３重量、都、および ミリスチン酸ブチル３　屯’；’１部 を混合溶解させた。

その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作製し、
特性を調へた。

たたし、配向処理は交流磁場（２０００Ｇ）を用いて行
った。

この試料Ａの特性を以下に示す。

Ｒｈｏ　　　　　　　　　　０．０４μｍ重直配向度　
　　　　　０．９４ Ｃ／Ｎ　　比　（９ＭＨｚ）　　　　　３．　　１ｄＢ
試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬化型に
かえて同様に処理した。

すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体くマレイン酸含有）、アクリル変性フェノキシ、
アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー計３０
重量部を塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ）１５重量部
およびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラン３０２
）１５ｉｉ部にかえる以外は試料Ａと同様に試料Ｂを作
製した。　ただし、この場合、分散後退性塗料中にイン
シアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネートし
）を５重量部（固型分換算）加えた。　また、表面平滑
後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。

試料ＡおよびＢについて８インチ径の巻きとりロールに
５０００ｍ巻きとったときのジャンボロールの外側と内
側でのＣ／Ｎの値を求めた。

この結果を以下に示す。

Ｃ／Ｎ比（ｄＢ） 外　　側　　　　　内　　側 試料Ａ（本発明）　　＋３．１　　　＋３．１試料Ｂ（
比較）　　　＋２．８　　　＋１．４この結果より試料
Ｂではジャンボロールでの巻きしまりかあり、内側での
Ｃ／Ｎ比の低下が著しいことがわかる。

実施例３ 実ｊＪｉ例１の試料Ｎｏ、　　５　（表１）と同一の平
均粒径および板状比を有する板状磁性粉ならびにバイン
ダーを用いて、表２に示されるような、磁性層の厚さを
種々かえた試料を作製した。

なお、製造方法は実施例１の場合と同様に行った。

特性は、＠記のＲ２０、垂直配向度およびＣ／Ｎ比（７
ＭＨｚおよび９ＭＨｚ）を測定した。

結果を表２に示１−０ 以上より、本発明の効果は明らかである。

【図面の簡単な説明】 第１図は、粒径０．１μｍのものについてパラメーター
を周波数９ＭＨｚ　（Ｏ印）、７ＭＨｚ（△印）とし、
板状比と出力との関係を示すグラフである。　第２図は
粒径０．１μｍのものについてパラメーターを周波数９
ＭＨｚ（Ｏ印）、７ＭＨｚ（△印）とし、板状比とＣ／
Ｎ比との関係を示すグラフである。 ＦＩＧ ＦＩＧ、１

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）平均粒径０．１μｍ以下、板状比２０以上の板状
   磁性粉とバインダーとを含有する磁性層を支持体上に有
   することを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）磁性層の厚さが５．０μｍ以下である特許請求の
   範囲第１項に記載の磁気記録媒体。
3. （３）磁性層表面の表面粗度Ｒ＿２＿０が０．０８μｍ
   以下である特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）バインダーが、放射線硬化型化合物を硬化したも
   のである特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
5. （５）磁性粉が六方晶系バリウムフェライトである特許
   請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁気
   記録媒体。