JPH0740343B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0740343B2 JPH0740343B2 JP60200210A JP20021085A JPH0740343B2 JP H0740343 B2 JPH0740343 B2 JP H0740343B2 JP 60200210 A JP60200210 A JP 60200210A JP 20021085 A JP20021085 A JP 20021085A JP H0740343 B2 JPH0740343 B2 JP H0740343B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- resin
- magnetic
- acid
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 I 発明の背景 技術分野 本発明は、特に六方晶系の板状磁性粉を含有する磁性層
を有する塗布型の磁気記録媒体に関する。さらに詳しく
は六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用した時
のオーバーライト特性を改善しようとするものである。
を有する塗布型の磁気記録媒体に関する。さらに詳しく
は六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用した時
のオーバーライト特性を改善しようとするものである。
先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の大容量化、小型化を達
成するために記録密度の向上が強く要望されている。
成するために記録密度の向上が強く要望されている。
従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、γ−Fe2O3、Co被着γ−Fe2O3等の針
状磁性粉を含有させた磁性層を有するものが汎用されて
きた。しかしながら、このような磁性粉を有する磁気記
録媒体では、その記録密度に、おのずから限界がある。
記録媒体としては、γ−Fe2O3、Co被着γ−Fe2O3等の針
状磁性粉を含有させた磁性層を有するものが汎用されて
きた。しかしながら、このような磁性粉を有する磁気記
録媒体では、その記録密度に、おのずから限界がある。
そこで、より高記録密度化を可能にならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式が提案されている。
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式が提案されている。
このような垂直方式に用いられる媒体としては、例えば
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性粉を
磁性層に含有する磁気記録媒体がある。
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性粉を
磁性層に含有する磁気記録媒体がある。
このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化が実現できるが、ディスク媒体として、従来のリン
グ型磁気ヘッドを用いたとき、十分なオーバーライト特
性を得ることができないという問題があり、この点の改
善が強く必要とされている。
度化が実現できるが、ディスク媒体として、従来のリン
グ型磁気ヘッドを用いたとき、十分なオーバーライト特
性を得ることができないという問題があり、この点の改
善が強く必要とされている。
II 発明の目的 本発明の目的は、オーバーライト特性が良好で、しかも
記録密度が高く、磁気特性の良好な磁気記録媒体、特に
ディスク媒体を提供することにある。
記録密度が高く、磁気特性の良好な磁気記録媒体、特に
ディスク媒体を提供することにある。
III 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、支持体上に平均粒径0.02μm〜0.
2μmの六方晶系の板状磁性粉とバインダーとを含有す
る磁性層を有する磁気記録媒体において、 媒体の垂直角型比が0.3〜0.53であり、しかも垂直方向
保磁力が400Oe〜800Oeであることを特徴とする磁気記録
媒体である。
2μmの六方晶系の板状磁性粉とバインダーとを含有す
る磁性層を有する磁気記録媒体において、 媒体の垂直角型比が0.3〜0.53であり、しかも垂直方向
保磁力が400Oe〜800Oeであることを特徴とする磁気記録
媒体である。
IV 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体(以下、単に媒体という)は、下
記のような六方晶系の板状磁性粉とバインダーとを含有
する磁性層を有する。
記のような六方晶系の板状磁性粉とバインダーとを含有
する磁性層を有する。
そしてこの媒体の特性として、垂直角型比は0.3〜0.5
3、より好ましくは0.3〜0.5である。
3、より好ましくは0.3〜0.5である。
さらに垂直方向の保磁力Hc⊥は400〜800 Oe、より好ま
しくは400〜700 Oe、さらに好ましくは450〜650 Oeであ
る。
しくは400〜700 Oe、さらに好ましくは450〜650 Oeであ
る。
これらの値が上記の値をこえた時、すなわち、垂直角型
比が0.53をこえ、しかも保磁力Hcが800 Oeをこえたとき
は、オーバーライト特性が悪くなり、リング型ヘッドを
用いていわゆる重ね書きができなくなるという不都合が
生じる。
比が0.53をこえ、しかも保磁力Hcが800 Oeをこえたとき
は、オーバーライト特性が悪くなり、リング型ヘッドを
用いていわゆる重ね書きができなくなるという不都合が
生じる。
また垂直角型比が0.3未満になると磁性層の表面粗度が
低下するため好ましくない。
低下するため好ましくない。
そして、Hc⊥400 Oe未満では十分な出力が得られない。
なお、垂直角型比および保磁力Hc⊥は下記のように測定
する。すなわち、媒体表面に垂直方向にて磁化曲線を測
定し、これを反磁界補正する。そして、これから残留磁
化Br⊥、飽和磁化Bm⊥、方向Hc⊥を測定する。垂直角型
比はこのBr⊥/Bm⊥の比である。
する。すなわち、媒体表面に垂直方向にて磁化曲線を測
定し、これを反磁界補正する。そして、これから残留磁
化Br⊥、飽和磁化Bm⊥、方向Hc⊥を測定する。垂直角型
比はこのBr⊥/Bm⊥の比である。
いわゆる両面記録媒体の場合であっても、上記の測定方
法によればよい。
法によればよい。
このような垂直角型比および保磁力は、バリウムフェラ
イトを例にすれば例えばBa、Feの一部を他の金属で置換
したりすることによって所定の保磁力とした磁性粉を用
い、用いる磁性粉や磁性塗料組成等に応じ、好ましくは
塗料塗布後に機械的配向や、水平磁場配向を施すことに
よって得られる。配向処理の条件は容易に実験的に決定
することができる。
イトを例にすれば例えばBa、Feの一部を他の金属で置換
したりすることによって所定の保磁力とした磁性粉を用
い、用いる磁性粉や磁性塗料組成等に応じ、好ましくは
塗料塗布後に機械的配向や、水平磁場配向を施すことに
よって得られる。配向処理の条件は容易に実験的に決定
することができる。
本発明で用いる六方晶系の板状磁性粉としては、バリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶フ
ェライト系が好適である。
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶フ
ェライト系が好適である。
このような磁性粉の平均粒径は、電磁変換特性上0.02〜
0.2μm、特に0.02〜0.1μmが好ましい。
0.2μm、特に0.02〜0.1μmが好ましい。
また、平均厚みは、0.015〜0.004μm程度である。
板状比は上限値、下限値に特に制限はなく、1以上であ
ればよいが通常は2〜30程度とされる。
ればよいが通常は2〜30程度とされる。
ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡
(SEM)および透過形顕微鏡(TEM)〕によって、例えば
六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面50個程度を観
察し、粒径についての測定値を平均にしたものである。
(SEM)および透過形顕微鏡(TEM)〕によって、例えば
六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面50個程度を観
察し、粒径についての測定値を平均にしたものである。
平均厚みも電子顕微鏡写真による測定値の平均である。
また平均板状比とは平均粒径/平均厚みの値である。
また平均板状比とは平均粒径/平均厚みの値である。
あるいは、X線回折による2θの半値巾によってのこれ
らの値を測定することもできる。
らの値を測定することもできる。
平均粒径が0.20μmをこえると表面粗度が低下し、線記
録密度特性が悪くなる。
録密度特性が悪くなる。
バリウムフェライトとしては、BaFe12O19等の六方晶系
バリウムフェライトやバリウムフェライトのBa、Feの一
部をCa、Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、In、Mn、Cu、G
e、Nb、Zr、Snその他の金属で置換したもの等が挙げら
れる。
バリウムフェライトやバリウムフェライトのBa、Feの一
部をCa、Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、In、Mn、Cu、G
e、Nb、Zr、Snその他の金属で置換したもの等が挙げら
れる。
これらは併用してもよい。
また、六方晶ストロンチウムフェライトSrFe12O19、あ
るいはこれを上記に準じて置換したものであってもよ
い。
るいはこれを上記に準じて置換したものであってもよ
い。
バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。これらの方法
の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミックス
18(1983)No.10"などを参照することができる。
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。これらの方法
の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミックス
18(1983)No.10"などを参照することができる。
このような磁性粉を含有する磁性層の厚さは、通常の厚
さであってよく、0.1〜10μm程度とされる。
さであってよく、0.1〜10μm程度とされる。
磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量10,000〜200,000、重合度200〜2,000程度のものであ
る。
量10,000〜200,000、重合度200〜2,000程度のものであ
る。
熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好まし
い。
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好まし
い。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール/高分子量ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル(カル
ボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジエン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール/高分子量ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル(カル
ボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジエン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。
そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第3,058,844号に記載の
エポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロール
フェノールエーテルとの混合物、また特開昭49−131101
号に記載のビスフェノールA型エポキシ樹脂とアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステル重合体との混合
物が好ましい。
ール樹脂との混合物、米国特許第3,058,844号に記載の
エポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロール
フェノールエーテルとの混合物、また特開昭49−131101
号に記載のビスフェノールA型エポキシ樹脂とアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステル重合体との混合
物が好ましい。
このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すればよ
い。
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すればよ
い。
バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。
放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアクリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合
等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。
その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアクリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合
等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。
その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。
分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記(2)の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は
多塩基酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の存
在下で、180℃〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱
アルコール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mm
Hgの減圧下、縮合反応により得ることができる。マレイ
ン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬
化性等から酸成分中1〜40モル%、好ましくは10〜30モ
ル%である。
エステル化合物、例えば下記(2)の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は
多塩基酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の存
在下で、180℃〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱
アルコール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mm
Hgの減圧下、縮合反応により得ることができる。マレイ
ン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬
化性等から酸成分中1〜40モル%、好ましくは10〜30モ
ル%である。
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。
は、次のようなものを挙げることができる。
(1)塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社製VRO
H、VYNC、VYEGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、UCARMAG52
0、UCARMAG528等が挙げられ、このものにアクリル系二
重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導
入して放射線感応変性を行う。
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社製VRO
H、VYNC、VYEGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、UCARMAG52
0、UCARMAG528等が挙げられ、このものにアクリル系二
重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導
入して放射線感応変性を行う。
これらはカルボン酸を含有してもよい。
(2)飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロバン、1,2プロピレングリコール、1,3
ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4ブタン
ジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリッ
ト、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコー
ル、1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をSO3Na等で変
性した樹脂(例えばバイロン53S)が例として挙げら
れ、これらも放射線感応変性を行う。
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロバン、1,2プロピレングリコール、1,3
ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4ブタン
ジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリッ
ト、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコー
ル、1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をSO3Na等で変
性した樹脂(例えばバイロン53S)が例として挙げら
れ、これらも放射線感応変性を行う。
(3)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。
(4)エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152、154、828、1001、1004、1007)、ダウケミ
カル製(DEN431、DER732、DER511、DER331)、大日本イ
ンキ製(エピクロン400、800)、さらに上記エポキシの
高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(PKHA、PKH
C、PKHH)、臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒド
リンとの共重合体、大日本インキ化学工業製(エピクロ
ン145、152、153、1120)等があり、またこれらにカル
ボン酸基を含有するものも含まれる。これら樹脂中に含
まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行う。
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152、154、828、1001、1004、1007)、ダウケミ
カル製(DEN431、DER732、DER511、DER331)、大日本イ
ンキ製(エピクロン400、800)、さらに上記エポキシの
高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(PKHA、PKH
C、PKHH)、臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒド
リンとの共重合体、大日本インキ化学工業製(エピクロ
ン145、152、153、1120)等があり、またこれらにカル
ボン酸基を含有するものも含まれる。これら樹脂中に含
まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行う。
(5)繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
樹脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
樹脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVPオ
レフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVPオ
レフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げ
る。
る。
(1)ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジ
イソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4
−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フ
ェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールL、デスモジュールN等の
各種多価イソシアネートと、綿状飽和ポリエステル(エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、
綿状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル)やカプロタクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタンエ
ラストマー、プレポリマーが有効である。
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジ
イソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4
−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フ
ェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールL、デスモジュールN等の
各種多価イソシアネートと、綿状飽和ポリエステル(エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、
綿状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル)やカプロタクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタンエ
ラストマー、プレポリマーが有効である。
これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。ま
た、末端に極性基としてOH、COOH等を含有するものも含
む。
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。ま
た、末端に極性基としてOH、COOH等を含有するものも含
む。
さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
(2)アクリロニトリル−ブタジエン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
として市販されている末端水酸基のあるアクリロニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオン
社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特にブタジエ
ン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋およ
び重合させるエラストマー成分として適する。
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
として市販されている末端水酸基のあるアクリロニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオン
社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特にブタジエ
ン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋およ
び重合させるエラストマー成分として適する。
(3)ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
R−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが
特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。R−15
プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっている
為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとしてさらに有利となる。
R−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが
特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。R−15
プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっている
為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとしてさらに有利となる。
またポリブタジエンの環化物、日本合成ゴム製CBR−M90
1も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有し
ている。
1も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有し
ている。
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびそ
の環化物(日本合成ゴム製CIR701)があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイ
ロン♯300)等のエラストマーも放射線感応変性処理を
施すことにより有効に利用できる。
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびそ
の環化物(日本合成ゴム製CIR701)があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイ
ロン♯300)等のエラストマーも放射線感応変性処理を
施すことにより有効に利用できる。
オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、
N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート(メタクリレート)、ペンタエリスリトール
トリアクリレート(メタクリレート)、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレート
(アロニックスM−7100、M−5400、5500、5700等、東
亜合成)、ウレタンエラストマー(ニッポンラン4040)
のアクリル変性体、あるいはこれらのものにCOOH等の官
能基が導入されたもの、トリメチロールプロパンジアク
リレート(メタクリレート)フェノールエチレノキシド
付加物のアクリレート(メタクリレート)、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
(メタクリル基)またはεカプロラクトン−アクリル基
のついた化合物、 式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1、a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、 m−1、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Cという)、 m−2、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Dという)、 および下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げれる。
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、
N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート(メタクリレート)、ペンタエリスリトール
トリアクリレート(メタクリレート)、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレート
(アロニックスM−7100、M−5400、5500、5700等、東
亜合成)、ウレタンエラストマー(ニッポンラン4040)
のアクリル変性体、あるいはこれらのものにCOOH等の官
能基が導入されたもの、トリメチロールプロパンジアク
リレート(メタクリレート)フェノールエチレノキシド
付加物のアクリレート(メタクリレート)、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
(メタクリル基)またはεカプロラクトン−アクリル基
のついた化合物、 式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1、a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、 m−1、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Cという)、 m−2、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Dという)、 および下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げれる。
1)(CH2=CHCOOCH2)3−CCH2OH (特殊アクリレートA) 2)(CH2=CHCOOCH2)3−CCH2CH3 (特殊アクリレートB) 3)〔CH2=CHCO(OC3H6)n−OCH2〕3−CCH2CH3 (特殊アクリレートC) 8)CH2=CHCOO−(CH2CH2O)4−COCH=CH2 (特殊アクリレートH) 12)AM−NnM−A A:アクリル酸 M:2価アルコール N:2塩基酸 (特殊アクリレートL) 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。
a)塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体(放射線感応変性樹脂)の合成 OH基を有する一部ケン化塩ビ−酢ビ共重合体(平均重合
度 n=500)750部とトルエン1250部、シクロヘキサノ
ン500部を51の4つ口フラスコに仕込み、加熱溶解し、8
0℃昇温後トリレンジイソシアネートの2−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト※を61.4部加え、さらに
オクチル酸スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部を加
え、80℃でN2気流中、NCO反応率が90%となるまで反応
せしめる。
変性体(放射線感応変性樹脂)の合成 OH基を有する一部ケン化塩ビ−酢ビ共重合体(平均重合
度 n=500)750部とトルエン1250部、シクロヘキサノ
ン500部を51の4つ口フラスコに仕込み、加熱溶解し、8
0℃昇温後トリレンジイソシアネートの2−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト※を61.4部加え、さらに
オクチル酸スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部を加
え、80℃でN2気流中、NCO反応率が90%となるまで反応
せしめる。
反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250分を加え希
釈する。
釈する。
[※トリレンジイソシアネート(TDI)の2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート(2HEMA)アダクトの製法 TDI348部をN2気流中11の4つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、2−エチレンメタクリレート260部、オクチル酸ス
ズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で3時間攪拌し、反応を完結させる。
シエチルメタクリレート(2HEMA)アダクトの製法 TDI348部をN2気流中11の4つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、2−エチレンメタクリレート260部、オクチル酸ス
ズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で3時間攪拌し、反応を完結させる。
反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTDI
の2HEMAを得た。] b)ブラチール樹脂アクリル変性体に合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン191.2
部、シクロヘキサノン71.4分と共に51の4つ口フラスコ
に仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト
※を7.4部加え、さらにオクチル酸スズ0.015部,ハイド
ロキノン0.015部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90
%以上となるまで反応せしめる。
の2HEMAを得た。] b)ブラチール樹脂アクリル変性体に合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン191.2
部、シクロヘキサノン71.4分と共に51の4つ口フラスコ
に仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト
※を7.4部加え、さらにオクチル酸スズ0.015部,ハイド
ロキノン0.015部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90
%以上となるまで反応せしめる。
反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。
c)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放射
線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)、100
部をトルエン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶
解し、80℃昇温後、TDIの2HEMAアダクト※を3.55部加
え、さらにオクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.0
07部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以上とな
るまで反応せしめる。
線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)、100
部をトルエン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶
解し、80℃昇温後、TDIの2HEMAアダクト※を3.55部加
え、さらにオクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.0
07部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以上とな
るまで反応せしめる。
d)◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) エポキシ樹脂(シエル化学製エピコート1007)400部を
トルエン50部、メチルエチルケトン50部に加熱溶解後、
N,N−ジメチルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し、8
0℃で酸価5以下となるまで反応せしめる。
変性樹脂) エポキシ樹脂(シエル化学製エピコート1007)400部を
トルエン50部、メチルエチルケトン50部に加熱溶解後、
N,N−ジメチルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し、8
0℃で酸価5以下となるまで反応せしめる。
◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) OH基を有するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社製 分子量30
000)600部、メチルエチルケトン1800部を31の4つ口フ
ラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後、トリレンジ
イソシアネートの2ヒドロキシエチルメタクリレートア
ダクトを6.0部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN2気流中、NCO反応
率が90%となるまで反応せしめる。
性樹脂) OH基を有するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社製 分子量30
000)600部、メチルエチルケトン1800部を31の4つ口フ
ラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後、トリレンジ
イソシアネートの2ヒドロキシエチルメタクリレートア
ダクトを6.0部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN2気流中、NCO反応
率が90%となるまで反応せしめる。
このフェノキシ変性体の分子量は、35000、1分子当り
の二重結合は1個である。
の二重結合は1個である。
e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線硬化性エラストマー) 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト(MDI)系ウレタンプレポリマー(日本ポリウレタン
製ニッポラン3119) 250部,2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル
酸スズ0.009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI
43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却し
ながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率95%以上とな
るまで反応せしめる。
線硬化性エラストマー) 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト(MDI)系ウレタンプレポリマー(日本ポリウレタン
製ニッポラン3119) 250部,2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル
酸スズ0.009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI
43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却し
ながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率95%以上とな
るまで反応せしめる。
f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500、250部、2
HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.
009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を
反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴
下し、滴下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反
応せしめる。
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500、250部、2
HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.
009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を
反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴
下し、滴下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反
応せしめる。
g)ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線硬化性エラストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンポリBDリクイットレジンR−15250部、2HEMA
32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.009
部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反
応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応
せしめる。
(放射線硬化性エラストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンポリBDリクイットレジンR−15250部、2HEMA
32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.009
部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反
応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応
せしめる。
高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。
架橋を起こすものが知られている。
分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクロレンがある。このような架橋型ポリマーであれ
ば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応が
起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はそのま
ま使用可能である。
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクロレンがある。このような架橋型ポリマーであれ
ば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応が
起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はそのま
ま使用可能である。
このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。
々の方法に従えばよい。
なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができ
る。光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量%
の範囲が望ましい。
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができ
る。光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量%
の範囲が望ましい。
紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。
の紫外線電球等を用いればよい。
一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜300KVの放射線加
速器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラッドになるよう
に照射するのが好都合である。
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜300KVの放射線加
速器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラッドになるよう
に照射するのが好都合である。
特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。
このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。
磁性粉/バインダーは、重量比で1/1〜9/1、特に2/1〜8
/1であることが好ましい。
/1であることが好ましい。
このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度が
低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度が悪
くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるからで
ある。
低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度が悪
くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるからで
ある。
この他、公知の各種熱可塑性樹脂をバインダーとして用
いることもできる。
いることもできる。
本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のア
ルコール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のア
ルコール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。
これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000wt%、特
に100〜5000wt%の割合で用いる。
に100〜5000wt%の割合で用いる。
磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。
無機顔料としては、1)導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また2)無機充填剤としてSiO2、TiO2、Al2O3、Cr2O3、
SiC、CaO、CaCO3、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe2O3、
タルク、カオリン、CaSO4、窒化硼素、フッ化黒鉛、二
硫化モリブデン、ZnS等がある。またこの他、次のよう
な微粒子顔料(エアロジルタイプ、コロイダルタイ
プ):SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2、Cr2O3、Y2O3、CeO2、
Fe3O4、Fe2O3、ZrSiO4、Sb2O5、SnO2等も用いられる。
これら微粒子顔料は、例えばSiO2の場合、無水硅酸の
超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、水系、メタノ
ールシリカゾル等、日産化学)、精製四塩化ケイ素の
燃焼によって製造される超微粒子状無水シリカ(標準品
100Å)(アエロジル、日本アエロジル株式会社)など
が挙げられる。また、前記の超微粒子コロイド溶液お
よびと同様の気相法で製造される超微粒子状の酸化ア
ルミニウム、並びに酸化チタンおよび前述の微粒子顔料
が使用され得る。この様な無機顔料の使用量は1)に関
してはバインダー100重量部に対して1〜30重量部、ま
た2)に関しては1〜30重量部が適当であり、これらが
あまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえってドロッ
プアウトが多くなるという欠点がある。
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また2)無機充填剤としてSiO2、TiO2、Al2O3、Cr2O3、
SiC、CaO、CaCO3、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe2O3、
タルク、カオリン、CaSO4、窒化硼素、フッ化黒鉛、二
硫化モリブデン、ZnS等がある。またこの他、次のよう
な微粒子顔料(エアロジルタイプ、コロイダルタイ
プ):SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2、Cr2O3、Y2O3、CeO2、
Fe3O4、Fe2O3、ZrSiO4、Sb2O5、SnO2等も用いられる。
これら微粒子顔料は、例えばSiO2の場合、無水硅酸の
超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、水系、メタノ
ールシリカゾル等、日産化学)、精製四塩化ケイ素の
燃焼によって製造される超微粒子状無水シリカ(標準品
100Å)(アエロジル、日本アエロジル株式会社)など
が挙げられる。また、前記の超微粒子コロイド溶液お
よびと同様の気相法で製造される超微粒子状の酸化ア
ルミニウム、並びに酸化チタンおよび前述の微粒子顔料
が使用され得る。この様な無機顔料の使用量は1)に関
してはバインダー100重量部に対して1〜30重量部、ま
た2)に関しては1〜30重量部が適当であり、これらが
あまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえってドロッ
プアウトが多くなるという欠点がある。
また、無機顔料の径については1)に関しては0.1μm
以下、さらには0.05μm以下が好ましく、2)に関して
は0.7μm以下、さらには0.05μm以下が好ましい。
以下、さらには0.05μm以下が好ましく、2)に関して
は0.7μm以下、さらには0.05μm以下が好ましい。
磁性層には分散剤が含まれていてもよい。
分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤;高
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等
の両性活性剤などが使用される。
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤;高
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等
の両性活性剤などが使用される。
磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。
潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。
脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H、Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素
数と合計して、炭素数が21〜23個よりなる一価のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が使用され、また前記
脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる
金属石鹸、レシチン等が使用される。
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H、Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素
数と合計して、炭素数が21〜23個よりなる一価のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が使用され、また前記
脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる
金属石鹸、レシチン等が使用される。
シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。アルコールとし
ては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解
置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等に
よって得られるものが使用される。
ッ素変性されているものが使用される。アルコールとし
ては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解
置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等に
よって得られるものが使用される。
潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ドロ
ップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の
個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可
能である等の利点を持つ。
である。これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ドロ
ップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の
個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可
能である等の利点を持つ。
放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、 これらの潤滑剤を構造式で表すと、 CH2=CHCOOR、 CH2=CH−CH2COOR、 CH2=CHCONHCH2COOR、 RCOOCH=CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等で、ここでRは直鎖または分枝状の
飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は7以上、好
ましくは12以上23以下であり、これらはフッ素置換体と
することもできる。
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、 これらの潤滑剤を構造式で表すと、 CH2=CHCOOR、 CH2=CH−CH2COOR、 CH2=CHCONHCH2COOR、 RCOOCH=CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等で、ここでRは直鎖または分枝状の
飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は7以上、好
ましくは12以上23以下であり、これらはフッ素置換体と
することもできる。
フッ素置換体としては、 CnF2n+1 -、CnF2n+1(CH2)m - (ただし、m=1〜5)、 CnFnCH2CH2NHCH2CH2−、 等がある。
これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20重量
部含ませるがよい。
部含ませるがよい。
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレード、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレード、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。
これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。
リイミド等を用いることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。このような媒体としては、例えばフロッピー
ディスク、ハードディスク等がある。
てもよい。このような媒体としては、例えばフロッピー
ディスク、ハードディスク等がある。
この場合、特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。
層を設けているものが好ましい。
また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。
トップコートを設けてもよい。
なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。
本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレイコートなど
の手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や垂直方
向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ましくは
常法に従い放射線硬化すればよい。そして必要に応じて
バックコートおよびトップコートを設ければよい。
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレイコートなど
の手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や垂直方
向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ましくは
常法に従い放射線硬化すればよい。そして必要に応じて
バックコートおよびトップコートを設ければよい。
配向処理は、常法に従い、上述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方法をとりうる。
型比および保磁力を得るために種々の方法をとりうる。
たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁
場が代表的なものとして用いられ、それらのものの各種
組合せ、例えば垂直と水平の組合せ、水平配向、永久磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向と上記の組合せ等、種々のものが用いられる。
場が代表的なものとして用いられ、それらのものの各種
組合せ、例えば垂直と水平の組合せ、水平配向、永久磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向と上記の組合せ等、種々のものが用いられる。
これらのうち、特に本発明では、機械的配向、水平配向
を行うことが好ましい。
を行うことが好ましい。
配向に用いる磁場強度としては1000〜6000Gが好まし
い。
い。
本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗膜のアン
ダーコート層を設けることもできる。これらは併用して
もよい。
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗膜のアン
ダーコート層を設けることもできる。これらは併用して
もよい。
塗膜のアンダーコート層には、前述したような熱硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。
導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。カ
ーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。
ーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。
カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよい
が、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
〜100mμm、特に好ましくは10〜80mμmである。更に
粒子径について言えば、粒子径100mμmを超えるとアン
ダーコート層面の表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の
電特低下の原因となる。また10mμm未満では分散がう
まくいかず、やはりアンダーコートの表面粗度が悪くな
る。
が、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
〜100mμm、特に好ましくは10〜80mμmである。更に
粒子径について言えば、粒子径100mμmを超えるとアン
ダーコート層面の表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の
電特低下の原因となる。また10mμm未満では分散がう
まくいかず、やはりアンダーコートの表面粗度が悪くな
る。
カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。
このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。
アンダーコート層の厚さは10Å〜5μm程度とすること
が好ましい。
が好ましい。
用いる磁気ヘッドとしては、通常、例えば、ガードバン
ド形成用のみに消去ヘッドを持つようなリードライト用
のリング型ヘッドが用いられ、特に塗布型の磁気記録媒
体においては、従来までの安定性で実績のあるリング型
ヘッドが使用出来るため薄膜型の磁気記録媒体に比べ有
利である。
ド形成用のみに消去ヘッドを持つようなリードライト用
のリング型ヘッドが用いられ、特に塗布型の磁気記録媒
体においては、従来までの安定性で実績のあるリング型
ヘッドが使用出来るため薄膜型の磁気記録媒体に比べ有
利である。
V 発明の具体的作用効果 本発明によれば、媒体の垂直角型比が0.3〜0.53であ
り、しかも保磁力Hcが400〜8000eであるので、オーバー
ライト特性が良好でしかも記録密度が大きく、磁気特性
も良好な磁気記録媒体が得られる。
り、しかも保磁力Hcが400〜8000eであるので、オーバー
ライト特性が良好でしかも記録密度が大きく、磁気特性
も良好な磁気記録媒体が得られる。
このような磁気記録媒体は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイ
ル、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に
用いられる。
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイ
ル、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に
用いられる。
特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。
スクに好適である。
VI 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
[実施例1] 厚さ75μmのポリエステル(PET)フィルムの表面と裏
面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を設層
した。
面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を設層
した。
アンダーコート層 重量部 カーボンブラック 20mμm 50 (A)アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアル コール共重合体 分子量45,000 45 (B)アクリル変性ポリウレタンエラストマー 分子量 5,000 45 (C)ペンタエリスリトールトリアクリレート 10 ステアリン酸 2 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤(MIBK/トルエン=1/1) 300 上記混合物をボールミル中5時間分散させ、上記のポリ
エステル(PET)フィルム上に乾燥厚0.7μmになるよう
に塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極電
流10mA、吸収線量5Mrad、N2ガス中で電子線をアンダー
コート層に照射した。
エステル(PET)フィルム上に乾燥厚0.7μmになるよう
に塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極電
流10mA、吸収線量5Mrad、N2ガス中で電子線をアンダー
コート層に照射した。
このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。
すなわち、まず最初に、平均粒径0.05μm、平均板状比
2.7をもつ六方晶系バリウムフェライト(BaFe12O19のB
a、Feの一部をCo(9%)、Ti(3%)で置換したもの
をガラス結晶化法で合成、平均粒径0.08μm、平均板状
比2.7)を用いて以下のようにして磁性塗料を作成し
た。
2.7をもつ六方晶系バリウムフェライト(BaFe12O19のB
a、Feの一部をCo(9%)、Ti(3%)で置換したもの
をガラス結晶化法で合成、平均粒径0.08μm、平均板状
比2.7)を用いて以下のようにして磁性塗料を作成し
た。
バリウムフェライト 120重量部 (Hc=600 0e) α−Al2O3 2重量部 (0.5μm粉状) カーボンブラック 10重量部 (20mμm) 溶剤(MEK/トルエン:50/50) 100重量部 上記組成物をボールミル中にて3時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。
フェライトをよく湿潤させた。
次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
(マレイン酸1%含有;MW40,000)8重量部(固型分換
算)、 アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
(マレイン酸1%含有;MW20,000)10重量部(固型分換
算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40,000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部、 溶剤(MEK/トルエン;50/50)200重量部 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重量部 を混合溶解させた。
(マレイン酸1%含有;MW40,000)8重量部(固型分換
算)、 アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
(マレイン酸1%含有;MW20,000)10重量部(固型分換
算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40,000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部、 溶剤(MEK/トルエン;50/50)200重量部 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重量部 を混合溶解させた。
これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。
び42時間混合分散させた。
このようにして得られた磁性塗料を、上記アンダーコー
ト層上に、グラビアコートによって塗設し、その後、必
要に応じて下記表1に示されるような種々の磁場配向を
行いながら遠赤外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥さ
せた。表面平滑化処理をした後、ESI社製エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧150Ke
V、電極電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN2雰囲気下
にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。媒体サンプル
としての垂直方向の保磁力Hc⊥は650 Oeであった。硬化
後の塗膜(磁性層)の厚さは1.5μmであった。なお、
この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。
ト層上に、グラビアコートによって塗設し、その後、必
要に応じて下記表1に示されるような種々の磁場配向を
行いながら遠赤外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥さ
せた。表面平滑化処理をした後、ESI社製エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧150Ke
V、電極電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN2雰囲気下
にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。媒体サンプル
としての垂直方向の保磁力Hc⊥は650 Oeであった。硬化
後の塗膜(磁性層)の厚さは1.5μmであった。なお、
この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。
これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。
た。
このようにして作製したものをサンプル101〜104(表
1)とする。これらのサンプルについて特性を調べた。
1)とする。これらのサンプルについて特性を調べた。
特性は以下のように評価した。
(1)垂直角型比 磁気記録媒体サンプルの垂直方向の角型比Br⊥/Bm⊥を
測定し、反磁場補正を行った。
測定し、反磁場補正を行った。
支持体の両面に磁性層を設層した場合は、それぞれの磁
性層について測定を行った。
性層について測定を行った。
(2)オーバーライト特性 磁気記録媒体サンプル上10KFRPIの矩形波をリング型ヘ
ッドにて書き込み、その上に20KFRPIを重ね書きし、出
力差を測定した。出力差大の方がオーバーライト特性が
良い。
ッドにて書き込み、その上に20KFRPIを重ね書きし、出
力差を測定した。出力差大の方がオーバーライト特性が
良い。
結果を表1に示す。
現行のフロッピーのオーバーライト特性の規格は−26dB
であるが、上記のサンプルのオーバーライト特性を測定
してみたところオーバーライト−20dBのものまでが、実
用上使用に耐える事がわかり、実用可能なレベルを−20
dB以下とした。
であるが、上記のサンプルのオーバーライト特性を測定
してみたところオーバーライト−20dBのものまでが、実
用上使用に耐える事がわかり、実用可能なレベルを−20
dB以下とした。
これより実施例103、104が実用に耐えるものであった。
[実施例2] 実施例1で用いたポリエステル(PET)フィルムの表面
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。
アンダーコート層 重量部 CaCO3 50mμm 10 カーボン 20mμm (グラファイト化カーボン) 30 塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体 (ユニオンカーバイド社製VAGH) 50 ポリウレタンエラストマー (BF、グッドリッチ エステン5703) 50 ステアリン酸 2 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤(MIBK/トルエン=1/1) 300 上記混合物をボールミル中5時間分散させた後、さらに
イソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製コロネー
トL)を20重量部加え、この混合物を上記のポリエステ
ル(PET)フィルム上に乾燥厚3μmになるように塗布
し、表面平滑化処理を行い、その後、80℃で48時間熱硬
化を行った。
イソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製コロネー
トL)を20重量部加え、この混合物を上記のポリエステ
ル(PET)フィルム上に乾燥厚3μmになるように塗布
し、表面平滑化処理を行い、その後、80℃で48時間熱硬
化を行った。
このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。
すなわち、実施例1で用いた磁性粉にかえて、下記に示
されるような保磁力をもつ六方晶系バリウムフェライト
(BaFe12O19のBa、Feを一部下記のCo、Tiで置換したも
のをガラス結晶化法で合成)の磁性粉として用いた。
されるような保磁力をもつ六方晶系バリウムフェライト
(BaFe12O19のBa、Feを一部下記のCo、Tiで置換したも
のをガラス結晶化法で合成)の磁性粉として用いた。
なお、これらの磁性粉の平均粒径は0.05μm、平均板状
比は3であった。
比は3であった。
置換金属は蛍光X線で分析を行い、Feを100%として換
算した。
算した。
これらの磁性粉を用い、以下のようにして磁性塗料を作
製した。
製した。
バリウムフェライト 120重量部 α−Al2O3 2重量部 (0.5μm粉状) カーボンブラック 10重量部 (20mμm) 溶剤(MEK/トルエン:50/50) 100重量部 上記組成物をモールミル中にて3時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。
フェライトをよく湿潤させた。
次に下記に示すバインダーを磁性粉混合物の入ったボー
ルミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。
ルミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。
バインダー組成 塩化ビニル酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(ユ
ニオンカーバイド社製UCARMAG528) 15重量部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社ニッポラン3022)15重量
部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン;70/30) 200重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、 および ミリスチン酸ブチル3重量部 を混合溶解させた。
ニオンカーバイド社製UCARMAG528) 15重量部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社ニッポラン3022)15重量
部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン;70/30) 200重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、 および ミリスチン酸ブチル3重量部 を混合溶解させた。
さらに、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物
(日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固
型分換算)加えた。
(日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固
型分換算)加えた。
このようにして得られた磁性塗料を、上記アンダーコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、永久磁石(20
00G)上で乾燥させながら水平配向させ、その後、遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。
ト層上にグラビアコートによって塗設し、永久磁石(20
00G)上で乾燥させながら水平配向させ、その後、遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。
その後、表面平滑化処理をした後、80℃で48時間熱硬化
を行って、塗膜を硬化させた。
を行って、塗膜を硬化させた。
硬化後の塗膜(磁性層)の厚さは1.5μmであった。
この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。
これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。
た。
なお、このような種々の媒体サンプルの垂直方向の保磁
力は下記表1に示されるとおりであり、垂直角型比Br⊥
/Bm⊥は各サンプルにつきすべて0.48であった。
力は下記表1に示されるとおりであり、垂直角型比Br⊥
/Bm⊥は各サンプルにつきすべて0.48であった。
上記の各サンプルについて、上述したようなオーバーラ
イト特性と、30KFRPIの出力を求めた。
イト特性と、30KFRPIの出力を求めた。
なお、30KFRPIの出力は下記の条件によって測定した。
(1)30KFRPI出力 回転数300r.p.m.、ヘッド:フェライトヘッド、ギャッ
プ0.3μmにて、30KFRPIの出力を測定した。
プ0.3μmにて、30KFRPIの出力を測定した。
なお、測定値は、サンプルNo.201を0dBとしたときの相
対値で表示した。
対値で表示した。
結果を表2に示す。
[実施例3] PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例1の場合
と同様にし、磁性層を下記のようにかえた。
と同様にし、磁性層を下記のようにかえた。
すなわち、平均粒径0.06μm、平均板状比8であって、
BaFe12O19のBa、Feの一部をCu(2%)、Zr(13%)で
置換した磁性粉(保磁力600 Oe)を用いて、その他の混
合物組成、媒体作製方法等は以下に示すようなバインダ
ー組成および磁性粉の配向処理にかえた以外は実施例1
の場合と同様にした。
BaFe12O19のBa、Feの一部をCu(2%)、Zr(13%)で
置換した磁性粉(保磁力600 Oe)を用いて、その他の混
合物組成、媒体作製方法等は以下に示すようなバインダ
ー組成および磁性粉の配向処理にかえた以外は実施例1
の場合と同様にした。
なお、設層乾燥後の磁性層厚さは、2μmとした。
バインダー組成 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
(マレイン酸1%含有;MW20,000)10重量部(固型分換
算)、アクリル変性フェノキシ (MW35,000)6重量部(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW2
0,000)24重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン;70/30)200重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、 ミリスチン酸ブチル3重量部 (配向処理) 処理31 磁場配向を行わなかった。すなわち無配向処理とした。
(マレイン酸1%含有;MW20,000)10重量部(固型分換
算)、アクリル変性フェノキシ (MW35,000)6重量部(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW2
0,000)24重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン;70/30)200重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、 ミリスチン酸ブチル3重量部 (配向処理) 処理31 磁場配向を行わなかった。すなわち無配向処理とした。
処理32 水平磁場配向(1000G)を行った。
これらの媒体サンプルについて、垂直角型比およびオー
バーライト特性を測定した。なお、媒体サンプルとして
の垂直方向の保磁力Hc⊥は700 Oeであった。
バーライト特性を測定した。なお、媒体サンプルとして
の垂直方向の保磁力Hc⊥は700 Oeであった。
結果を表3に示す。
[実施例4] PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例1の場合
と同様とし(ただしアンダーコート設層厚さは2μmと
した)、磁性層を下記のようにかえた。
と同様とし(ただしアンダーコート設層厚さは2μmと
した)、磁性層を下記のようにかえた。
すなわち平均粒径0.09μm、平均板状比4であって、Ba
Fe12O19のBa、Feの一部をCu(4%)、Zr(15%)で置
換したものを磁性粉(保磁力530 Oe)として用いた。そ
の他の混合物組成、媒体作製方法等としては、以下に示
すようなバインダー組成および磁性粉の配向処理にかえ
た以外は、実施例1の場合と同様にした。
Fe12O19のBa、Feの一部をCu(4%)、Zr(15%)で置
換したものを磁性粉(保磁力530 Oe)として用いた。そ
の他の混合物組成、媒体作製方法等としては、以下に示
すようなバインダー組成および磁性粉の配向処理にかえ
た以外は、実施例1の場合と同様にした。
なお、設層乾燥後の磁性層厚さは1μmとした。
(バインダー組成) 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
(マレイン酸含有率:0.8%MW30、000)18重量部(固型
分換算) アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW50,000)12重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/トルエン;50/50)200重量部、 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重量部 (配向処理) 処理41 垂直配向(3000G)を行った。
(マレイン酸含有率:0.8%MW30、000)18重量部(固型
分換算) アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW50,000)12重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/トルエン;50/50)200重量部、 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重量部 (配向処理) 処理41 垂直配向(3000G)を行った。
処理42 垂直配向(1000G)処理後、水平配向(3000G)処理。
これらの媒体サンプルについて、垂直角型比およびオー
バーライト特性を測定した。
バーライト特性を測定した。
なお、媒体サンプルとしての垂直方向の保磁力Hc⊥は60
0 Oeであった。
0 Oeであった。
結果を表4に示す。
以上の結果より本発明の効果があきらかである。
なお、実施例1〜4の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。従って、実用面ではバインダー組成を放射線硬
化性樹脂とした方が好適である。
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。従って、実用面ではバインダー組成を放射線硬
化性樹脂とした方が好適である。
Claims (2)
- 【請求項1】支持体上に平均粒径0.02μm〜0.2μmの
六方晶系の板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性層
を有する磁気記録媒体において、 媒体の垂直角型比が0.3〜0.53であり、しかも垂直方向
保磁力が400Oe〜800Oeであることを特徴とする磁気記録
媒体。 - 【請求項2】媒体がディスク媒体である特許請求の範囲
第1項に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60200210A JPH0740343B2 (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60200210A JPH0740343B2 (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6260121A JPS6260121A (ja) | 1987-03-16 |
JPH0740343B2 true JPH0740343B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=16420639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60200210A Expired - Lifetime JPH0740343B2 (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0740343B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60151835A (ja) * | 1984-01-18 | 1985-08-09 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60200210A patent/JPH0740343B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6260121A (ja) | 1987-03-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |