JPS6246430A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

１棗直立札肛九更 本発明は塗布型磁気記録層を有する磁気記録媒体に関し
、特に磁気記録層に特徴を有する磁気記録媒体に関する
ものである。 の　　　び　日が　　しようとするＩ！ｆｆ　　と現在
、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュータ
ー、磁気ディスク、８　ｍ　／　ｍ等の分野で広範囲に
使用されるようになっており、将来ビデオフロッピー、
高密度フロッピー等の分野でも使用されることが予想さ
れ、それに伴い、磁気記録媒体に記録する情報量も年々
増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒体に対しては
記録密度の向上が益々要求されるようになってきている
。 従来より、磁気テープなどの磁気記録媒体では、磁気記
録層中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等して、磁
気特性を向上させているが、針状磁性粉を長手方向に配
向させたものは低周波帯域では高い出力が得られる反面
高密度記録には限界があるものであった。 又、このため最近では磁性粉末が平板状であり。 垂直方向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性
粉末を磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されて
いる（特開昭５７−１９５３２８号公報）、１ しかし、これらのバリウムフェライト磁性粉末□ を使用したものでは、短波長記録特性は良好な反面、消
去特性が劣るという欠点があり、特にフロッピーディス
クに使用した場合、オーバーライト（消去率）特性が悪
いので使用上問題がある。 。　　　　°　るための 本発明者等は前記の問題点を解決すべく鋭意検討の結果
、磁気記録媒体のオーバーライド特性はその磁性粉末自
体の磁性に本質的に起因するものであるものと予測し、
粉末状態での測定値からそれが予知できることに着目し
、オーバーライド特性におけるバリウムフェライト磁性
粉末についてその関連性を追求したところ、成る特定の
消去値以下のバリウムフェライト磁性粉末を用いた場合
にその磁気記録媒体のオーバーライド特性がよくなるこ
とを見出し、本発明に到達したものである。 即ち、本発明は非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設け
た磁気記録媒体において、磁気記録層に交流粉末消去法
による測定で消去値−４５ｄＢ以下のバリウムフェライ
ト磁性粉末を用いることを特徴とする磁気記録媒体に関
する。 本発明に使用される測定法は、規定の容器に充填した粉
末試料を本測定の交流磁界印加式消磁装置にかけ、残留
磁化を測定する。 この交流磁界印加式消磁装置は第１図に示されているよ
うに、保持棒３の一方の先端に磁性粉末試料容器が取り
付けられており、該保持棒の他端は回転用モーター５の
回転軸に固定されている。 保持棒３の先端にある磁性粉末容器は電磁石電流調整器
６によって電流印加されるところの２つの交流電磁石４
．４′の中央に位置するように設定されたものからなる
ものである。そして、この交流磁界印加式消磁装置１で
消磁した試料は次に高感度の磁化測定器７でその残留磁
化を測定し、以下に詳述する一般式（１）により磁性粉
末の消去値を得ることができる。磁化測定器はいずれの
測定器でもよく、市販のものが使用される。 ヘッドにより消去されるメカニズムは次のように考察さ
れる。 第２図に示すように信号記録状態では残留磁化の値がＭ
ｒの点にある。消去ヘッドは常に振幅一定の交流磁界を
発生しているので、テープ上の磁化の微小部分（エレメ
ント）に注目したとき、そのエレメントが消去ヘッドの
中心を通過する間に、第３図に示すように磁界方向が数
回反転し、振幅が徐々に減衰する磁界を受ける。 この結果、エレメントの磁化は第２図に示したようにＭ
ｒ→ａ＋ｂ・・・の経路をへてＭｅに収れんする。Ｍｅ
の大きさは最大印加磁界Ｈｍに依存する。Ｍｅの磁化を
有するエレメントが次に再生ヘッドを通過すると、消去
信号電圧が検出される。 テープ消去値ＥＲはＭｒに対応する原信号電圧をＥｒ、
規定のＨｍ（実測出来ないのでヘッド電流Ｉｍで代替す
る）での消去信号電圧をＥｅとすると、 ＥＲ＝２０　　ｌｏｇ　（Ｅｅ／Ｅｒ）’　・・（１）
である０式中、 ＥＲ：磁気記録媒体の消去値 Ｅｅ：規定の印加磁界Ｈｍ（ヘッド電流Ｉｍで代替）で
の消去信号電圧 Ｅｒ：信号記録状態の残留磁化Ｍｒに対する原信号電圧 本発明に使用さ央る粉末消去測定法の原理は。 上述のテープ消去と同じ原理を応用したものであり、こ
れを用いる事によりオーバーライド特性との関連性を見
出した。 すなわち、粉末試料が受ける磁界の時間変化パターンを
テープエレメントのそれと近似させるため、電磁石電流
の制御方式を第３図と同様にし、かつテープの走行に対
応するものとして試料を磁界方向面内で定速回転させる
ものである。 以下に第１図を参照しながら、磁性粉末の消去値の測定
法の測定手順を説明する。 （１）保持棒３の先端部の容器２に磁性粉末を充填する
。 （２）試料に直流磁界１０ＫＯｅを印加し、高感度測定
器７にて残留磁化Ｍｒを測定する。 （３）保持棒３の試料部を本測定の交流消去装置１の交
流電磁石４．４′の中心に、他端部を回転用モーター５
の回転軸に結合する。 （４）電磁石電流調整器６により電流を印加する。 印加電流を零から■１まで増加され、再び零まで減少す
るようにする。また電流印加と同時に回転モーターも始
動し、電流が零となる迄の間、定速回転する。 （５）保持棒３を取り外し、磁化測定器７にて残留磁化
Ｍ、を測定する。 （６）再び試料に直流磁界１０ＫＯｅを印加し、（２）
〜（５）の状態をｎ回くり返す。 （７）ｎ回における消去電流Ｉｎは ｌｎ＝１１　＋ｎＸ０．１ｍＡ、　　ｍ≧１（８）残留
磁化をＭｎとするｎ回の消去値ＥＲｎ＝２０Ｘ１ｏｇ（
Ｍｎ／Ｍｒ）・Ｈ・（２）で計算する。 ＥＲｎ　：磁性粉末の消去値 Ｍｎ：Ｉｎに対する残留磁化の測定値 Ｍｒ　　：１０ＫＯｅ印加後の残留磁化（９）第４図に
示すとおり、横軸にＩｎ、縦軸にＥ　Ｒｎをとり、Ｍｒ
とＩｎに対応するＭｎの各測定値から上式（２）により
Ｅ　Ｒｎを求め、これをプロットし、Ｉｎ、ＥＲｎの関
係を最小２乗法直線回帰式で引き、ＩａＡにおける消去
値ＥＲを求める。 このようにして得られたバリウムフェライト磁性粉末の
消去値と磁気記録媒体のオーバーライド特性が関連のあ
ることが明らかとなった（第４図）。 第５図はフロッピーディスク、のオーバーライド特性と
バリウムフェライト磁性粉末の消去値との関係を示すグ
ラフである。消去値については消去電流２．９Ａの時の
それぞれの磁性粉末の消去値である。オーバーライド特
性については、それぞれの磁性粉についてテープ化し、
媒体での測定値である。オーバーライド特性については
媒体上、１２ＫＦＲＰ　Ｉの短形波を書き込み、その上
に４８ＫＦＲＰＩを重ね書きし、出力差を測定する。 出力着火の方がオーバーライド特性が良い。この時用い
たのは、フェライトヘッド、ギャップ０゜３　Ｐｍ　、
回転数３０Ｏｒｐｍである。 図より消去値が−４５（ｄＢ）以下となるとオーバーラ
イド特性２６ｄＢとなり、好ましくは−５０（ｄＢ）以
下となると３０ｄＢとなり、磁気記録媒体のオーバーラ
イド特性が良くなり、実用上問題のないものとなること
がわかった。反対に−４５（ｄＢ）より上となると記録
したものが消えず、エラーとして現われるので好ましく
ない。 バリウムフェライト磁性粉末は粒度分布及び抗磁力（Ｈ
ｅ）分布が悪いため、フロッピーディスクに使用した場
合にオーバーライド特性が悪くなると考えられるが、前
記の−４５（ｄＢ）以下のものではフロッピーディスク
に使用できるものとなるのである。 このようにバリウムフェライトのオーバーライド特性の
悪さは、磁性粉の消去値の悪さに起因している事がわか
った。そこで磁性粉の粒度分布。 Ｈｃ分布等をそろえる事により磁性粉の消去値の悪さを
解決出来るであろう。そこで、磁性粉の消去値をある一
定の値−４５ｄＢ以下に抑える事により、オーバーライ
ド特性の改善が出来た。 本発明で使用するバリウムフェライト磁性粉は六方晶系
板状のものであり、化学式Ｂａ０・６Ｆｅ２０３で表わ
され、この外、この、化学式のＢａ及びＦｅの一部がＴ
ｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ。 Ｍｎ、Ｃｕｔ　Ｇｅ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｎｉ等
の金属で置換されたものも含まれる。 バリウムフェライト磁性粉は直径０．２．−ｍ以下、好
ましくは０．１５７＝ｍ以下、更に好ましくは０．１ｐ
ｍ以下、板状比６以上、更に好ましくは８以上である。 この場合、板状比の上限値には特に制限はないが、通常
３０以下である。ここで平均粒径とは、電子顕微鏡写真
〔走査型顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型顕微鏡（ＴＥＭ
））によって１例えば六方晶系バリウムフェライト粒子
の断面５０個程度をｌ！察し、粒径についての測定値を
平均したものである。平均厚みも電子顕微鏡写真による
測定値の平均である。また板状比とは平均粒径／平均厚
の値である。あるいは平均厚はＸ線回折の半値巾によっ
て測定することも出来る。バリウムフェライトは六方晶
系板状であるため、針状磁性粉と比べて表面粗度への影
響が大きくなり、上記の径及び板状比よりも大きくなる
と表面粗度の低下が激しく好ましくない。粒径が前記の
ような範囲にある場合は垂直成分が充分に利用され、か
つ磁性層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充分に低
く、高密度記録が達成できる。 バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶化
法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、い
ずれの方法も利用できることは言うまでもない。 その他ＣＯ含有酸化鉄粉、７　Ｆ　ｅ　２０３粉、Ｆｅ
３Ｏ４粉、ＣＯフェライト粉、メタル粉末等も利用でき
る。 本発明の磁気記録層には通常用いられる有機バインダー
、無機顔料、潤滑剤、その他、分散剤。 帯電防止剤等を常法に従って用いることができる。 本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは、従来、
磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性又
は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得られ
る塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の樹脂
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下。 平均分子量が１０，０００〜２００，０００．重合度が
約２００〜２，０００程度のもので１例えば塩化ビニー
ル−酢酸ビニール共重合体（カルボ　　　　　　　□ン
酸導入のものも含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニー
ル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化
ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共
重合体。 メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メ
タクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステル−スチレン共重合体。 ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニ
トロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジェ
ン−アクリロニトリル共重合体。 ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース
誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェン
共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−
アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成
ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用される
。 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり。 塗布、乾燥後に加熱することにより、縮合、付加等の反
応により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹
脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融
しないものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アク
リル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセ
ルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイ
ンシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共
重合体とジイソシアネートプレポリマーの、混合物、ポ
リエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、
尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分
子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネート
の混合物、ポリアミン樹脂、及びこれらの混合物である
。 バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。 放射線硬化性化金物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸。 メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥
する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹
脂である。その池数射線照射により架橋重合する不飽和
二重結合を有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は多塩基酸成分１
種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイン酸、フ
マル酸等を加え常法、すなわち触媒の存在下で、１８０
〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アルコール
反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し、０．５〜ｌｍ
ｍＨｇの減圧下、縮合反応により得ることができる。マ
レイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射
線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、好ましくは１
０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１〕塩化ビニ一ル系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹＥ
Ｓ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ等が挙げられ、コノものに後述
の手法により、アクリル系二重結合、マレイン酸系二重
結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性を行
う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１゜２プロピレングリコール、
１，３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，
４ブタンジオール。 １．６ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、１，４
シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコールと
のエステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又
はこれらのポリエステル樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変性した
樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が例として挙げられ、こ
れらも同様にして放射線感応変性を行う５ （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学裂（エピ
コート１５２．１５４．８２８．１００１．１００４．
１００７）、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ４３１゜Ｄ　
Ｅ　Ｒ７３２、ＤＥＲ５１１，ＤＥＲ３３１）　、大日
本インキ製（エピクロン４００．８００）、更に上記エ
ポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂
（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本イン
キ化学工業製（エビクロン１４５．１５２．１５３．１
１２０）等があり、又これらにカルボン酸基を含有する
ものも含まれる。これら樹脂中に含まれるエポキシ基を
利用して放射線感応変性を行う６ （５）Ｊｉｌ維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である、
樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ｐｖｐオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、ス　　　　　□□ １°７“−）Ｌｔ１゛＊″ｕｒｓｔｅ＊＊ｔａ’ｙ“Ｊ
Ｊｕ　　　　１１エステル及びメタクリルエステルを重
合成分とし□ て少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効である。 □ 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−トル
エンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシアネ
ート、１，４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナ
フタレンジイソシアネート、ｍ−フユニレンジイソシア
ネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．３’−
ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、３
．３’−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４．
４’−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート、ジ
シクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュー
ルし、デスモジュールＮ等、の各種多価イソシアネート
と。 線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジ　　　
　　　　１′１□：１ エチレングリコール、グリセリン、トリメチロ−・ｊル
プロパン、１，４−ブタンジオール、１．６−ヘキサン
ジオール、ペンタエリスリット、ソルビ８−７゜、えオ
Ｓ、ｆ）Ｌｔ）ｊＵ。−７３，１，４−、））　　　　
１１・１０ヘキサンジメタツールの様な多価アルコール
と、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク　
　　　　　　１１゜酸、アジピン酸、セバシン酸の様な
飽和多塩基酸　　　　　　　：ｊ・１・ との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテル　　　
　　　　１・、（ （ポＩＪ　ｘ　５．Ｌ／　、グｌＪ：Ｉ−）Ｉｔ、ポ１
Ｊ２０ビウッグ１．　　　　　　　・１□コール、ポリ
テトラメチレングリコール）やカブ　　　　　　　１０
ラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステ　　　　
　　　□１ル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル
等の　　　　　　　：１各種ポリエステル類の縮重合物
より成るポＩＪ　’７し　　　　　　　ｌ。 タンエラストマー、プレポリマーが有効である。　　　
　　　　□！。 これらのウレタンニジストマーの末端のイソシ　　　　
　　　Ｉ′。 □・１ アネート基又は水酸基と、アクリル系二重結合又　　　
　　　　１１はアリル系二重結合等を有する単量体とを
反応さ　　　　　　　１ｊせることにより、放射線感応
性に変性することは：：・１ 非常に効果的である。又、末端に極性基として０　　　
　　　　・］′Ｈ，Ｃ０ＯＨ等を含有するものも含む。 さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２　Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより　　　　　　　：；ア、□□。６ユ、ヵ
、い、アあ９．７．イッ　　　　１１７□ダーとして更
に有利となる。 またポリブタジェンの環化物１日本合成ゴム！ｌｉ！ｊ
ｊ１．１ ＣＢＲ−Ｍ２Ｏ３も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐ
れた性質を有している。 その他、熱可塑性エラストマー及びそのブレポＩＪ　Ｖ
　−Ｏａ　Ｔ□、、、、。２．ア、２．８７．７−ツ　
　　　トｊタジエンゴム、塩化ゴム、アクリルゴム、イ
ソプ″″ｉｌ−及びそ０環化物（日本合成５ム′１ｉＣ
ＩＲ、。 ７０１）があり、エポキシ変性ゴム、内部可塑化飽　　
　　　　　　１′１ 相線状ポリエステル（東洋紡バイロン＃３００）　　　
　　　　　　・１１］ 等のエラストマーも下記に述べる放射線感応変性　　　
　　　　１１：ｊ 処理を施こすことにより有効に利用できる。　　　　　
　　　　　　Ｉｌｌ・（ オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチル　　　　　　　１１ン
グリコールジアクリレート、エチレングリコ−１１：： ルジメタクリレート、ジエチレングリコールシア　　　
　　　　・：１］ クリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー　　
　　　　：１ト、１，６−ヘキサングリコールジアクリ
レート。 １，６−ヘキサンゲリコールジメタクリレート。 トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエステ
ルアクリレート（アロエックスＭ−７１００、Ｍ−５４
００，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレタンエ
ラストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入された
もの、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタク
リレート）、フェノールエチレンオキシド付加物のアク
リレート（メタクリレート）、下記一般式で示されるペ
ンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタクリル基
）またはε−カプロラクトンアクリル基のついた化合物
。 式中ｌｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、ａ＝３
．ｂ＝３（７）化合物（以下、特殊ペンタエリスリトー
ル縮合物Ｂという）。 ｍ＝１．ａ＝６．ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、ｍ＝２．ａ＝６．ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物り
という）。 及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げ
られる。 （１）（ＣＨユ＝ＣＨＣ００ＣＨ，）３−ＣＣＨ２０１
（（特殊アクリレ−ｈＡ） （２）　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）　３　　ＣＣＨ
２０１３（特殊アクリレートＢ） （３）（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ＋ＯＣ３％）ｎ　　ＯＣＨ，
）３　　ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＦ） （特殊アクリレートＧ） （特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射線
感応性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝５００）
７５０部とトルエン１２５０部、シクロヘキサノン５０
０部を５１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８０
℃昇温昇温ジトリレンジイソシアネート−ヒドロキシエ
チルメタクリレートアダクト×を６１．４部加え、更に
オクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノ２０．０１
２部を加え８０℃でＮ２気流中、ＮＣ０反応率が９０％
となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエ
チルケトン１２５０部を加え希釈する。

【×トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５°Ｃとなるように冷却
コントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間攪拌し
反応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白色ペ
ースト状：　　　　　　のＴＤＩの２ＨＥＭＡを得た。 】：　　　　　　ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の
合成（放射線感応変性樹脂） ブチラール樹脂積木化学製ＢＭ−８１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１゜４部と共に５１
の４つロフラスコに仕込み加熱溶□ 解し８０℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト×を７．
４部加え、更にオクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロ
キノン０．０１５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＧＯ
反応率が９０％以上となるまで反応せしめる。反応終了
後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡ
アダクト×を３．５５部加え、オクチル酸スズ０．００
７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８０°Ｃ，
Ｎ２気流中ＮＧＯ反応率が９０％以上となるまで反応せ
しめる。 ｄ）Ｏエポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）、４
００部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に
加熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベ１　　　　　　ンジル
アミンｏ、ｏｏｓ部、ハイドロキノン０゜□ １　　　　　００３部を添加し８０℃とし、アクリル酸
６９部ｌ　　　　　１１Ｌ８０’。１’　ａ　（ｉＢｉ
　５　Ｊ）、１”　ｋ　ｆｔ　６　＊　１’　Ｍｆ；　
’ｄ：　。 １　　　　　　ぬる。 １　　　　。７，７ヤ２□ア、１，７゜□。８．□線感
応変性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：　ＵＣＣ社
製　分子量３０，０００）６００部、メチルエチルケト
ン１８００部を３１の４ツロフラスコに仕込み、加熱溶
解し、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２ヒ
ドロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え
、更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０
．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＣ０反応率
が９０％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性
体の分子量は３５，０００．１分子当りの二重結合は１
個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネｉトのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０゜０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶に入れ、８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４
３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように
冷却しながら滴下し、滴下終了後８０℃で反応率９５％
以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後８０°Ｃで反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリＢＤリクイットレジンＲ−１５，２５０
部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．００７
部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、８０
℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８
０〜９０’Ｃとなるように冷却しながら滴下し、滴下終
了後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せしめる
。 高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、前記変性体
の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用として使
用可能である。 更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる６ 磁性粉／バインダーは１重量比で１／１〜９／１、特に
２／１〜８／１であることが好ましい。 このような割合とするのは１／ｌ未満では飽和磁束密度
が低くなり、９／ｌを超えると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール
、エタノール、プロパツール、ブタノール等のアルコー
ル類；ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等
のエステル類；イソプロピルエーテル、エチルエーテル
、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類
；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、その他ジメチルホルムアミド
等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使用される
。 これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１゜０００ｗ
ｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ％の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、また２）無機充填剤としテｓ　＋　０
２　、Ｔ　ｉ○２　、Ａ１２０３　、Ｃｒ２０ＳｉＣ，
ＣａＯ、Ｃａ　ＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、’２ｒ
　Ｆ　ｅ　２０３、タルク、カオリン、Ｃａ５ｏ４．窒
化硼素１．フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ＺｎＳ等が
ある。またこの他、次のような微粒子顔料（エアロジル
タイプ、コロイダルタイプ）：ＳｉＯ２、Ａ　Ｉ　２０
３．ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ２０３　、Ｙ２Ｏ３，Ｃ
ｅＯ２、Ｆ　ｅ　３０４、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＳｉＯ４，
５ｂ２０．Ｓｎ○等も用いられる。これら微粒子顔料は
、例えば５ｉ０２の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイ
ド溶液（スノーテックス、水系、メタノールシリカゾル
等、日産化学）、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製
造される超微粒子状無水シリカ（標準品１００Ａ）（ア
エロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙げられる
。又、前記■の超微粒子コロイド溶液及び■と同様の気
相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並び
に酸化チタン及び前述の微粒子顔料が使用され得る。こ
の様な無機顔料の使用量は１）に関してはバインダー１
００重量部に対して１〜３０重量部、又２）に関しては
１〜３０重量部が適当であり、これらがあまり多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。 また、無機顔料の径については１）に関しては０、ｌ、
−ｍ以下、さらには０．０５とｍ以下が好ましく、２）
に関しては０．７．−ｍ以下、さらには０．０５□ｍ以
下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
、：　　　□、工１７．−）Ｌｔ！、□、□、。□。□
１　　　□。ア。オ、□□ヮ１ア、ッ□、ア。 ノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エ
ステル類等の面性活性剤などが使用される。、１磁性層
には潤滑剤が含まれていてもよい　　　　　　　　　ｉ
ｔｉｍ？ｌ＊ＩＪ　ｋ　Ｌ　ｒ　ｔｉ［３１Ｅ　、：。 、。＝２．や第１３□　　　　　　１ｊいられる潤滑剤
としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤等を
用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪酸エス
テルを用いる　　　　　　１ｆ、７．７よい、　　　　
　　　　　　　ｔｉッゎ１５．カッ１７２４、カッ１１
４、うウ　　　　パ□コ リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
べ、ッ酸、オウィッ酸、工うイジッ酸、　ｇ　　　　　
　　ｊｌ□ノール酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭
素　　　　　　′」数１２以上の脂肪酸（ＲＣ○○Ｈ，
Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸エス
テルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と
炭素数３〜１２個の一価のアル３−ルからなる脂　　　
　　　、１肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基
性脂　　　　　　ｉ１肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計し
て炭素数が２１　　　　　．１〜２３個よ、成、−価。 ア１．ヨー２．．ヵ、ら成う脂　　　　　　′１゛肪酸
エステル等が使用され、又前記脂肪酸のアル１　　　　
　　カリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属石鹸。 レシチン等が使用される。 シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、□ 一部フッ素変性されているものが使用される。アルコー
ルとしては高級アルコールよりなるもの。 フッ素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴ
メリゼーション等によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ３ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ，ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ００Ｒ１ＣＨ２
：ＣＨ−ＣＨ２Ｃ０ＯＲ。 ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１も（ ＲＣ○○ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又
は分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は
７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これらは
弗素置換体とすることもでき　　　　　　憂ｌる。弗素
置換体としては ＣｎＦ２ｎｔｌ−１ＣｎＦ２ｎ＋／（ＣＨ２）ｏ＋　　
（但し、ｍ＝１〜５）、　　　Ｒ ＣｎＦ２ｎ＋ｌＳＯ２１１Ｊｃ）（２ｃ）［２＋、　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　’！３ゎ、よ□
９イ、□□。７よい、８□２１１゜しては、ステアリン
酸メタクリレート（アクリレート）、ステアリルアルコ
ールのメタクリレート（アクリレート）、グリセリンの
メタクリレート（アクリレート）、グリコールのメタク
リレート（アクリレート）、シリコーンのメタクリレー
ト（アクリレート）等が挙げられる。 潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０゜１〜２０
重量％含ませるのがよい。 バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダ一工程での付着が発生して好
ましくない。 なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは０．１〜
１０Ｐｍの範囲が一般的である。 磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合
、その架橋に使用する活性、エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Ｃ０６０を線源とした
で一線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線
源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。 本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガラ
ス板等が使用されるが、これらに限定されるものではな
い、これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバックコート
およびトップコートを設けてもよい。 これらのうちバックコートは、バインダー、顔料および
潤滑剤からなる組成とするのがよい。 バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量５，０００〜１００゜０００のプラスチック状化
合物、ＣＢ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を１個以上有するか、または放射線硬化性を有しない、
分子量３゜０００〜１００，０００のゴム状化合物、お
よび（Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を
１個以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物を
、（Ａ）２０〜７０重量％、（Ｂ）２０〜＆０重量％、
（ｃ）ｉｏ〜４０重量％の割合で用いた組合せが好まし
い。 また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量２００，０００以下のものが好
ましい。 特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）である
。 顔料としては１．前述の磁性層に用いた無機顔料を使用
することができる。そのなかの１）に関してバインダー
１００重量部に対して２０〜３００重量部、２）に関し
ては１０〜３００重量部含ませることが好ましい。 潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用できる
。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用い
るのが好ましい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁性層
に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾燥し
、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。 そして必要に応じてバックコートおよびトップコートを
設ければよい。 配向処理は、常法に従う。 配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ１
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ１機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等１種々のものが用いられる。 そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
、反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必要
がある。 磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。こ
の場合１本発明では、板状比が６以上と配向しやすいた
め、１０００〜４０００Ｇ程度でも十分目的にかなうも
のとなる。 本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や下記に示すよう
な塗膜のアンダーコート層を設けることもできる。これ
らは併用してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような放射線硬
化型化合物とカーボンブラックおよび／または界面活性
剤を含有させることが好ましい。 用いるカーボンブラックはファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して１０
〜１００　ｍ　ｐｍ、特に好ましくは１０〜８０ｍＰｍ
である。更に粒子径について言えば、粒子径１００ｍ、
−ｍを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪くな
り、磁性層塗布後の電特低下の原因となる。また１０ｍ
ｐｍ未満では分散がうまくいかず、やはりアンダーコー
トの表面１　　　　　　粗度が悪くなる。 □ １　　　　″″″″″″ｆ　５−ｙ　’）　Ｌ：　＊ｔ
′＊ｆｔ　％　（７）°Ｌｌ　’１９７　ｙイト化カー
ボンブラックがあり１本発明ではグラファイト化カーボ
ンブラックも用いることができ１　　　　　　る・ このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さはＩＯＡ〜２　）−ｍ程度とす
ることが好ましい。 叉施亘 実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
二九らに限定されるものでないことは言うまでもない。 ：　　　　　　　特性は以下のようにして評価した。 （１）線記録密度り句（ＫＦＲＰＩ） 回転数３０Ｏｒ、ｐ、ｒＨ，、ヘッド；フェライトヘッ
ド、ギャップ０．３７ａｍにて低記録密度領域での出力
（Ｅ）が高記録密度領域でＥ／２となる線記録密度Ｄ　
　（ＫＦＲＰＩ）を測定した。 （２）オーバーライド特性 媒体上１０ＫＦＲＰＩの矩形波を書き込み、その上に２
０ＫＦＲＰＩを重ね書きし、出力差を測定する。出力着
火の方がオーバーライド特性が良い。 （３）消去値 消去電流２．９Ａの時の磁性粉末の消去値をみる。 実施例１ 厚さ７５．ｍｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表
面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層
を設層した。 Ｚ」こグー：Ｉ−ｌ二贋−重量部 カーボンブラック　２０ｍＰｍ　　　　　　５０（Ａ）
アクリル変性基ビー酢ビービニルアルコール共重合体　
分子量４５，０００　　　　　４０（Ｂ）アクリル変性
ポリウレタンエラストマー分子量２０．０００　　　　
　　　　　４０（Ｃ）多官能アクリレート　分子量１，
０００ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　２
ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合溶剤
（ＭＩＢＫ／トルエン＝　１／１）　　３００上記組成
物をボールミル中５時間分散させ、上記のポリエステル
（ＰＥＴ）フィルム上に乾燥厚０．７部ｍになるように
塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカーテンフ
イプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ、電
極電流ｌＯｍＡ、吸収線量５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で電
子線をアンダーコート層に照射した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、第１表に示す六方晶系バリウム
フェライトＡ　（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ１２０（３のＢａ、Ｆ
ｅを一部置換したものを水熱合成法で合成）を用いて以
下のようにして磁性塗料を作成した。 １１（眉」工（放射線硬化型磁性層）　　　　重量部バ
リウムフェライト　粒径可変　　　　１２０カーボンブ
ラツク　３０ｍｐ　　　　　　　１０メーＡｌ２Ｏ３粉
末（０，５，−粉状）　　　２溶剤（ＭＥＫ／トルエン
５０１５０）　　　　　１００上記組成物をボールミル
中にて３時間混合し、六方晶系板状バリウムフェライト
を良く湿潤させる。次に 塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量４０．０００　　６部（固型分換算）アクリ
ル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含有）分子
量２０，０００　１２部（固型分換算）アクリル二重結
合導入ポリエーテルウレタンエラストマー　分子量４０
．０００　９部（固型分換算）ペンタエリスリトールト
リアクリレート　３部溶剤（ＭＥＫ／トルエン　５０１
５０）　　　２００部ステアリン酸　　　　　　　　　
　　　　４部ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　
２部のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。 この様にして得られた磁性塗料を上記アンダーコート層
上に塗布し、永久磁石（３０００ガウス）上で乾燥させ
ながら垂直配向させ、その後、連続して赤外線ランプま
たは熱風により溶剤を乾燥させた（これらは同時に並用
してもよい）後、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社製エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電
圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍ　
ｒ　ａ　ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し
、塗膜を硬化させた。硬化後の塗膜厚は磁性層１．５、
μｍであった。なお、この膜厚の測定は電子マイクロメ
ーターで行った。これらの塗膜をフィルムの両面に形成
し、両面コートとした。 このようにして作成したサンプルの特性を第１表に示す
。 第　　１　　表 消去値は消去電流２．９Ａでの値である。 第１表のものをプロクトし、第５図に示す。 ｌｔ行のフロッピーのオーバーライド特性の規格が２６
ｄＢであるが、上記のもののオーバーライド特性を測定
してみ゛たところ、オーバーライド２０ｄＢのもの迄、
実用上使用に耐えられるという事が判った。これに対応
する消去値としては第５図より一４５ｄＢ以下のものが
、この値をクリヤーしている。さらに好ましいものとし
てオーバーライド値２２ｄＢをクリヤーするものとして
消去値−５０ｄＢ以下である。 このように磁性粉の消去値により、オーバーライド特性
の対応が出来る事がわかる。 実施例２ 六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ、２０７
ＨのＢａ、Ｆａを一部変換したものを水熱合成法で合成
）　平均粒径０．０８．−ｍ、タップ密度０゜５０ｇ／
ｃｃ、Ｈｅ＝７２０　　　１２０重量部ｃＡ　　Ａｌ２
Ｏ３（０，５と粉末）　　２重量部グラファイト化カー
ボン＄４０００Ｂ ２０ｍと　　　　　　　１２重量部 分散剤（大豆油未精製レシチン）　　３重量部および 溶剤（ＭＥＫ／シクロヘキサノン　７０／３０）１００
重量部 を用い実施例１と同様にし磁性粉混合物を作った。 次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有）分子量２０，０００６重量部（固型分
換算） アクリル変性フェノキシ樹脂分子量３５．０００　　　
　　　　　　　６重量部（固型分換算）アクリル変性ポ
リエーテルウレタンエラストマー分子量２０．０００　
　１８重量部（ＩＩ型分換算）溶剤（ＭＥＫ／シクロヘ
キサノン７０／３０）２００重量部 高級脂肪酸変性シリコーンオイル　　３重量部および ミリスチン酸ブチル　　　　　　　　３重量部を混合溶
解させた。 その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作成し、
特性を調べた。ただし、配向処理は交流磁場（３０００
Ｇ）を用いて行った。 試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬化型に
かえて同様に処理した。 すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（マレイン酸含有）アクリル変性フェノキシ樹脂
、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー計３
０重量部を、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体（ユニオンカーバイド社＄１ＶＡＧＨ）１５
重量部およびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラン
３０２）１５重量部に代える以外は、試料Ａと同様に試
料Ｂを作製した。ただし、この場合、分散後磁性塗料中
にイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネ
ートし）を５重量部（固型分換算）加えた。また表面平
滑後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。 試料ＡおよびＢについて８インチ径の巻きとりロールに
５０００ｍ巻きとったときのジャンボロールの外側と内
側でのカールを比較した。カール測定は、５インチに打
ち抜いたフロッピーディスクをプレート板上に乗せ、カ
ールした高さｈｅｍを測定する。 この結果を第２表に示す。 ′第２表 であり、熱硬化型の場合、ジャンボロールの内側では巻
きしまりによりカールがあった。放射線硬化型の場合、
カールがなく好ましい。 また第３表に示すように、実施例１の組成でオーバーラ
イド特性がとれているものについて、第３表のようなも
ので、比較例として現行の高密度フロッピーと比較する
と１粒径０．１５Ｐｍ以下のものが線記録密度上好まし
いが、実用に耐え得る範囲では粒径Ｏａ２．ｗｍ迄のも
のが使用できる。 第　　３　　表 比：　Ｃｏ？Ｆ　ｅ２０３　、　Ｈｃ　６５０表面粗度
についても０．０８．−ｍを超えると型持低下を生じ、
実用上好ましくない。 ｌ匪立肱果 バリウムフェライトのオーバーライド特性の悪さが何に
起因しているのか調査している段階で、磁性粉について
追求してみた。オーバーライド特性の悪さが磁性粉の粉
体での消去値が悪い事が問題である事がわかった。磁性
粉末の粉体消去値をある一定レベルにする事により、媒
体でのオーバーライド特性が良好となる事がわかった。 そのため実用特性として問題ないものとなり、使用に耐
えるものとなった。バリウムフェライト自体の特性の悪
さが解決出来た。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁性粉末消磁装置及び残留磁化測定装置の構成
図、第２図及び第３図は磁性粉末消去測定法の原理説明
図、第４図は磁性粉末の消去電流Ｉｎに対する消去値Ｅ
　Ｒｎを示す消磁グラフ、第５図はフロッピーディスク
のオーバーライド特性とバリウムフェライト磁性粉末の
消去値との関係を示すグラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設けた磁気記
   録媒体において、磁気記録層に交流粉末消去法による測
   定で消去値−４５ｄＢ以下のバリウムフェライト磁性粉
   末を用いることを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）磁気記録媒体がフロッピーディスクである特許請
   求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。