JPH0762897B2

JPH0762897B2 - 磁気記録ディスク

Info

Publication number: JPH0762897B2
Application number: JP60248563A
Authority: JP
Inventors: 徹下沢; 薫代宮森; 正治西松
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1985-11-06
Filing date: 1985-11-06
Publication date: 1995-07-05
Anticipated expiration: 2010-07-05
Also published as: JPS62109224A

Description

【発明の詳細な説明】

Ｉ発明の背景技術分野本発明は、特に六方晶系の板状磁性粉を含有する磁性層
を有する塗布型の磁気記録ディスクに関する。さらに詳
しくは六方晶系板状磁性粉をディスク媒体に使用した時
のオーバーライト特性および出力を改善しようとするも
のである。先行技術とその問題点近年、磁気記録に関して、記録の大容量化、小型化を達
成するために記録密度の向上が強く要望されている。従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、γ−Fe₂O₃、Co被着γ−Fe₂O₃等の針
状磁性粉を含有させた磁性層を有するものが汎用されて
きた。しかしながら、このような磁性粉を有する磁気記
録媒体では、その記録密度に、おのずから限界がある。そこで、より高記録密度化を可能にならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式が提案されている。このような垂直方式に用いられる媒体としては、例えば
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性粉を
磁性層に含有する磁気記録媒体がある。このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化が実現できるが、ディスク媒体として、従来のリン
グ型磁気ヘッドを用いたとき、十分なオーバーライト特
性および出力を得ることができないという問題や、使用
時の耐久走行に問題があり、この点の改善が強く必要と
されている。 II 発明の目的本発明の目的は、オーバーライト特性が良好で、しかも
記録密度および出力が高く、使用時の耐久走行性に優れ
た磁気記録ディスクを提供することにある。 III 発明の開示このような目的は、下記の本発明によって達成される。すなわち、本発明は、支持体上に平均粒径が0.05〜0.2
μｍ、平均板状比が６〜40、保磁力が350Oe以上800Oe未
満の板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性層を有
し、ディスクの角型比が0.5〜0.75、ディスクの垂直方向の
保磁力が400〜800Oeであり、しかも磁性層の膜厚が0.4〜1.8μｍである磁気記録ディスクで
ある。 IV 発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。本発明の磁気記録ディスク（以下、単にディスクとい
う）は、下記のような六方晶系の板状磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を有する。そしてこのような磁性層の膜厚は0.4〜1.8μｍ、特に0.
4〜1.6μｍ、より好ましくは0.4〜1.4μｍである。この値が1.8μｍをこえると、オーバーライト特性が悪
くなり、記録密度の高密度化を維持しつつ、同時にいわ
ゆるリング型ヘッドを用いて良好な重ね書きを行おうと
するとき支障が生じる。膜厚の下限値は0.4μｍであっ
て、0.4μｍ未満になると磁性塗料を塗布しにくくな
り、磁性層の表面が平滑な記録媒体を得ることが困難と
なってしまう。そして、エンベロープ特性が悪化する。このような磁性層を有するディスクの特性として、膜面
垂直方向の垂直角型比Br⊥/Bm⊥は0.5〜0.75、より好ま
しくは0.5〜0.7である。さらに垂直方向のディスクの保磁力Hc⊥は400〜800Oe、
より好ましくは450〜780Oe、さらに好ましくは450〜750
Oeである。これらの値が上記の値をこえた時、すなわち、垂直角型
比が0.75をこえ、しかも保磁力Hcが800Oeをこえたとき
は、オーバーライト特性が悪くなり、リング型ヘッドを
用いていわゆる重ね書きができなくなるという不都合が
生じる。また垂直角型比が0.5未満になると磁性層の表面粗度が
低下し、しかも高記録密度化ができなくなるため好まし
くない。そして、Hc⊥400、Oe未満では十分な出力が得られな
い。なお、垂直角型比および保磁力Hc⊥は下記のように測定
する。すなわち、ディスク表面に垂直方向にて磁化曲線
を測定し、これを反磁界補正する。そして、これから残
留磁化Br⊥、飽和磁化Bm⊥、保磁力Hc⊥を測定する。垂
直角型比はこのBr⊥/Bm⊥の比である。いわゆる両面記録媒体の場合であっても、上記の測定方
法によればよい。本発明で用いる六方晶系の板状磁性粉としては、バリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶フ
ェライト系が好適である。このような磁性粉の平均粒径は、電磁変換特性上0.05〜
0.2μｍであり、特に0.05〜0.15μｍが好ましい。また、磁性粉の平均厚みは、0.03〜0.0013μｍ程度であ
る。ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡
（SEM）および透過形顕微鏡（TEM）〕によって、例えば
六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面50個程度を観
察し、粒径についての測定値を平均にしたものである。平均厚みも電子顕微鏡写真による測定値の平均である。
また平均板状比とは平均粒径／平均厚みの値である。あるいは、Ｘ線回折による２θの半値巾によってのこれ
らの値を測定することもできる。平均粒径が0.20μｍをこえると表面粗度が低下し、線記
録密度特性が悪くなる。なお、平均粒径を平均厚みで除した値である平均板状比
は６〜40であり、特に７〜40であることが好ましい。こ
の値が６未満になると、使用時の耐久走行性が劣り、し
かも本発明の諸条件、例えば垂直方向の保磁力等の範囲
内でも、記録密度や出力等の特性が悪くなる方向にあり
好ましくない。平均板状比の好適範囲は、前述した磁性粉の平均粒径と
相関があり、これらの組み合せは、平均板状比が７〜12
であって、平均粒径が0.05〜0.10μｍである範囲あるい
は、平均板状比が10〜40であって平均粒径が0.08〜0.15
である範囲が特に好ましい。使用時の耐久走行性が有利になる原因として板状比の大
きなものがならぶため、ケズレにくくなるのであろうと
考えられる。バリウムフェライトとしては、BaFe₁₂O₁₉等の六方晶系
バリウムフェライトやバリウムフェライトのBa、Feの一
部をCa、Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、In、Mn、Cu、G
e、Nb、Zr、Snその他の金属で置換したもの等が挙げら
れる。これらは併用してもよい。また、六方晶ストロンチウムフェライトSrFe₁₂O₁₉、あ
るいはこれを上記に準じて置換したものであってもよ
い。バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。これらの方法
の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミックス
18（1983）No.10"などを参照することができる。なお、磁性粉の保磁力は、350Oe以上800Oe未満、より好
ましくは400〜750Oe、特に好ましくは400〜700Oeとする
ことが好ましい。磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量10,000〜200,000、重合度200〜2,000程度のものであ
る。熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カル
ボン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジエン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第3,058,844号に記載の
エポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロール
フェノールエーテルとの混合物、また特開昭49−131101
号に記載のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステル重合体との混合
物が好ましい。このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて６〜100時間加熱すればよ
い。バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。そ
の他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有
する化合物であれば用いることができる。放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は
多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の存
在下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱ア
ルコール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mmHg
の減圧下、縮合反応により得ることができる。マレイン
酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化
性等から酸成分中１〜40モル％、好ましくは10〜30モル
％である。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。（１）塩化ビニール系共重合体塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社製VRO
H、VYNC、VYEGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、UCARMAG52
0、UCARMAG528等が挙げられ、このものにアクリル系二
重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導
入して放射線感応変性を行う。これらはカルボン酸を含有してもよい。（２）飽和ポリエステル樹脂フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、1,3
ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4ブタン
ジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリッ
ト、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコー
ル、1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をSO₃Na等で変
性した樹脂（例えばバイロン53S）が例として挙げら
れ、これらも放射線感応変性を行う。（３）ポリビニルアルコール系樹脂ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。（４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン、メチルエピク
ロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル
化学製（エピコート152、154、828、1001、1004、100
7）、ダウケミカル製（DEN431、DER732、DER511、DER33
1）、大日本インキ製（エピクロン400、800）、さらに
上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂（PKHA、PKHC、PKHH）、臭素化ビスフェノールＡと
エピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製（エピクロン145、152、153、1120）等があり、ま
たこれらにカルボン酸基を含有するものも含まれる。こ
れら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応
変性を行う。（５）繊維素誘導体各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
樹脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（PVPオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げ
る。（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマーポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジ
イソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4
−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フ
ェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールＬ、デスモジュールＮ等の
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル（エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、
線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタンエ
ラストマー、プレポリマーが有効である。これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。ま
た、末端に極性基としてOH、COOH等を含有するものも含
む。さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。（２）アクリロニトリル−ブタジエン共重合エラストマ
ーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
として市販されている末端水酸基のあるアクリロニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオン
社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特にブタジエ
ン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋およ
び重合させるエラストマー成分として適する。（３）ポリブタジエンエラストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
Ｒ−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが
特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ−15
プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっている
為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとしてさらに有利となる。またポリブタジエンの環化物、日本合成ゴム製CBR−M90
1も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有し
ている。その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびそ
の環化物（日本合成ゴム製CIR701）があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイ
ロン＃300）等のエラストマーも放射線感応変性処理を
施すことにより有効に利用できる。オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、
Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトール
トリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレート
（アロニックスＭ−7100、Ｍ−5400、5500、5700等、東
亜合成）、ウレタンエラストマー（ニッポンラン4040）
のアクリル変性体、あるいはこれらのものにCOOH等の官
能基が導入されたもの、トリメチロールプロパンジアク
リレート（メタクリレート）フェノールエチレノキシド
付加物のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはεカプロラクトン−アクリル基
のついた化合物、式中、ｍ＝１、ａ＝２、＝４の化合物（以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｄという）、および下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げれる。１）（CH₂＝CHCOOCH₂）_３−CCH₂OH （特殊アクリレートＡ）２）（CH₂＝CHCOOCH₂）_３−CCH₂CH₃ （特殊アクリレートＢ）３）〔CH₂＝CHCO（OC₃H₆）_ｎ−OCH₂〕_３−CCH₂CH₃ （特殊アクリレートＣ）８） CH₂＝CHCOO−（CH₂CH₂O₄）−COCH＝CH₂ （特殊アクリレートＨ） 12）ＡＭ−Ｎ_nM−Ａ A:アクリル酸 M:2価アルコール N:2塩基酸（特殊アクリレートＬ）次に、放射線感応性バンインダー合成例を説明する。ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成 OH基を有する一部ケン化塩ビ−酢ビ共重合体（平均重合
度ｎ＝500）750部とトルエン1250部、シクロヘキサノ
ン500部を51の４つ口フラスコに仕込み、加熱溶解し、8
0℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト※を61.4部加え、さらに
オクチル酸スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部を加
え、80℃でN₂気流中、NCO反応率が90％となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250部を加え希
釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 TDI348部をN₂気流中11の４つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、２−エチレンメタクリレート260部、オクチル酸ス
ズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で３時間攪拌し、反応を完結させる。反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTDI
の2HEMAを得た。】ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂）ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン191.2
部、シクロヘキサノン71.4分と共に51の４つ口フラスコ
に仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト
※を7.4部加え、さらにオクチル酸スズ0.015部，ハイド
ロキノン0.015部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が90
％以上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂）飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンRV−200）、100
部をトルエン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶
解し、80℃昇温後、TDIの2HEMAアダクト※を3.55部加
え、さらにオクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.0
07部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が90％以上とな
るまで反応せしめる。ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂）エポキシ樹脂（シエル化学製エピコート1007）400部を
トルエン50部、メチルエチルケトン50部に加熱溶解後、
N,N−ジメチルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し、8
0℃で酸価５以下となるまで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） OH基を有するフェノキシ樹脂（PKHH:UCC社製分子量30
000）600部、メチルエチルケトン1800部を31の４つ口フ
ラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後、トリレンジ
イソシアネートの２ヒドロキシエチルメタクリレートア
ダクトを6.0部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN₂気流中、NCO反応
率が90％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性体の分子量は、35000、１分子当り
の二重結合は１個である。ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー）末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（MDI）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタン
製ニッポラン3119）250部,2HEMA32.5部、ハイドロキノ
ン0.07部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶にいれ、80
℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温度が80〜90
℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後、80℃
で反応率95％以上となるまで反応せしめる。ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500、250部、2
HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.
009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を
反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴
下し、滴下終了後、80℃で反応率95％以上となるまで反
応せしめる。ｇ）ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンポリBDリクイットレジンＲ−15250部、2HEMA
32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.009
部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反
応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後、80℃で反応率95％以上となるまで反応
せしめる。高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすのが知られている。分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクロレンがある。このような架橋型ポリマーであれ
ば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応が
起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はそのま
ま使用可能である。このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができ
る。光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量％
の範囲が望ましい。紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いれはよい。一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜300KVの放射線加
速器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラッドになるよう
に照射するのが好都合である。特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。磁性粉／バインダーは、重量比で1/1〜9/1、特に2/1〜8
/1であることが好ましい。このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度が
低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度が悪
くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるからで
ある。本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のア
ルコール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000wt％、特
に100〜5000wt％の割合で用いる。磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また２）無機充填剤としてSiO₂、TiO₂、Al₂O₃、Cr₂O₃、
SiC、CaO、CaCO₃、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe₂O₃、
タルク、カオリン、CaSO₄、窒化硼素、フッ化黒鉛、二
硫化モリブデン、ZnS等がある。またこの他、次のよう
な微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイ
プ）:SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、 Cr₂O₃、Y₂O₃、CeO₂、 Fe₃O₄、Fe₂O₃、ZrSiO₄、Sb₂O₅、SnO₂等も用いられる。
これら微粒子顔料は、例えばSiO₂の場合、無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、日産化学）、精製四
塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シ
リカ（標準品100Å）（アエロジル、日本アエロジル株
式会社）などが挙げられる。また、前記の超微粒子コ
ロイド溶液およびと同様の気相法で製造される超微粒
子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタンおよび前述
の微粒子顔料が使用され得る。この様な無機顔料の使用
量は１）に関してはバインダー100重量部に対して１〜3
0重量部、また２）に関しては１〜30重量部が適当であ
り、これらがあまり多くなると、塗膜がもろくなり、か
えってドロップアウトが多くなるという欠点がある。また、無機顔料の径については１）に関しては0.1μｍ
以下、さらには0.05μｍ以下が好ましく、２）に関して
は0.7μｍ以下、さらには0.05μｍ以下が好ましい。磁性層には分散剤が含まれていてもよい。分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；高
級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等
の両性活性剤などが使用される。磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸（RCOO
H、Ｒは炭素数11以上のアルキル基）であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数３〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素
数と合計して、炭素数が21〜23個よりなる一価のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が使用され、また前記
脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる
金属石鹸、レシチン等が使用される。シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。アルコールとし
ては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解
置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等に
よって得られるものが使用される。潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ドロ
ップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の
個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可
能である等の利点を持つ。放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤滑剤を構造式で表すと、 CH₂＝CHCOOR、 CH₂＝CH−CH₂COOR、 CH₂＝CHCONHCH₂COOR、 RCOOCH＝CH₂、 RCOOCH₂−CH＝CH₂等で、ここでＲは直鎖または分枝状の
飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好
ましくは12以上23以下であり、これらはフッ素置換体と
することもできる。フッ素置換体としては、 CnF_2n+1−、CnF_2n+1（CH₂）_ｍ−（ただし、ｍ＝１〜
５）、 CnFnCH₂CH₂NHCH₂CH₂−、等がある。これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20重量
部含ませるがよい。支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレード、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。本発明の磁気記録ディスクでは通常、支持体の両面に磁
性層が設けられる。このような媒体としては、例えばフ
ロッピーディスク、ハードディスク等がある。また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。本発明の磁気記録ディスクを製造するには常法に従って
行えばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに
混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエ
ステルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバー
スロールコート、エアーナイフコート、エアードクター
コート、ブレードコート、キスコート、スプレイコート
などの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や垂
直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好まし
くは常法に従い放射線硬化すればよい。そして必要に応
じてバックコートおよびトップコートを設け、その後デ
ィスク状に打ち抜けばよい。配向処理は、常法に従い、上述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方法をとりうる。たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁
場が代表的なものとして用いられ、それらのものの各種
組合せ、例えば垂直と水平の組合せ、水平配向、永久磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向と上記の組合せ等、種々のものが用いられる。これらのうち、特に本発明では、機械的配向や水平配向
を行うことが好ましい。配向に用いる磁場強度としては1000〜6000Gが好まし
い。本発明の記録ディスクにおいて、さらに支持体と磁性層
との間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗膜の
アンダーコート層を設けることもできる。これらは併用
してもよい。塗膜のアンダーコート層には、前述したような熱硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。カ
ーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。カーボンブラックの粒子径のどのようなものでもよい
が、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
〜100mμｍ、特に好ましくは10〜80mμｍである。更に
粒子径について言えば、粒子径100mμｍを超えるとアン
ダーコート層面の表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の
電特低下の原因となる。また10mμｍ未満では分散がう
まくいかず、やはりアンダーコートの表面粗度が悪くな
る。カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。このようなアンダーコート層を設けることによって、デ
ィスクのヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造
工程中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、
放電ノイズ等の発生を防止することができる。アンダーコート層の厚さは10Å〜５μｍ程度とすること
が好ましい。用いる磁気ヘッドとしては、通常、例えば、ガードバン
ド形成用のみに消去ヘッドを持つようなリードライト用
のリング型ヘッドが用いられ、特に塗布型の磁気記録デ
ィスクにおいては、従来までの安定性で実績のあるリン
グ型ヘッドが使用出来るため薄膜型の磁気記録ディスク
に比べ有利である。Ｖ発明の具体的作用効果本発明によれば、オーバーライト特性が良好でしかも記
録密度や出力が大きく、磁気特性も良好でさらに使用時
における走行耐久性に優れた磁気記録ディスクが得られ
る。このような磁気記録ディスクは、各種フロッピーディス
ク、オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファ
イル、計算機用ディスク、磁気ディスク、等に用いられ
る。特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。 VI 発明の具体的実施例以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。［実施例１］厚さ75μｍのポリエステル（PET）フィルムの表面と裏
面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を設層
した。アンダーコート層重量部カーボンブラック 20mμｍ 50 （Ａ）アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重合体分子量45,000 45 （Ｂ）アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量 5,000 45 （Ｃ）ペンタエリスリトールトリアクリレート 10 ステアリン酸 2 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記混合物をボールミル中５時間分散させ、上記のポリ
エステル（PET）フィルム上に乾燥厚0.7μｍになるよう
に塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロンカーテ
ンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極
電流10mA、吸収線量5Mrad、N₂ガス中で電子線をアンダ
ーコート層に照射した。このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。すなわち、まず最初に、平均粒径0.08μｍ、平均板状比
８をもつ六方晶系バリウムフェライト（BaFe₁₂O₁₉のB
a、Feの一部をCo（９％）、Ti（３％）で置換したもの
を水熱合成法で合成）を用いて以下のようにして磁性塗
料を作成した。バリウムフェライト（Hc＝700 Oe） 120重量部 α−Al₂O₃（0.5μｍ粉状） 2重量部カーボンブラック（20mμｍ） 10重量部溶剤（MEK/トルエン:50/50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。次に、バインダーとして塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（マレイン酸１％含有;MW40,000）８重量部（固型分換
算）、アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
（マレイン酸１％含有;MW20,000）10重量部（固型分換
算）、アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（MW40,000）９重量部（固型分換算）、ペンタエリスリトールトリアクリレート３重量部、溶剤（MEK/トルエン;50/50）200重量部ステアリン酸を４重量部、およびステアリン酸ブチル２重量部を混合溶解させた。これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。このようにして得られた磁性塗料を、上記アンダーコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その後、遠赤
外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。表面平滑化処理をした後、ESI社製エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を使用して加速電圧150KeV、電極
電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN₂雰囲気下にて電
子線を照射し、塗膜を硬化させた。媒体サンプルとして
の垂直方向の保磁力Hc⊥は750Oeであった。硬化後の塗
膜（磁性層）の厚さは表１に示すように種々かえてサン
プルを作製した。なお、この膜厚の測定は電子マイクロ
メーターで行った。これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートと
し、ディスクとした。このようにして作製したものをサンプル101〜108（表
１）とする。これらの試料について特性を調べた。特性は以下のように評価した。（１）垂直角型比磁気記録媒体サンプルの垂直方向の角型比Br⊥/Bm⊥を
測定し、反磁場補正を行った。支持体の両面に磁性層を設置した場合は、それぞれの磁
性層について測定を行った。（２）オーバーライト特性磁気記録媒体サンプル上10KFRPIの矩形波をリング型ヘ
ッド（ギャップ0.4μｍ）にて書き込み、その上に20KFR
PIを重ね書きし、出力差を測定した。出力差大の方がオ
ーバーライト特性が良い。（３）線記録密度D₅₀（KFRPI）回転数300r.p.m.、ヘッド；フェライトヘッド、ギャッ
プ0.4μｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録
密度領域でE/2となる線記録密度D₅₀（KFRPI）を測定し
た。結果を表１に示す。表１の結果から下記のことがわかる。磁性層の膜厚が薄くなる程、配向しやすくなり、垂直角
型比が上昇する。そのため記録密度特性D₅₀が向上し、
しかもオーバーライト特性も良好となることがわかる。
膜厚0.2μｍでは、オーバーライト特性が良好だが、塗
布ムラが激しく、エンベロープ特性が悪く、電特上使用
出来ない。1.8μｍより大のものは、−26dBより小であ
りオーバーライト特性が悪い。D₅₀は膜厚が薄くなる程
良好になる。そこでオーバーライト特性との関係で0.4
〜1.8μｍが好ましい。これよりサンプル101〜106が実用に耐えるものであっ
た。［実施例２］実施例１で用いたポリエステル（PET）フィルムの表面
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設置した。アンダーコート層重量部 CaCO₃ 50mμｍ 10 カーボン 20mμｍ（グラファイト化カーボン） 30 塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体（ユニオンカーバイド社製VAGH） 50 ポリウレタンエラストマー（BF、グッドリッチエステン5703） 50 ステアリン酸 2 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記混合物をボールミル中５時間分散させた後、さらに
イソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネー
トＬ）を20重量部加え、この混合物を上記のポリエステ
ル（PET）フィルム上に乾燥厚３μｍになるように塗布
し、表面平滑化処理を行い、その後、80℃で48時間熱硬
化を行った。このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。すなわち、実施例１で用いた磁性粉にかえて、下記に示
されるような保磁力をもつ六方晶系バリウムフェライト
（BaFe₁₂O₁₉のBa、Feを一部下記のCo、Tiで置換したも
のを水熱合成法で合成）の磁性粉として用いた。なお、これらの磁性粉の平均粒径は0.11μｍ、平均板状
比は16であった。置換金属は蛍光Ｘ線で分析を行い、Feを100％として換
算した。これらの磁性粉を用い、以下のようにして磁性塗料を作
製した。バリウムフェライト 120重量部 α−Al₂O₃（0.5μｍ粉状） 2重量部カーボンブラック（20mμｍ） 10重量部溶剤（MEK/トルエン:50/50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。次に下記に示すバインダーを磁性粉混合物の入ったボー
ルミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。バインダー組成塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（ユニオンカーバイド社製UCARMAG528） 15重量部（固
型分換算）、ウレタン（日本ポリウレタン社製ニッポラン3022） 15
重量部（固型分換算）、溶剤（MEK/シクロヘキサノン;70/30） 200重量部、高級脂肪酸変性シリコーンオイル 3重量部、およびミリスチン酸ブチル 3重量部を混合溶解させた。さらに、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物
（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を５重量部（固
型分換算）加えた。このようにして得られた磁性塗料を、上記アンダーコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その後、遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。その後、表面平滑化処理をした後、80℃で48時間熱硬化
を行って、塗膜を硬化させた。硬化後の塗膜（磁性層）の厚さは1.5μｍであった。この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。なお、このような種々の媒体サンプルの垂直方向の保磁
力は下記表１に示されるとおりであり、垂直角型比Br⊥
/Bm⊥は各サンプルにつきすべて0.69であった。上記の各サンプルについて、上述したようなオーバーラ
イト特性とD₅₀を求めた。結果を表２に示す。［実施例３］ PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例１の場合
と同様にし、磁性層を下記のようにかえた。すなわち、平均粒径0.12μｍ、平均板状比34であって、
BaFe₁₂O₁₉のBa、Feの一部をCu（２％）、Zr（13％）で
置換した磁性粉（保磁力650Oe）を用いて、その他の混
合物組成、媒体作製方法等は以下に示すようなバインダ
ー組成および磁性粉の配向処理にかえた以外は実施例１
の場合と同様にした。なお、設層乾燥後の磁性層厚さは、1.5μｍとした。バインダー組成塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（マレイン酸１％含有;NW20,000） 10重量部（固型分換
算）、アクリル変性フェノキシ（MW35,000） 6重量部（固型
分換算）、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー（MW2
0,000） 24重量部（固型分換算）、溶剤（MEK/シクロヘキサノン;70/30） 200重量部、
高級脂肪酸変性シリコーンオイル 3重量部、
ミリスチン酸ブチル 3重量部（配向処理）処理31 磁場配向処理は行わなかった。処理32 垂直磁場内（2000G）で乾燥させながら配向処理を行っ
た。処理33 板状比を34から８の磁性粉に変えて、処理31の方法に準
じて処理を行った。処理34 板状比を34から８の磁性粉に変えて、処理31の方法に準
じて処理を行った。これらの媒体サンプルについて、垂直角型比、オーバー
ライト特性およびD₅₀を測定した。なお、媒体サンプルとしての垂直方向の保磁力Hc⊥は70
0Oeであった。結果を表３に示す。［実施例４］ PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例１の場合
と同様とし（ただしアンダーコート設層厚さは２μｍと
した）、磁性層中に含有される磁性粉を下記のようにか
えた。すなわち平均粒径は0.09μｍで一定とし、平均板状比は
表４に示される種々のものとした。この磁性粉はBaFe₁₂O₁₉のBa、Feの一部をCu（４％）、Z
r（15％）で置換したもの（保磁力530Oe）を用いた。そ
の他の混合物組成、媒体作製方法等としては、以下に示
すようなバンインダー組成にかえた以外は、実施例１の
場合と同様にした。なお、設層乾燥後の磁性層厚さは１μｍとした。（バインダー組成）塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（アレイン酸含有率:0.8％ MW30,000）18重量部（固型
分換算）、アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（MW50,000）12重量部（固型分換算）、溶剤（MEK/トルエン;50/50）200重量部、ステアリン酸を４重量部、およびステアリン酸ブチル２重量部これらの媒体サンプルについて、下記に示す方法で耐久
走行性を測定した。（１）耐久走行性現行のフロッピーディスクドライブで常温で測定した。結果を表４に示す。以上の結果より本発明の効果があきらかである。なお、実施例１〜４の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。従って、実用面ではバインダー組成を放射線硬
化性樹脂とした方が好適である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に平均粒径が0.05〜0.2μｍ、平
均板状比が６〜40、保磁力が350Oe以上800Oe未満の板状
磁性粉とバインダーとを含有する磁性層を有し、ディスクの角型比が0.5〜0.75、ディスクの垂直方向の
保磁力が400〜800Oeであり、しかも磁性層の膜厚が0.4〜1.8μｍである磁気記録ディスク。
【請求項２】板状磁性粉が六方晶系板状磁性粉である特
許請求の範囲第１項の磁気記録ディスク。
【請求項３】垂直方向の媒体の保磁力が450〜750Oeであ
る特許請求の範囲第１項または第２項の磁気記録ディス
ク。
【請求項４】磁性層中に含有されるバインダーが放射線
硬化型バインダーである特許請求の範囲第１項〜第３項
のいずれかの磁気記録ディスク。