JPS6220101A - 磁気記録再生システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はバリウムフェライト含有の磁気記録層を有し、
残留磁束密度と抗磁力の比が特定の値を有する等の特性
を有する磁気記録媒体と特定のフェライトヘッドとを組
合わせた磁気記録再生システムに関する。

現在、磁気記録媒体は、オーダ２Ｃオ、ビデオ、コンピ
ューター、磁気ディスク、８　ｍ　／　ｍ等の分野で広
範囲に使用されるようになっており、将来ビデオフロッ
ピー、高密度フロッピー等の分野でも使用されることが
予想され、それに伴い、磁気記録媒体に記録する情報量
も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒体に対
しては記録密度の向上が益々要求されるようになってき
ている。

従来より、磁気テープなどの磁気記録媒体では、磁気記
録層中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等して、磁
気特性を向上させているが、針状磁性粉を長手方向に配
向させたものは低周波帯域では高い出力が得られる反面
高密度記録には限界があるものであった。

又、このため最近では磁性粉末が平板状であり。

垂直方向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性
粉末を磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されて
いる（特開昭５７−１９５３２８号公報）。

しかし、これらのバリウムフェライト磁性粉末を使用し
たものでは、短波長記録特性は良好である。

一般にテープの抗磁力とヘッド材料の飽和磁束密度の関
係では Ｂ　ｓ＞　（５〜６）Ｈｃ を満たすことが望ましいとされ、この関係をＢｓ＝５０
００ＣＧ）のＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト単結晶に適用
すると、抗磁力約８００（Ｏｅ１以上のテープには十分
な記録ができないことになる。そのために高抗磁力テー
プ用ヘッド材料として、これまで主流であったＭ　ｎ　
−Ｚ　ｎフェライト単結晶から、飽和磁束密度が高い金
属系材料（センダスト、アモルファス）が見方されてい
る。

しかし、今までのフェライトヘッドはこれまで使用され
て来て信頼性が高いので、センダスト、アモルファス等
の合金を使用するよりもその点で利点があり、従来の信
頼の高いフェライトヘッドとの組合せにおいて、すぐれ
たバリウムフェライト磁性粉含有磁気記録媒体が期待さ
れている。

問題点を解決するための手 本発明者等はバリウムフェライト粒子を含有する磁気記
録層を有する磁気記録媒体について、フェライトヘッド
との組合せについて鋭意検討の結果、特定の特性を有す
るバリウムフェライト含有磁気記録媒体と特定のギャッ
プ長を有するフェライトヘッドとの組合せによりすぐれ
た磁気記録再生システムが得られることを見出し、本発
明に到達したものである。

即ち１本発明は磁留磁束密度Ｂｒ及び抗磁力ＨＣの垂直
方向の比ＢｒＬ／Ｈｃ上が０．７以上、Ｈｃが１０００
以下、磁性層がバリウムフェライト粒子を含有し、その
表面粗度が０．０８μｍ以下の磁気記録媒体とヘッド材
料がＢｓ＝５０００〜６０００の酸化物系のものであり
、ヘッドギャップ長が０．４７−ｃｍ以下のフェライト
ヘッドとを組合わせたことを特徴とする磁気記録再生シ
ステムに関する。

本発明のフェライトヘッドは、例えばＭｎ−Ｚｎ単結晶
（Ｍｎ○、Ｚｎ○、Ｆ　ｅ　２０３　）　、　Ｎ　１−
Ｚｎ単結晶（Ｎｉ○、ＺｎＯ，Ｆｅ２０３）等である。

これらの飽和磁束密度Ｂｓはｓ、ｏｏ。

〜６，０００であり、一般にテープの抗磁力とヘッド材
料の飽和磁束密度との関係ではＢｓ＞（５〜６）Ｈｃを
満たすことが望ましいと考えられているから、Ｉ（ｃは
１．０００（○ｅ〕以下が好ましいであろう。

バリウムフェライトの特徴は磁性合金に比べ抗磁力Ｈｃ
が低くても充分記録再生ができ、それと同等のもの或い
はそれ以上の特性が得られることであり、Ｈｃが低いも
ので充分に対応ができることである。Ｈｃが低いと磁気
ヘッドとしてアモルファスとかセンダストのような合金
ヘッドを使わなくても充分たち打ちできるのであり、今
まで使用され信頼性のあるフェライトヘッドの使用がで
きる利点がある。

本発明者等が確認したところ、バリウムフェライトヘッ
ドでも計算どおりＨｃ＝１０００［○ｅ〕以下ならば充
分に記録再生が可能であることがわかった。

Ｈｃが１０００（Ｏｅ］を超えると、電磁変換特性にお
いて、低域特性が低下することがわかった。これはバリ
ウムフェライトが磁性合金のように飽和磁束密度が高く
ないので低域特性がカバーできないことに起因するので
ある。

バリウムフェライトについて、テレビジョン学会技術報
告でＴＥＢｓｌｏｏ−６（５９年１２月１３日発表）の
内では入＝０．７５μｍで、ＭｓＡ／Ｉ　４０　ｅｍｕ
／ｃ　ｃにおいてＨＣ’；？−６０Ｑ　Ｏｅであれば出
力がほぼ一定であり、出力はＨｃの依存性がないとされ
ている（発表での使用ヘラ１ζ５ｅｎｄｕｓｔギヤツプ
０．２５Ｐｍ）、又、Ｃ／Ｎについては１９８５年ＩＥ
ＥＥで８　ｍ　／　ｍでの比較でＨｃ　＞　６００以上
であれば一定であるとされている（発表での使用ヘッド
Ｆｅｒｒｉｔｅギャップ０．３μｍ）。

そこで本発明者等はＨｃ＝１０００　（Ｏｅ）以下のも
のについてフェライトヘッドのリング型ヘッドで追求し
たところ、残留磁束密度Ｂｒ及び抗磁力Ｈｃの垂直方向
の比に関し関連性がありＢｒ−Ｌ／Ｈｃ”＝０．７以上
となるとき、電磁変換特性上すぐれたものが得られるこ
とを見出したのである。Ｈｃ’だけではカバーできず、
Ｈｃ　　が高くなるにつれてそれだけＢｒ”を高くして
補なわないと、電磁変換特性上すぐれたものが得られな
し）ことがわかった。しかも前記発表のようにバリウム
フェライト媒体のＭｓ　１４０　ｅｍｕ／ｃ　ｃ以上で
あれば出力が一定のものを作成するのはバリウム自体の
入Ｓが小のため難かしい。そこで本発明者等はＨｃ’に
ついて電磁変換特性で他に依存するものがないか、調査
したところＢｒ　　成分がＢｒ″／Ｈｃ”の間において
重要なファクターとなるものである事を見出した。

本発明は磁性層がバリウムフェライトを含有する磁気記
録媒体であり、そのＢｒ”／Ｈｃ　　が０゜７以上、Ｈ
ｃが１０００以下、表面粗度が０．０８、−ｍ以下のも
のである必要がある。

表面粗度については、０．０８μｍ以下では電磁変換特
性の低下が少なく、使用できるものであるが、Ｑ、０８
．”ｍを超えると前記特性の低下が激しく、使用に耐え
得ないものとなる。

又、本発明ではフェライトヘッドのギャップの大きさに
も特徴を有し、このフェライトヘッドのギャップが０．
４．、ｍ以下のものでは、高密度領域６０ＫＦＲＰＩで
例えばフロッピーディスクにおいて０．０ｄＢとすると
、これが０．５μｍ以上となると−８〜−１０ｄＢ落ち
となり、高密度記録媒体の特徴が出て来ないのである。

したがって、前記の磁気記録媒体と組合わせて効果のあ
るヘッドギャップはＱ、４Ｐｍ以下が好ましい。そして
このギャップが０．３．、−ｍとなると＋１．０〜＋３
．０ｄＢとなり好ましいものとなるのである。さらに０
．２．、−ｍとなると＋２゜０〜＋５．０ｄＢとなる。

そのためさらに狭いギャップ０．１〜０．０５７−ｍの
ものではさらに特性が良くなる。

第１図は６４ＫＦＲＰＩでの出力とＢｒ／Ｈ上　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　上Ｃの関係を示すグラフである。Ｂｒ／Ｈｃ”〉
０．７であれば出力−２ｄＢ以内で特性上すぐれている
。フェライトヘッドギャップ０．４．、ｍ、回転数９０
０ｒｐｍのもので測定した。入＝０゜８、−　ｍである
。上記発表Ｍ　ｓ　〜１４０　ｅ　ｍ　ｕ　／　ｃＣに
おいて入＝０．７５．．ｍでＨｃ≧６００以上で出カ一
定であった（センダストヘッド）が、Ｍｓが１４０　ｅ
　ｍ　ｕ　／　ｃ　ｃに現状のバリウムフェライトは達
していない為か、それともフェライトヘッドの為か、入
＝０．７５〜０．８μｍのゾーンで異なる傾向にあった
。そしてＢｒ　　／Ｈｃ　　Ｌこ依存性があった。

なお、■り定条件；６０ＫＦＲＰＩは、デジタル記録で
６０ＫＦＲＰＩでの出力を測定した。ヘッドギャップ０
．４μｍ以下、回転数１８００ｒｐｍである。

本発明で使用するバリウムフェライト磁性粉は六方晶系
版状のものであり、化学式Ｂａ０・６Ｆｅ２０３で表わ
され、この外、この化学式のＢａ及びＦｅの一部がＴｉ
＋　Ｃｒ、Ｃｏ、Ｚｒｚ　　Ｔｎ＋Ｍｎ、Ｃｕ’、Ｇｅ
、Ｎｂ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｎｉ等の金属で置換された
ものも含まれる。

バリウムフェライト磁性粉は直径０．２μｍ以下、好ま
しくは０．１５．、ｍ以下、更に好ましくは０．１μｍ
以下、板状比６以上、更に好ましくは８以上である。こ
の場合、板状比の上限値には特に制限はないが、通常３
０以下である。ここで平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔
走査型顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型顕微鏡（ＴＥＭ）
Ｅによって、例えば六方晶系バリウムフェライト粒子の
断面５０個程度を観察し、粒径についての測定値を平均
したものである。平均厚みも電子顕微鏡写真による測定
値の平均である。また板状比とは平均粒径／平均厚の値
である。あるいは平均厚はＸ線回折の半値巾によって測
定することも出来る。バリウムフェライトは六方晶系板
状であるため、針状磁性粉と比べて表面粗度への影響が
大きくなり、上記の径及び板状比よりも大きくなると表
面粗度の低下が激しく好ましくない。粒径が前記のよう
な範囲にある場合は垂直成分が充分に利用され、かつ磁
性層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充分に低く、
高密度記録が達成できる。

バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法。

ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェット法
等があり、いずれのガ法も利用できることは言うまでも
ない。

その他ＣＯ含有酸化鉄粉、’２’　Ｆ　ｅ　２０３粉、
Ｆｅ　３０４粉、Ｃｏフェライト粉、メタル粉末等も利
用できる。

本発明の磁気記録層には通常用いられる有機Ａインダー
、無機顔料、潤滑剤、その他１分散剤、帯電防止剤等を
常法に従って用いることができる。

本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは、従来、
磁気記録媒体用に利用されて％Ｎる熱可塑性、熱硬化性
又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得ら
れる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の樹
脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０°Ｃ以下、平均
分子量が１０，０００〜２００，０００、重合度が約２
００〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニール−
酢酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化
ビニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、
アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エ
ステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロ
ン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹
脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリコニ１
〜リル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイア
セテート、セルローストリアセテート。

セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等）、ス
チレン−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、グロ
ロビニルエーテルーアクリル酸エステル共重合体、アミ
ノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの
混合物が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂
、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミ
ン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプ
レポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソ
シアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオ
ールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリア
ミン樹脂、及びこれらの混合物である。

バインダーは放射線硬化型化合物を硬（ヒしたものを用
いることが好ましい。

放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の
、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する）を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。そ
の池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有
する化合物であれば用いることができる。

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。

分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物１例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は多塩井酸成分１
種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイン酸、フ
マル酸等を加え常法、すなわち触媒の存在下で、１８０
〜２００°Ｃ１窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アルコー
ル反応の後、２４０〜２８０°Ｃまで昇温し、０．５〜
ｌｍｍＨｇの減圧下、縮合反応により得ることができる
。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、
放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、好ましく
は１０〜３０モル％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げる事ができる。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社
製Ｖ　ＲＯＨｌ　ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、　　ＶＥＲＲ
，ＶＹＥＳ、ＶＭＣＡ、Ｖ　Ａ　Ｇ　Ｈ等が挙げられ、
コノものに後述の手法により、アクリル系二重結合、マ
レイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して放射
線感応変性を行う。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１゜２プロピレングリコール、
１，３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，
４ブタンジオール、■、６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット。

ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、
■、４シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコ
ールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステル
樹脂又はこれらのポリエステル樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変
性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が例として挙げら
れ、これらも同様にして放射線感応変性を行う。

（３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。

（４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例２ばシェル化学製（エピ
コー１−１５２．１５４．８２８．１００１．１００４
．１００７）、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ／１３１、
Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２、Ｄ　Ｅ　Ｒ５１１、ＤＥＲ３３１）
、大日本インキ製（エピクロン４００，８００）、更に
上記ヱポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキ
シ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、臭素化ビス
フェノールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日
本インキ化学工業製（エビクロン１４５．１５２゜１５
３．１１２０）等があり、又これらにカルボン酸基を含
有するものも含まれる。これら樹脂中に含まれるエポキ
シ基を利用して放射線感応変性を行う。

（５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である。

樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ＰＶＰオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合
成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効で
ある。

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。

（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、２．／ｌ−１−ルエンジイソシアネート、２．６−
１〜ルエンジイソシアネ−１−１１，３−キシレンジイ
ソシアネート、１，４−キシレンジイソシアネート、１
．５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジ
イソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３
．３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、３，３″−ジメチルビフェニレンジイソシアネー
ト、４．４’−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサ
メチレンジイソシアネー１〜、イソフォロンジイソシア
ネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デ
スモジュールし、デスモジュールＮ等の各種多価インシ
アネートと。

線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、１，４−シクロヘキサンジメタツールの様な多
価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽和多塩
基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテル（
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタム、ヒ
ドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシル含有
メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重合
物より成るポリウレタンエラストマー、プレポリマーが
有効である。

これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基又は水酸基と、アクリル系二重結合又はアリル系二重
結合等を有する単量体とを反応させることにより、放射
線感応性に変性することは非常に効果的である。又、末
端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有するものも含
む。

さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。

（２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイソドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１．４３２Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生し
架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。

（３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイノドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより放射線感応性を高めることが可能であり
、バインダーとして更に有利となる。

またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによすすぐれた性質
を有している。

その他、熱可塑性エラストーマー及びそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環
化物（日本合成ゴム製ＣＩ　Ｒ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロンｔｔ３００）等のエラストマーも下記に述へる
放射線感応変性処理を施こすことにより有効に利用でき
る。

オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレ−１−、エチレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、■、６−ヘキサングリコールジア
クリレート、１．６−ヘキサンゲリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴ
エステルアクリレート（アロニツクスＭ−７１００、Ｍ
−５４００，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレ
タンエラストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性
体、あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入
されたもの、トリメチロールプロパンジアクリレート（
メタクリレート）、フェノールエチレンオキシド付加物
のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式で示さ
れるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタク
リル基）またはε−カプロラクトンアクリル基のついた
化合物、 式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ　＝　１　、
’　　ａ　＝　３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６．ｂ
＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物
Ｃという）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、
特殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、及び下記
一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる。

（１）　（Ｃｌｌ２”　ｃｌｌｃｏｏｃｎ、　）　３　
　ＣＣｔ（２０Ｈ（特殊アクリレートＡ） （２）（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３ＣＣＨ，Ｃｌｌ
３（特殊アクリレートＢ） （３）［：Ｃ）＋２＝：ＣＨＣＯ−←ＱＣ，Ｈ６）ｎ　
−ＯＣＨ，］　？　　−ＣＣＩＩ、　ＣＨ３（特殊アク
リレートＥ） （特殊アクリレートＦ） （７）　　　　　　　　　　　ＣＨ２Ｃ１）ＯＣＨ＝　
ＣＩ！□Ｃｌｌ３　　（Ｃｌ１２）ｎ　　Ｃ００ＣＨｘ
　　ＣＣＨＯ１ｌ（ｎ出１６）　　　　　　ＣＩ　Ｃ０
０ＣＩｌ＝ＣＩ＋２λ （特殊アクリレートＧ） （８＞ＣＨ，＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＩ、Ｃ）１，０）４−
ｃｏｃ＋＋＝ｃｕ、１（特殊アクリレ−トド■） （特殊アクリレート■） （特殊アクリレートＪ） （１１）　　　　　　Ａ　　　　　　ＡＡ　−（Ｘ　−
Ｙｒ−ｎＸ　−Ａ Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射線
感応性バインダー合成例を説明する。

ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＣＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝５００）
７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５０
０部を５１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８０
°Ｃ昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え。

更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が９
０％となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチ
ルエチルケトン１２５０部を加え希釈する。

（※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０°Ｃに加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０
部、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０
５部を反応缶内の温度が８０〜８５°Ｃとなるように冷
却コントロールしながら滴下終了後８０°Ｃで３時間攪
拌し反応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白
色ペースト状のＴＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−３１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１゜４部と共に５１
の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡアダクト×を７．４部加え、更にオクチ
ル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１５部を
加え、８０°ＣでＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上
となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエ
チルケトンにて希釈する。

Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し８０°Ｃ昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３．５５部加え、オクチル酸スズ０．０
０７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８０℃、
Ｎ２気流中ＮＣ○反応率が９０％以上となるまで反応せ
しめる。

ｄ）０工ポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）、４
００部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に
加熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００
６部、ハイドロキノン０゜００３部を添加し８０℃とし
、アクリル酸６９部を滴加し８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。

◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：　ＵＣＣ社
製　分子量３０，０００）６００部、メチルエチルケト
ン１８００部を３１の４ノロフラスコに仕込み、加熱溶
解し、８０°Ｃ昇温後、トリレンジイソシアネートの２
ヒドロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加
え、更にオクチル酸ヌズ０．０１２部、ハイドロキノン
０．０１２部を加え、８０°ＣでＮ２気流中、ＮＣ０反
応率が９０％となるまで反応せしめる。このフェノキシ
変性体の分子量は、１ｓ、ｏｏｏ、１分子当りの二重結
合は１個である。

ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製二ノボラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０゜０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶に入れ、８０°Ｃに加熱溶解後ＴＤＩ
４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるよう
に冷却しながら滴下し、滴下終了後８０°Ｃで反応率９
５％以上となるまで反応せしめる。

ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０″Ｃに加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温
度が８０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し、
滴下終了後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せ
しめる。

ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンボリＢＤリクイットレジンＲ−１５１，２５
０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．００
７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、８
０°Ｃに加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し１滴
下終了後８０°Ｃで反応率９５％以上となるまで反応せ
しめる。

高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、前記変性体
の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用として使
用可能である。

更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。

このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。

磁性粉／バインダーは１重量比で１／１〜９／１、特に
２／１〜８／１であることが好ましい。

このような割合とするのは１７１未満では飽和磁束密度
が低くなり、９／１を超えると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。

本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。

例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール
、エタノール、プロパツール、ブタノール等のアルコー
ル類；ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等
のエステル類：イソプロビルエーテル、エチルエーテル
、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル類＝ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類
；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド２四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジグロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、その他ジメチルホルムアミド
等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使用される
。

これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００ｗ
ｔ％、特に１００−５０００ｗｔ％の割合で用いる。

磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。

無機顔料としては、ｌ）導電性のあるカーボンブランク
、グラファイト、また２）無機充填剤として５ｉ０２−
ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ　２０Ｓ　ｉＣ，Ｃａｂ、
ＣａＣＯ２、酸化亜鉛、ゲーサイト、２’　Ｆ　ｅ　２
０３　、タルり、カオリン、ＣａＳＯ４、窒化硼素、フ
ッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ＺｎＳ等がある。またこ
の他、次のような微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロ
イダルタイプ）：５ｉ０２．Ａｌ２Ｏ３，ＴｉＯ２、Ｚ
ｒＯ２，Ｃｒ　、ｌ！０３　、　Ｙ２０３　、　Ｃｅ　
０２、Ｆｅ３Ｏ４、Ｆｅ２Ｏ３、Ｚｒ５ｉＯ，、，５ｂ
２ｏ、、Ｓｎ○等も用いられる。これら微粒子顔料は、
例えばＳｉＯ２の場合、■無水珪酸の超微粒子コロイド
溶液（スノーテックス、水系、メタノールシリカゾル等
、日産化学）、■精衷四塩化ケイ素の燃焼によって製造
される超微粒子状無水シリカ（標準品１００人）　（ア
エロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙げられる
。又、前記■の超微粒子コロイド溶液及び■と同様の気
相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並び
に酸化チタン及び前述の微粒子顔料が使用され得る。こ
の様な無機顔料の使用量は１）に関してはバインダー１
００重量部に対して１〜３０重量部、又２）に関しては
１〜３０重量部が適当であり、これらがあまり多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。

また、無機顔料の径については１）に関しては０．１μ
ｍ以下、さらには０．０５−ｍ以下が好ましく、２）に
関しては０．７μｍ以下、さらには０．０５μｍ以下が
好ましい。

磁性層には分散剤が含まれていてもよい。

分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４Ｒアンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等
の両性活性剤などが使用される。

磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。

潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪
酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣ○○
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金
属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの。

フッ素としては電解置換、テロメリゼーション。

オリゴメリゼーション等によって得られるものが使用さ
れる。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物１例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＩ（３ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ，’ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ００Ｒ１ＣＨ
２＝ＣＨ−ＣＨ２’Ｃ○○Ｒ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＣＨ２０ＣＯＣ
Ｈ＝ＣＨ２ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、ＲＣＯＯＣＨ２−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は分枝状の飽和もし
くは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好ましくは
１２以上２３以下であり、これらは弗素置換体とするこ
ともできる。弗素置換体としては ＣｎＦ２ｎ＋ｌ−１Ｃｎ　Ｆ　２ｎ＋＋　（ＣＨ２）ｍ
　−（但し、ｍ＝１〜５）、　　　Ｒ Ｃｎ　Ｆ２ｎ＋ｌ　Ｓ○２ＮＣＨ２ＣＨ２−１これら放
射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、ステアリ
ン酸メタクリレート（アクリレート）、ステアリルアル
コールのメタクリレート（アクリレート）、グリセリン
のメタクリレート（アクリレート）、グリコールのメタ
クリレート（アクリレート）、シリコーンのメタクリレ
ート（アクリレ−１−）等が挙げられる。

潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。

分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０゜１〜２０
重量％含ませるのがよい。

バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダ一工程での付着が発生して好
ましくない。

なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは０．１〜
１０μｍの範囲が一般的である。

磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合
、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源としたり
一線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源
としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリニスチル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガラ
ス板等が使用されるが、これらに限定されるものではな
い。これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド等を用いることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。

また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバラフコ−１
〜およびトップコートを設けてもよい。

これらのうちバックコートは、バインダー、顔料および
潤滑剤からなる組成とするのがよい。

バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量５，０００〜１００゜０００のプラスチック状化
合物、（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を１個以上有するか、または放射線硬化性を有しない、
分子量３゜０００〜１００，０００のゴム状化合物、お
よび（Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を
１個以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物を
、（Ａ）２０−７０重景％、（Ｂ）２０〜８０重量％、
（Ｃ）１０〜４０重景％の割合で用いた組合せが好まし
い。

また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量２００，０００以下のものが好
ましい。

特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬ｆヒ性樹脂（硬化剤使用）であ
る。

顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。そのなかの１）に関してバインダー１
００重量部に対して２０〜３００重量部、２）に関して
は１０〜３００重量部含ませることが好ましい。

潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用できる
。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用い
るのが好ましい。

本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁性層
に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾燥し
、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。

そして必要に応じてバックコートおよびトップコーを設
ければよい。

配向処理は、常法に従う。

配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等１種々のものが用いられる。

そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
、反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必要
がある。

磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。こ
の場合、本発明では、板状比が６以上と配向しやすいた
め、１０００〜４０００Ｇ程度でも十分目的にかなうも
のとなる。

本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や下記に示すよう
な塗膜のアンダーコート層を設けることもできる。これ
らは併用してもよい。

塗膜のアンダーコート層には、前述したような放射線硬
化型化合物とカーボンブラックおよび／または界面活性
剤を含有させることが好ましい。

用いるカーボンブラックはファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。

カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して１０
〜１００　ｍ　ｐｍ、特に好ましくは１０〜８０ｍ、ｍ
ｍである。更に粒子径について言えば、粒子径Ｌｏｏｍ
、−ｍを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪く
なり、磁性層塗布後の電特低下の原因となる。また１０
ｍ、−ｍ未満では分散がうまくいかず、やはりアンダー
コートの表面粗度が悪くなる。

カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブランクがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。

このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。

アンダーコート層の厚さは１〇八〜２、−　ｍ程度とす
ることが好ましい。

失凰且 実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。

特性は以下のようにして評価した。

（１）板状比 電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡（ＳＥＭ）および透過形
顕微鏡（ＴＥＭ））によって六方晶系のバリウムフェラ
イト粒子５０個について断面を観察し、六角形の粒径に
ついての測定値を平均して求めた平均粒径と厚さについ
ての測定値を平均して求めた平均厚みとから平均粒径／
平均厚みを算出し、板状比とした。

あるいはＸ線回折による２θの半値巾によってこれらの
値を測定することも出来る。

（２）垂直配向度 磁気テープの垂直方向の角形比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍを測
定し、反磁場補正を行った。

（３）表面粗度 、、１ＩＳＢＯ６０１に規定しである１０点平均粗さに
求め方に準じて行った。なおＪＩＳでは１０点平均法を
規定しているが、本発明の評価方法として、さらに厳密
にするため２０点平均とした。

カットオフ値は、触針スピード３０μｍ／ｓｅＣで０．
１８〜９Ｈｚ程度、または針圧はμｍｇとした。

（４）線記録密度り、ｏ（ＫＦＲＰＩ）回転数３０Ｏｒ
、ｐ、ｙＨ，、ヘッド；フェライトヘッド、ギャップ０
．３μｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録密
度領域でＥ／２となる線記録密度Ｄｊｏ（ＫＦＲＰＩ）
を測定した。

実施例１ 厚さ７５μｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表面
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。

Ｚ」ヶグユ、ユユユヒ層−重量部 カーボンブラック　２０　ｍ　Ｐｍ　　　　　　５０（
Ａ）アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共重合
体　分子量４５．０００　　　　　４０（Ｂ）アクリル
変性ポリウレタンエラストマー分子量２０．０００　　
　　　　　　　４０（Ｃ）多官能アクリレート　分子量
１．０００ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　
　２ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合
溶剤（ＭＩＢＫ／トルエン＝　１／１）　　３００上記
組成物をボールミル中５時間分散させ、上記のポリエス
テル（ＰＥＴ）フィルム上に乾燥厚０．７部ｍになるよ
うに塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカーテ
ンフイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０　Ｋ　
ｅ　Ｖ、電極電流１０ｍＡ、吸収線、！ｉ５Ｍｒａｄ、
Ｎ２ガス中で電子線をアンダーコート層に照射した。

このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。

すなわち、まず最初に、第１表に示すタップ密度の六方
晶系バリウムフェライトＡ（ＢａＦｅＯのＢａ、Ｆｅを
一部置換したものを水熱合成法で合成）を用いて以下の
ようにして磁性塗料を作成した。

磁性層ｌ　（放射線硬化型磁性層）　　　　重量部バリ
ウムフェライト　粒径可変　　　　１２０カーボンブラ
ツク　３０ｍＰ　　　　　　ＩＱメーＡ１．０３粉末（
０，５，−粉状）　　　　２溶剤（ＭＥＫ／トルエン５
０１５０）　　　　　１００上記組成物をボールミル中
にて３時間混合し。

六方晶系板状バリウムフェライトを良く湿潤させる。次
に 塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量７ＩＯ，０００６部（固型分換算）アクリル
二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含有）分子量
２０．０００　　１２部（固型分換算）アクリル二重結
合導入ポリニー会ルウレタンエラストマー　分子量４０
．０００　９部（固型分換算）ペンタエリスリトールト
リアクリレート　３部溶剤（ＭＥＫ／トルエン　５０１
５０）　　　２００部ステアリン酸　　　　　　　　　
　　　　４部ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　
２部のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。

これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。

この様にして得られた磁性塗料を上記アンダーコート層
上に塗布し、永久磁石（３０００ガウス）上で乾燥させ
ながら垂直配向させ、その後、連続して赤外線ランプま
たは熱風により溶剤を乾燥させた（これらは同時に並用
してもよい）後、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社製エレク
１−ロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速
電圧１５０Ｋｅｖ、′２Ｉ！極電流２０ｍＡ、全照射量
５Ｍｒａｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し
、塗膜を硬化させた。硬化後の塗膜厚は磁性層１．５、
−ｍであった。なお、この膜厚の測定は電子マイクロメ
ーターで行った。こ九らの塗膜をフィルムの両面に形成
し、両面コートとした。

このようにして作成したサンプルの特性を第１表に示す
。なお第１表のものは表面粗度０．０８、−ｍ以下のも
のであった。

第１表 測定　フェライトヘッド；ギャッｔ　ｏ　、　４．＝、
ｍ回転数１８００ｒｐｍ、出力６０ＫＦＲＰＩＮｏ、１
２を基準０’、０ｄ１３とし、池のものはＮｏ、１２に
対し出力を換算する。

第１表のとおり、Ｂ・”／Ｈ・」　を０．７以上とする
ことにより高密度領域での記録特性が良好となる事がわ
かる。

また第１表Ｎｏ、、１０Ｈｃ　　８５０付近のもの、Ｈ
ｃｌ　８００台のものについて粒径との関係をみると、
第２表に示すように粒径０．１５．、−ｍ以下のものが
型持上野ましい。さらに好ましいのは０゜１０Ｐｍ以下
である。

第２表 第１表のＮｏ、１０について表面粗度を変えたものの特
性を第３表に示すが、表面粗度についても０．０８μｍ
を超えると型持低下を生じ、実用上好ましくない。

第　　３　　表 実施例２ 六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅｅｌ　ｏ
ｌ＆のＢａ、Ｆｅを一部変換したものを水熱合成法で合
成）　平均粒径０．０７μｍ、Ｈｃ＝７００１２０重量
部 メーＡ１２０３（０，５＝粉末）　　２重量部グラファ
イト化カーボン＃４００ＯＢ ２０ｍ、−１２重駄部 分散剤（大豆油未精製レシチン）　　　３重量部および 溶剤（ＭＥＫ／シクロへキサノン　７０／３０）１００
重量部 を用いて実施例１と同様にして磁性粉混合物を作った。

次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有）分子量２０．０００６重量部（固型分
換算） アクリル変性フェノキシ樹脂分子ｆｆ１３５．０００　
　　　　　　　　　６重量部（固型分換算）アクリル変
性ポリエーテルウレタンエラストマー分子１ｔ２０．０
００　　１８重量部（固型分換算）溶剤（ＭＥＫ／シク
ロへキサノン７０／３０）２００重量部 高級脂肪酸変性シリコーンオイル　　３重量部および ミリスチン酸ブチル　　　　　　　　３重量部混合溶解
させた。

その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作成し、
特性を調べた。

ただし、配向処理は交流磁場（３０００Ｇ）を用いて行
った。

一方、試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬
化型にかえて同様に処理した。

すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（マレイン酸含有）アクリル変性フェノキシ樹脂
、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー　計
３０重量部を、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体（ユニオンカーバイド社製ＶＡＧＨ）１５
重量部およびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラン
３０２）１５重量部に代える以外は、試料Ａと同様に試
料Ｂを作製した。ただし、この場合、分散後磁性塗料中
にイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネ
ートし）を５重量部（固型分換算）加えた。また表面平
滑後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。

試料ＡおよびＢについて各種特性をみた結果を第４表に
示す。第４表かられかるように、熱硬化型の場合は外、
内側で出力の差があった。

第４表 実施例３ アナログ特性について実施例１のもののうちＮ０５４．
７．１０．１２．１６を３３．μベースに塗布し、７　
Ｍ　Ｈｚの出力を測定した。ビデオフロッピーでの測定
条件は、中心周波数７ＭＨｚ、ＲＦ信号で記録、再生し
た場合のＣ−３／Ｎ比（相対値）を示す。回転数３６０
Ｏｒｐｍ、相対速度０゜６ｒｎ／ｓｅｃとした。

第　　５　　表 デジタル記録と同様の事がアナログでも確認出来た。

見匪立羞来 Ｂ　ｒ　／　Ｈｃ、を０．７以上とすることにより、高
密度領域の記録特性が良好となる。

バリウムフェライトはＨｃが低いものでも高密度領域迄
記録密度特性がすぐれているので、従来より信頼性で実
績のあるフェライトヘッドを使用出来る。フェライトヘ
ッドはＢｓが低いのでＨｃが低い記録媒体にとって有利
である。

フェライトヘッドと媒体のＢ　ｒ　／　Ｈｃ間との関係
を一定のもの以上にする事により、高密度領域で非常に
すぐれたものとなる。そのためデジタル記録、アナログ
記録においてすぐれたものとなり、高解像度のものとな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明磁気記録媒体のＢｒ　　／Ｈｃ１と出力
６０ＫＦＲＰＩとの関係を示すグラフである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁留磁束密度Ｂｒ及び抗磁力Ｈｃの垂直方向の比
   Ｂｒ＾■／Ｈｃ＾■が０．７以上、Ｈｃが１０００以下
   、磁性層がバリウムフェライト粒子を含有し、その表面
   粗度が０．０８μｍ以下の磁気記録媒体とヘッド材料が
   Ｂｓ＝５０００〜６０００の酸化物系のものであり、ヘ
   ッドギャップ長が０．４μｍ以下のフェライトヘッドと
   を組合わせたことを特徴とする磁気記録再生システム。