JPS62137723A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産−上の１　　野 本発明は塗布型磁気記録層を有する磁気記録媒体に関し
、特に磁気記録層に特徴を有する磁気記録媒体に関する
ものである。 従来の　術及び　明が解ゞ　しようとする問題点現在、
磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ。 コンピューター、磁気ディスク、８　ｍ　／　ｍ等の分
野で広範囲に使用されるようになっており、将来ビデオ
フロッピー、高密度フロッピー等の分野でも使用される
ことが予想され、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。 従来より、磁気テープなどの磁気記録媒体では、磁気記
録層中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等して、磁
気特性を向上させているが、針状磁性粉を長手方向に配
向させたものは低周波帯域では高い出力が得られる反面
高密度記録には限界があるものであった。 又、このため最近では磁性粉末が平板状であり、垂直方
向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性粉末を
磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されている（
特開昭５７−１９５３２８号公報）。 しかし、これらのバリウムフェライト磁性粉末を使用し
たものでは、短波長記録特性は良好な反面、耐久走行性
が劣るという欠点があり、特にフロッピーディスクに使
用した場合、耐久走行性が悪いので使用上問題がある。 、　蝉を　°するための一 本発明者等は前記の間躍点を解決すべく鋭意検討の結果
、六方晶系板状フェライト磁性粉を用いた磁気記録媒体
の耐久走行性は磁性層のヤング率（Ｅ′）が特定以上に
あるとき改善されることを見出し１本発明に到達したも
のである。 即ち、本発明は非電性基村上に塗布型磁気記録層を設け
た磁気記録媒体において、磁気記録層に六方晶系板状フ
ェライト磁性粉を用い、磁性層のヤング率（Ｅ″）が９
Ｘ１０”ｄｙｎ／ａｍ２以上であることを特徴とする磁
気記録媒体に関する。 本発明で用いられる六方晶系板状フェライト磁性粉はバ
リウムフェライト磁性粉、ストロンチウムフェライト磁
性粉等である。 磁気２９層に用いられる六方晶系板状バリウムフェライ
トは化学式Ｂａ０・６　Ｆ　ｅ　２０３で表わされ、こ
の外、この化学式のＢａ及びＦｅの一部がＴ　ｉ　、Ｃ
ｒ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉ　ｎ、Ｍｎ、Ｃｕ。 Ｑｅ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｎ等の全屈で
置換されたものが包含される。 バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の磁
性粉は直径０．２Ｐ以下、好ましくは０゜１５　、ｗ　
ｍ以下、更に好ましくは０．１．−、ｍ以下、板状比に
制限はないが、板状比６以上、さらに好ましくは７以上
が垂直配向しやすいものである。 バリウムフェライトは六方晶系板状であるため、針状磁
性粉と比べて表面粗度への影響が大きくなり、上記の径
よりも大きくなったリオろと表面粗度の低下が激しく好
ましくない。粒径が前記のような範囲にある場合、磁性
層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充分に低く、高
密度記録が達成できる。 バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法。 ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェット法
等があり、いずれの方法も利用できる。 本発明において、六方晶系板状フェライト磁性粉、例え
ばバリウムフェライト磁性粉を含有する磁気記録層は、
そのヤング率（Ｅ′）が９　Ｘ　１０　”ｄｙｎ／ｃｍ
２以上でなくてはならない、ヤング率がこの値以上であ
ると、磁気記録媒体例えばフロッピーディスク、ビデオ
は目づまり、塗膜削れが起りにくく、固いのでクリーニ
ング効果も大きく、耐久走行性が良好となることがわか
った。 磁性層のヤング率（Ｅ′）は使用する六方晶系板状フェ
ライト磁性粉の板状比、分散方法、塗布方法、加工方法
等により調整でき、−例を挙げれば該磁性粉の板状比が
高いと磁性層のヤング率（Ｅ′）も高くなる傾向である
。一般に磁性層のヤング率は５〜１５　Ｘ　Ｉ　Ｏ”　
ｄ　ｙ　ｎ　／　ｃ　ｍ　２の範囲のものであるが、こ
のうち９Ｘ１０”ｄｙｎ／ｃｍ２以上のものが好適であ
ることがわかった。 本発明においてはその他ＣＯ含有酸化鉄粉、γＦｅ２Ｏ
３粉、Ｆｅ３Ｏ４粉、Ｃｏフェライト粉。 メタル粉末等も利用できる。 本発明の磁気記録層には通常用いられる有機バインダー
、無機顔料、ｉ１１滑剤、その他、分散剤。 帯電防止剤等を常法に従って用いることができる。 本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは、従来、
磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性又
は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得られ
る塗膜強度等の点から硬化型。 特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０°Ｃ以下、平均
分子量が１０，０００〜２００，０００、重合度が約２
００〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニール−
酢酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩ｆ
ヒビニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリ
ル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体
、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル
酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸
エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エス
テル−スチレン共重合体。 ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニ
トロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジェ
ン−アクリロニトリル共重合体。 ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース
誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテ−１−、セフルロースプ口
ピオネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテ
ル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用さ
れる。 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又。 これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟
化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂
、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン
樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂
、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステ
ル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタク
リル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混
合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの
混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコー
ル／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシ
アネートの混合物、ポリアミン樹脂、及びこれらの混合
物である。 バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の
、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。そ
の池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有
する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げ乞
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は多塩基酸成分１
種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイン酸、フ
マル酸等を加え常法、すなわち触媒の存在下で、１８０
〜２００℃、窒素雰囲気下。 脱水あるいは脱アルコール反応の後、２４０〜２８０℃
まで昇温し、０．５〜ｌｍｍＨｇの減圧下。 縮合反応に孝り得ることができる６マレイン酸やフマル
酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸
成分中１〜４０モル％、好ましくは１０〜３０モル％で
ある。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社
製　　　　□ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲ
Ｒ，ＶＹＥＳ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ，ＶＣＡＲＭＡＧ５
２０、ＶＣＡＲＭＡＧ５２８等が挙げられ、このものに
後述の手法により、アクリル系二重結合。 マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して放
射線感応変性を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ヅピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１゜２プロピレングリコール、
■、３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，
４ブタンジオール。 ■、６ヘキサンジオール、ペンタエリスリット。 ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、
１，４シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコ
ールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステル
樹脂又はこれらのポリエステル樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変
性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が例として挙げら
ｔ、これらも同様にして放射線感応変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂。 例えばシェル化学ｙＡ（エピコート１５２，１５４，８
２８．１００１、１．００／１．１００７）、ダウケミ
カル製（ＤＥＮ４３１、Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２、Ｄ　Ｅ　Ｒ
５１１、ＤＥＲ３３１）、大日木インキ製（エピクロン
４００．８００）、更に上記エポキシの高重合度樹脂で
あるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ：
、ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒ
ドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業製（エビク
ロン１４５．１５２．１５３．１１２０）等があり、又
これらにカルボン酸基を含有するものも含まれる。これ
ら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変
性を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である、
樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ｐｖｐオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合
成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効で
ある。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−トル
エンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシアネ
ート、ｌ、４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナ
フタレンジイソシアネー１〜１ｍ−フェニレンジイソシ
アネート、Ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′
−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４
．４’−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュ
ールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネート
と。 線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
１，４−ブタンジオール、］、６−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、■、４−シクロヘキサンジメタツールの様な多
価アルコールと。 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合に
よるもの）、線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有ア
クリル酸エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エス
テル等の各種ポリエステル類の縮重合物より成るポリウ
レタンエラストマー、プレポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基又は水酸基と、アクリル系二重結合又はアリル系二重
結合等を有する単量体とを反応させることにより、放射
線感応性に変性することは非常に効果的である。又、末
端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有するものも含
む。 さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有するｊｌｉｔ体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢｒ）リタイツドレ
ジンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニ
トリルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼ
オン社製ハイカー１４３２　Ｊ等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるニラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより放射線感応性を高めることが可能であり
、バインダーとして更に有利となる。 またポリブタジェンの環ｆヒ物、日本合成ゴム製ＣＢＲ
−Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性
質を有している。 その他、熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの
系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイ
ロン１３００）等のエラストマーも下記に述べる放射線
感応変性処理を施こすことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアク
リレート、■、６−ヘキサンゲリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエ
ステルアクリレート（アロニツクスＭ−７１００、Ｍ−
５４００，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレタ
ンエラストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体
、あるいはこれらのものにＣ○○Ｈ等の官能基が導入さ
れたもの、トリメチロールプロパンジアクリレート（メ
タクリレート）、フェノールエチレンオキ、シト付加物
のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式で示さ
れるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタク
リル基）またはε−カプロラクトンアクリル基のついた
化合物。 特殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１．
ａ＝３．ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Ｂという）、ｍ＝１．ａ＝６．ｂ＝０の化合
物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃという）
、ｍ　＝　２、ａ＝６．ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物りという）。 及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げ
られる。 （１）（ＣＩ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ，）３−ＣＣＨ，０１
ｌ（特殊アクリレートＡ） （２）　（ＣＩ＋２＝　ＣＨ２Ｃ００ＣＩ＋□）　３　
　ＣＣＨ２Ｃ１ｌ　３（特殊アクリレートＢ） （３）（Ｃ１１，＝ＣＩＩＣＱ−（ＱＣ）１１４）ｎ−
ＯＣＨ２）３　−（：ＣＨ，Ｃｌｌ３（ｎ≠３）　　　
　（特殊アクリレートＣ）（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ，ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝　Ｃ１１゜ （特殊アクリレートＦ） （７）　　　　　　　　　　　　　　Ｃｌ１２ＣＯＯＣ
ＩＩ　＝　ＣＨ。 （ｎ　’：　ｌ　６　）　　　　　　　ＣＩｌ　Ｃ００
ＣＩ（”　ＣＩ（２（特殊アクリレートＧ） （８）ＣＩｌユＣ１１（：００−　（ＣＩ＋２ＣＩＩ□
０）４−ＣＯＣ１ｌ＝ＣＩ＋２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレ−１−Ｉ　） （特殊アクリレートＪ） Ａ　−（Ｘ−Ｙ？ｎＸ−Ａ Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射線
感応性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝５００）
７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５０
０部を５１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８０
℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートアダクト×を６１．４部加え。 更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１．２部を加え８０°ＣでＮた気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、
メチルエチルケトン１２５０部を加え希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２【イＥＭＡ）アダクトの
製法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
５オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間攪拌し反
応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白色ペー
スト状のＴＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−３１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１゜４部と共に５１
の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤ
Ｉの２　ＨＥ　Ｍ　Ａアダクト※を７．４部加え、更に
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０°ＣでＮ２気流中ＮＣ○反応率が９０
％以上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メ
チルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡ
アダクト※を３．５５部加え、オクチル酸スズ０．００
７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８０℃、Ｎ
２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるまで反応せし
める。 ｄ）■エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）、４
００部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に
加熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００
６部、ハイドロキノン０゜００３部を添加し８０℃とし
、アクリル酸６９部を消却し８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ０　）１基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨｊＵＣＣ
社製　分子量３０，０００）６００部、メチルエチルケ
トン１８００部を３１の４ソロフラスコに仕込み、加熱
溶解し、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２
ヒドロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加
え、更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン
０．０１２部を加え、８０°ＣでＮ２気流中、ＮＣ０反
応率が９０％となるまで反応せしめる。このフェノキシ
変性体の分子量は３５，０００．１分子当りの二重結合
は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０゜０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶に入れ、８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４
３．５部を反　　。 応缶内の温度が８０〜９０°Ｃとなるように冷却しなが
ら滴下し１滴下終了後８０℃で反応率９５％以上となる
まで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイド白キノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後８０“Ｃで反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペ！−ロケミカル社製低分子量末端水酸基ポ
リブタジェンポリＢＤリクイッ１〜レジンＲ−１５，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０℃に加熱溶解後ＴＤ１４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せしめ
ろ。 高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル。 ポリエステル、ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニル
アルコール、ポリアクロレインがある。この様な架橋型
ポリマーであれば上記のような変性を特に施さなくても
、架橋反応が起るので、前記変性体の他に、これらの樹
脂はそのまま放射線架橋用として使用可能である。 更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。 磁性゛扮／バインダーは１重量比で１／１〜９／１、特
に２／１〜８／１であることが好ましい。 このような割合とするのは１．　／　１未満では飽和磁
束密度が低くなり、９／１を超えると分散不良により表
面粗度が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなく
なるからである。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
タケ１−ン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノー
ル、エタノール、プロパツール、ブタノール等のアルコ
ール類；ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル
等のエステル類；イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチ
ルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香１’Ａ　炭
化水素類；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラ
ン類；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩
化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジク
ロルベンゼン等の塩素化炭化水素５その他ジメチルホル
ムアミド等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使
用される。 これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００ｗ
ｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ％の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無＠Ｋｉ料としては、■）導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また２）！！機充填剤としてＳｉｎ、：。 ＴｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＣ，ＣａＯ、
ＣａＣＯ３，酸化亜鉛、ゲーサイト、？ｌ″Ｆｅ２Ｏ３
、タルク、カオリン、ＣａＳＯ３，窒化硼素、フッ化黒
鉛、二硫化モリブデン、ＺｎＳ等がある。またこの他、
次のような微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダル
タイプ）：ＳｉＣユ、ＡＩ、０３　、　Ｔ　！　０２　
、Ｚ　ｒ　Ｏ２、Ｃｒ　２０３゜Ｙ２０３　、ＣｅＯ２
、Ｆｅ３０４　、Ｆｅ２０３　。 ＺｒＳ　ｉ０４　、Ｓｂ２０５．Ｓｎ○等も用いられる
。これら微粒子顔料は、例えば５ｉ０２の場合、■無水
硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、水系、
メタノールシリカゾル等１日産化学）、（■精製四塩化
ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シリカ
（標準品１００八）（アエロジル、日本アエロジル株式
会社）などが挙げられる。又、前記■の超微粒子コロイ
ド溶液及び■と同様の気相法で製造されろ超微粒子状の
酸化アルミニウム、並びに酸化チタン及び前述の微粒子
顔料が使用され得ろ。この様な無機顔料の使用量はｌ）
に関しては磁性粉ダー１００重量部に対して１〜３０重
量部、又２）に関しては１〜３０重駄部が適当であり、
これらがあまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえっ
てドロップアウトが多くなるという欠点がある。 また、無機顔料の径については１）に関しては０、、Ｉ
、−ｍ以下、さらには０．０５．−ｍ以下が好ましくｚ
２）に関しては０．７．−ｍ以下、さらには０．５．−
ｍ以下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防１１ユ剤としてサポ
ニンなどの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、
グリセリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性
剤；高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、
ピリジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホ
ン酸。 燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル暴等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの＆ｆ１Ｍまたは燐酸エステル類
等の両性活性剤などが使用される。 磁性層応は潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪
酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣ○○
■１、Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪
酸エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂
肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と
該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より
成る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使
用され、又前記脂肪酸のアルカリ全屈又はアルカリ土類
金属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。 シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの５フツ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。 潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ３ 「 ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ，ＣＨ，＝Ｃ−Ｃ○０Ｒ１ＣＨ２
＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＯＯＲ１ ＣＨ，＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＲＣ○ＯＣＨ２
ＣＨ＝　ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は分枝状の飽和
もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好まし
くは１２以上２３以下であり、これらは弗素置換体とす
ることもてきる。弗素置換体としては Ｃｎ　Ｆ　２ｎ＋ｌ−１ＣｎＦ２ｎ＋１（ＣＨ２）ｍ−
（但し、ｍ＝１〜５）、　　　Ｒ ＣｎＦ２ｎ＋＋　Ｓ０２　ＮＣＨ２ＣＨ２−１等がある
。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く１巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０゜１〜２０
重量％含ませるのがよい。 バインダー量が多すぎるとブロッキングが出。 バインダーが少なすぎるとカレンダ一工程での付着が発
生して好ましくない。 なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは０．１〜
１０−ｍの範囲が一般的である。 磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合
、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源とした７
−ＶＡ、５ｒ９０を線源とし、たβ−線、Ｘ線発生器を
線源としたＸ線あるいは紫外線等が使用されろ。 特に照射線源としては吸収線量の制御、ＴＪ３造工程ラ
インへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加
熱器により放射線を使用する方法が有利である。 本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガラ
ス板等が使用されるが、これらに限定されるものではな
い、これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバックコート
およびトップコートを設けてもよい。 これらのうちバックコートは、バインダー、１ｆＬ料お
よび潤滑剤からなる組成とするのがよい。 バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する１
分子量５，０００〜１００゜０００のプラスチック状（
ヒ合物、ＣＢ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結
合を１個以上有するか、または放射線硬化性を有しない
、分子量３゜０００〜１００，０００のゴム状化合物、
および（Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を１個以と有する、分子４１２００〜３，０００の化合
物を、（Ａ）２０〜７０重量％、（Ｔ３）２０〜８０重
量％、（Ｃ）１０〜４０ｆ！量％の割合で用いた組合せ
が好まし、い。 また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量２００，０００以下のものが好
ましい。 特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）。 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
ウレタンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）
である。 顔料としては、前述の磁性層に用いた無１顔料を使用す
ることができる。そのなかの１）に関してバインダー１
００重量部に対して２０〜３００重量部、２）に関して
は１０〜３００重量部含ませることが好ましい。 潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用できる
。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用い
るのが好ましい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁性層
に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾燥し
、常法に従い熱硬化或いは放射線硬化すればよい。そし
て必要に応じてバックコートおよびトップコートを設け
ればよい。 配向処理は、常法に従う。 配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等、種々のものが用いられる。 そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
５反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必要
がある。 磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。こ
の場合、本発明では、１０００〜４０００Ｇ程度でも十
分目的にかなうものとなる。 災胤■ 実施例にて本発明をさらに詳絹に説明するが、本発明は
これらに限定されろものでないことは言うまでもない。 特性は以下のようにし、て評価し、た。 （１）ヤング率 粘弾住人ペクトロメーター（台木製作所、東洋ボードウ
ィン、東洋精工化）での２０℃での１ｌＩｌｌ定値によ
る。 （２）耐久走行性 フロッピーディスクドライブにて、常温で耐久走行性の
実験を行った。 丈に魅上 典」′Ｌｍユ　　　　　　　　　　　　　　重量部；旬
Ｊウムフエライト（Ｈｃ７０００ｅ）（第１表）　　　
　　１２０ カーボンブラック　３０ｍ、、−１０ へ−Ａｌ２Ｏ３粉末（０，５＝粉状）　　　　２溶剤（
ＭＥＫ／トルエン５０１５０）　　　　　ｌ　ＯＯ上記
組成物をボールミル中にて３時間混合し、六方晶系板状
バリウムフェライトを良く湿潤させる。次に 塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分′ｆ−量／１０．０００　　６部（固型分換算）
アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含有
）分子量２０，０００　　１２部（固型分換算）アクリ
ル二重結合導入ポリエーテルウレタンエ７　スト？　−
分子ｍ４０，０００　９　：：１５（固型分換算）ペン
タエリスリ］−−ルトリアクリレート　３部溶剤（ＭＥ
Ｋ／）−ルエン　５０１５０）　　　２００部ステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　　４部ステアリン酸ブチ
ル　　　　　　　　　　２部のバインダーの混合物を良
く混合ｉｆ！解させろ。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。 この様にして得られた磁性塗料を厚さ７５．−ｍのポリ
エステル（ＰＥＴ）ＪＪ体上に塗布し、永久磁石（３０
００ガウス）上で乾燥させながら垂直配向させ、その後
、連続して赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥さ
せた（これらは同時に並用してもよい）後、表面平滑化
処理後、ＥＳ１社製エレクトロカーテンタイプ電子線加
速’ＲＦＩＩを使用して、加速電圧１５０ＫｃＶ、？［
を極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍ　ｒ　ａ　ｄの条件
下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させ
た。硬化後の塗膜厚は磁性Ｍ２．０ｐｍであった。なお
、この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。 このようにして作成したサンプルの磁性層の各ヤング率
（Ｅ′）における耐久走行性を第１表に示す。 ズ】臼粗え 旦ユｌ（熱硬化型磁性層）１１量部 バリウムフェライト磁性粉　　　　　　１２０（第１表
、Ｈｃ６５００ｅ） ベーＡ１．０３＄９末（０，’５．−粉状）　　　　２
分散剤（ソルビタントリステアレート）３溶剤（ＭＥＫ
／トルエン５０１５０）　　　　　ｌ　ＯＯ上記組成物
をボールミル中にて３時間混合し。 六方晶系板状バリウムフェライトを分散剤により良く湿
潤させる。次に 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体　　　　　１５（ユニオ
ンカーバイト社製ＶＡＧＨ） 熱可塑性ウレタン樹脂　　　　　　　　　　１５（日本
ポリウレタン社製ニッポラン３０２２）溶剤（ＭＥＫ／
トルエン　５０１５０）　　　　２００潤滑剤（高級脂
肪酸変性シリコンオイル）　　３の混合物を良く混合溶
解させる。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミフレ中に投入
し、再び４２時間分散させる。分散後、磁性塗料中のバ
インダーの水酸基を主体とした官能基と反応し架橋結合
し得るイソシアネート化合物（バイエル社製デスモジュ
ールし）を５部（固形分換算）、上記ボールミル仕込塗
料に２０分で混合を行なった。 磁性塗料を７５７−　ｍのポリエステルフィルム上に塗
布し、交流磁＠（２０００ガウス）上で乾燥させながら
垂直配向させ、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾
燥させた後１表面平滑化処理後。 ８０℃に保持したオーブン中にロールを４８時間保持し
、イソシアネートによる架橋反応を促進させた０両面フ
ロッピーを作製した。 がじＬり≦と二」Σ層」−重量部 カーボンブラック　２０ｍ□　　　　　　５０アクリル
変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（分子ｉ３万）４０アクリル変性ポリウレタンエラス
トマー（分子量２万）４０ 多官能アクリレート　分子ｊｉｔｌ千　　　　２０ステ
アリン酸　　　　　　　　　　　　　　　４ステアリン
酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合溶剤（ＭＩＢＫ
／トルエン）　　　　２５０上記混合物をボールミル中
５時間分散させ、磁性面が形成されているポリエステル
フィルムの裏面に乾燥厚１２．、になるように塗布し、
エレク１−ロカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加
速電圧１５０ＫｅＶ、’ａＨｉ！電流］Ｏ電流１汲ｄ．
Ｎ２ガス中で電子線をバラフコ−１へ層に照射し７　た
　。 ヌＵ頓鮭１ 実施例２でバリウムフェライト磁性粉粒径を０。 ０　５　（ト１ｃ７００）１０．　　　１１（ｌ（ｃ６
５０）＝１／ｌの混合系のものに変更した以外は同じで
ある。 夫嵐ｆ牡 実施例１に分散剤（大豆油′Ｍ製レシチン）２部を加え
た以外は同じである。 第１表に示す通り９ＸｌＯ”ｄｙｎ／ｃｍ２以上のフロ
ッピーディスクは耐久性が良好である。 次に１１．−ベース上に塗布し、８ｍ／ｍデツキにて評
価したものを第２表に示す。バック層としてバック層１
を使用した。第２表中実施例２−１゜２−２．２−３は
以下のようなものである。 実施例２−１＝実施例２で磁性粉粒径０．０５．−ｍ、
板状比３／１とした以外は実施例２と同じである。 実施例２−２：実施例２で磁性粉粒径０．０７．。 ｍ、板状比６／１のものを使用した。配向が無配向以外
は実施例２と同じである。 実施例２−３：実施例２で磁性粉粒径０．１１．−ｍ、
板状比３５／ｌとした以外は実施例２と同じである。 第２表に示すように９Ｘ１０”ｄｙｎ／ｃｍ’以上のも
のは磁性面削れもなく、そのためドロップアウトが少な
く、良好な事がわかる。 第１表、第２表に示すとおり磁性層のヤング率（Ｅ’）
を９　Ｘ　１０　”　ｄ　ｙ　ｎ　／　ｃ　ｍ　２以上
とする事により耐久走行性にすぐれた磁気記録媒体を得
ることができる。上記の範囲のヤング率は磁性粉の板状
比１分散方法、加工方法等を選ぶことによって得ること
ができる。 Ｗ譬伽釆− 磁気記録層に六方晶系板状フェライト磁性粉を用い、磁
性層のヤング率（Ｅ′）を９　Ｘ　１．　Ｏｄｙ　ｎ　
／　ｃ　ｍ　２以上とすることにより、耐久走行性を向
上させることができ、実用上すぐれた磁気記録媒体が得
られる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設けた磁気記
   録媒体において、磁気記録層に六方晶系板状フェライト
   磁性粉を用い、磁性層のヤング率（Ｅ′）が９×１０＾
   １＾０ｄｙｎ／ｃｍ＾２以上であることを特徴とする磁
   気記録媒体。
2. （２）六方晶系板状フェライト磁性粉がバリウムフェラ
   イト磁性粉である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
   媒体。
3. （３）磁気記録媒体がフロッピーディスクである特許請
   求の範囲第１項又は第２項記載の磁気記録媒体。