JPH0762882B2

JPH0762882B2 - 磁気記録方法

Info

Publication number: JPH0762882B2
Application number: JP60285329A
Authority: JP
Inventors: 徹下沢; 薫代宮森; 正治西松
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1985-12-18
Filing date: 1985-12-18
Publication date: 1995-07-05
Anticipated expiration: 2010-07-05
Also published as: JPS62145501A

Description

【発明の詳細な説明】

Ｉ発明の背景技術分野本発明は、磁気記録方法に関するものである。さらに詳
しくはより一層の高記録密度化が可能な磁気記録方法に
関する。先行技術とその問題点近年、磁気記録に関して、記録の大容量化、小型化を達
成するために記録密度の向上が強く要望されている。従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、ｒ−Fe₂O₃、Co被着γ−FeO₃等の針
状磁性粉を含有させた磁性層を有するものが汎用されて
きた。しかしながら、このような磁性粉を有する磁気記録媒体
では、その記録密度に、おのずから限界がある。そこで、より高記録密度化を可能ならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を有す
るBaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性粉
を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化等が可能になるが、これらの媒体特性は例えば磁気
ヘッド等の記録・再生手段を有するハードをも含めたシ
ステム全体に大きく左右される。とりわけ、記録、再生、消去をつかさどる磁気ヘッドと
媒体とは特に密接な関係を有する。ところで、フロッピー用の磁気ヘッドとしては、従来か
ら、トンネルイレーズ型ヘッド、ストラドルイレーズ型
ヘッド等のいわゆる１ヘッドタイプと呼ばれるものと、
リードライト独立型ヘッド、イレーズおよびリードライ
トコンビネーションヘッド等のいわゆる２ヘッドタイプ
と呼ばれるものが知られている。前者のものは１つのリードライトコアに記録および再生
の２つの機能を有する１つのリードライトギャップを有
する構造となっている。そのため記録・再生・消去を同
一のギャップで行わなければならない。このような場
合、ギャップ間隙を小さくすれば、それだけ記録密度は
向上するが、その反面オーバーライト特性が悪くなり、
そのため高記録密度化は容易に達成できなくなる。他方、後者のものは、リードライトヘッドあるいはリー
ドヘッドに、それぞれイレーズヘッドあるいはライトヘ
ッドを別個に付加し、独立でしかもそれぞれ別個のギャ
ップ間隙を有する２つのギャップを用いて記録、再生、
消去を行っているために、通常、上述した前者の場合の
ようなオーバーライト特性の問題は生じず、そのため、
高記録密度に適した磁気ヘッドであると考えられてい
る。そこで後者の磁気ヘッドを用い、より一層の高記録密度
化を達成すべく磁気記録媒体と磁気ヘッドとの諸条件と
を関連づけた磁気記録方法が要望されている。 II 発明の目的本発明の目的は、いわゆる２ヘッドタイプと呼ばれるフ
ロッピー用磁気ヘッドと、磁気記録媒体を用いて、高記
録密度化を可能にした磁気記録方法を提案することにあ
る。 III 発明の開示このような目的は、下記の本発明によって達成される。すなわち、本発明は支持体上に平均粒径が0.2μｍ以下
の六方晶系板状磁性粉とバインダーとを含有する膜厚1.
5μｍ以下の磁性層を有し、膜面垂直方向の垂直角型比
が0.65以上である磁気記録媒体と、第１の磁気ヘッドと
してライトヘッドおよび第２の磁気ヘッドとしてリード
ヘッド、あるいは第１の磁気ヘッドとしてイレーズヘッ
ドおよび第２の磁気ヘッドとしてリードライトヘッドを
用いて記録、再生および消去を行う磁気記録方法におい
て、上記磁性層の膜厚をｔ（μｍ）、第１の磁気ヘッドのギ
ャップ間隙をａ（μｍ）、第２の磁気ヘッドのギャップ
間隙をｂ（μｍ）としたとき、 t/a≦１でａ＝0.4〜1.5かつｂ＝0.1〜0.4 であることを特徴とする磁気記録方法である。 IV 発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。本発明においては、以下に述べるような磁気記録媒体と
磁気ヘッドとを用いて磁気記録方法を行う。用いる磁気ヘッドは、いわゆる２ヘッドタイプと呼ばれ
るフロッピー用磁気ヘッドであり、このものはライトヘ
ッドまたはイレーズヘッドの第１の磁気ヘッドと、それ
ぞれに対応してリードヘッドまたはリードライトヘッド
の第２の磁気ヘッドとを有している。そして、この具体例としては、第１図および第２図にお
いて示されるリードライト独立型ヘッド１、イレーズお
よびリードライトコンビネーションヘッド２等がある。第１図には、リードライト独立型ヘッド１のフロント面
（媒体との摺接面）が示されている。リードライト独立型ヘッド１は、ギャップ33を介して閉
磁路を形成するライトコア31を有するライトヘッドであ
る第１の磁気ヘッド３と、ギャップ53を介して閉磁路を
形成するリードコア51を有するリードヘッドである第２
の磁気ヘッド５とを有している。この場合、第１の磁気ヘッド３は、使用に際して記録と
消去の２機能を有するものであり、ライトヘッドとイレ
ーズヘッドとの役割を兼用するものである。このような第１の磁気ヘッドのギャップ間隙は、その値
をａμｍとしたとき、後述する磁気記録媒体の磁性層の
膜厚ｔとの関係において、t/a≦１である。この値が１をこえるとオーバーライト特性が悪くなる。本発明の磁性層の膜厚ｔの上限値および下限値は、後述
するように通常、それぞれ1.5μｍおよび0.4μｍ程度で
ある。そのため、ギャップ間隙ａの値は0.4〜1.5μｍ程度とす
る。また、媒体との摺動方向に対して垂直方向のトラック幅
ｃは、60〜600μｍ程度とする。一方、第２の磁気ヘッド５は、使用に際して再生を行う
ものであり、そのギャップ間隙ｂは0.1〜0.4μｍであ
る。この値が0.4μｍをこえると、高記録密度化の達成
が困難になるという不都合が生じる。また、媒体との摺動方向に対して垂直方向のトラック幅
ｄは30〜400μｍ程度であり、前述した第１の磁気ヘッ
ドのトラック幅ｃ値との比d/cは0.4〜0.8程度とするこ
とが好ましい。この値が小さくなりすぎると、高記録密
度化の達成が困難となる。なお本発明においては、前述したt/aの値とｂの値とを
両方満足するように設定させなければ、本発明の実効は
なくなってしまう。なお上述してきたような第１の磁気ヘッド３および第２
の磁気ヘッド５のコア材質やコア形状、その他コイル、
スライダー、ケーシング、ジンバル等の部材は公知の種
々のものとすればよい。また第２図には、前述した磁気ヘッドと同様にいわゆる
２ヘッドタイプと呼ばれるのイレーズおよびリードライ
トコンビネーションヘッド２（以下単にコンビネーショ
ンヘッド２という）のフロンド面（媒体との摺接面）が
示されている。コンビネーションヘッド２は、ギャップ34を介して閉磁
路を形成するイレーズコア32とを有するイレーズヘッド
である第１の磁気ヘッド３と、ギャップ54を介して閉磁
路を形成するリードライトコア52を有するリードライト
ヘッドである第２の磁気ヘッド５とを有している。この場合、第１の磁気ヘッド３は、使用に際して消去を
行うためのものであり、そのギャップ間隙ａは、前述し
たリードライト独立型ヘッド１の第１の磁気ヘッドの場
合と同様に、後述する磁気記録媒体の磁性層の膜厚ｔと
の関係において、t/a≦１となるように設定することが
必要である。この値が１をこえると、前述した場合と同
様な不都合が生じる。また、トラック幅ｃは、前記したと同様である。通常、このギャップ間隙ａおよびトラック幅ｃ等の設定
は前述の場合と同様に行われる。他方、第２の磁気ヘッド５は、使用に際して記録、再生
を行うものであり、ギャップ間隙ｂは0.1〜0.4μｍとさ
れる。この値が0.4μｍをこえると、高記録密度化が達
成できない。また、媒体との摺動方向に対して垂直方向の第２の磁気
ヘッド５のトラック幅ｄは30〜400μｍ程度であり、上
記第１の磁気ヘッド３のトラック幅ｃ値との比、d/cは
前述のように0.4〜0.8程度とすることが好ましい。なお、上述してきたような第１の磁気ヘッド３および第
２の磁気ヘッド５のコア材質やコア形状ならびにその他
のコイル、スライダー、ケーシング、ジンバル等の部材
は公知の種々のものとすればよい。さらに第２図に示されるコンビネーションヘッド２は、
通常、非磁性チップないし非磁性材７を介して、第１の
磁気ヘッドと第２の磁気ヘッドとを連接するように一体
化して形成される。またトラック幅ｃおよびｄを規制するために通常溝が形
成されガラス等の非磁性充填材36,56が充填される。以上述べてきたような第１の磁気ヘッドのギャップと第
２の磁気ヘッドのギャップとの距離ｌは通常50〜400μ
ｍ程度とすればよい。ところで、本発明で用いる磁気記録媒体は、支持体上に
平均粒径が0.2μｍ以下の六方晶系板状磁性粉とバイン
ダーとを含有する磁性層を有する。本発明で用いる六方晶系の板状磁性粉としては、バリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶フ
ェライト系が好適である。このような磁性粉の平均粒径は、電磁変換特性上0.2μ
ｍ以下、特に0.04〜0.15μｍが好ましい。また、磁性粉の平均厚みは、0.001〜0.1μｍ程度であ
る。ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡
（SEM）および透過形顕微鏡（TEM）〕によって、例えば
六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面50個程度を観
察し、粒径についての測定値を平均にしたものである。平均厚みも電子顕微鏡写真による測定値の平均である。
また平均板状比とは平均粒径／平均厚みの値である。あるいは、Ｘ線回折による２θの半値巾によってのこれ
らの値を測定することもできる。平均粒径が0.20μｍをこえると表面粗度が低下し、線記
録密度特性が悪くなる。なお、平均粒径を平均厚みで除した値である平均板状比
については特に制限はないが、使用時の耐久走行性の向
上を目的とする場合には６以上、特に７〜40であること
が好ましい。バリウムフェライトとしては、BaFe₁₂O₁₉等の六方晶系
バリウムフェライトやバリウムフェライトのBa、Feの一
部をCa、Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、In、Mn、Cu、G
e、Nb、Zr、Snその他の金属で置換したもの等が挙げら
れる。これらは併用してもよい。また、六方晶ストロンチウムフェライトSrFe₁₂O₁₉、あ
るいはこれを上記に準じて置換したものであってもよ
い。バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。これらの方法
の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミックス
18（1983）No.10"などを参照することができる。なお、磁性粉の保磁力は、1000Oe以下、より好ましくは
450〜900Oe、特に好ましくは500〜900Oeとすることが好
ましい。そして、このような磁性粉と後述するバインダーとを含
有する磁性層の膜厚ｔ（μｍ）は、前述した第１の磁気
ヘッドのギャップ間隙ａとの関係、すなわちt/a≦１を
満たすように設定される。通常、このような磁性層の膜
厚は1.5μｍ以下、特に0.4〜1.5μｍが好ましい。この
値が1.5μｍをこえると、膜面垂直方向の垂直角型比Br
⊥/Bm⊥が大きくならず、そのため記録密度特性が向上
しないからである。膜厚の下限値は通常0.4μｍ程度であって、0.4μｍ未満
になると磁性塗料を塗布しにくくなり、磁性層の表面が
平滑な記録媒体を得ることが困難となってしまう。そし
て、エンベローブ特性が悪化する。さらには記録密度特
性が向上しない。このような磁性層を有する媒体の特性として、膜面垂直
方向の垂直角型比Br⊥/Bm⊥は、0.65以上程度である。さらに垂直方向の媒体の保磁力Hc⊥は1000Oe以下、より
好ましくは450〜900Oeである。この値が1000Oeをこえると実用に際してフェライトヘッ
ドを用いた消去が困難となり、しかもオーバーライト特
性が悪くなる。またHc⊥450Oe未満では十分な出力が得られない。なお、垂直角型比（Br⊥/Bm⊥）および保持力Hc⊥は下
記のように測定する。すなわち、媒体表面に垂直方向に
て磁化曲線を測定し、これを反磁界補正する。そして、
これから残留磁化Br⊥、飽和磁化Bm⊥、保持力Hc⊥を測
定する。垂直角型比は、このBr⊥/Bm⊥の比である。い
わゆる両面記録媒体の場合であっても上記の測定方法に
よればよい。磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量10000〜200000、重合度200〜2000程度のものである。熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カル
ボン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジエン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第3,058,844号に記載の
エポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロール
フェノールエーテルとの混合物、また特開昭49−131101
号に記載のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステル重合体との混合
物が好ましい。このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて６〜100時間加熱すればよ
い。バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。そ
の他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有
する化合物であれば用いることができる。放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は
多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在
下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mmHgの
減圧下、縮合反応により得ることができる。マレイン酸
やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性
等が酸成分中１〜40モル％、好ましくは10〜30モル％で
ある。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。（１）塩化ビニール系共重合体塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社製VRO
H、VYNC、VYEGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、UCARMAG52
0、UCARMAG528等が挙げられ、このものにアクリル系二
重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導
入して放射線感応変性を行う。これらはカルボン酸を含有してもよい。（２）飽和ポリエステル樹脂フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、1,3
ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4ブタン
ジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリッ
ト、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコー
ル、1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をSO₃Na等で変
性した樹脂（例えばバイロン53S）が例として挙げら
れ、これらも放射線感応変性を行う。（３）ポリビニルアルコール系樹脂ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これらの樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性
を行う。（４）エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン、メチルエピク
ロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル
化学製（エピコート152、154、828、1001、1004、100
7）、ダウケミカル製（DEN431、DER732、DER511、DER33
1）、大日本インキ製（エピクロン400、800）、さらに
上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂（PKHA、PKHC、PKHH）、臭素化ビスフェノールＡと
エピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製（エピクロン145、152、153、1120）等があり、ま
たこれらにカルボン酸基を含有するものも含まれる。こ
れら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応
変性を行う。（５）繊維素誘導体各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
樹脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（PVPオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げ
る。（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマーポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジ
イソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4
−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フ
ェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールＬ、デスモジュールＮ等の
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル（エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、
線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタンエ
ラストマー、プレポリマーが有効である。これらウレタンエラストマーの末端のイソシアネート基
または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系二
重結合等を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。ま
た、末端に極性基としてOH、COOH等を含有するものも含
む。さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。（２）アクリロニトリル−ブタジエン共重合エラストマ
ーシンクエアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
として市販されている末端水酸基のあるアクリロニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオン
社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特にブタジエ
ン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋およ
び重合させるエラストマー成分として適する。（３）ポリブタジエンエラストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
Ｒ−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが
特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ−15
プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっている
為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとしてさらに有利となる。またポリブタジエンの環化物、日本合成ゴム製CBR−M90
1も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有し
ている。その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびそ
の環化物（日本合成ゴム製CIR701）があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイ
ロン＃300）等のエラストマーも放射線感応変性処理を
施すことにより有効に利用できる。オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、
Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトール
トリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレート
（アロニックスＭ−7100、Ｍ−5400、5500、5700等、東
亜合成）、ウレタンエラストマー（ニッポンラン4040）
のアクリル変性体、あるいはこれらのものにCOOH等の官
能基が導入されたもの、トリメチロールプロパンジアク
リレート（メタクリレート）フェノールエチレノキシド
付加物のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはεカプロラクトン−アクリル基
のついた化合物、式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｄという）、および下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げられる。１）（CH₂＝CHCOOCH₂）_３−CCH₂OH （特殊アクリレートＡ）２）（CH₂＝CHCOOCH₂）_３−CCH₂OH₃ （特殊アクリレートＢ）３）〔CH₂＝CHCO（OC₃H₆）_ｎ−OCH₂〕_３−CCH₂CH₃ （特殊アクリレートＣ）８） CH₂＝CHCOO−（CH₂CH₂O）_４−COCH＝CH₂ （特殊アクリレートＨ） 12）ＡＭ−Ｎ_ｎ−Ｍ−Ａ A:アクリル酸、M:2価アルコール N:2塩基酸（特殊アクリレートＬ）次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成OH基を有する一部
ケン化塩ビ−酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝500）750
部とトルエン1250部、シクロヘキサノン500部を51の４
つ口フラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後トリレ
ンジイソシアネートの２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートアダクト※を61.4部加え、さらにオクチル酸スズ0.
012部、ハイドロキノン0.012部を加え、80℃でN₂気流
中、NCO反応率が90％となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250部を加え希
釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 TDI348部をN₂気流中11の４つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、２−エチレンメタクリレート260部、オクチル酸ス
ズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で３時間攪拌し、反応を完結させる。反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTDI
の2HEMAを得た。】ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂）ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン191.2
部、シクロヘキサノン71.4分と共に51の４つ口フラスコ
に仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト
※を7.4部加え、さらにオクチル酸スズ0.015部，ハイド
ロキノン0.015部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が90
％以上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂）飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンRV−200）、100
部をトルエン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶
解し、80℃昇温後、TDIの2HEMAアダクト※を3.55部を加
え、さらにオクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.0
07部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が90％以上とな
るまで反応せしめる。ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂）エポキシ樹脂（シエル化学製エピコート1007）400部を
トルエン50部、メチルエチルケトン50部に加熱溶解跡、
N,N−ジメチルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し、8
0℃で酸価５以下となるまで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） OH基を有するフェノキシ樹脂（PKHH:UCC社製分子量30
000）600部、メチルエチルケトン1800部を31の４つ口フ
ラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後、トリレンジ
イソシアネートの２ヒドロキシエチルメタクリレートア
ダクトを6.0部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN₂気流中、NCO反応
率が90％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性体の分子量は、35000、１分子当り
の二重結合は１個である。ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー）末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（MDI）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタン
製ニッポラン3119）250部,2HEMA32.5部、ハイドロキノ
ン0.07部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶にいれ、80
℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温度が80〜90
℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後、80℃
で反応率95％以上となるまで反応せしめる。ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500、250部、2
HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.
009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を
反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴
下し、滴下終了後、80℃で反応率95℃以上となるまで反
応せしめる。ｇ）ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンポリBDリクイットレジンＲ−15250部、2HEMA
32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.009
部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反
応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後、80℃で反応率95℃以上となるまで反応
せしめる。高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクロレンがある。このような架橋型ポリマーであれ
ば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応が
起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はそのま
ま使用可能である。このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができ
る。光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量％
の範囲が望ましい。紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜300KVの放射線加
速器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラッドになるよう
に照射するのが好都合である。特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。磁性粉／バインダーは、重量比で1/1〜9/1、特に2/1〜8
/1であることが好ましい。このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度が
低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度が悪
くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなるからであ
る。本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のア
ルコール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000wt％、特
に100〜5000wt％の割合で用いる。磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また２）無機充填剤としてSiO₂、TiO₂、Al₂O₃、Cr₂O₃、
SiC、CaO、CaCO₃、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe₂O₃、
タルク、カオリン、CaSO₄、窒化硼素、フッ化黒鉛、二
硫化モリブデン、ZnS等がある。またこの他、次のよう
な微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイ
プ）:SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、Cr₂O₃、Y₂O₃、CeO₂、F
e₃O₄、Fe₂O₃、ZrSiO₄、Sb₂O₅、SnO₂等も用いられる。こ
れら微粒子顔料は、例えばSiO₂の場合、無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、日産化学）、精製四
塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シ
リカ（標準品100Å）（アエロジル、日本アエロジル株
式会社）などが挙げられる。また、前記の超微粒子コ
ロイド溶液およびと同様の気相法で製造される超微粒
子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタンおよび前述
の微粒子顔料が使用され得る。この様な無機顔料の使用
量は１）に関してはバインダー100重量部に対して１〜3
0重量部、また２）に関しては１〜30重量部が適当であ
り、これらがあまり多くなると、塗膜がもろくなり、か
えってドロップアウトが多くなるという欠点がある。また、無機顔料の径については１）に関しては0.1μｍ
以下、さらには0.05μｍ以下が好ましく、２）に関して
は0.7μｍ以下、さらには0.5μｍ以下が好ましい。磁性層には分散剤が含まれていてもよい。分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；高
級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等
の両性活性剤などが使用される。磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、ステアロール酸等の炭素数８以上の脂肪酸（RCOO
H、Ｒは炭素数７以上のアルキル基）であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数３〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素
数と合計して、炭素数が21〜23個よりなる一価のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が使用され、また前記
脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる
金属石鹸、レシチン等が使用される。シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。アルコールとし
ては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解
置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等に
よって得られるものが使用される。潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ドロ
ップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の
個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可
能である等の利点を持つ。放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル径二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤滑剤を構造式で表すと、 CH₂＝CHCOOR、 CH₂＝CH−CH₂COOR、 CH₂＝CHCONHCH₂COOR、 RCOOCH＝CH₂、 RCOOCH₂−CH＝CH₂等で、ここでＲは直鎖または分枝状の
飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好
ましくは12以上23以下であり、これらはフッ素置換体と
することもできる。フッ素置換体としては、 CnF_2n+1−、CnF_2n+1（CH₂）_ｍ−（ただし、ｍ＝１〜
５）、 CnFnCH₂CH₂NHCH₂CH₂−、等がある。これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20重量
部含ませるがよい。支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレード、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。本発明に用いる磁気記録媒体では通常、支持体の両面に
磁性層が設けられる。このような媒体としては、例えば
フロッピーディスク、ハードディスク等がある。また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。本発明に用いる磁気記録媒体を製造するには常法に従っ
て行えばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等ととも
に混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリ
エステルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバ
ースロールコート、エアーナイフコート、エアードクタ
ーコート、ブレードコート、キスコート、スプレイコー
トなどの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や
垂直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ま
しくは常法に従い放射線硬化すればよい。そして必要に
応じてバックコートおよびトップコートを設ければよ
い。配向処理は、常法に従い、上述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方法をとりうる。たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁
場が代表的なものとして用いられ、それらのものの各種
組合せ、例えば垂直と水平の組合せ、水平配向、永久磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向と上記の組合せ等、種々のものが用いられる。これらのうち、特に本発明では、機械的配向や垂直配向
を行うことが好ましい。配向に用いる磁場強度としては1000〜6000Gが好まし
い。本発明に用いる記録媒体において、さらに支持体と磁性
層との間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗膜
のアンダーコート層を設けることもできる。これらは併
用してもよい。塗膜のアンダーコート層には、前述したような熱硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性塗料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。カ
ーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよい
が、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
〜100mμｍ、特に好ましくは10〜80mμｍである。更に
粒子径について言えば、粒子径100mμｍを超えるとアン
ダーコート層面の表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の
電特低下の原因となる。また10mμｍ未満では分散がう
まくいかず、やはりアンダーコートの表面粗度が悪くな
る。カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。アンダーコート層の厚さは10Å〜５μｍ程度とすること
が好ましい。Ｖ発明の具体的作用効果本発明によれば、磁気記録媒体の垂直角型比を所定範囲
とし、磁性層の膜厚と、いわゆる２ヘッドタイプと呼ば
れるフロッピー用磁気ヘッドのそれぞれのギャップ間隙
とを所定の関係となるように設定するので、より一層の
高記録密度化が実現できる。このような磁気記録方法は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイ
ル、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に
用いられる。特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。 VI 発明の具体的実施例以下、発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳細
に説明する。［実施例１］厚さ75μｍのポリエステル（PET）フィルムの表面と裏
面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を設層
した。アンダーコート層重量部カーボンブラック 20mμｍ 50 （Ａ）アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重
合体分子量45,000 45 （Ｂ）アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量
5,000 45 （Ｃ）ペンタエリスリトールトリアクリレート 10 ステアリン酸 2 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記混合物をポールミル中５時間分散させ、上記のポリ
エステル（PET）フィルム上に乾燥厚0.7μｍになるよう
に塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロンカーテ
ンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極
電流10mA、吸収線量5Mrad、N₂ガス中で電子線をアンダ
ーコート層に照射した。このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。すなわち、まず最初に、平均粒径0.08μｍ、平均板状比
８をもつ六方晶系バリウムフェライト（BaFe₁₂O₁₉のB
a、Feの一部をCo（９％）、Ti（３％）で置換したもの
を水熱合成法で合成）を用いて以下のようにして磁性塗
料を作成した。バリウムフェライト（Hc＝700 Oe） 120重量部 α−Al₂O₃（0.5μｍ粉状） 2重量部カーボンブラック（20mμｍ） 10重量部溶剤（MEK/トルンエン:50/50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。次に、バインダーとして塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（マレイン酸１％含有;MW40,000）８重量部（固型分換
算）、アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
（マレイン酸１％含有;MW20,000）10重量部（固型分換
算）、アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（MW40,000）９重量部（固型分換算）、ペンタエリスリトールトリアクリレート３重量部、溶剤（MEK/トルンエン;50/50）200重量部ステアリン酸を４重量部、およびステアリン酸ブチル２重量部を混合溶解させた。これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。このようにして得られた磁性塗料を、上記アンダーコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その磁性層を
乾燥させながら、垂直磁場内（2500G）で配向処理を行
った。その後、さらに遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を
乾燥させた。表面平滑化処理をした後、ESI社製エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を使用して加速電圧150KeV、電極
電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN₂雰囲気下にて電
子線を照射し、塗膜を硬化させた。媒体サンプルとして
の垂直方向の保磁力Hc⊥は750Oeであった。硬化後の塗
膜（磁性層）の厚さは表１に示すように種々かえてサン
プルを作製した。なお、この膜厚の測定は電子マイクロ
メーターで行った。これらの塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートと
した。このようにして作製したものを媒体サンプル101〜107
（表１）とする。これらのサンプルについて、第２図に示されるようなコ
ンビネーションヘッド２を用いて下記の特性を評価した
（サンプルNo.101〜108）。なお、用いたコンビネーションヘッド２は、ギャップ間
隙ａ＝１μｍ、ｂ＝0.38μｍ、トラック幅ｃ＝120μ
ｍ、ｄ＝60μｍであり、コア材質はフェライトとした。なお、サンプルNo.108（比較）では、磁気ヘッドとして
上記の２ヘッドタイプのものを用いず、リードライトヘ
ッドのみの１ヘッドタイプのものを用いた場合の実験を
行った。（１）線記録密度D₅₀（KFRPI）回転数300r.p.m.、上記のコンビネーションヘッドを用
いて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録密度領域で
E/2となる線記録密度D₅₀（KFRPI）を測定した。（２）垂直角型比磁気記録媒体サンプルの垂直方向の角型比Br⊥/Bm⊥を
測定し、反磁場補正を行った。支持体の両面に磁性層を設層した場合は、それぞれの磁
性層についての測定を行った。（３）オーバーライト特性磁気記録媒体サンプル上10KFRPIの矩形をリング型ヘッ
ドにて書き込み、その上に20KFRPIを重ね書きし、出力
差を測定した。出力差大の方がオーバライト特性が良
い。現行のフロッピーディスクのオーバーライト特性の規格
は−26dB以下であるが、フロッピーディスク間の互換性
を考えた場合、−30dB以下にすることが望ましい。表１からあきらかなように、ｔが1.5μｍ以下のものはD
₅₀が良好である。しかし、ｔ≦1.5μｍでもt/a＞１では、オーバーライト
特性が悪くなる。また１ヘッドの場合はｔ≦1.5μｍ、t
/a≦１でもオーバーライト特性が悪い。この実験では、フロッピーディスクのドライブが270TPI
での評価を行ったため、記録密度10〜14Mバイトのもの
となり、本発明に従い非常に高い記録密度が得られるこ
とになる。［実施例２］実施例１で用いたポリエステル（PET）フィルムの表面
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。アンダーコート層重量部 CaCO₃ 50mμｍ 10 カーボン 20mμｍ（グラファイト化カーボン） 30 塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体（ユニオンカー
バイド社製VAGH） 50 ポリウレタンエラストマー（BF、グッドリッチエステ
ン5703） 50 ステアリン酸 2 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記混合物をボールミル中５時間分散させた後、さらに
イソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネー
トＬ）を20重量部加え、この混合物を上記のポリエステ
ル（PET）フィルム上に乾燥厚３μｍになるように塗布
し、表面平滑化処理を行い、その後、80℃で48時間熱硬
化を行った。このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。すなわち、実施例１で用いた磁性粉にかえて、下記に示
されるような保磁力をもつ六方晶系バリウムフェライト
（BaFe₁₂O₁₉のBa、Feを一部下記の置換金属で置換した
ものを水熱合成法で合成）の磁性粉として用いた。なお、これらの磁性粉の平均粒径は0.11μｍ、平均板状
比は16であった。置換金属は蛍光Ｘ線で分析を行い、Feを100％として換
算した。これらの磁性粉を用い、以下のようにして磁性塗料を作
製した。バリウムフェライト 120重量部 α−Al₂O₃（0.5μｍ粉状） 2重量部カーボンブラック（20mμｍ） 10重量部溶剤（MEK/トルエン:50/50） 100重量部上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、バリウム
フェライトをよく湿潤させた。次に下記に示すバインダーを磁性粉混合物の入ったボー
ルミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。バインダー組成塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（ユニオンカーバイド社製UCARMAG528） 15重量部（固型分換算）、ウレタン（日本ポリウレタン社製ニッポラン3022）15重
量部（固型分換算）、溶剤（MEK/シクロヘキサノン;70/30） 200重量部、高級脂肪酸変性シリコーンオイル 3重量部、およびミリスチン酸ブチル 3重量部を混合溶解させた。さらに、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物
（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を５重量部（固
型分換算）加えた。このようにして得られた磁性塗料を、上記アンダーコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その後、遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。その後、表面平滑化処理をした後、80℃で48時間熱硬化
を行って、塗膜を硬化させた。硬化後の塗膜（磁性層）の厚さは1.0μｍであった。この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。なお、このような種々の媒体サンプルの垂直方向の保磁
力および垂直角型比Br⊥/Bm⊥は下記表２に示されると
おりであった。なお、No.213、214の媒体については、前述した実施例
１の場合と同様に磁性層を乾燥させながら、垂直磁場内
（2500G）で配向処理を行った。これら各サンプルについて、第２図に示されるようなコ
ンビネーションヘッドを用いて上記の線記録密度D₅₀（K
FRPI）を求めた。なお、コンビネーションヘッドとしては、表２に示され
るようなギャップ間隙ａを有するものを用い、その他ギ
ャップ間隙ｂ＝0.35μｍ、トラック幅ｃ＝250μｍ、ｄ
＝120μｍは一定とした。コア材質はフェライトとし
た。結果を表２に示す。表２に示される結果から、t/a≦１で良好な結果がえら
れること、および媒体のHc⊥は1000Oe以下、より好まし
くは450〜900Oeが好ましいことがわかる。［実施例３］ PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例１の場合
と同様にし、磁性層を下記のようにかえた。すなわち、平均粒径0.12μｍ、平均板状比34であって、
BaFe₁₂O₁₉のBa、Feの一部をCu（２％）、Zr（13％）で
置換した磁性粉（保磁力650Oe）を用いて、その他の混
合物組成、媒体作製方法等は以下に示すようなバインダ
ー組成および磁性粉の配向処理にかえた以外は実施例１
の場合と同様にした。なお、設層乾燥後の磁性層厚さは、1.2μｍとした。バインダー組成塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（マレイン酸１％含有;NW20,000） 10重量部（固型分換
算）、アクリル変性フェノキシ（MW35,000） 6重量部（固型分
換算）、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー（MW2
0,000） 24重量部（固型分換算）、溶剤（MEK/シクロヘキサノン;70/30） 200重量部、
高級脂肪酸変性シリコーンオイル 3重量部、
ミリスチン酸ブチル 3重量部これらの媒体サンプルについて、第２図に示されるよう
なコンビネーションヘッドを用いて、上記の線記録密度
D₅₀KFRPI）を求めた。なお、コンビネーションヘッドとしては、表３に示され
るようなギャップ間隙ｂを有するものを用い、その他ギ
ャップ間隙ａ＝1.25μｍ、トラック幅ｃ＝120μｍ、ｄ
＝60μｍは一定とした。コア材質はフェライトとした。なお、媒体としての垂直方向の保磁力Hc⊥は700Oeであ
った。結果を表３に示す。以上の結果より本発明の効果があきらかである。なお、実施例１〜３の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。従って、実用面ではバインダー組成を放射線硬
化性樹脂とした方が好適である。また、上記各実施例では、第２図に示されるヘッドを用
いたが、第１図に示されるような独立型のヘッドでも全
く同様の結果がえられた。

【図面の簡単な説明】

第１図はリードライト独立型ヘッドの正面図である。第２図は、イレーズおよびリードライトコンビネーショ
ンヘッドの正面図である。符号の説明１……リードライト独立型ヘッド、２……イレーズおよ
びリードライトコンビネーションヘッド、３……第１の
磁気ヘッド、31……ライトコア、32……イレーズコア、
33,34……ギャップ、36……非磁性充填材、５……第２
の磁気ヘッド、51……リードコア、52……リード・ライ
トコア、53,54……ギャップ、56……非磁性充填材、７
……非磁性チップ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭60−201527（ＪＰ，Ａ) 津野尾忠昭「テープレコーダ」（昭46− 12−25）日刊工業新聞社Ｐ．142−144

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に平均粒径が0.2μｍ以下の六方
晶系板状磁性粉とバインダーとを含有する膜厚1.5μｍ
以下の磁性層を有し、膜面垂直方向の垂直角型比が0.65
以上である磁気記録媒体と、第１の磁気ヘッドとしてラ
イトヘッドおよび第２の磁気ヘッドとしてリードヘッ
ド、あるいは第１の磁気ヘッドとしてイレーズヘッドお
よび第２の磁気ヘッドとしてリードライトヘッドを用い
て記録、再生および消去を行う磁気記録方法において、上記磁性層の膜厚をｔ（μｍ）、第１の磁気ヘッドのギ
ャップ間隙をａ（μｍ）、第２の磁気ヘッドのギャップ
間隙をｂ（μｍ）としたとき、 t/a≦１でａ＝0.4〜1.5かつｂ＝0.1〜0.4であることを
特徴とする磁気記録方法。
【請求項２】ｔが0.4〜1.5μｍである特許請求の範囲第
１項に記載の磁気記録方法。
【請求項３】六方晶系板状磁性粉の板状比が６以上であ
る特許請求の範囲第１項または第２項に記載の磁気記録
方法。
【請求項４】磁気記録媒体の垂直方向の保磁力Hc⊥が10
00Oe以下である特許請求の範囲第１項ないし第３項のい
ずれかに記載の磁気記録方法。