JP2805404B2 - 磁気記録ディスク並びにその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録用の磁気記
録ディスク並びにその製造方法に関するものであり、特
に最短記録波長が１．５μｍ以下である記録・再生に最
適な磁気記録ディスク並びにその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器と
の組み合わせによるシステムの構築が可能であること、
信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはな
い優れた利点を有することから、ビデオ、オーディオ、
コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く
利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生信号
の質の向上、記録の長時間化、記録容量の増大等の要求
に対応するために、記録媒体に対して記録密度のより一
層の向上が常に望まれてきた。そのために磁性層の表面
性の改良、磁性体粒子の分散性の改良、磁性体の改良が
試みられてきた。

【０００３】データの外部記憶媒体であるフロッピーデ
ィスクに対しても、近年のパソコンの普及、アプリケー
ション・ソフトの高度化、処理情報の増大の動向の中に
あって、１０Ｍバイト以上の高容量化が強く要求される
ようになってきた。そして、ＲＬＬ方式等の従来の１．
５倍以上もの広い周波数成分領域を有する高密度符号を
用いた記録システムが提案されており、フロッピーディ
スクに記録される記録信号の最短記録波長が１．５μｍ
以下にもなろうとしている。そして、この記録密度の向
上のためには、当然磁気ヘッドのギャップ長もさらに狭
くなって、０．５μｍ以下になろうとしている。記録波
長が短く記録密度の大きな記録を可能にするためには、
まず第１に磁性層の抗磁力を高める必要がある。例え
ば、特開昭５８−１２２６２３号公報、特開昭６１−７
４１３７号公報等には、ディスク状媒体の磁性層に強磁
性金属粉末を用いる方法が提案されている。

【０００４】フロッピーディスク等のコンピューター用
途の磁気記録方式では、記録波長の異なる記録信号の重
ね書き（オーバーライト）が不可欠である。従来は、周
波数で２倍の関係にある２種類の信号、１ｆ及び２ｆ信
号の重ね書きができれば良かったが、前述のＲＬＬ方式
では記録波長が短くなっただけではなく周波数比３：８
の領域にある複数の信号の重ね書きが要求されている。
以上のように記録波長が短く、記録周波数の差が大きい
信号を使用する方式で、短波長信号を長波長信号の上に
うまく重ね書きをするためには、前記の特開昭５８−１
２２６２３号公報、特開昭６１−７４１３７号公報等に
開示されてるように、単に磁性層の磁気特性を向上させ
るだけでは限界があった。すなわち、先に記録されてい
る長波長の記録信号の上に短波長の記録信号を重ね書き
しても磁力線が磁性層の深いところまで達しないため
に、先に記録された長波長の信号が消去できなかった。
この問題を解決するためには、磁性層の抗磁力を低下さ
せるか、もしくは磁性層を薄くすることが有効であっ
た。

【０００５】しかしながら、磁性層の抗磁力を低下させ
ることは、記録信号の分解能や再生出力が低下するの
で、高密度の記録が不可能であった。また、磁性層を薄
くすると以下のような問題があった。即ち、通常、磁気
記録ディスクには、帯電による磁性層表面へのゴミや埃
などの付着するドロップ・アウトの発生を防止すること
が求められ、そのために磁性層中にカーボンブラックを
添加することであるが、磁性層を薄くすると磁性層中に
保持できるカーボンブラックの量にも限界があった。さ
らに、磁気特性を高く保持する上からも磁性層中へのカ
ーボンブラックの添加はできるだけ避けることが望まし
い。また、磁気記録ディスクへの記録信号が短波長にな
るほど、ドロップ・アウトの影響を大きく受けるように
なり、走行耐久性も劣化させるので、この帯電性の問題
は記録密度が高く大容量の磁気記録ディスクを設計する
際の重要な課題となる。

【０００６】帯電性の問題を改良する他の方法として
は、磁性層と非磁性支持体との間にカーボンブラックな
どを含有した非磁性層を設けた磁気記録媒体が提案され
ており、例えば、特開昭５５−５５４３２号公報、特開
昭５０−１０４００３号公報、ＵＳ３４４００９１号公
報、特開昭６２−２１４５１３号公報、特開昭６２−２
１４５１４号公報、特開昭６２−２３１４１７号公報、
特開昭６３−３１０２７号公報等に開示されている。し
かしながら、これらの先行技術に開示された磁気記録媒
体の磁性層の厚さは現在求められている大容量磁気記録
ディスクに対しては、充分に薄いものではなかった。

【０００７】また、磁性層が薄くなるに従って剥離し易
くなり、剥離した磁性層が新たなドロップ・アウトの発
生要因となるのでこの問題にも対処する必要があった。
そして、磁性層の剥離の問題は、非磁性支持体との間に
非磁性層を形成しても改良する免れることはできなかっ
た。以上のように、磁気記録ディスクとして大容量の媒
体とするためには、上記の種々の課題に対処しなければ
ならず、すべてを満足する手段は未だ提案されていな
い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、電磁変換
特性が良好でかつ走行耐久性に優れる磁気記録媒体及び
その製造方法を提供することである。特に、高記録密度
での重ね書き特性が優れ、記録容量が大きい磁気記録デ
ィスク及びその製造方法を提供することが本発明の目的
である。本発明の他の目的は、記録容量が大きく重ね書
き適性が優れたディジタルデータ記録再生方法を提供す
ることである。

【０００９】前記本発明の課題は、非磁性支持体上に非
磁性層及び磁性層がこの順で形成されている磁気記録デ
ィスクにおいて、該非磁性層は非磁性粒子及び結合剤樹
脂を主体とした層であって且つ該非磁性粒子の一部もし
くは全部が導電性粒子であり、また該磁性層は強磁性金
属粒子及び結合剤樹脂を主体とした層であって、前記磁
性層の厚さは０．５μｍ以下、その抗磁力は１４００エ
ルステッド以上、且つ前記磁性層中における前記強磁性
金属粒子の配向度比は０．８５以上であることを特徴と
する磁気記録ディスクであって、該磁気記録ディスクは
消去、記録及び再生を１つの磁気ヘッドで行う１ヘッド
タイプ方式に供されるものであり、該磁気ヘッドのギャ
ップ長δは０．５０μｍ以下で、かつ前記磁性層厚は
１．２５δ以下であり、最短記録波長が１．５μｍ以下
であることを特徴とする磁気記録ディスクにより達成さ
れる。

【００１０】本発明の磁気記録ディスクは、磁性層の抗
磁力を１４００エルステット゛以上にする事で、出力特性が良
好になり、電磁変換特性が優れ、記録周波数の小さい高
密度短波長のデジタルデータ記録を行った場合に優れた
信頼性を示す。また、磁性層の厚さが０．５μｍ以下と
極めて薄いので、短波長信号の重ね書きも良好に行うこ
とができる。そして、磁性層と非磁性支持体との間に、
導電性粒子を含有した非磁性層を設けることによって、
帯電しにくくドロップ・アウトの発生の恐れが余りない
走行耐久性に優れた磁気記録ディスクとすることができ
る。さらに、本発明においては配向度比が０．８５以上
にすることで磁気記録ディスクで要求される円周方向で
均一の出力が達成される。

【００１１】本発明の磁気記録ディスクを製造する際
に、非磁性支持体上に非磁性粒子及び結合剤樹脂を主体
とする非磁性層用塗布液を塗布して非磁性塗布層を形成
し、該非磁性塗布層が湿潤状態にあるうちに強磁性粒子
が結合剤樹脂溶液中に分散された磁性層用塗布液を前記
非磁性塗布層の上に形成することによって、前記非磁性
層に対する前記磁性層の密着が優れたものとなり磁性層
の厚さが０．５μｍ以下と薄くても磁性層の剥離が起こ
りにくく走行耐久性に優れ、信頼性の高い磁気記録ディ
スクを得ることができる。

【００１２】また、前記磁性層の強磁性粒子を強磁性金
属粒子とすることにより磁性層の磁気特性の優れた磁気
記録ディスクとすることができる。

【００１３】本発明者等は、本発明の目的の一つである
記録波長が短い高密度記録の大容量で且つ重ね書き適性
に優れたディジタル記録再生について検討した際に、磁
気ヘッドのギャップ長と磁性層の厚さとの関係に注目し
て検討した結果、本発明をなすに至った。 従来、出力損
失の観点から記録波長との関係で好ましい磁性層の厚さ
が論じられてきたが、本発明の目的とするコンピュータ
用途のディジタルデータ記録の分野で重要な重ね書き適
性をも考慮した場合、好ましい磁性層の厚さは磁気ヘッ
ドのギャップ長と強く相関していることが分かった。本
発明は、短波長記録用のギャップ長が０．５０μｍ以下
と短い磁気ヘッドを消去、記録及び再生を１つの磁気ヘ
ッドで行う１ヘッドタイプ方式に使用した場合、磁性層
の厚さがそのギャップ長の１．２５倍以下であれば、最
短記録波長が１．５μｍ以下と極めて短くとも、特に重
ね書き適性に優れた記録再生ができることを見いだした
ものである。そして、記録条件が高密度になって、記録
トラック幅５０μｍ以下、トラック密度１４トラック／
ｍｍ以下であっても、本発明の磁気記録ディスクを採用
することにより、良好な記録再生を行うことができた。

【００１４】本発明の前記磁気記録ディスクの磁性層の
厚さは、０．５μｍ以下であり、好ましくは、０．４５
μｍ以下である。磁性層の厚さの下限は特にないが、余
り薄くなると再生出力が低下するので注意を要する。非
磁性支持体上に形成する前記非磁性層及び前記磁性層の
厚さは合計で、１乃至３．０μｍの範囲にあればよい。

【００１５】本発明の磁気記録ディスクの磁性層に使用
される強磁性粒子は、強磁性金属粒子であり、特に、Ｆ
ｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分（７５重量％以上）と
する強磁性金属粒子であることが本発明の目的を効果的
に達成する上で好ましい。

【００１６】本発明で使用できる磁性体粒子の粒子サイ
ズをＢＥＴ法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ²／
ｇであり、好ましくは３５〜６０ｍ²／ｇである。２５
ｍ²／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上で
は分散が困難になって、磁性層の表面性を良好にするこ
とができないので好ましくない。また、Ｘ線回折分析で
測定される結晶子サイス゛で表せば、４５０〜１００オング
ストロ−ムであり、好ましくは３５０〜１５０オングス
トロ−ムである。

【００１７】磁性体粒子のの含水率は０．０１〜２重量
％とするのが好ましい。結合剤樹脂の種類によって磁性
体の含水率を最適化することが必要となる。磁性体粒子
のｐＨは用いる結合剤樹脂との組合せにより最適化する
ことが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好まし
くは６〜１０である。特に、結合剤樹脂の分子中に極性
基を有する場合、ｐＨに留意することが望ましい。磁性
体粒子は、必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの
酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は
磁性体粒子に対し０．１〜１０％であり表面処理を施す
と脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2以下に
なり好ましい。 磁性体粒子には可溶性のＮａ、Ｃａ、
Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが
５００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。
これらの強磁性粒子には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐ
ｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、
Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、
Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含
んでもかまわない。

【００１８】これらの強磁性微粒子にはあとで述べる分
散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前に
あらかじめ処理を行ってもかまわない。強磁性粒子が強
磁性金属粒子である場合には、少量の水酸化物、または
酸化物を含んでもよい。強磁性金属粒子葉、公知の製造
方法により得られたものを用いることができ、下記の方
法をあげることができる。複合有機酸塩（主としてシュ
ウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化
鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ
−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱
分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で
蒸発させて微粉末を得る方法などである。

【００１９】このようにして得られた強磁性金属粒子は
公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に侵漬したのち乾
燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを
送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方
法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調
整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施した
ものでも用いることができる。また、本発明に用いられ
る強磁性粒子は空孔が少ないほうが好ましくその値は２
０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。
また、強磁性粒子の針状比は１２以下が好ましく１０以
下が望ましい。高記録密度を可能とするため、本発明の
磁気記録ディスクは１４００エルステット゛以上の抗磁力を有
することが好ましい。さらに好ましくは、１５００エルステ
ット゛以上である。前記抗磁力は低すぎると自己減磁作用
で信号出力の低下を招くため好ましくない。また、高す
ぎると磁気記録ヘッドによる磁化反転が困難になるため
２５００エルステット゛以下にすることが望ましい。

【００２０】

【００２１】飽和磁化量及び抗磁力の測定はＶＳＭ−Ｐ
Ｉ（東英工業製）を用い最大印加磁場１０ＫＯｅとし
た。また比表面積の測定はカンターソーブ（ＵＳ．カン
タークロム社製）を用いた。２５０℃、３０分間窒素雰
囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３０）で測定し
た。本発明の磁気記録ディスクの残留磁束密度として
は、１５００Ｇ（ガウス）以上であることが望ましい。

【００２２】また、本発明の磁気記録ディスクの磁性層
中における磁性粒子の配向度比は０．８５以上がこのま
しく望ましくは０．９０以上更には０．９５以上が最適
である。 配向度比はディスク状媒体の円周方向の最小
角型比を最大角型比で除した値であり、その値が大きい
ほど円周方向における出力の変動が少なくなり、磁気記
録ディスクとして好ましいものとなる。配向度比を０．
８５以上にするためには上層磁性層が未乾燥の状態にあ
るところで、例えば、特公平３−４１８９５号公報に開
示されているような永久磁石を使用したランダム配向
法、特開昭６３−１４８４１７号公報、特開平１ー３０
０４２７号公報、特開平１ー３００４２８公報などに開
示されている交流磁場を印加する方法が使用できる。こ
の場合、強磁性金属粒子の針状比が１２以下、望ましく
は、１０以下であることが配向度比０．８５以上にする
ためには必要である。

【００２３】本発明の磁気記録ディスクにおける非磁性
層は、非磁性粒子と結合剤樹脂を主体とする層であっ
て、その非磁性粒子の一部がカーボンブラック、グラフ
ァイト等の導電性粒子であることが必要である。非磁性
層の非磁性粒子中における導電性粒子の比率は、本発明
の磁気記録ディスクの帯電を防止する観点から、３重量
％以上、望ましくは１０重量％以上である。

【００２４】非磁性層の厚さは、０．５〜１０μｍ、望
ましくは０．５〜５μｍである。非磁性層の厚さが余り
薄いと、磁気記録ディスクの帯電を防止できなくなり、
また余り厚いと磁気ヘッドとの当たりが劣化するので好
ましくない。

【００２５】前記非磁性層中に含有する導電性粒子とし
ては、ゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、ランプブラック等を用い
ることができる。前記カーボンブラックの比表面積は５
〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／
１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ＰＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／CC、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９０
０、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ
−ボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３
５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃
９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コンロ
ンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡ
ＶＥＮ １５０、５０，４０，１５などがあげられる。

【００２６】カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。本発明の磁気記録
ディスクの非磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編
を参考にすることができる。これら導電性粒子である
カーボンブラック及び前述の非磁性粉はあらかじめ結合
剤で分散処理した後、分散液中に添加してもかまわな
い。

【００２７】本発明の磁気記録ディスクの非磁性層に使
用する前記導電性粒子以外の非磁性粒子に特に制限はな
い。具体的には、α化率９０％以上のα−アルミナ、β
−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、
酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チ
タンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ
素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸
バリウムなどが単独または組合せで使用される。これら
非磁性粉末の粒子サイズは０.０１〜２μが好ましい
が、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み
合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして
同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．
３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。本発明
に用いられる非磁性粉末の形状は針状、球状、サイコロ
状、のいずれでも良い。本発明に用いられる非磁性粉末
の具体的な例としては、住友化学社製、ＡＫＰ−２０Ａ
ＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、日本化学工
業社製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１
００，ＴＦ−１２０，ＴＦ−１４０、などがあげられ
る。

【００２８】カ−ボンブラック等を磁性層にも使用する
ことにより、本発明の磁気記録ディスクの帯電がより一
層防止することができ、さらに走行耐久性なども改良す
ることができる。但し、磁性層にカーボンブラック等の
導電性粒子を含有させる場合、磁気特性を保持する観点
から、その添加量は、非磁性層の場合ほど多く使用する
ことができない。その望ましい添加量としては、磁性粒
子１００重量部当たり、１０重量部以下に止めるべきで
ある。磁性層中におけるカ−ボンブラックの機能は、磁
性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向
上などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラック
により異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−
ボンブラックは下層、上層でその種類、量、組合せを変
え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ＰＨなどの先に示し
た諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。例えば、下層の導電性の高いカ−ボンブ
ラックを用ることにより帯電を防止し、上層に粒子径の
大きいカ−ボンブラックを用い摩擦係数を下げるなどが
あげられる。

【００２９】本発明の磁気記録ディスクの磁性層及び非
磁性層における結合剤樹脂としては、従来公知の熱可塑
系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が
使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が
−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２００
０００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度
が約５０〜１０００程度のものである。このような例と
しては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、
マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビ
ニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリ
ル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニ
ルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等
を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレ
タン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂
または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデ
ヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポリマ−の
混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリイソシアネ−ト
の混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物
等があげられる。

【００３０】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を上層、または下層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載さ
れている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できる
が、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢
酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル
樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、
中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組
合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせ
たものがあげられる。

【００３１】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、 Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水
素基）エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少な
くともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導
入したものををもちいることが好ましい。このような極
性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは
１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。特に、磁性層の強磁性
粒子に強磁性金属粒子や六方晶系フェライト粒子を使用
する場合は、その分散が他の強磁性粒子よりも困難であ
るので、上記の極性基を含有した結合剤樹脂を使用する
ことにより、強磁性粒子の分散性を高めることができる
ので有効である。

【００３２】本発明の磁気記録ディスクに用いられるこ
れらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカ−バイト
社製 ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡ
ＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹ
ＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫ
ＦＥ，日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ
５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭ
Ｆ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学社製１００
０Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、日本
ゼオン社製ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製ＵバイロンＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精化社製、ダ
イフェラミン４０２０，５０２０，５１００，５３０
０，９０２０，９０２２，７０２０，三菱化成社製、Ｍ
Ｘ５００４，三洋化成社製、サンプレンＳＰ−１５０，
旭化成社製、サランＦ３１０，Ｆ２１０等が挙げられ
る。

【００３３】本発明の磁気記録ディスクの磁性層中にお
ける結合剤樹脂は強磁性粒子に対し、５〜５０重量％の
範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられ
る。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、
ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０重量％、ポ
リイソシアネ−トは２〜２０重量％の範囲でこれらを組
み合わせて用いるのが好ましい。本発明において、ポリ
ウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１０
０℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．
０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ²が好ましい。

【００３４】本発明の磁気記録ディスクは前記磁性層及
び前記非磁性層の二層からなる。従って、結合剤量、結
合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、
ポリイソシアネ−ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁
性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先
に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ上層と下層で
変えることはもちろん可能である。

【００３５】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−ト
Ｄ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−
２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デ
スモジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎデスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または硬
化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せ
で磁性層及び非磁性層の双方に使用することができる。

【００３６】本発明の磁気記録ディスクの製造におい
て、非磁性層上に磁性層を形成するのに非磁性支持体上
に塗布された非磁性層用塗布層がまだ湿潤状態にあるう
ちに、磁性層用塗布液をその上に塗布するいわゆるウェ
ット・オン・ウェット方式の塗布方法を採用するのが好
ましい。この塗布方式を採用することにより、非磁性層
に対する磁性層の密着性を高めることができ、本発明の
ように磁性層の厚さが０．５μｍと非常に薄くとも磁性
層の剥れがなく、ドロップ・アウトが生じにくい走行耐
久性の優れた磁気記録ディスクを得ることができる。従
来の方法のように、非磁性塗布液を塗布、乾燥して非磁
性層を形成してからその上に磁性層を塗布する方式で
は、磁性層が極めて薄いためか本発明の磁気記録ディス
ク場合、非磁性層と磁性層との密着性が充分でなく非磁
性支持体上に形成された層として、２層が一体的な構造
になり難い。

【００３７】前記のウェット・オン・ウェット方式の具
体的な方法としては、(1)磁性塗料で一般的に用いられ
るグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクスト
ルージョン塗布装置によりまず下層を塗布し、その層が
まだ湿潤状態にあるうちに、例えば、特公平１−４６１
８６号公報、特開昭６０−２３８１７９合公報及び特開
平２−２６５６７２号公報に開示されている非磁性支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法、(2) 特開昭６３−８８０８０号公報、特開
平２−１７９７１号公報及び特開平２−２６５６７２号
公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ
内蔵した塗布ヘッドにより、下層の塗布液及び上層の塗
布液をほぼ同時に塗布する方法、(3)特開平２−１７４
９６５号公報に開示されているバックアップロール付き
エクストルージョン塗布装置により、上層及び下層をほ
ぼ同時に塗布する方法、等が挙げられる。

【００３８】なお、塗布液中に分散された粒子の凝集を
防止するために、例えば、特開昭６２−９５１７４号公
報及び特開平１−２３６９６８号公報に開示されている
ような方法により、塗布ヘッド内部の塗布液に剪断力を
付与することが望ましい。また、ウェット・オン・ウェ
ット塗布方式で留意すべきこととして、塗布液の粘弾性
特性（チクソトロピック性）がある。即ち、上層と下層
の塗布液の粘弾特性の差が大きいと塗布した際に、上層
塗布層と下層塗布層との界面で液の混じり合いが起こ
り、本発明のように上層の磁性層の厚さが非常に薄い場
合、磁性層の表面性が低下するなどの問題を引き起こし
易い。塗布液の粘弾性をできるだけ近づけるためには、
まず、上層と下層の分散粒子を同一にすることが効果的
であるが、本発明の場合は、それができないので、磁性
層の塗布液中で磁性粒子が磁性により形成されるストラ
クチャー構造がもたらす構造粘性と合わせるために、下
層の非磁性層塗布液の非磁性粒子としてカーボンブラッ
クのように構造粘性を形成し易い粒子を使用することが
望ましい。粒子サイズの小さい非磁性粒子を使用するこ
とも有効である。例えば、１μｍ以下の酸化チタン、酸
化アルミ等の粒子では、適度な凝集により粒子の構造粘
性を有した塗布液となり易い。

【００３９】本発明の磁気記録ディスクの磁性層中に
は、潤滑剤や研磨剤などを始めとする種々の機能を有す
る材料が添加できる。そのほか、帯電防止剤、分散剤、
可塑剤、防黴剤等が添加できる。潤滑剤としては、従来
から知られている各種の液体潤滑剤、固体潤滑剤を使用
することができる。 例えば、ジアルキルポリシロキサ
ン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシ
ロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアルキ
ルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数１
〜５個、アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポリ
シロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキル
は炭素数１〜５個）などのシリコンオイル、グラファイ
ト等の導電性微粉末、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステンなどの無機粉末、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフル
オロエチレン等のプラスチック微粉末；α−オレフィン
重合物、常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素（ｎ−オレ
フィン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素数
約２０）、炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素
数３〜１２個の一価のアルコールから成る脂肪酸エステ
ル類、フルオロカーボン類等が使用できる。中でも脂肪
酸エステルがもっと好ましい。

【００４０】脂肪酸エステルの原料となる アルコール
としてはエタノール、ブタノール、フェノール、ベンジ
ルアルコール、２−メチルブチルアルコール、２−ヘキ
シルデシルアルコール、プロピレングリコールモノブチ
ルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコー
ル等の系モノアルコール類、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリ
ン、ソルビタン誘導体等の多価アルコールが挙げられ
る。同じく脂肪酸としては酢酸、プロピオン酸、オクタ
ン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン
酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン
酸、パルミトレイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれ
らの混合物が挙げられる。脂肪酸エステルとしての具体
例は、ブチルステアレート、ｓ−ブチルステアレート、
イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミル
ステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エ
チルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステア
レート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリ
ステート、ブチルステアレートとブチルパルミテートの
混合物、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−
１−プロピルステアレート、ジプロピレングリコールモ
ノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、
ジエチレングリコールジパルミテート、ヘキサメチレン
ジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとした
もの、グリセリンのオレエート等の種々のエステル化合
物を挙げることができる。

【００４１】さらに、磁気記録媒体を高湿度下で使用す
るときしばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減
するために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直
鎖、シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択する
ことがなされる。これらの潤滑剤は、磁性層中にあって
は、強磁性粒子１００重量部に対して、また、非磁性層
中にあっては非磁性粒子１００重量部に対して０．２〜
２０重量部の範囲で添加される。即ち、本発明の磁気記
録ディスクにおいては、潤滑剤を磁性層のみならず非磁
性層に添加することもできる。潤滑剤としては、更に以
下の化合物を使用することもできる。即ち、シリコンオ
イル、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化ほう素、
弗化黒鉛、フッ素アルコール、ポリオレフィン、ポリグ
リコール、アルキル燐酸エステル、二硫化タングステン
等である。本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例と
しては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１
５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンア−マ−社
製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２００，イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオ
ネットＤＯ−２００などがあげられる。

【００４２】研磨剤の具体例としては、α化率９０％以
上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化ク
ロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダ
イアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−バイト、酸
化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−
ス６以上の公知の材料が単独または組合せで使用され
る。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他
の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これ
らの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれ
る場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわ
りはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μ
が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤
を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は
０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ＰＨは２
〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。本
発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ
状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するもの
が研磨性が高く好ましい。特に、望ましい研磨剤の具体
的な例としては、住友化学社製、ＡＫＰ−２０ＡＫＰ−
３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、日本化学工業社
製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、１００ＥＤ、
１４０ＥＤ、などがあげられる。これらの研磨剤はあら
かじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加して
もかまわない。本発明の磁気記録媒体の磁性層表面およ
び磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ²以
上が好ましい。磁性層中に添加される研磨剤の量は、通
常、強磁性粒子１００重量部当たり、３乃至２０重量部
である。研磨剤の添加量が少ないと磁気記録ディスクの
走行耐久性が充分でなく、また多すぎると出力の低下を
招くので望ましくない。

【００４３】磁性層中に添加される以上の添加剤は、必
ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未
反応物、副反応物、分解物、酸化物 等の不純分がふく
まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好
ましく、さらに好ましくは１０％以下である。下層の非
磁性層中にも磁性層と同じ様な各種の添加剤を添加して
もよい。特に、本発明では、上層の磁性層が極めて薄い
ので潤滑剤が充分に保持できないという事情もあり、下
層の非磁性層に潤滑剤を含有させておくことによって、
磁性層中に適宜補給できるようにし、本発明の磁気記録
ディスクの走行性をさらに改善することができる。また
本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、
磁性塗布液を製造するどの工程で添加してもかまわな
い、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性
体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散
工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前
に添加する場合などがある。

【００４４】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
必要ならば磁性層と下層でその種類、量を変えてもかま
わない。

【００４５】上層の磁性層用塗布液に揮発性の高い溶媒
をもちい表面性を向上させる、下層の非磁性層塗布液に
表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンな
ど）を用い塗布の安定性をあげ、下層の非磁性層塗布液
には溶解性パラメ−タの高い溶媒を用い充填度を上げる
などがその例としてあげられるがこれらの例に限られた
ものではないことは無論である。

【００４６】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリ
アセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、などの公知の
フィルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめ
コロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、
除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の磁気記録
ディスクの非磁性支持体の厚さは、１〜１００μｍ、望
ましくは２０〜８５μｍである。また、非磁性支持体性
とその上の非磁性層との間に密着性向上のためのポリエ
ステル樹脂等からなる下塗り層を設けてもかまわない。
これらの厚みは、通常、０．０１〜２μ、望ましくは、
０．０５〜０．５μｍである。本発明の磁気記録媒体の
非磁性層及び磁性層は、非磁性支持体の片面もしくは両
面に設けられる。

【００４７】本発明の目的を有効に達成するには、非磁
性支持体の表面粗さは、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）
（カットオフ値０．２５ｍｍ）で０．０３μｍ以下、好
ましくは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１
μｍμ以下のものを使用するのが望ましい。また、これ
らの非磁性支持体は単に前記中心線平均表面粗さが小さ
いだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好
ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて非磁性支持
体に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコン
トロ−ルされるものである。これらのフィラ−の一例と
しては、Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機樹脂微粉末があげられる。本発明
に用いられる非磁性支持体のウエブ走行方向のＦ−５値
は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²、ウエブ幅方向のＦ
−５値は好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²であり、ウエ
ブ長い手方向のＦ−５値がウエブ幅方向のＦ−５値より
高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする
必要があるときはその限りでない。また、支持体のウエ
ブ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮率
は好ましくは３％以下、さらに望ましくは１．５％以
下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに望ましくは０．５％以下である。破断強度は両方
向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０
００Ｋｇ／ｍｍ²が望ましい。

【００４８】本発明の磁気記録ディスク用磁性層の磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体粒
子、結合剤樹脂、非磁性粒子、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程のどの段階で添加してもかまわない。 また、個々
の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわな
い。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散
後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよ
い。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製
造技術のを一部の工程としてを用いることができること
はもちろんであるが、混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ
−ダなど強い混練力をもつものを使用することにより、
本発明の磁気記録ディスクの残留磁束密度（Ｂｒ）を高
くすることができる。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダを用
いる場合は磁性体粒子と結合剤樹脂のすべてまたはその
一部（ただし全結合剤樹脂の３０重量％以上であること
が望ましい）および磁性粒子１００重量部に対し１５〜
５００重量部の範囲で混練処理される。これらの混練処
理の詳細については特開平１−１０６３８８号公報、特
開平１−７９２７４号公報に記載されている。本発明で
は、特開昭６２−２１２９３３号公報に開示されている
ような同時重層塗布方式を用いることによりより効率的
に生産することができるる。

【００４９】さらに、磁性層の表面を平滑にする加圧成
形処理で使用するカレンダロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルを使用する。また、金属ロ−ル同
志で加圧成形処理することもできる。加圧成形の処理温
度は、望ましくは７０℃以上、さらに望ましくは８０℃
以上である。線圧力は望ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ、さ
らに好ましくは３００Ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００５０】本発明の磁気記録媒体の磁性層面の表面固
有抵抗は望ましくは１０⁵〜５×１０⁹オ−ム／ｓｑ、磁
性層の０．５％伸びでの弾性率はウエブ塗布方向、幅方
向とも望ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断
強度は望ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体
の弾性率はウエブ塗布方向、幅方向とも望ましくは１０
０〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは望ましくは０．
５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は
望ましくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下、
もっとも望ましくは０．１％以下である。

【００５１】磁性層中に含まれる残留溶媒は望ましくは
１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに望ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下であり、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に含
まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層が有
する空隙率は磁性層、非磁性層とも望ましくは３０容量
％以下、さらに望ましくは１０容量％以下である。非磁
性層の空隙率が磁性層の空隙率より大きいほうが好まし
いが非磁性層の空隙率が５％以上であれば小さくてもか
まはない。

【００５２】本発明の磁気記録媒体は非磁性層と磁性層
を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物
理特性を変えることができるのは容易に推定されること
である。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を
向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低く
して磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどであ
る。

【００５３】本発明の磁気記録ディスクを使用すること
により、高密度の磁気記録が可能であり、特に、コンピ
ューター情報を保存・読み出しに使用されるディジタル
データ記録媒体に必須の重ね書き特性が、例えば、最短
記録波長が１．５μｍ以下であるような高密度記録にな
っても低下せず且つ走行耐久性も低下しないという利点
を有する。その利点は、本発明の磁気ディスクの構成及
びその製造方法によってもたらされる前記の特徴による
ものであり、特に、非磁性支持体上に形成する層の前記
構成及びその層の前記塗布方法に起因している。また、
ディジタルデータ記録再生に使用する磁気ヘッドのギャ
ップ長δと磁性層の厚さの関係を、磁性層の厚さを１．
２５δ以下として、且つその磁性層の下に隣接して導電
性粒子を含有した非磁性層を形成した磁気記録ディスク
を使用することによっても、記録密度の大きいディジタ
ルデータ記録・再生を有効に行うことができる。その磁
気記録ディスクの抗磁力は１４００エルステット゛以上で、配
向度比は０．８５以上であることが好ましい。即ち、磁
気ヘッドのギャップ長の１．２５倍よりも磁性層の厚さ
を薄くすることにより、最短記録波長が１．５μｍ以下
であっても重ね書き適性に問題がなく、特に、近年提案
されているＲＬＬ方式の記録方式にも良好な特性が期待
でき、且つ本発明の磁気ディスクの層構成にすることに
より、記録波長が短くなることによる走行耐久性の劣化
がないようなディジタルデータ記録を行うことができ
る。本発明の磁気記録ディスクをギャップ長がその磁性
層の厚さの１／１．２５以上である磁気ヘッドをと組み
合わせて使用すれば良好な記録・再生がなされることは
いうまでもない。

【００５４】本発明の磁気記録ディスクに使用する磁気
ヘッドに特に制限はないが、短波長記録に望ましい磁気
ヘッドとしては、メタルインギャップ構造のものが好ま
しくメタルギャップの材料としては、センダスト系合金
やアモルファス系の高透磁率の合金が好ましい。前記ギ
ャップ材料の飽和磁化は、８，０００ガウス以上、好ま
しくは１０，０００ガウス以上である。磁気ヘッドのギ
ャップ長としては、０．５０μｍ以下であり、望ましく
は０．４５μｍ以下である。本発明の磁気記録ディスク
において、磁気記録・再生が特に効果的なのは、最短記
録波長即ち定周速度の場合、磁気記録ディスクの内周面
で測られる最短の記録波長が１．５μｍ以下の場合であ
り、さらに短くなって１．０μｍ以下になるとより一層
のその効果は顕著となる。

【００５５】また、記録波長だけでなく、トラック密度
が大きくなっても本発明の磁気記録ディスクは、有効で
あり、信号のクロストークが少なく、ピークシフトの分
離性に優れた記録ができる。そのため、記録トラック幅
が５０μｍ以下、トラック密度１４トラック／ｍｍ以上
の条件で、最短記録波長が１．５μｍ以下の記録をして
も重ね書き適性に優れ、走行耐久性も良好な記録・再生
が可能である。本発明の新規な特徴を以下の実施例及び
比較例によって、具体的に説明する。

【００５６】

【実施例】

（非磁性層用塗布液及び磁性層用塗布液の調整）。 ＜非磁性層用塗布液Ａ＞…導電性粒子含有 非磁性粒子 酸化チタンＴｉＯ₂ … ８０重量部 （石原産業製 ＴＹ５０、平均粒子径：０．３４μｍ、
ＢＥＴ法による比表面積：５．９ｍ²／ｇ、ｐＨ５．
９） カーボンブラック … ２０重量部 （平均一次粒子径 ：１６ｍμ、ＤＢＰ吸油量 ：８０ｍ
ｌ／１００ｇ、ｐＨ：８．０、ＢＥＴ法による比表面
積：２５０ｍ²／ｇ、 揮発分：１．５重量％） 結合剤樹脂 塩化ビニル-酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 … １４重量部 （−N(CH₃)₃+Cl-の極性基を５×１０^-6eq/g含有、モノマー組成比： ８６：１３：１ 重合度400） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ５重量部 （ネオヘ゜ンチルク゛リコ-ル/カフ゜ロラクトンホ゜リオ-ル/MDI=０．９／２．６／１、-SO₃Na 基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有） ｓｅｃ−ブチルステアレート … ４重量部 ブトキシエチルステアレート … ２重量部 ブトキシエチルパルミテート … ２重量部 オレイン酸 … １重量部 メチルエチルケトン … ２００重量部 ＜非磁性層用塗布液Ｂ＞…導電性粒子含有せず 非磁性粒子 酸化チタンＴｉＯ₂ … ８０重量部 （石原産業製 ＴＹ５０、平均粒子径：０．３４μｍ、
ＢＥＴ法による比表面積：５．９ｍ²／ｇ、ｐＨ５．
９） 結合剤樹脂 塩化ビニル-酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 … １４重量部 （−N(CH₃)₃+Cl-の極性基を５×１０^-6eq/g含有、モノマー組成比： ８６：１３：１ 重合度400） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ５重量部 （ネオヘ゜ンチルク゛リコ-ル/カフ゜ロラクトンホ゜リオ-ル/MDI=０．９／２．６／１、-SO₃Na 基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有） ｓｅｃ−ブチルステアレート … ４重量部 ブトキシエチルステアレート … ２重量部 ブトキシエチルパルミテート … ２重量部 オレイン酸 … １重量部 メチルエチルケトン … ２００重量部

【００５７】 ＜磁性層用塗布液Ａ＞ 強磁性粒子 … １００重量部 （組成：Ｆｅ／Ｎｉ＝９６／４（原子比）、抗磁力：１６２０エルステット゛ 、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ、結晶子サイズ：１９５オンク ゛ストロ-ム、粒子サイズ（平均長軸径）：０．２０μｍ、針状比：１０、 飽和磁化量σs:１３０emu/g） 結合剤樹脂 塩化ビニル系共重合体 … １４重量部 （-SO3Na含有量:1×１０^-4 eq/g、重合度：３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ５重量部 （ネオヘ゜ンチルク゛リコ-ル/カフ゜ロラクトンホ゜リオ-ル/MDI=０．９／２．６／１、 -SO3Na基を１×１０^-4 eq/g含有） α−アルミナ … ２重量部 （平均粒子サイズ０．３μｍ） カ−ボンブラック … ０．５重量部 （粒子サイズ０．１０μｍ） イソヘキサデシルステアレート … ６重量部 オレイン酸 … １重量部 メチルエチルケトン … ２００重量部 ＜磁性層用塗布液Ｂ＞ 強磁性粒子 … １００重量部 （組成：Ｆｅ／Ｎｉ＝９６／４（原子比）、抗磁力：１４７０エルステット゛ 、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ、結晶子サイズ：１９５オンク ゛ストロ-ム、粒子サイズ（平均長軸径）：０．２０μｍ、針状比：１０、 飽和磁化量σs:１３０emu/g） 結合剤樹脂 塩化ビニル系共重合体 … １４重量部 （-SO3Na含有量:1×１０^-4 eq/g、重合度：３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ５重量部 （ネオヘ゜ンチルク゛リコ-ル/カフ゜ロラクトンホ゜リオ-ル/MDI=０．９／２．６／１、 -SO3Na基を１×１０^-4 eq/g含有） α−アルミナ … ２重量部 （平均粒子サイズ０．３μｍ） カ−ボンブラック … ０．５重量部 （粒子サイズ０．１０μｍ） イソヘキサデシルステアレート … ６重量部 オレイン酸 … １重量部 メチルエチルケトン … ２００重量部 ＜磁性層用塗布液Ｃ＞ 強磁性粒子 … １００重量部 （組成：Ｆｅ／Ｎｉ＝９６／４（原子比）、抗磁力：１３２０エルステット゛ 、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ、結晶子サイズ：１９５オンク ゛ストロ-ム、粒子サイズ（平均長軸径）：０．２０μｍ、針状比：１０、 飽和磁化量σs:１３０emu/g） 結合剤樹脂 塩化ビニル系共重合体 … １４重量部 （-SO3Na含有量:1×１０^-4 eq/g、重合度：３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ５重量部 （ネオヘ゜ンチルク゛リコ-ル/カフ゜ロラクトンホ゜リオ-ル/MDI=０．９／２．６／１、 -SO3Na基を１×１０^-4 eq/g含有） α−アルミナ … ２重量部 （平均粒子サイズ０．３μｍ） カ−ボンブラック … ０．５重量部 （粒子サイズ０．１０μｍ） イソヘキサデシルステアレート … ６重量部 オレイン酸 … １重量部 メチルエチルケトン … ２００重量部 なお、強磁性粒子の粒子サイズ及び結晶子サイズは、以
下のように測定した。 磁性体の粒径 ： 透過型電子顕微鏡により長軸の平均
粒子径を求めた。 結晶子サイズ ： Ｘ線回折により強磁性粒子の（４，
４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値巾の広が
りから求めた。

【００５８】以上の非磁性層用塗布液Ａ並びにＢ及び磁
性層用塗布液Ａ，Ｂ並びにＣの各組成物を、まず、連続
ニ−ダで混練したのち、サンドミルを用いてさらに混連
分散処理した。得られた分散液に、ポリイソシアネ−ト
（日本ポリウレタン（株）製、コロネートＬ）を非磁性
層用の分散液中には、１０重量部、磁性層用分散液中に
は１２重量部を加えて、さらにそれぞれに酢酸ブチル４
０重量部を加えて混連攪拌した後，１μｍの平均孔径を
有するフィルターを通して濾過し、非磁性層用塗布液Ａ
及び磁性層用塗布液Ａ，Ｂ及びＣを調整した。

【００５９】（磁気記録ディスクの作成） ＜ウェットオンウェット方式による重層塗布＞前記の各
非磁性層用塗布液と磁性層用塗布液を表１のように組み
合わせて、下記の条件で磁気記録ディスク試料−１〜試
料−１２を作製した。厚さ６２μｍで表面粗さが中心線
平均表面粗さＲａ（カットオフ値０．２５ｍｍ）で０．
０１μｍである、ポリエチレンテレフタレ−ト支持体上
に、前記非磁性層用塗布液及び磁性層用塗布液を湿式同
時重層塗布により、乾燥後の非磁性層の厚さが２μｍに
なるように、また磁性層の乾燥後の厚さは、２．７、
０．７、０．５、０．３μｍになるように塗布した。
両層がまだ湿潤状態にあるうちに２つの交流磁場発生装
置中を通過させ、磁性粒子のランダム配向処理をした。
その際の二つの交流磁場の周波数、磁界強度は上流側か
ら５０Ｈｚ２００Ｏｅ，１２０Ｈｚ１３００ｅとした。
更に乾燥後、７段のカレンダ装置（線圧３００ｋｇ／ｃ
ｍ、温度９０℃）にて処理を行い、３．５インチサイズ
に打ち抜き表面を研磨テープによりバーニッシュを施し
た後３．５インチフロッピーディスクの所定の機構部品
を使用し、３．５インチフロッピーディスクを作製し
た。

【００６０】

【表１】 ＜逐次塗布方式による重層塗布＞前記非磁性層用塗布液
Ａを乾燥後の厚さが２μｍになるように塗布して、非磁
性塗布層を形成し、乾燥して一度巻き取りを行った後
に、その形成された非磁性層の上に前記磁性層塗布液Ａ
を乾燥後の磁性層の厚さが０．３μｍになるように塗布
し、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに２つの交流磁場
発生装置中を通過させた。ふたつの交流磁場の周波数、
磁界強度は上流側から５０Ｈｚ２００Ｏｅ，１２０Ｈｚ
１３００ｅとした。更に乾燥後、７段のカレンダ装置
（線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃）にて処理を行
い、３．５インチサイズに打ち抜き表面を研磨テープに
よりバーニッシュを施した後３．５インチフロッピーデ
ィスクの所定の機構部品を使用し、３．５インチフロッ
ピーディスク媒体の試料−１３を作製した。なお、非磁
性支持体の表面粗さ（Ｒａ）は、三次元表面粗さ計（小
坂研究所製）を用いカットオフ０．２５ｍｍで測定し
た。

【００６１】（特性の評価）以上の様に得られたフロッ
ピーディスクの各試料は下記の評価方法で測定しその特
性を評価した。 ＜磁性層の抗磁力及び配向度比＞振動試料型磁束計（東
英工業製）を用い最大印加磁場５ｋＯｅで測定した。 ＜磁性層の厚さ＞層断面の切片試料を作成して、走査型
電子顕微鏡（日立製作所製、Ｓ−７００型）による画像
を撮影した断面写真から求めた。 ＜再生出力＞東京エンジニアリング製ディスク試験装置
ＳＫ６０６Ｂ型を用いギャップ長０．４５μｍと０．８
μｍの２種のメタルインギャップヘッド用い、それぞれ
記録周波数６２５ｋＨｚで半径２４．６ｍｍの位置にお
いて記録した後ヘッド増幅機の再生出力をテクトロニク
ス社製オシロスコープ７６３３型で測定した。再生出力
はギャップ長０．４５μｍのヘッドを用いた場合の媒体
Ａの出力を１００として相対値で示した。 ＜重ね書き特性＞前記試験装置を用い半径３９．５ｍｍ
の位置で、交流消磁済みサンプルに３１２．５ｋＨｚ記
録しアドバンテスト社製ＴＲ４１７１型スペクトラムア
ナライザで３１２．５ＫＨｚ成分の出力Ｏ１（ｄＢ）を
測定した後直ちに１ＭＨｚを重ね書きしその時の３１
２．５ＫＨｚ成分の出力Ｏ２（ｄＢ）から重ね書き Ｏ
２−Ｏ１（ｄＢ）を求めた。 ＜走行耐久性＞日本電気（株）製フロッピディスクドラ
イブＦＤ１３３１型を用い、記録周波数６２５ｋＨｚで
全２４０トラックに記録した後半径が中心から３７．２
５ｍｍの位置において以下のフローを１サイクルとする
サーモサイクル試験を実施した。このサ−モ条件下にお
いて、パス回数で１２００万回まで走行させたときの走
行状態をもって走行耐久性を評価した。

【００６２】［サ−モサイクルフロー］ （２５℃５０％ＲＨ １時間）→ 昇温 ２時間 →（６
０℃２０％ＲＨ ７時間）→ 降温 ２時間 →
（２５℃５０％ＲＨ １時間） → 降温 ２時間→
（５℃５０％ＲＨ ７時間 ）→昇温 ２時間 →（２５
℃５０％ＲＨ １時間） また５０万パス毎に全トラックの出力、ドロップアウト
の測定及び媒体表面外観の目視検査を行い出力が初期値
の６０％、または出力の４５％以下の１ビット以上のド
ロップアウトが発生した場合この試験を中止した。

【００６３】以上の評価結果について、磁性層の磁気特
性に関しては表２、磁気記録特性については表３、走行
耐久性については表４に示す。また、非磁性層及び磁性
層の塗布方法の対比は表５に示す。

【００６４】

【表２】

【００６５】

【表３】

【００６６】

【表４】

【００６７】

【表５】

【００６８】本発明の請求項１に記載された磁気記録デ
ィスクのように、磁性層の厚さが０．５μｍ以下で、抗
磁力が１４００エルステッド以上である試料は、出力、
重ね書き特性がともに優れていた。また、磁気ヘッドの
ギャップ長が０．８０μｍの場合は、０．４５μｍのも
のに比し出力が余り高くとれないことが分かった。そし
て、磁気特性のギャップ長の１．２５倍以下にある厚さ
の磁性層を有する磁気記録ディスクでは、１．２５倍以
上の厚さのものに比べて重ね書き特性が良好であった。
非磁性層に導電性粒子が含有されていないフロッピーデ
ィスクの試料−１０、試料−１２及び試料−１４では走
行耐久性が劣ることが分かった。さらに、非磁性層と磁
性層の塗布をウェットオンウェットの湿式同時塗布を行
った磁気記録ディスクは、走行耐久性に優れていること
が分かった。

【００６９】

【発明の効果】厚さが０．５μｍ以下と非常に薄く、抗
磁力が１４００エルステット゛以上、配向度比が０．８５以上
と高抗磁力で面内に等方的に配向した磁性層を有し、非
磁性支持体と磁性層との間に導電性粒子を含有した非磁
性層層を形成した重層構成にすることにより、重ね書き
特性が良好で１．５μｍ以下の短波長記録ができしかも
走行耐久性に優れたディジタルデータ記録用を得ること
ができる。そして、この磁気記録ディスクは、非磁性層
と磁性層とを湿潤状態で重層塗布することにより走行耐
久性がさらに高まる。また、キ゛ャッフ゜長δが０．５μｍ以
下である磁気ヘッドと１．２５δ以下の厚さの磁性層を
有する上記の磁気記録ディスクとを用いて、記録・再生
を行うことにより、重ね書き特性が良好な短波長のディ
ジタルデータ記録を行うことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−145501（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−3101（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−157809（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−187418（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−219423（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−14302（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 5/70 G11B 5/02 G11B 5/82 G11B 5/842

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層が
   この順で形成されている磁気記録ディスクにおいて、該
   非磁性層は非磁性粒子及び結合剤樹脂を主体とした層で
   あって且つ該非磁性粒子の一部もしくは全部が導電性粒
   子であり、また該磁性層は強磁性金属粒子及び結合剤樹
   脂を主体とした層であって、前記磁性層の厚さは０．５
   μｍ以下、その抗磁力は１４００エルステッド以上、且
   つ前記磁性層中における前記強磁性金属粒子の配向度比
   は０．８５以上であることを特徴とする磁気記録ディス
   クであって、該磁気記録ディスクは消去、記録及び再生
   を１つの磁気ヘッドで行う１ヘッドタイプ方式に供され
   るものであり、該磁気ヘッドのギャップ長δは０．５０
   μｍ以下で、かつ前記磁性層厚は１．２５δ以下であ
   り、最短記録波長が１．５μｍ以下であることを特徴と
   する磁気記録ディスク。
2. 【請求項２】 非磁性支持体上に非磁性粒子及び結合剤
   樹脂を主体とする非磁性層用塗布液を塗布して非磁性塗
   布層を形成し、該非磁性塗布層が湿潤状態にあるうちに
   強磁性金属粒子が結合剤樹脂溶液中に分散された磁性層
   用塗布液を前記非磁性塗布層の上に形成、次いで乾燥を
   行って非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層を形成する
   請求項１に記載の磁気記録ディスクの製造方法。