JPS62137718A - 磁気記録ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気記録ディスクの製造方法Info
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- JPS62137718A JPS62137718A JP60277403A JP27740385A JPS62137718A JP S62137718 A JPS62137718 A JP S62137718A JP 60277403 A JP60277403 A JP 60277403A JP 27740385 A JP27740385 A JP 27740385A JP S62137718 A JPS62137718 A JP S62137718A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の′:+F景
技術分デナ
本発明は、磁気記録媒体とその製造方法に関する。 さ
らに詳しくは、針状磁性粉とバインダーとを含有する磁
性層を、特に可どう性の非磁性支持体上に有する、特に
ディスク状の磁気記録媒体とその製造方法に関する。
らに詳しくは、針状磁性粉とバインダーとを含有する磁
性層を、特に可どう性の非磁性支持体上に有する、特に
ディスク状の磁気記録媒体とその製造方法に関する。
先行技術とその問題点
ディスク状の磁気記録媒体としては、いわゆるフロッピ
ーディスクとし、て、種々のものが実用化されている。
ーディスクとし、て、種々のものが実用化されている。
このようなディスク状の媒体は、その使用に際して
、媒体を回転させながら、ディスク周方向に磁気ヘッド
を摺接させて記録・+Il生を行うものであり、そのた
め、例えば々V体の磁性層中に含有される磁性粉が一定
方向に配向していれば、ディスクの回転に伴なって、最
大出力と最小出力が交互にあられれる、いわゆるモジュ
レーションと呼ばれる出力変動が生じる。
、媒体を回転させながら、ディスク周方向に磁気ヘッド
を摺接させて記録・+Il生を行うものであり、そのた
め、例えば々V体の磁性層中に含有される磁性粉が一定
方向に配向していれば、ディスクの回転に伴なって、最
大出力と最小出力が交互にあられれる、いわゆるモジュ
レーションと呼ばれる出力変動が生じる。
このようなモジュレーションは上記の針状磁性粉の配向
度等に起因しており、変動が大きくなると、媒体に記録
された情報の正確な読みとりができなくなって、実用ト
好ましくない。
度等に起因しており、変動が大きくなると、媒体に記録
された情報の正確な読みとりができなくなって、実用ト
好ましくない。
この場合、通常、モジュレーションは、最大振幅のトラ
ック平均と最大振幅のトラック平均をそれぞれAおよび
Bとしたとき、(A −B)/ (A+B) X 10
0%で算出される。
ック平均と最大振幅のトラック平均をそれぞれAおよび
Bとしたとき、(A −B)/ (A+B) X 10
0%で算出される。
他方、出力変動には、このモジュレーションの他、バイ
パスモジュレーションと呼ばれているものがある。 こ
のバイパスモジュレーションは、主に表面性に起因した
出力変動があり、第1図に示されるように、振幅の最大
値A′と最小値B′との差のトラック平均としての値を
要因とする出力変動比率である。
パスモジュレーションと呼ばれているものがある。 こ
のバイパスモジュレーションは、主に表面性に起因した
出力変動があり、第1図に示されるように、振幅の最大
値A′と最小値B′との差のトラック平均としての値を
要因とする出力変動比率である。
そして、このバイパスモジュレーションも小さいほど好
ましい。
ましい。
また、さらにディスク状の媒体は前述したように通常磁
気ヘッドのフロント面と摺動しながら回転しており、そ
の回転数は、数百r、p、m以に、場合によっては数千
r、p、mの高速回転数で用いられることもある。 そ
のため媒体の摩耗・劣化等がはげしく、時として信頼性
の低下の大きな要因となりうる。 従って媒体の耐久性
の改4は強く要望されており、耐久性向−ヒのために種
々の提案がなされているが未だ不十分である。
気ヘッドのフロント面と摺動しながら回転しており、そ
の回転数は、数百r、p、m以に、場合によっては数千
r、p、mの高速回転数で用いられることもある。 そ
のため媒体の摩耗・劣化等がはげしく、時として信頼性
の低下の大きな要因となりうる。 従って媒体の耐久性
の改4は強く要望されており、耐久性向−ヒのために種
々の提案がなされているが未だ不十分である。
II 発明の目的
本発明の[」的は、出力変動、特にバイパスモジュレー
ションが小さくしかも1耐久性に優れたた磁気記録媒体
を提供することにある。
ションが小さくしかも1耐久性に優れたた磁気記録媒体
を提供することにある。
■ 発明の[JR示
このような[目的は、下記の本発明によって達成される
。
。
すなわち、第1の発明は非磁性支持体上に、針状磁性粉
とバインダーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体
において、 1−記磁性層に、羽均細孔面積6 X 10−5〜7X
IO−’grrr’の細孔を設けたことを特徴とする磁
気記録媒体である。
とバインダーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体
において、 1−記磁性層に、羽均細孔面積6 X 10−5〜7X
IO−’grrr’の細孔を設けたことを特徴とする磁
気記録媒体である。
また、第2の発明は非磁性支持体上に、針状磁性粉とバ
インダーとを含有する磁性層を塗設した後、磁性層に、
平均細孔面積6 X 10−5〜7X10−’prn’
の細孔が形成されるようにランダム配向を行うことを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
インダーとを含有する磁性層を塗設した後、磁性層に、
平均細孔面積6 X 10−5〜7X10−’prn’
の細孔が形成されるようにランダム配向を行うことを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
第3の発明は非磁性支持体上に、針状磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体において、 北記磁性層に、平均細孔面積6 X 10−5〜7XI
O”pm”の細孔を設け、しかもこの細孔内に、潤滑剤
を存在させたことを特徴とする磁気記録媒体である。
ーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体において、 北記磁性層に、平均細孔面積6 X 10−5〜7XI
O”pm”の細孔を設け、しかもこの細孔内に、潤滑剤
を存在させたことを特徴とする磁気記録媒体である。
第4の発明は非磁性支持体上に、針状磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を塗設した後、磁性層に、平均細
孔面積6 X 10−5〜7×10’grn’の細孔が
形成されるようにランダム配向を行い、しかる後、この
細孔内に潤滑剤を含浸させることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。
ーとを含有する磁性層を塗設した後、磁性層に、平均細
孔面積6 X 10−5〜7×10’grn’の細孔が
形成されるようにランダム配向を行い、しかる後、この
細孔内に潤滑剤を含浸させることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、針状磁性
粉とバインダーとを含有する磁性層を有し、この磁性層
表面には、平均細孔面積6 X 10−5〜7XIO−
’鋳ゴより好ましくは2×〜10−3〜7 X I O
−’ルゴの細孔が多数存在するものである。
粉とバインダーとを含有する磁性層を有し、この磁性層
表面には、平均細孔面積6 X 10−5〜7XIO−
’鋳ゴより好ましくは2×〜10−3〜7 X I O
−’ルゴの細孔が多数存在するものである。
そして、磁性層の総体積に対するこれら細孔の総体積の
比率である気孔率は、5〜30%。
比率である気孔率は、5〜30%。
より好ましくは15〜30%の範囲内にあることが好ま
しい。
しい。
ゼ均細孔面積が6X10−Jtm”未満の場合は耐久性
が悪化してしまう、 また、平均細孔面積が7X10’
grn’をこえると、出力変動、特にバイパスモジュレ
ーションが大きくなり、ドロップアウトも増大する。
が悪化してしまう、 また、平均細孔面積が7X10’
grn’をこえると、出力変動、特にバイパスモジュレ
ーションが大きくなり、ドロップアウトも増大する。
また、気孔率が30%をこえると表面平滑性が悪くなり
、電磁変換特性上好ましくなく、また、5%未満になる
と媒体の使用時における衝4!!緩和効果がなくなって
耐久性がわるくなってしまう。
、電磁変換特性上好ましくなく、また、5%未満になる
と媒体の使用時における衝4!!緩和効果がなくなって
耐久性がわるくなってしまう。
ヒ記平均細孔面積の測定方法としては、電子顕微鏡法[
操作形顕微鏡(SEM)]を用いて磁性層表面を写真撮
影し、写し出された細孔をそれぞれ面積分してそれらの
平均値をもって、平均細孔面積とする。
操作形顕微鏡(SEM)]を用いて磁性層表面を写真撮
影し、写し出された細孔をそれぞれ面積分してそれらの
平均値をもって、平均細孔面積とする。
この方法についてさらに詳しく述べると、試料の磁性層
表面において、一つの視野を選び5000−10000
倍程度で観察する。 そして、−視野中の細孔面積を測
定する。
表面において、一つの視野を選び5000−10000
倍程度で観察する。 そして、−視野中の細孔面積を測
定する。
この場合、測定に際しては、テレビカメラを用い画像解
析を行ってもよい。
析を行ってもよい。
画像解析に際しては、画面を所定の画素に分解し、しか
も画素の階調を16階階調度に分割し、その細孔階調の
画素のみを黒とし、他の階調のものを白とし、このよう
にした画像から平均細孔面積を求めればよい。 画素を
階調分解するのは、他の分散物による測定ミスをなくす
ためである。
も画素の階調を16階階調度に分割し、その細孔階調の
画素のみを黒とし、他の階調のものを白とし、このよう
にした画像から平均細孔面積を求めればよい。 画素を
階調分解するのは、他の分散物による測定ミスをなくす
ためである。
また、気孔率は下記のような水銀圧入法で行うことが好
ましい。
ましい。
すなわち、公知の水銀圧入性細孔径測定装置を用い、水
銀中に試料を入れ、圧力を印加して、水銀減量と圧力と
の関係を求める。 いま、圧力Pと細孔半径rとは、表
面張力をσ、接触角を0としたとき、r=−2σcas
O/Pの関係をもつ、 そこで、水銀域?と圧力との関
係から、縦軸に細孔分布量(%)をとり、細孔径2rの
相対的累積曲線をプロットし、さらにこの累積曲線を微
分する。
銀中に試料を入れ、圧力を印加して、水銀減量と圧力と
の関係を求める。 いま、圧力Pと細孔半径rとは、表
面張力をσ、接触角を0としたとき、r=−2σcas
O/Pの関係をもつ、 そこで、水銀域?と圧力との関
係から、縦軸に細孔分布量(%)をとり、細孔径2rの
相対的累積曲線をプロットし、さらにこの累積曲線を微
分する。
この場合1通常機分曲線にはいくつかのピークが現出す
るが、通常、それらのうち何本かは、前述の電子顕′I
&鏡法による値とかけはなれたところに現出するもので
あり、またその強度は小さく、このため、最も大きいピ
ークを平均細孔面積πr2とし、気孔率を下記のように
して求める。
るが、通常、それらのうち何本かは、前述の電子顕′I
&鏡法による値とかけはなれたところに現出するもので
あり、またその強度は小さく、このため、最も大きいピ
ークを平均細孔面積πr2とし、気孔率を下記のように
して求める。
すなわち
である。
このように磁性層に設けられた細孔は1通常、均一な形
状ではなく、種々の形状をなしている。 そして、この
ようA″劃孔、主として後述する製造工程中におけるラ
ンダム配向化によって形成される。
状ではなく、種々の形状をなしている。 そして、この
ようA″劃孔、主として後述する製造工程中におけるラ
ンダム配向化によって形成される。
ランダム配向は、例えば磁性層の硬化前に支持体の幅方
向に磁場をかけたり、あるいは交番磁場をかけたり等す
ることによって行う。 このランダム配向により、塗布
により、支持体長手方向に機械的に自然配向する磁性粉
は、支持体長手方向以外の磁場を与えられ、自然配向の
配向方向をランダム化させられるとともに、強制的に磁
性層に前述したような細孔が形成される。
向に磁場をかけたり、あるいは交番磁場をかけたり等す
ることによって行う。 このランダム配向により、塗布
により、支持体長手方向に機械的に自然配向する磁性粉
は、支持体長手方向以外の磁場を与えられ、自然配向の
配向方向をランダム化させられるとともに、強制的に磁
性層に前述したような細孔が形成される。
なお、このようなランダム配向化処理としては、例えば
、特開間第54−159204号、同第57−1985
45号、同第57−189344号、同第57−189
345号、同第58−141446号、同第60−12
4029号、同第60−1387373号、特願昭部6
0−228530号等に記載の方法が適用できる。
、特開間第54−159204号、同第57−1985
45号、同第57−189344号、同第57−189
345号、同第58−141446号、同第60−12
4029号、同第60−1387373号、特願昭部6
0−228530号等に記載の方法が適用できる。
このようなランダム配向の結果として、支持体の長手方
向および幅方向の残留磁束密度を、それぞれφr およ
びφrTDとしたとき、D φr /φrTDの値は、はぼ1.特に0.9〜O 1,05程度となる。
向および幅方向の残留磁束密度を、それぞれφr およ
びφrTDとしたとき、D φr /φrTDの値は、はぼ1.特に0.9〜O 1,05程度となる。
また、角形比の比(φr/φm)Mo/(φr/φm)
7.もほぼ同様な値を示す。
7.もほぼ同様な値を示す。
なお、磁性層中に含有される磁性粉は二次粒子を形成し
てもよい。
てもよい。
本発明においては、磁性粉の含有着はバインダー100
屯縫部に対して100〜900毛寸部、より好ましくは
150〜600i%部である。
屯縫部に対して100〜900毛寸部、より好ましくは
150〜600i%部である。
さらにこのように磁性層表面につくられた細孔内には、
後述するような潤滑剤を含浸させることが好ましい。
後述するような潤滑剤を含浸させることが好ましい。
こうすることによって、媒体の耐久性は格段と向」−す
る、 この場合、磁性層上に、潤滑剤を含有するトップ
コート層を設けると同時に細孔内に含浸させるのが好適
であるが、必要に応じて細孔内にのみ潤滑剤をとり込ま
せるようにしてもよい、 細孔内に潤滑剤を含浸させる
には、公知の種々の方法に従えばよく1例えば、潤滑剤
溶液をオーバーコートしたり、それをロール圧延したり
、加熱含浸させたりすればよい。
る、 この場合、磁性層上に、潤滑剤を含有するトップ
コート層を設けると同時に細孔内に含浸させるのが好適
であるが、必要に応じて細孔内にのみ潤滑剤をとり込ま
せるようにしてもよい、 細孔内に潤滑剤を含浸させる
には、公知の種々の方法に従えばよく1例えば、潤滑剤
溶液をオーバーコートしたり、それをロール圧延したり
、加熱含浸させたりすればよい。
用いる潤滑剤としては、公知の種々の潤滑剤の中で、特
に脂肪酸および/または脂肪酸ニスそしt−’Mいるの
が好ましい、 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、ステア
リン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノー
ル酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数8以にの脂
肪酸(RCOOH,Rは炭素数11以上のアル午ル基)
であり、なかでも、オレイン酸、エライジン酸、リノー
ル酸、リルン酸、ステア0−ル酸等の不飽和脂肪酸が好
適である。 また、脂肪酸エステルとしては、炭素数1
0〜22個の一塩基性の不飽和ないし飽和の脂肪酸と炭
素数3〜22個の一価の飽和ないし不飽和のアルコール
とからなる脂肪酸エステル等が好ましい。
に脂肪酸および/または脂肪酸ニスそしt−’Mいるの
が好ましい、 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、ステア
リン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノー
ル酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数8以にの脂
肪酸(RCOOH,Rは炭素数11以上のアル午ル基)
であり、なかでも、オレイン酸、エライジン酸、リノー
ル酸、リルン酸、ステア0−ル酸等の不飽和脂肪酸が好
適である。 また、脂肪酸エステルとしては、炭素数1
0〜22個の一塩基性の不飽和ないし飽和の脂肪酸と炭
素数3〜22個の一価の飽和ないし不飽和のアルコール
とからなる脂肪酸エステル等が好ましい。
エステルにおける脂肪酸および/またはアルコールの脂
肪族鎖は飽和でも不飽和であってもよく、n一体、i一
体等種々のものであってよい。
肪族鎖は飽和でも不飽和であってもよく、n一体、i一
体等種々のものであってよい。
なお、これらは2種以上、併用してもよい。
なお、その他の潤滑剤として、前記脂肪酸のアルカリ金
属またはアルカリ土類金属からなる全屈石鹸、シリコー
ンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等も使用可能である。
属またはアルカリ土類金属からなる全屈石鹸、シリコー
ンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等も使用可能である。
用いる潤滑剤iJは、磁性粉100屯ψ部に対して総計
20屯jl¥部以下、特にO91〜15毛品一部とする
・ そして、潤滑剤は磁性層中に含有される他、全細孔の1
0vo1%以」−1特に30−130マ01%に充填な
いし含浸されていることが好ましい。
20屯jl¥部以下、特にO91〜15毛品一部とする
・ そして、潤滑剤は磁性層中に含有される他、全細孔の1
0vo1%以」−1特に30−130マ01%に充填な
いし含浸されていることが好ましい。
なお、この値が100 701%をこえる場合は、全気
孔に上記潤滑剤が完全に充填され、さらに余剰の謂滑剤
が磁性層表面に存在することを意味するものである。
孔に上記潤滑剤が完全に充填され、さらに余剰の謂滑剤
が磁性層表面に存在することを意味するものである。
本発明で用いる非磁性支持体としては、通常、可どう性
のある樹脂を用い、ポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、
セルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレ
ンナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル
等の各種樹脂が用いられる。
のある樹脂を用い、ポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、
セルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレ
ンナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル
等の各種樹脂が用いられる。
これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。
リイミド等を用いることが好ましい。
また、磁性層中に含有される磁性粉としては、金属磁性
粉、γ−Fe203.コバルト被着酸化鉄等を用いるこ
とができる。
粉、γ−Fe203.コバルト被着酸化鉄等を用いるこ
とができる。
このうち、金属磁性粉としては、
1 ) a −F e 00 H(Goethite)
。
。
β−F e OOH(Akaganite)、 y −
F e 0OH(Lepidocrocite)等のオ
キシ水酸化鉄や;a−Fe2 03 、y−Fe 2
02 。
F e 0OH(Lepidocrocite)等のオ
キシ水酸化鉄や;a−Fe2 03 、y−Fe 2
02 。
Fe2O2、y−Fe203−Fe203 (固溶体
)等の酸化鉄や; Co、Mn、Ni、Ti、Bi 、Bo、Agkgの金
属の1つまたは2つ以上がドープされ、その表面にアル
ミニウム化合物またはケイ素化合物を吸着、被着したも
のを、還元性ガス気流中で加熱還元して、鉄または鉄を
主成分とする磁性粉末を製造する方法、 2)金属塩水溶液よりNaBH4により液相還元して作
製する方法、 3)あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を店売
させて作製する方法等により得られる。
)等の酸化鉄や; Co、Mn、Ni、Ti、Bi 、Bo、Agkgの金
属の1つまたは2つ以上がドープされ、その表面にアル
ミニウム化合物またはケイ素化合物を吸着、被着したも
のを、還元性ガス気流中で加熱還元して、鉄または鉄を
主成分とする磁性粉末を製造する方法、 2)金属塩水溶液よりNaBH4により液相還元して作
製する方法、 3)あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を店売
させて作製する方法等により得られる。
金属磁性粉の組成としては、Fe、Co。
Niの単体および、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Cr、Mn、Go。
および合金に、Cr、Mn、Go。
Ni、さらにはZn、Cu、Zr、Al。
Ti、Bi、Ag、Pt等を添加した金属が使用できる
。
。
また、これらの金属にB、C,Si 、P、Nなどの非
金属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われ
ない。
金属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われ
ない。
あるいは、Fe4N等、一部室化ないし炭化された金属
磁性粉であってもよい。
磁性粉であってもよい。
さらに、金属磁性粉は、粒子表面に酸化被膜を有するも
のであってもよい。
のであってもよい。
このような酸化被膜をもつ金属磁性粉を用いた磁気記録
媒体は、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低下、
磁性層のサビの発生による特性劣化に有利であるが、磁
性層の電気抵抗が(−Hし、使用時の帯電によるトラブ
ルを生じやすい。
媒体は、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低下、
磁性層のサビの発生による特性劣化に有利であるが、磁
性層の電気抵抗が(−Hし、使用時の帯電によるトラブ
ルを生じやすい。
金属磁性粉は、磁気ディスクに使用する場合は針状形態
のものが好ましい。
のものが好ましい。
また、γ−Fe2O3分としては、α−F e OOH
(geothite)を400℃以上で脱水して(x−
Fe203 とし、H2ガス中、で350℃以上で還元
してFe3O4とし、さらに250℃以下で酸化して作
製したものを用いればよい。
(geothite)を400℃以上で脱水して(x−
Fe203 とし、H2ガス中、で350℃以上で還元
してFe3O4とし、さらに250℃以下で酸化して作
製したものを用いればよい。
コバルト被、?7酸化鉄粉としては、γ−F8203粒
子の表面から数10λ以内のごく薄い屑にCo2+を拡
散させたものを用いればよい。
子の表面から数10λ以内のごく薄い屑にCo2+を拡
散させたものを用いればよい。
なお、磁性粉は、平均長軸径が2鉢■以下。
特に0.001−1p、平均長軸径/平均短軸径で表わ
される軸比が3以上、特に5〜15の形状異方性を有す
る針状磁性粉である。 軸比3未満のものは、媒体とし
て使用した場合型物り好ましくない。
される軸比が3以上、特に5〜15の形状異方性を有す
る針状磁性粉である。 軸比3未満のものは、媒体とし
て使用した場合型物り好ましくない。
バインダーとしては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂
、反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。
、反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。
放射線硬化性樹脂を用いる場合、その具体例としては、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物のよ
うなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのような
アリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の
不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥
する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹
脂である。 その池数射線照射により架橋重合する不飽
和二重結合を有する化合物であれば用いることができる
。
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物のよ
うなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのような
アリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の
不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥
する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹
脂である。 その池数射線照射により架橋重合する不飽
和二重結合を有する化合物であれば用いることができる
。
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂としては、樹
脂中にマレイン酸やフマル酸等を含有するもので、その
含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中
1〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂としては、樹
脂中にマレイン酸やフマル酸等を含有するもので、その
含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中
1〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。
は、次のようなものを挙げることができる。
111化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール
共重合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体
、塩化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビ
ニール共屯合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルア
ルコール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビ
ニール−末端OH@鎖アルキル基共重合体、例えばUC
C社製VROH,VYNClVYEGX、VERR,V
YES、VMCA、VAGH,UCARMAG520.
UCARMAG528等が挙げらる。
共重合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体
、塩化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビ
ニール共屯合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルア
ルコール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビ
ニール−末端OH@鎖アルキル基共重合体、例えばUC
C社製VROH,VYNClVYEGX、VERR,V
YES、VMCA、VAGH,UCARMAG520.
UCARMAG528等が挙げらる。
そして、このものにアクリル系二重結合、マレイン酸系
二屯結合、アリル系二屯結合を導入して放射線感応変性
を行う。
二屯結合、アリル系二屯結合を導入して放射線感応変性
を行う。
これらはカルボン酸を含有してもよい。
この他、飽和ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘
導体等が好適である。
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘
導体等が好適である。
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官部ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共改合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
ては、多官部ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共改合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
そして、これらは単独で、あるいは2種以上併用して用
いられる。
いられる。
エラストマーもしくはプレポリマーも使用でき、その好
適例としては、ポリウレタンエラストマーもしくはプレ
ポリマーがある。
適例としては、ポリウレタンエラストマーもしくはプレ
ポリマーがある。
ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および支持体1例えば
PETフィルムへの接着性が良い点で特に有効である。
PETフィルムへの接着性が良い点で特に有効である。
ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとして
、2.4−1ルエンジイソシアネート、2.6−)ルエ
ンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネー
ト、1.4−キシレンジイソシアネート、l。
、2.4−1ルエンジイソシアネート、2.6−)ルエ
ンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネー
ト、1.4−キシレンジイソシアネート、l。
5−ナフタレンジイソシアネート。
m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4.4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、3.3′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネー)、4.4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールし、デスモジュールNlの
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル(エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン
、トリメチロールプロパン、1.4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソル
ビトール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘ
キサンジメタツールの様な多価アルコールと、フタル酸
、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジビ刈1
セバシン酸の様な飽和多墳基酸との縮重合によるもの)
、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタンエ
ラストマー、プレポリマーが有効である。
ソシアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4.4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、3.3′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネー)、4.4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールし、デスモジュールNlの
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル(エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン
、トリメチロールプロパン、1.4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソル
ビトール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘ
キサンジメタツールの様な多価アルコールと、フタル酸
、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジビ刈1
セバシン酸の様な飽和多墳基酸との縮重合によるもの)
、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタンエ
ラストマー、プレポリマーが有効である。
これらのウレタンエラストマーの末端のインシアネート
)5または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル
系二重結合等を有する単量体とを反応させることにより
、放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
)5または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル
系二重結合等を有する単量体とを反応させることにより
、放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有す
るものも含む。
るものも含む。
さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
ヒ述の7クリロ変性塩化ビニル系共刊合体とのこれらウ
レタンエラストマーの併用は、配向度および而粗れの改
良に特に好適である。
レタンエラストマーの併用は、配向度および而粗れの改
良に特に好適である。
この他、アクリロニトリル−ブタジェン共屯合エラスト
マー、ポリブタジェンエラストマーも好適である。
マー、ポリブタジェンエラストマーも好適である。
またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
この他、各種放射線硬化性不飽和二重結合を有するオリ
ゴマー、七ツマ−も好適に用いられる。
ゴマー、七ツマ−も好適に用いられる。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子FB: I O、000〜200.000.徹合度2
00〜2.000程度のもので、 例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体(カルボン
酸導入のものも含む)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体(カルボン酸導入のものも含む)
、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニー
ルーアククリロニトリル共刊合体、アクリル酸エステル
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩
化ビニリデン共眞合体、アクリル酸エステル−スチレン
共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共
重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニルデン共東合
体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウレタ
ンエラストマー、ナイロン−シリコン系m l?It、
ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル
、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジ
ェン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポ
リビニールブチラール、セルロース誘導体(セルロース
アセテート、セルロースダイアセテート、セルロースト
リアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセル
ロース等)、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリエス
テル樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸工艮チル
共屯合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂およびこれらの混合物が使用される。
子FB: I O、000〜200.000.徹合度2
00〜2.000程度のもので、 例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体(カルボン
酸導入のものも含む)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体(カルボン酸導入のものも含む)
、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニー
ルーアククリロニトリル共刊合体、アクリル酸エステル
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩
化ビニリデン共眞合体、アクリル酸エステル−スチレン
共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共
重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニルデン共東合
体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウレタ
ンエラストマー、ナイロン−シリコン系m l?It、
ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル
、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジ
ェン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポ
リビニールブチラール、セルロース誘導体(セルロース
アセテート、セルロースダイアセテート、セルロースト
リアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセル
ロース等)、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリエス
テル樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸工艮チル
共屯合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂およびこれらの混合物が使用される。
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗7Ii液の
状態では200000以下の分子賃であり、塗布、乾煙
後に加熱することにより、1a合、付加等の反応により
分子址が無限大のものとなる。 また、これらの樹脂の
なかで、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶
融しないものが好ましい。
状態では200000以下の分子賃であり、塗布、乾煙
後に加熱することにより、1a合、付加等の反応により
分子址が無限大のものとなる。 また、これらの樹脂の
なかで、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶
融しないものが好ましい。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
着ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール/高分子品−
ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混
合物など、F記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物
などの架橋剤との混合物、)IJ 化ビニルー酢酸ビニ
ル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニルアル
コール−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル
、ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重
合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セル
ロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との
混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系
と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好適で
ある。
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
着ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール/高分子品−
ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混
合物など、F記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物
などの架橋剤との混合物、)IJ 化ビニルー酢酸ビニ
ル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニルアル
コール−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル
、ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重
合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セル
ロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との
混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系
と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好適で
ある。
このような、熱硬化性樹脂を硬化するには。
一般に加熱オーブン中で50〜80℃にて6〜100時
間加熱すればよい。
間加熱すればよい。
1−述したようなバインダーの中で、耐久性および磁性
層との接着強度を向丘させるには、特に放射線硬化性樹
脂を含有させることが好ましい。
層との接着強度を向丘させるには、特に放射線硬化性樹
脂を含有させることが好ましい。
このような放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いた
場合、磁性塗膜の架橋に使用する活性エネルギー線とし
ては、電子線加速器を線源とした電子iQ、Co60を
線源としたγ−線、Sr 90を線源としたβ−線、
X線発生窓を線源としたX線等が使用される。
場合、磁性塗膜の架橋に使用する活性エネルギー線とし
ては、電子線加速器を線源とした電子iQ、Co60を
線源としたγ−線、Sr 90を線源としたβ−線、
X線発生窓を線源としたX線等が使用される。
特に、照射線源としては、吸収線量の制御。
製造工程ラインへの導入、電離放射線のし轡閉等の見地
から電子線加速器による電子線を使用する方法が有利で
ある。
から電子線加速器による電子線を使用する方法が有利で
ある。
磁性塗膜を硬化する際に使用する電子線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV、好マシく
は150〜300KV(7)電子線加速器を用い、吸収
線量を0.5〜20メガラツドになるように照射するの
が好都合である。
透過力の面から加速電圧100〜750KV、好マシく
は150〜300KV(7)電子線加速器を用い、吸収
線量を0.5〜20メガラツドになるように照射するの
が好都合である。
また、放射線架橋に際しては、H2ガス、Heガス等の
不活性ガス気流中で放射線を記録媒体に照射することが
屯要であり、磁性塗膜のように非常に磁性粒子充填度の
高い塗膜は、非常に多孔質となっている為に、空気中で
放射線を照射することは、バインダー成分の架橋に際し
、放射線照射により生じた03等の影響でポリマー中に
生じたラジカルが有効に架橋反応に働くことを阻害する
。
不活性ガス気流中で放射線を記録媒体に照射することが
屯要であり、磁性塗膜のように非常に磁性粒子充填度の
高い塗膜は、非常に多孔質となっている為に、空気中で
放射線を照射することは、バインダー成分の架橋に際し
、放射線照射により生じた03等の影響でポリマー中に
生じたラジカルが有効に架橋反応に働くことを阻害する
。
その影響は磁性層表面は当然として、多孔質のため塗膜
内部までバインダー架橋阻害の影響を受ける。
内部までバインダー架橋阻害の影響を受ける。
番。τ ′1刀性工ムルギー凶をIN(討すA岬分の雰
囲気は特に酸素濃度が最大で1%のN2゜He、Co2
等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
囲気は特に酸素濃度が最大で1%のN2゜He、Co2
等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
なお、磁性塗膜の硬化に際して、紫外線を用いる場合、
上述したような、放射線硬化型化合物の中には、光重合
増感剤が加えられる。
上述したような、放射線硬化型化合物の中には、光重合
増感剤が加えられる。
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく1例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−グロルデオキシベンゾ
イン等のヘンツイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラギノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィト類、等を挙げることができる。
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜l Q 改
4%の範囲が望ましい。
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−グロルデオキシベンゾ
イン等のヘンツイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラギノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィト類、等を挙げることができる。
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜l Q 改
4%の範囲が望ましい。
紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外!a電球等を用いればよい。
の紫外!a電球等を用いればよい。
磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。
無機顔料としては、1)導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た2)無機充填剤としてS io2.TiO2,AlI
303 。
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た2)無機充填剤としてS io2.TiO2,AlI
303 。
Cr203 、 S iC,Cab、 CaCO3、酸
化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe203.タルク、カオリ
ン、CaSO4,窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブ
デン、ZnS等がある。
化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe203.タルク、カオリ
ン、CaSO4,窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブ
デン、ZnS等がある。
またこの他、次のような微粒子顔料(エアロジルタイプ
、コロイダルタイプ):5i02、A1203 、Ti
O2、ZrO2。
、コロイダルタイプ):5i02、A1203 、Ti
O2、ZrO2。
Cr203 、Y203 、CeO2、Fe304 、
Fe203 、ZrS i04 。
Fe203 、ZrS i04 。
5b205 、SnO2等も用いられる。 これら微粒
子顔料は、例えばS i 02の場合。
子顔料は、例えばS i 02の場合。
■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、8産化学)、■精製四
塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シ
リカ(標準品100人)(アエロジル、EJ本アエロジ
ル株式会社)などが挙げられる。 また、前記■の超微
粒子コロイド溶液および(りと同様の気相法で製造され
る超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタンお
よび前述の微粒子顔料が使用され(!トる。 この様な
無機顔料の使用列は1)に関しては磁性粉loo屯1部
に対して1〜30屯針部、また2)に関しては1〜30
屯に部が適当であり、これらがあまり多くなると、塗膜
がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなるとい
う欠点がある。
水系、メタノールシリカゾル等、8産化学)、■精製四
塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シ
リカ(標準品100人)(アエロジル、EJ本アエロジ
ル株式会社)などが挙げられる。 また、前記■の超微
粒子コロイド溶液および(りと同様の気相法で製造され
る超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタンお
よび前述の微粒子顔料が使用され(!トる。 この様な
無機顔料の使用列は1)に関しては磁性粉loo屯1部
に対して1〜30屯針部、また2)に関しては1〜30
屯に部が適当であり、これらがあまり多くなると、塗膜
がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなるとい
う欠点がある。
また、無機顔料の径についてはl)に関しては0.1g
曹以下、さらには0 、osJL鳳以下が好ましく、2
)に関しては0.7終層以下、さらには0.05g層以
下が好ましい。
曹以下、さらには0 、osJL鳳以下が好ましく、2
)に関しては0.7終層以下、さらには0.05g層以
下が好ましい。
さらに、磁性塗料には、溶剤、分散剤および前述したよ
うな潤滑剤等が含まれていてもよい。
うな潤滑剤等が含まれていてもよい。
溶剤としては特にルf限はないが、バインダーの溶解性
および相溶性等を考慮して適宜選択される。
および相溶性等を考慮して適宜選択される。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を弔−溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を弔−溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。
これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t%、特に100〜5000wt%の割合で用いる。
t%、特に100〜5000wt%の割合で用いる。
本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体」−にグラビアコート、リバース
ロールコート、エアーナイフコート、エアードクターコ
ート、ブレードコート、キスコート、スプレーコートな
どの手法を用いて塗布し、好ましくは、製造工程中で磁
性塗料内の剪断応力によって発生する磁性粉の機械的配
向をうちけすように、例えば前述したように磁性層の硬
化前に支持体幅方向に磁場をかけたり、あるいは交番磁
場をかけたり等することによって、磁性層中に所望の細
孔を強制的につくる。
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体」−にグラビアコート、リバース
ロールコート、エアーナイフコート、エアードクターコ
ート、ブレードコート、キスコート、スプレーコートな
どの手法を用いて塗布し、好ましくは、製造工程中で磁
性塗料内の剪断応力によって発生する磁性粉の機械的配
向をうちけすように、例えば前述したように磁性層の硬
化前に支持体幅方向に磁場をかけたり、あるいは交番磁
場をかけたり等することによって、磁性層中に所望の細
孔を強制的につくる。
その後、乾燥処理、好ましくは常法に従い放射線硬化す
ればよい。 しかる後、上述したような強制的につく
られた細孔内に、l二足の潤滑剤溶液をオーバーコート
したり、それをロール圧延したり加熱含浸させればよい
。 そして必要に応じて種々の公知のトップコート等を
設けてもよい。
ればよい。 しかる後、上述したような強制的につく
られた細孔内に、l二足の潤滑剤溶液をオーバーコート
したり、それをロール圧延したり加熱含浸させればよい
。 そして必要に応じて種々の公知のトップコート等を
設けてもよい。
■ 発明の具体的作用効果
本発明によれば、磁性層中に針状磁性粉を含右し、平均
細孔面積6X10−5〜7X10−1の細孔が好ましく
は気孔率5〜30%の範囲で形成されている。
細孔面積6X10−5〜7X10−1の細孔が好ましく
は気孔率5〜30%の範囲で形成されている。
そして、さらにより好ましい態様として、この細孔内に
潤滑剤が含浸されるために、得られた々y体は出力変動
、特に、前記のバイパスモジュレーションが小さく、し
かも耐久性が格段と優れたものとなる。
潤滑剤が含浸されるために、得られた々y体は出力変動
、特に、前記のバイパスモジュレーションが小さく、し
かも耐久性が格段と優れたものとなる。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
[¥施例1]
(磁性塗料l)
コバルト被着γ−Fe203
(長軸0.4μ腸、短軸0.005牌層、Hc 60
0 0e) 120重量部カーボンブラック (帯電防1ト用、三菱カーボンブラックMA−600)
5@量部α−AM203粉末(0
,5牌層粒状)2 屯tl′: 部 分散剤(太σ精製レシチン) 3屯場部溶剤(
メチルエチルケトン/トルエン 50150) 100屯r、)部L−記
組成物をボールミル中にて3時間混合し、針状磁性酸化
鉄を分散剤によりよく湿潤させた。
0 0e) 120重量部カーボンブラック (帯電防1ト用、三菱カーボンブラックMA−600)
5@量部α−AM203粉末(0
,5牌層粒状)2 屯tl′: 部 分散剤(太σ精製レシチン) 3屯場部溶剤(
メチルエチルケトン/トルエン 50150) 100屯r、)部L−記
組成物をボールミル中にて3時間混合し、針状磁性酸化
鉄を分散剤によりよく湿潤させた。
次に、バインダーとして
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸1%含有; MW40,000) 6重機部(固型分換算)
、 アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体(マレイン酸含有:u: MW20.000) 12爪賃部(固型分
換算)、 アクリル二π結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9屯場部(固型分換ri)。
マレイン酸1%含有; MW40,000) 6重機部(固型分換算)
、 アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体(マレイン酸含有:u: MW20.000) 12爪賃部(固型分
換算)、 アクリル二π結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9屯場部(固型分換ri)。
ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部
溶剤(MEK/ トルx7 : 50150)200重
一部 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2@量部 を混合溶解させた。
一部 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2@量部 を混合溶解させた。
これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。
び42時間混合分散させた。
このようにして得られた磁性塗料を媒体の磁性層の原料
とし、厚さ75ル履のポリエステル(PET)フィルム
上に乾燥厚2.OILmになるようにリバースロールコ
ートを用いて塗布し、その後、ソレノイドコイル交流5
0〜1000Gの範囲内で種々の磁場処理を行った。
とし、厚さ75ル履のポリエステル(PET)フィルム
上に乾燥厚2.OILmになるようにリバースロールコ
ートを用いて塗布し、その後、ソレノイドコイル交流5
0〜1000Gの範囲内で種々の磁場処理を行った。
その後、バインダーはESI社製エレクトロンカーテン
タイプ電子線加速装置を使用して加速%[F圧150K
eV、電極電流20mA、全照射@ 5 M r a
dの条件下でN2雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。
タイプ電子線加速装置を使用して加速%[F圧150K
eV、電極電流20mA、全照射@ 5 M r a
dの条件下でN2雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。
このように塗膜を硬化させた後、3.5”のディスク形
状に打ち抜いて媒体サンプルを作製した。
状に打ち抜いて媒体サンプルを作製した。
なお、磁性層の気孔率をかえるため、上述したような磁
場処理に加えてバインダーと磁性粉との混合比をかえて
表1に示されるようなサンプルを作製した。
場処理に加えてバインダーと磁性粉との混合比をかえて
表1に示されるようなサンプルを作製した。
またさらに、これらの方法に準じて、以下に示すような
磁性塗料を用い、種々の媒体サンプルを作製した。
磁性塗料を用い、種々の媒体サンプルを作製した。
(磁性塗料2)
Fe合金針状磁性粉
(長軸0.3gm、短軸0.04g11、HC1100
、Oe ) 120 il”< IB%8部分散
剤(オレイン酸) 2毛針部溶剤(メチ
ルエチルケトン/トルエン 50150) 100屯場部上記組成物を
強力ミキサーにて3時間混合し、磁性合金粉末を分散剤
によりよく湿潤させる。
、Oe ) 120 il”< IB%8部分散
剤(オレイン酸) 2毛針部溶剤(メチ
ルエチルケトン/トルエン 50150) 100屯場部上記組成物を
強力ミキサーにて3時間混合し、磁性合金粉末を分散剤
によりよく湿潤させる。
次に、バインダーとして、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸1%含有; MW20.000)10t’RI部(171分換算)、
アクリル変性フェノキシ (MW35,000)6東量811(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW
20.000)24重酸部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン; 70/30) 200毛丑部、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル3屯は部、ミリスチン酸ブ
チル3重縫部 の混合物をよく混合溶解させる。
マレイン酸1%含有; MW20.000)10t’RI部(171分換算)、
アクリル変性フェノキシ (MW35,000)6東量811(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW
20.000)24重酸部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン; 70/30) 200毛丑部、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル3屯は部、ミリスチン酸ブ
チル3重縫部 の混合物をよく混合溶解させる。
これを先の磁性性処理物と高速ミキサーにより、1時間
中分混合し、サンドグランドミルを用いて4時間混合分
散を行った。
中分混合し、サンドグランドミルを用いて4時間混合分
散を行った。
(磁性塗料3)
y−Fe203(f軸9 、8 uLas 、短軸0.
24 m 、 Hc 3 0 00 e )
1 2 0 % rp=部カ部子−ボンブラ
ック電防11−川、三菱カーボンブラックMA−600
) a−A1203粉末(0、5gtm粒子)2屯を部 分M剤(ソルビタンモノオレエート) 3千を4部 溶剤(メチルエチルケトン/トルエン 50150) 100RJB部上記組
成物をボールミル中にて3時間混合し、磁性酸化鉄を分
散剤によりよ〈湿潤させる。
24 m 、 Hc 3 0 00 e )
1 2 0 % rp=部カ部子−ボンブラ
ック電防11−川、三菱カーボンブラックMA−600
) a−A1203粉末(0、5gtm粒子)2屯を部 分M剤(ソルビタンモノオレエート) 3千を4部 溶剤(メチルエチルケトン/トルエン 50150) 100RJB部上記組
成物をボールミル中にて3時間混合し、磁性酸化鉄を分
散剤によりよ〈湿潤させる。
次に、バインダーとして、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
ユニオンカーバイド社製UCARMAG 52 B) 15毛縫部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社製ニラポラン3022)
15重量部(固型分換算)。
ユニオンカーバイド社製UCARMAG 52 B) 15毛縫部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社製ニラポラン3022)
15重量部(固型分換算)。
溶剤(MEK/シクロヘキサノンニ
ア 0/30) 200重着部、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル5ffi量部。
脂肪酸変性シリコーンオイル5ffi量部。
および
ミリスチン酸ブチル3セ凌部
を混合溶解させた。
さらに、分散後、磁性塗料中にインシアネート化合物(
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5毛針部(固型
分換算)を加えた。
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5毛針部(固型
分換算)を加えた。
なお、磁性塗料3を用いた場合には、塗膜の硬化手段と
して、放射線闇討を行わず、60℃、24時間の熱処理
・乾帰とした。
して、放射線闇討を行わず、60℃、24時間の熱処理
・乾帰とした。
硬化後の塗膜(磁性層)の厚さは1.5ル■であった・
この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。
これら塗1112をフィルムの両面に形成し、両面コー
トとした。
トとした。
さらに必要に応じて潤滑剤としてオレイン酸とオレイン
酸オレイルをl:1の、1合で混合してこれを磁性層表
面に塗布し、磁性層の細孔内にこの潤滑剤を含浸させた
(サンプルNo、8〜10.13.15)。
酸オレイルをl:1の、1合で混合してこれを磁性層表
面に塗布し、磁性層の細孔内にこの潤滑剤を含浸させた
(サンプルNo、8〜10.13.15)。
なお、磁性層中の潤滑剤含浸漬(マa1%)は表1に示
すとおりであった。
すとおりであった。
このようにして作製した種々の媒体サンプルについて下
記の特性を測定した。
記の特性を測定した。
(1)平均細孔面積(ルrrr’)
上記の電子顕微鏡法[走査型顕微鏡(SEM)]に従っ
て測定を行った。
て測定を行った。
(2)気孔率(%)
上記の水銀圧入法に従った測定値より算出して求めた。
(3)バイパスモジュレーション
第1図に示されるように、振幅の最大値A′と最小値B
′ とのトラック平均としての値を要因とする出力f動
比率を0定し、各々のレベルを下記のように判断した。
′ とのトラック平均としての値を要因とする出力f動
比率を0定し、各々のレベルを下記のように判断した。
レベル区分 判 断 基 準
0 出力変動比率3%以下
(4)1酎久性
0℃から60℃lO%RHまでの温湿度サイクルを加え
て、信号が読取れなくなったパス回数を測定した。
て、信号が読取れなくなったパス回数を測定した。
結果を表1に示す。
なお、全てのサンプルについてモジュレーションを測定
した結果、その値は4%前後であった。 またφr /
φrTDの値はほぼlでO あった。
した結果、その値は4%前後であった。 またφr /
φrTDの値はほぼlでO あった。
表1の結果より本発明の効果が明らかである。
第1図はバイパスモジュレーションを説明するための出
力変動波形を示すものである。 出願人 ティーディーケイ株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 − F I G、 1
力変動波形を示すものである。 出願人 ティーディーケイ株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 − F I G、 1
Claims (9)
- (1)非磁性支持体上に、針状磁性粉とバインダーとを
含有する磁性層を有する磁気記録媒体において、 上記磁性層に、平均細孔面積6×10^−^5〜7×1
0^−^1μm^2の細孔を設けたことを特徴とする磁
気記録媒体。 - (2)磁性層の気孔率が5〜30%である特許請求の範
囲第1項に記載の磁気記録媒体。 - (3)針状磁性粉の軸比が3以上である特許請求の範囲
第1項または第2項に記載の磁気記録媒体。 - (4)媒体の支持体長手方向の残留磁束密度を支持体巾
方向の残留磁束密度で除した値が0.9〜1.05であ
る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載
の磁気記録媒体。 - (5)ディスク状の形状をもつ特許請求の範囲第1項な
いし第4項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - (6)非磁性支持体が可とう性である特許請求の範囲第
5項に記載の磁気記録媒体。 - (7)非磁性支持体上に、針状磁性粉とバインダーとを
含有する磁性層を塗設した後、磁性層に、平均細孔面積
6×10^−^5〜7×10^−^1μm^2の細孔が
形成されるようにランダム配向を行うことを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。 - (8)非磁性支持体上に、針状磁性粉とバインダーとを
含有する磁性層を有する磁気記録媒体において、 上記磁性層に、平均細孔面積6×10^−^5〜7×1
0^−^1μm^2の細孔を設け、しかもこの細孔内に
、潤滑剤を存在させたことを特徴とする磁気記録媒体。 - (9)非磁性支持体上に、針状磁性粉とバインダーとを
含有する磁性層を塗設した後、磁性層に、平均細孔面積
6×10^−^5〜7×10^−^1μm^2の細孔が
形成されるようにランダム配向を行い、しかる後、この
細孔内に潤滑剤を含浸させることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方 法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60277403A JPH0760508B2 (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 磁気記録ディスクおよびその製造方法 |
US06/939,033 US4759954A (en) | 1985-12-10 | 1986-12-08 | Magnetic recording medium and preparation |
DE3642243A DE3642243C2 (de) | 1985-12-10 | 1986-12-10 | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60277403A JPH0760508B2 (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 磁気記録ディスクおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62137718A true JPS62137718A (ja) | 1987-06-20 |
JPH0760508B2 JPH0760508B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=17583058
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60277403A Expired - Fee Related JPH0760508B2 (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 磁気記録ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4759954A (ja) |
JP (1) | JPH0760508B2 (ja) |
DE (1) | DE3642243C2 (ja) |
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US5126215A (en) * | 1988-04-13 | 1992-06-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a surface with pores of specified average inlet diameter and wide pore size distribution controlled by calender treatment |
DE3842635A1 (de) * | 1988-12-17 | 1990-06-21 | Basf Ag | Scheibenfoermige magnetische aufzeichnungstraeger, verfahren zu ihrer herstellung und informationsspeicher, enthaltend diese aufzeichnungstraeger |
JPH03116413A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JP2883229B2 (ja) * | 1990-09-14 | 1999-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
JPH06314446A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-11-08 | Tdk Corp | 光磁気ディスク |
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---|---|---|---|---|
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JPS5654639A (en) * | 1979-10-09 | 1981-05-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture of magnetic disk recording medium |
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---|---|---|---|---|
JPS503926B1 (ja) * | 1968-10-23 | 1975-02-12 | ||
JPS58100B2 (ja) * | 1975-04-11 | 1983-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | ジキキロクタイ |
FR2353110A1 (fr) * | 1976-03-12 | 1977-12-23 | Kodak Pathe | Nouveau produit d'enregistrement magnetique et procede pour sa preparation |
DE3113859A1 (de) * | 1980-04-07 | 1982-01-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Magnetisches aufzeichnungsmaterial |
JPS5990234A (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-24 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
US4546035A (en) * | 1983-06-27 | 1985-10-08 | International Business Machines Corporation | Polymeric additives for magnetic coating materials |
US4626463A (en) * | 1984-09-26 | 1986-12-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Diskette having wear-resistant magnetizable layer |
US4567096A (en) * | 1985-03-21 | 1986-01-28 | Piltingsrud Douglas H | Hydrated alumina binder system |
-
1985
- 1985-12-10 JP JP60277403A patent/JPH0760508B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-12-08 US US06/939,033 patent/US4759954A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-10 DE DE3642243A patent/DE3642243C2/de not_active Expired - Fee Related
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---|---|---|---|---|
JPS53104202A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-11 | Hitachi Ltd | Manufacture of magnetic disc |
JPS5654639A (en) * | 1979-10-09 | 1981-05-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture of magnetic disk recording medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3642243A1 (de) | 1987-06-11 |
DE3642243C2 (de) | 1998-07-09 |
US4759954A (en) | 1988-07-26 |
JPH0760508B2 (ja) | 1995-06-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |