JP2001084551A

JP2001084551A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2001084551A
Application number: JP25808799A
Authority: JP
Inventors: Hideki Sasaki; 英樹佐々木
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1999-09-10
Filing date: 1999-09-10
Publication date: 2001-03-30

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布型の薄膜磁性層を有する高耐久性の磁気
記録媒体であって、ＭＲヘッド再生システムに適した磁
気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体上に、少なくとも結合剤樹
脂を含む非磁性層を有し、前記非磁性層上に０．０２〜
０．５μｍの厚みの磁性層を有する、ＭＲヘッドで記録
信号の再生が行われる記録再生システムに用いられる磁
気記録媒体であって、前記磁性層は、磁性粉として平均
粒径が０．０５μｍ以下の六方晶フェライトを含み、前
記磁性層の残留磁束密度Ｂｒ（単位Ｇ）と前記磁性層厚
ｔ（単位μｍ）との積ｔ×Ｂｒが５０〜２５０の範囲に
あり、磁性層の表面粗さＲａが５ｎｍ以下である、磁気
記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布型の磁性層を
有する磁気記録媒体に関し、特にＭＲヘッド再生システ
ムに用いられる磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、塗布型の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に強磁性粉末、無機添加剤等の成分を結合剤
中に分散した磁性層を有する。このような磁気記録媒体
として、ディスク状の可とう性の非磁性支持体上に磁性
層を設けたフロッピーディスクと、テープ状の可とう性
の非磁性支持体上に磁性層を設けたテープがある。磁性
粉としては、酸化鉄、Ｃｏ−酸化鉄、二酸化クロム、強
磁性金属粉、六方晶フェライト粉などが用いられるが、
この中でも特に高密度記録に適したものとして、強磁性
金属粉、六方晶フェライト粉が従来より用いられてき
た。

【０００３】一方、高記録密度化のためには、媒体の厚
み損失、自己減磁損失を考慮する必要があり、このよう
な観点から磁性層の薄膜化が行われている。しかし磁性
層が薄膜化すると、磁性層の表面に支持体の表面性が影
響して、電磁変換特性が悪化したり、磁性層が薄膜なた
め磁性層中の潤滑剤が不足し耐久性の悪化をまねく。そ
こで特公平８−１６９７６号公報、特公平７−６０５０
４号公報、特公平７−７８８６８号公報に示されるよう
に、薄膜磁性層の下に、無機顔料を分散した下塗り層を
設けることが考案されている。

【０００４】近年になり高密度化がさらに進み、より短
波長での記録が求められ、それにより今まで以上の表面
性が求められるようになってきた。そのため、下塗り層
に使用される顔料も高分散性・高表面性のものが求めら
れるようになってきた。

【０００５】磁気記録媒体の高密度化の流れの中で、Ｍ
Ｒヘッドと磁気テープを組み合わせた磁気記録システム
が検討され始めている。例えば、特開平１０−３１２５
２５号公報には、六方晶フェライト粉末を有する磁性層
の飽和磁束密度が３００〜１０００Ｇで抗磁力が２００
０エルステッド以上、又は強磁性金属粉末を有する磁性
層の飽和磁束密度が８００〜１５００Ｇで抗磁力が２０
００エルステッド以上とすることが開示されている。ま
た、特開平１０−３０２２４３号公報には、磁性層表面
の突起高さと磁化反転体積を規定し、磁性層の抗磁力を
２０００エルステッド以上にすることが開示されてい
る。

【０００６】しかしながら、上記両公報では、ＭＲヘッ
ドに適した磁気特性と磁性層厚の関係について深く述べ
られておらず、ＭＲヘッドに適した十分感度の良いもの
は未だ得られていない。また記録密度が高まるにつれ磁
性層の薄膜化が進み、より高耐久性の媒体が求められる
が、従来の技術では満足できるレベルにはない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、上記従来技術の問題点を解決し、塗布型の薄膜磁性
層を有する高耐久性の磁気記録媒体であって、ＭＲヘッ
ド再生システムに適した磁気記録媒体を提供することに
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、六方晶フェライトを磁性粉として用いて、磁性層
厚と磁気特性の関係に着目し、ＭＲ（Magneto-Resistiv
e 磁気抵抗）ヘッドで記録信号の再生が行われる記録再
生システムに適した高耐久性の磁気記録媒体が得られる
ことを見出した。

【０００９】本発明は、以下の磁気記録媒体に関する。（１）非磁性支持体上に、少なくとも結合剤樹脂を含
む非磁性層を有し、前記非磁性層上に０．０２〜０．５
μｍの厚みの磁性層を有する、ＭＲヘッドで記録信号の
再生が行われる記録再生システムに用いられる磁気記録
媒体であって、前記磁性層は、磁性粉として平均粒径が
０．０５μｍ以下の六方晶フェライトを含み、前記磁性
層の残留磁束密度Ｂｒ（単位Ｇ）と前記磁性層厚ｔ（単
位μｍ）との積ｔ×Ｂｒが５０〜２５０の範囲にあり、
磁性層の表面粗さＲａが５ｎｍ以下である、磁気記録媒
体。

【００１０】（２）前記非磁性層に含まれる結合剤樹
脂が、放射線硬化型結合剤樹脂である、（１）に記載の
磁気記録媒体。（３）前記非磁性層が、カーボンブラックを含む、
（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体。（４）前記非磁性層の厚みが、前記磁性層の厚みより
厚くかつ０．５μｍ〜３．０μｍの間にある、（１）〜
（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。（５）前記非磁性支持体の表面粗さＲａが１０ｎｍ以
下である、（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録
媒体。（６）前記磁気記録媒体の７０℃、２４ｈｒ保存後の
熱収縮率が１％以下である、（１）〜（５）のいずれか
に記載の磁気記録媒体。（７）前記非磁性支持体が、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、芳香族ポリアミドか
ら選ばれたものである、（１）〜（６）のいずれかに記
載の磁気記録媒体。

【００１１】本発明によれば、磁性粉として六方晶フェ
ライト磁性粉を用い、磁性層の残留磁束密度Ｂｒ（単位
Ｇ）と磁性層厚ｔ（単位μｍ）との積ｔ×Ｂｒが５０〜
２５０であるようにすることにより、ＭＲヘッドを用い
たシステムにおいて優れた特性の塗布型の記録媒体を得
ることができる。

【００１２】ＭＲヘッドの特徴として、ある磁束の範囲
で磁気抵抗が大きくなる傾向がある。この範囲を表した
のがｔ×Ｂｒの値であり、この値が５０〜２５０の範囲
にあると、感度が良好となる。このｔ×Ｂｒが５０未満
となると、磁性層から発する磁束密度が不足し感度が低
下する。ｔ×Ｂｒが２５０を超えると、ＭＲヘッド素子
を磁気的に飽和するようになる。ｔ×Ｂｒをこの範囲と
するには、磁性層形成用塗料中の磁性粉（Ｐ）と結合剤
（Ｂ）の含有比率（Ｐ／Ｂ）が高い場合には、ｔが小さ
くなるようにし、Ｐ／Ｂが低い場合には、ｔを大きくす
れば良い。

【００１３】また、ノイズ低減のため、磁性層の表面粗
さは５ｎｍ以下とし、好ましくは４ｎｍ以下とする。表
面粗さはカレンダー処理温度を高くすることや、磁性層
形成用塗料を塗布する前に超音波分散機などで再分散す
ることにより、この表面粗さにすることができる。

【００１４】また磁性層厚ｔの値は０．０２〜０．５μ
ｍの間にあり、好ましくは０．０３〜０．３μｍであ
る。０．０２μｍより薄くなると、磁性粉が存在できな
い部分ができてくることにより、磁気的に不均一となっ
てしまう。また０．５μｍより厚くなると、ノイズ成分
が大きくなってくる。

【００１５】本発明で使用される六方晶フェライトとし
ては、例えば、バリウムフェライト、ストロンチウムフ
ェライト、カルシウムフェライト等が挙げられ、これら
の中でもバリウムフェライトが好ましい。六方晶フェラ
イトの粒径（板径）は０．０５μｍ以下が好ましく、よ
り好ましくは０．０４μｍ以下である。粒径が０．０５
μｍより大きくなると、ノイズが大きくなるため、ＭＲ
ヘッドを用いた場合、感度が悪くなってくる。板状比
（板径／板厚）は１０以下が好ましく、より好ましくは
７以下である。１０以上であると、磁性粉同士のスタッ
キングによりノイズが大きくなり、ＭＲヘッドでの再生
に不向きとなる。この六方晶フェライト磁性粉のＨｃで
あるが、書き込み側の磁気ヘッドの能力内であったら、
高い方が好ましく、１５００Ｏｅ〜３０００Ｏｅぐらい
である。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、塗膜構
成として、非磁性支持体と磁性層との間に下層非磁性層
を有する。非磁性支持体の下面側には、必要に応じてバ
ックコート層が設けられる。あるいは、非磁性支持体の
両面に磁性層を設けても良い。なお、本発明では、上層
磁性層上に潤滑剤塗膜や磁性層保護用の各種塗膜などを
必要に応じて設けてもよい。また、非磁性支持体の磁性
層が設けられる面には、塗膜と非磁性支持体との接着性
の向上等を目的として、下塗り層（易接着層）を設ける
こともできる。

【００１７】［下層非磁性層］下層非磁性層の役目は、
本発明では磁性層の厚みが０．０２〜０．５μｍと非常
に薄くなるため、磁性層単独では塗膜中の潤滑剤の量が
不足する。そこで非磁性層に潤滑剤を含ませ、そこから
磁性層へ潤滑剤を供給していくところにある。また、こ
の下層非磁性層を介在させることにより、支持体フィル
ムの表面粗さを大幅に緩和することができ、磁性層の表
面性の向上につながる。

【００１８】そのために、非磁性層にカーボンブラック
を含ませることが望ましい。カーボンブラックを含ませ
ることにより、潤滑剤を保持させることができる。また
磁性層の表面電気抵抗を下げる役目もある。

【００１９】非磁性層に含まれるカーボンブラックとし
ては、特に限定されないが、平均粒径が１０ｎｍ〜８０
ｎｍぐらいのカーボンブラックが好ましい。このような
カーボンブラックとしては、ファーネスカーボンブラッ
ク、サーマルカーボンブラック、アセチレンブラック等
公知のものを用いることができる。また単一系でも混合
系でも良い。これらカーボンブラックのＢＥＴ比表面積
は５０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは６０〜２５０ｍ²
／ｇである。本発明で使用できるカーボンブラックは、
例えば「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協
会編を参考にすることができる。

【００２０】非磁性層にはカーボンブラックの他に、さ
らに他の非磁性粉末を併用することもできる。そのよう
な他の非磁性粉末としては、限定されないが、α―酸化
鉄、α−アルミナ、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ、Ｔ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂などが挙げられる。これら
の中で、平均長軸径が２００ｎｍ以下の針状α−酸化鉄
又は平均粒径が２０〜１００ｎｍの粒状α−酸化鉄を併
用すると、カーボンブラックのみの塗料のチキソトロピ
ー性を和らげることができ、また塗膜を固くすることが
できる。さらに、研磨材として、平均粒径０．１〜１．
０μｍのα−アルミナ又はＣｒ₂Ｏ₃を併用すると、非
磁性層の強度アップにつながる。

【００２１】カーボンブラックと他の非磁性粉末の配合
比率は、重量比で１００／０〜５／９５が好ましい。他
の非磁性粉末の配合比率が９５重量部を上回ると、表面
性に問題が生じる。

【００２２】下層塗料に用いる結合剤樹脂としては、熱
可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、電子線感応型
変性樹脂等が用いられ、その組み合わせは媒体の特性、
工程条件に合わせて適宜選択使用される。後述する磁性
層、バックコート層においても、同様にこれらの結合剤
を用いることができる。

【００２３】特に下層非磁性層には放射線硬化型樹脂が
より好ましい。熱硬化型樹脂を用いると非磁性層を塗布
した後、熱硬化の工程が必要となるため、熱硬化による
原反の変形等が起きることがある。また熱硬化せずに使
用すると、磁性塗料をその上に塗布した場合、非磁性層
に溶剤がしみ込み膨潤したり、非磁性層が溶けたりする
ため、磁性層の表面性が悪化する。

【００２４】熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエス
テルポリウレタン樹脂、塩化ビニル系共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン系共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニルブチラール、ニトロセルロース、スチレン−
ブタジエン系共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ア
セタール樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポ
リエーテル樹脂、ポリカプロラクトン等の多官能性ポリ
エーテル類、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリブタジエンエラストマー、塩化ゴム、ア
クリルゴム、イソプレンゴム、エポキシ変性ゴム等が挙
げられる。

【００２５】熱硬化性樹脂としては、縮重合するフェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿
素樹脂、ブチラール樹脂、ポリマール樹脂、メラニン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反応
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、飽
和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられる。

【００２６】上記樹脂のなかでも、末端および／または
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、ポリイ
ソシアネートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易
に利用できるため好適である。さらに末端や側鎖に極性
基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｏ
ＰＯ₃Ｘ、−ＰＯ₃Ｘ、−ＰＯ₂Ｘ、−Ｎ⁺Ｒ₃Ｃ
ｌ ^-、−ＮＲ₂等をはじめとする酸性極性基、塩基性極
性基、ベタイン等を含有していてもよく、これらの含有
は分散性の向上に好適である。これらは１種単独で使用
しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

【００２７】これらのうちで、好ましく用いられるもの
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。本発明に使用
される樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体が挙げ
られ、詳しくは、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、
とくに６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重
合度は１００〜５００程度であることが好ましい。この
ような塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂
は、耐摩耗性および支持体への接着性が良い点でとくに
有効である。なお、これらの樹脂に加えて、公知の各種
樹脂が含有されていてもよい。

【００２８】本発明で用いる放射線硬化型結合剤樹脂と
は、放射線によりラジカルを発生し、架橋あるいは重合
することにより硬化するような、分子鎖中に不飽和二重
結合を１個以上含む樹脂をいう。

【００２９】放射線硬化型結合剤樹脂としては、塩化ビ
ニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エ
ポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、繊維系樹脂、ポリエー
テル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等の多数のも
のが挙げられる。これらの中でも、塩化ビニル系樹脂、
ポリウレタン樹脂が代表的であり、両者を混合して使用
することが好ましい。

【００３０】放射線硬化性塩化ビニル系樹脂は原料とな
る塩化ビニル系樹脂を感放射線変性して合成される。原
料の塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニル含有量６０
〜１００重量％、特に６０〜９５重量％のものが好まし
い。このような塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル
−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイン酸共重
合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レート−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）アクリレート
共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレート−グリシジル（メタ）アクリレート共重合
体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレ
ート−アリルグリシジルエーテル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール−アリルグリシジルエ
ーテル共重合体等が挙げられるが、とくに塩化ビニルと
エポキシ（グリシジル）基を含有する単量体との共重合
体が好ましい。そしてその平均重合度は１００〜９００
が好ましく、より好ましくは１００〜６００である。

【００３１】さらに、分散性を高めるために、必要に応
じ−ＳＯ₄Ｙ、−ＳＯ₃Ｙ、−ＰＯＹ、−ＰＯ₂Ｙ、−
ＰＯ₃Ｙ、−ＣＯＯＹ（Ｙは水素又はアルカリ金属）、
−ＳＲ、−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｃｌ（Ｒは水素又は炭化水
素基）、ホスホベタイン、スルホベタイン、ホスファミ
ン、スルファミン等の極性基を任意の方法で導入するこ
とも好ましい。また熱安定性を高めるために、エポキシ
基の導入も好ましい。

【００３２】上記の塩化ビニル系樹脂を感放射線変性す
る方法としては、水酸基やカルボン酸基を有する樹脂に
対し、（メタ）アクリル基とカルボン酸無水物あるいは
ジカルボン酸を有する化合物を反応させて変性する方
法、ＴＤＩと２−ＨＥＭＡとの反応物（アダクト体）と
を反応させ変性する方法、エチレン性不飽和二重結合を
１個以上及びイソシアネート基１個を１分子中に有し、
かつウレタン結合を分子中に持たないモノマーを反応さ
せる方法が代表的である。これらの中で３番目の方法
が、変性させやすさ及び変性後の分散性・物性ですぐれ
ており、３番目の方法で変性するのが好ましい。このよ
うなモノマーとしては、２−イソシアネートエチル（メ
タ）アクリレートなどが挙げられる。結合剤の分子内に
アクリル基又はメタクリル基は、分子中に平均で１〜２
０個より好ましくは２〜１５個存在することが好まし
い。

【００３３】放射線硬化性ポリウレタン樹脂は、分子内
にアクリル結合を少なくとも１個有するウレタン樹脂で
あって、アクリル系二重結合含有化合物とウレタン結合
を介して結合しているポリウレタンアクリレート化合物
である。

【００３４】ここにいうアクリル系二重結合とは、アク
リル酸、アクリルエステル、アクリル酸アミド、メタク
リル酸、メタクリル酸エステル、メタクリル酸アミド等
の残基（アクリロイル基又はメタクリロイル基）をい
う。

【００３５】アクリル系二重結合含有化合物としては、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール等のグリコールのモノ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリメ
チロールエタン等のトリオール化合物のモノ（メタ）ア
クリレート及びジ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール等の４価以上のポリ
オールのモノ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリ
レート及びトリ（メタ）アクリレート、グリセリンモノ
アリルエーテル、グリセリンジアリルエーテル等のヒド
ロキシ基含有アクリル系化合物などが好適である。これ
らのアクリル系二重結合は結合剤の分子内に少なくとも
１個以上、好ましくは２〜２０個存在する必要がある。

【００３６】ポリウレタンアクリレート樹脂とは、一般
に、ヒドロキシ基含有樹脂とヒドロキシル基含有アクリ
ル系化合物とポリイソシアネート含有化合物との反応に
より得られるものである。ヒドロキシ基含有樹脂として
は、ポリエチレングリコール、ポリブチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレング
リコール、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付
加物、各種のグリコール及びヒドロキシル基を分子鎖末
端に有するポリエステルポリオールなどが挙げられる。
これらのなかでもポリエステルポリオールを１成分とし
て得られるポリウレタンアクリレート樹脂が好ましい。

【００３７】ポリエステルポリオールのカルボン酸成分
としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル
酸、１，５−ナフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、ｐ
−オキシ安息香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香
酸などの芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸
などの脂肪族ジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イ
タコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル
酸等の不飽和脂肪酸及び脂環族ジカルボン酸、トリメリ
ット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリ又は
テトラカルボン酸などを挙げることができる。

【００３８】ポリエステルポリオールのグリコール成分
としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル
−１，３−ペンタンジオール、１，４−シクロヘキサン
ジメタノール、ビスフェノールＡなどのエチレンオキサ
イド付加物及びプロピレンオキサイド付加物、水素化ビ
スフェノールＡのエチレンオキサイド及びプロピレンオ
キサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが
挙げられる。また、トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトールなど
のトリ又はテトラオールを併用してもよい。ポリエステ
ルポリオールとしては、上記の他に、カプロラクトン等
のラクトン類を開環重合して得られるラクトン系ポリエ
ステルジオール鎖が挙げられる。

【００３９】使用されるポリイソシアネートとしては、
２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレン
ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、
ビフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テ
トラメチレンジイソシアネート、３，３’−ジメトキシ
４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、２，４−ナ
フタレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，
４’−ビフェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフ
ェニレンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネー
ト−ジフェニルエーテル、１，５−ナフタレンジイソシ
アネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシ
リレンジイソシアネート、１，３−ジイソシアネートメ
チルシクロヘキサン、１，４−イソシアネートメチルシ
クロヘキサン、４，４’−ジイソシアネートジシクロヘ
キサン、４，４’−ジイソシアネートシクロヘキシルメ
タン、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネー
ト化合物、あるいは全イソシアネート基のうち７モル％
以下の２，４−トリレンジイソシアネートの３量体、ヘ
キサメチレンジイソシアネートの３量体等のトリイソシ
アネート化合物が挙げられる。

【００４０】さらに、分散性を高めるために、必要に応
じ−ＳＯ₄Ｙ、−ＳＯ₃Ｙ、−ＰＯＹ、−ＰＯ₂Ｙ、−
ＰＯ₃Ｙ、−ＣＯＯＹ（Ｙは水素又はアルカリ金属）、
−ＳＲ、−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｃｌ（Ｒは水素又は炭化水
素基）、ホスホベタイン、スルホベタイン、ホスファミ
ン、スルファミン等の極性基を任意の方法で導入するこ
とも好ましい。また熱安定性を高めるために、エポキシ
基の導入も好ましい。

【００４１】一方、上記放射線硬化型ウレタン合成法と
は別に、塩化ビニル系樹脂と同様な方法で熱硬化型ポリ
ウレタン樹脂を原料とし感放射線変性を行なってもよ
い。

【００４２】また必要に応じて放射線硬化型モノマー又
はオリゴマーを使用してもよく、使用することで塗膜の
架橋度をアップさせることができる。その添加量は下層
非磁性層用塗料に含まれる樹脂に対し、３〜３０重量部
であることが好ましく、より好ましくは５〜２０重量部
である。３重量部より少ないと、添加による塗膜硬化作
用が少なく、また３０重量部より多いと、塗料へ与える
ショックが大きく、逆に光沢の低下をおこす。放射線硬
化型モノマー又はオリゴマーを添加する時期は、塗料作
成後、分散時のどちらでもかまわない。

【００４３】下層非磁性層における放射線硬化型結合剤
の含有量は、カーボンブラックと無機質粉末の合計１０
０重量部に対して、１０〜１００重量部が好ましく、１
２．５〜７０重量部がより好ましい。結合剤の含有量が
少なすぎると、下層非磁性層における結合剤樹脂の比率
が低下し、十分な塗膜強度が得られない。結合剤の含有
量が多すぎると、下層非磁性層塗料作成時に分散不良を
起こし、平滑な下層非磁性層面を形成することができな
くなる。

【００４４】本発明で使用する放射線としては、電子
線、γ線、β線、紫外線などであるが、好ましくは電子
線である。またその照射量は、１〜１０Mradがよく、３
〜７Mradがより好ましい。またその照射エネルギー（加
速電圧）は１００Kv以上とすることが良い。また放射線
の照射は、塗布・乾燥後に巻き取る以前に行うのが望ま
しいが、巻き取り後に行ってもよい。

【００４５】本発明の下層非磁性層には、必要に応じて
潤滑剤が含有されることが好ましい。潤滑剤としては、
高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン、脂肪酸
アミド等の公知のものを使用できる。

【００４６】下層非磁性層形成用の塗料は、上記成分に
有機溶剤を加えて調整する。用いる有機溶剤は特に制限
はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤や、ト
ルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶媒の１種又は２種
以上を、適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量
は、固形分（カーボンブラックや各種無機粒子等）と結
合剤の合計量１００重量部に対し、１００〜９００重量
部程度とすればよい。

【００４７】下層非磁性層の厚みは、０．５〜３．０μ
ｍが好まく、１．０〜３．０μｍが特に好ましい。０．
５μｍより薄くなると、磁性層がベース表面性の影響を
受け易くなる。そのため、磁気記録媒体の表面性が悪化
する傾向があり、ひいては電磁変換特性に影響を及ぼ
す。さらに非磁性層が薄くなると、潤滑剤量が不足し耐
久性が悪化する傾向がある。一方、３μｍ以上になる
と、塗布する時の塗布性が悪くなり、生産上好ましくな
い。

【００４８】［磁性層］磁性層は、このような非磁性層
上に塗設され、少なくとも前記平均粒径の六方晶フェラ
イトと結合剤とを含有する。磁性層中の六方晶フェライ
ト粉末の含有量は、磁性層全体の５０〜８５重量％、好
ましくは５５〜７５重量％とする。また磁性層には必要
に応じ、研磨材、カーボンブラック等の非磁性粒子、潤
滑剤等の各種添加剤を含有させても良い。

【００４９】磁性層形成用の塗料は、上記各成分に有機
溶剤を加えて調整する。用いる有機溶剤は特に制限はな
く、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可
能である。

【００５０】磁性層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）
は、５．０ｎｍ以下であり、好ましくは１．０〜４．０
ｎｍとする。Ｒａが１．０ｎｍ未満では表面が平滑すぎ
て、走行安定性が悪化して走行中のトラブルが生じやす
くなる。一方、５．０ｎｍを越えると、磁性層表面が粗
くなり、ＭＲ型ヘッドを用いた再生システムでは、ノイ
ズが増大する傾向がある。

【００５１】［バックコート層］磁気テープの場合に
は、バックコート層が、走行安定性の改善や磁性層の帯
電防止等のために設けられる。バックコート層は、３０
〜８０重量％のカーボンブラックを含有することが好ま
しい。カーボンブラックの含有量が少なすぎると、帯電
防止効果が低下する傾向があり、さらに走行安定性が低
下しやすくなる。また、光透過率が高くなりやすいの
で、テープ端を光透過率の変化で検出する方式では問題
となる。一方、カーボンブラックの含有量が多すぎる
と、バックコート層の強度が低下し、走行耐久性が悪化
しやすくなる。カーボンブラックは、通常使用されるも
のであればどのようなものであってもよく、その平均粒
径は、５〜５００ｎｍ程度が好ましい。平均粒径は、通
常、透過型電子顕微鏡により測定する。

【００５２】バックコート層には、前記カーボンブラッ
ク以外に、機械的強度を高めるために、磁性層の説明に
おいて挙げた各種研磨材等の非磁性無機粉末を含有させ
てもよい。非磁性無機粉末の含有量は、カーボンブラッ
ク１００重量部に対し、好ましくは０．１〜５重量部、
より好ましくは０．５〜２重量部である。非磁性無機粉
末の平均粒径は、０．１〜０．５μｍであることが好ま
しい。このような非磁性無機粉末の含有量が少なすぎる
と、バックコート層の機械的強度が不十分となりやす
く、多すぎるとテープ摺接経路のガイド等の摩耗量が多
くなりやすい。

【００５３】この他、必要に応じ、界面活性剤等の分散
剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイル等の
潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。

【００５４】バックコート層に用いる結合剤、架橋剤、
溶剤等は、前述した磁性層用塗料に用いるものと同様の
ものでよい。結合剤の含有量は、固形分の合計１００重
量部に対し、好ましくは１５〜２００重量部、より好ま
しくは５０〜１８０重量部である。バインダーの含有量
が多すぎると、媒体摺接経路との摩擦が大きくなりすぎ
て走行安定性が低下し、走行事故を起こしやすくなる。
また、磁性層とのブロッキング等の問題が発生する。結
合剤の含有量が少なすぎると、バックコート層の強度が
低下して走行耐久性が低下しやすくなる。

【００５５】バックコート層の厚さ（カレンダー加工
後）は、１．０μｍ以下、好ましくは０．１〜１．０μ
ｍ、より好ましくは０．２〜０．８μｍである。バック
コート層が厚すぎると、媒体摺接経路との間の摩擦が大
きくなりすぎて、走行安定性が低下する傾向にある。一
方、薄すぎると、非磁性支持体の表面性の影響でバック
コート層の表面性が低下する。このため、バックコート
を熱硬化する際にバックコート層表面の粗さが磁性層表
面に転写され、高域出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎの低下を招
く。また、バックコート層が薄すぎると、媒体の走行時
にバックコート層の削れが発生する。

【００５６】［非磁性支持体］非磁性支持体として用い
る材料には特に制限はなく、目的に応じて各種可撓性材
料、各種剛性材料から選択し、各種規格に応じてテープ
状などの所定形状および寸法とすればよい。例えば、可
撓性材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、ポリアミド、ポリイミド、
ポリカーボネートなどの各種樹脂が挙げられる。これら
の中で、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリアミド（特に芳香族ポリアミド）が好
ましい。

【００５７】これら非磁性支持体の厚さは３．０〜７
５．０μｍであることが好ましい。非磁性支持体の形態
については特に制限はなく、テープ状、シート状、カー
ド状、ディスク状等いずれであっても良く、形態に応じ
て、また必要に応じて種々の材料を選択して使用するこ
とができる。

【００５８】本発明で使用される非磁性支持体の表面粗
さは、中心線平均表面粗さＲａで１０ｎｍ以下、好まし
くは８ｎｍ以下である。非磁性支持体の表面粗さは、必
要に応じて非磁性支持体に添加されるフィラーの大きさ
と量により自由に制御される。これらフィラーの一例と
しては、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌなどの酸化物や炭酸塩
の他、アクリル系などの有機樹脂微粉末が挙げられる。
好ましくは、Ａｌ₂Ｏ ₃と有機樹脂微粉末の組み合わせ
である。

【００５９】［製造方法］本発明の磁気記録媒体は、上
記材料を用いて下層非磁性層用塗料及び磁性層用塗料を
それぞれ調製し、前記非磁性支持体上にこれら塗料を塗
布することによって製造する。

【００６０】上記非磁性層と磁性層の塗布方法である
が、非磁性層が湿潤状態のうちに磁性層を塗布するウェ
ットオンウェット塗布でも、非磁性層が塗布され、それ
が乾燥された後に磁性層を塗布するウェットオンドライ
塗布でもかまわない。ただし生産効率から考えて、ウェ
ットオンドライ塗布の場合、非磁性層は放射線硬化性樹
脂を用いて作成し、磁性層を塗布する前に放射線硬化さ
れていることがより好ましい。

【００６１】またウェットオンウェット塗布方式におい
ては、非磁性層を塗布してから、磁性層を塗布するもの
としてもよく、両層を同時に塗布するものとしてもよ
い。

【００６２】塗布方法としては、グラビアコート、リバ
ースロールコート、ダイノズルコート等の公知の種々の
塗布手段を用いることができるが、ウェットオンウェッ
ト塗布塗布の場合はダイノズルを用いることが好まし
い。

【００６３】本発明では、磁性層を設層した後、磁場を
印加して、層中の磁性粒子を配向させることが好まし
い。配向方向は、目的に応じて、媒体の走行方向に対し
て、ディスク媒体の場合はランダム方向に、テープ媒体
の場合は平行方向であっても、垂直方向であっても、斜
め方向であってもよい。所定方向へ向けるため、フェラ
イト磁石や希土類磁石等の永久磁石、電磁石、ソレノイ
ド等で１０００Ｇ以上の磁界を印可したり、これらの磁
界発生手段を複数併用することが好ましい。さらには乾
燥後の配向性が最も高くなるように、配向前に予め適度
の乾燥工程を設けたり、配向と同時に乾燥を行うなどし
て配向を行ってもよい。

【００６４】このようにして塗設後、配向処理の行われ
た塗膜は、通常、乾燥炉の内部に設けられた熱風、遠赤
外線、電気ヒーター、真空装置等の公知の乾燥および蒸
発手段によって乾燥・固定される。乾燥温度は、室温か
ら３００℃程度までの範囲で、非磁性支持体の耐熱性や
溶剤種、濃度等によって適宜選定すればよく、また乾燥
炉内に温度勾配をもたせてもよい。さらに乾燥炉内のガ
ス雰囲気は、一般の空気または不活性ガスなどを用いれ
ばよい。

【００６５】このようにして磁性層を乾燥した後に、必
要に応じて表面平滑化処理としてカレンダ処理を行う。
カレンダ処理ロールとしては、エポキシ、ポリエステ
ル、ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドア
ミド等の耐熱性のあるプラスチックロール（カーボン、
金属やその他の無機化合物が練り込まれているものでも
よい）と金属ロールとの組合わせ（３ないし７段の組合
わせ）を使用するとよい。また、金属ロール同志で処理
することもできる。処理温度は、好ましくは７０℃以
上、さらに好ましくは９０℃以上である。線圧力は、好
ましくは２００ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましくは２５
０ｋｇ／ｃｍ以上、処理速度は、２０ｍ／分〜９００ｍ
／分の範囲である。本発明では、１００℃以上の温度で
２５０ｋｇ／ｃｍ以上の線圧で、より一層効果を上げる
ことができる。

【００６６】得られた塗布原反は、熱硬化型樹脂を使用
した場合は５０℃〜８０℃の温度にて１２〜４８時間ほ
どかけ、熱処理を行い塗膜を架橋する。その後所定の大
きさに切断を行い必要に応じて研磨、クリーニングを行
い製品をしあげる。出来上がったテープ又はディスクの
熱収縮率については、７０℃、２４時間保存後で、１％
以下が好ましく、より好ましくは０．５％以下である。

【００６７】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。［実施例１］＜下層塗料１＞粒状α−Ｆｅ₂Ｏ₃（堺化学工業（株) 製： FRO-3）５５重量部（平均粒径＝30nm, BET=45m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：＃４５Ｂ）３０重量部（平均粒径＝24nm, BET=125 m²/g, DBP 吸油量＝47ml/100g ） α−Ａｌ₂Ｏ₃ (住友化学工業（株) 製：AKP50) １５重量部（平均粒径＝0.20μm, BET=8 m²/g ）電子線硬化性塩化ビニル系共重合体（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子）１２重量部電子線硬化性ポリウレタン樹脂（Mn=25000、極性基：リン化合物＝1 個／１分子）４重量部３官能アクリルモノマー（三洋化成工業（株) 製：TA505 ）２重量部イソセチルステアレート１０重量部ブチルステアレート４重量部ＭＥＫ１２６重量部トルエン３８重量部シクロヘキサノン３８重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い下層塗料１を作成した。

【００６８】＜上層磁性塗料１＞バリウムフェライト磁性粉１００重量部 (Hc=1900Ｏe,σs=56emu/g, BET=43m²/g,平均粒径=0.035μｍ、板状比=4）塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株) 製：MR110 ）１４重量部（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子） −ＯＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂６重量部（Mn=25000、極性基濃度＝1 個／１分子）研磨材 α−Ａｌ₂Ｏ₃（住友化学工業（株) 製：HIT82) １０重量部（平均粒径＝0.12μｍ、BET=20m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：ＣＦ−９）３重量部（平均粒径＝40nm, BET=60 m²/g, DBP吸油量＝64ml/100g ）ソルビタンモノステアレート３重量部イソセチルステアレート３重量部ブチルステアレート２重量部ＭＥＫ３８０重量部トルエン１３０重量部シクロヘキサノン１３０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い上層磁性塗料１を作成した。

【００６９】まず下層塗料１を、表面粗さ(Ra)=6nm、62
μｍ厚のＰＥＮフィルムに押し出しダイノズル方式で、
乾燥厚み1.5 μｍに塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥
後、電子線照射（５Mrad）を行った。次に同じような手
順でもう一方の面にも下層塗膜を形成し、両面下塗層の
ロールを作成した。

【００７０】次に、上層塗料１にコロネートＬ（日本ポ
リウレタン工業（株) 製）を４重量部添加し、この塗料
を超音波分散機で再分散しながらこの下層塗布済みのロ
ールに押し出しダイノズル方式で、乾燥膜厚換算で０．
２μｍの厚みになるように塗布し、その後、無配向磁石
にて無配向化を行い、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧
300kg/cm、温度９０℃にてカレンダー処理を行い、片面
の塗膜を仕上げた。次に同じような手順でもう一方の面
にも磁性塗膜を形成し、両面磁性層の原反ロールを作成
した。最後にこの原反ロールをディスク状に打ち抜い
て、その後70℃、24時間の条件で熱硬化を行い、ディス
クを作成した。

【００７１】［実施例２］＜下層塗料２＞粒状α−Ｆｅ₂Ｏ₃（堺化学工業（株) 製： FRO-3）５５重量部（平均粒径＝30nm, BET=45m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：＃４５Ｂ）３０重量部（平均粒径＝24nm, BET=125 m²/g, DBP 吸油量＝47ml/100g ） α−Ａｌ₂Ｏ₃ (住友化学工業（株) 製：AKP50) １５重量部（平均粒径＝0.20μm, BET=8 m²/g ）塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株) 製：MR110 ）１２重量部（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子） −ＯＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂６重量部（Mn=25000、極性基濃度＝1 個／１分子）イソセチルステアレート１０重量部ブチルステアレート４重量部ＭＥＫ１２６重量部トルエン３８重量部シクロヘキサノン３８重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い下層塗料２を作成した。

【００７２】下層塗料２を表面粗さ(Ra)＝６nm、62μｍ
厚のＰＥＮフィルムに、押し出しダイノズル方式で乾燥
厚み1.5 μｍに塗布し、それがまだ湿潤状態のうちに上
層磁性塗料１にコロネートＬ（日本ポリウレタン工業
（株) 製）を４重量部添加した塗料を、超音波分散機で
再分散しながらこの上に押し出しダイノズル方式で乾燥
膜厚が０．２μｍになるように塗布した。その後、無配
向磁石にて無配向化を行い、乾燥温度１００℃で乾燥
後、線圧300kg/cm、温度９０℃にてカレンダー処理を行
い片面の塗膜を仕上げた。次に同じような手順でもう一
方の面も形成し両面磁性層の原反ロールを作成した。最
後にこの原反ロールをディスク状に打ち抜いてその後70
℃、24時間の条件で熱硬化を行いディスクを作成した。

【００７３】［実施例３］下層塗料１を表面粗さ(Ra)＝
６nm、62μｍ厚のＰＥＮフィルムに押し出しダイノズル
方式で乾燥厚み1.5 μｍに塗布し、それがまだ湿潤状態
のうちに上層塗料１にコロネートＬ（日本ポリウレタン
工業( 株) 製）を４重量部添加した塗料を、超音波分散
機で再分散しながらこの上に押し出しダイノズル方式で
乾燥膜厚が０．２μｍになるように塗布した。その後、
無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温度１００℃で乾
燥後、線圧300kg/cm、温度９０℃にてカレンダー処理を
行った後電子線照射（５Mrad）を行い片面の塗膜を仕上
げた。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面
磁性層の原反ロールを作成した。最後にこの原反ロール
をディスク状に打ち抜いてその後70℃、24hrの条件で熱
硬化を行いディスクを作成した。

【００７４】［実施例４］実施例１で磁性層の厚みを
０．０８μｍに変更した以外は、実施例１と同様にディ
スクを作製した。［実施例５］実施例１で磁性層の厚みを０．３０μｍに
変更した以外は、実施例１と同様にディスクを作製し
た。［実施例６］実施例１で磁性層のカレンダー加工温度を
７０℃に変更した以外は、実施例１と同様にディスクを
作製した。［実施例７］実施例１で磁性粉の粒径を０．０５μｍに
変更した以外は、実施例１と同様にディスクを作製し
た。

【００７５】［実施例８］＜上層磁性塗料２＞バリウムフェライト磁性粉１００重量部 (Hc=1900Ｏe,σs=56emu/g, BET=43m²/g,平均粒径=0.035μｍ、板状比=4）塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株) 製：MR110 ）７重量部（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子） −ＯＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂３重量部（Mn=25000、極性基濃度＝1 個／１分子）研磨材 α−Ａｌ₂Ｏ₃（住友化学工業（株) 製：AKP100) ５重量部（平均粒径＝0.06μｍ、BET=28m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：ＣＦ−９）１重量部（平均粒径＝40nm, BET=60 m²/g, DBP吸油量＝64ml/100g ）ソルビタンモノステアレート３重量部イソセチルステアレート３重量部ブチルステアレート２重量部ＭＥＫ３８０重量部トルエン１３０重量部シクロヘキサノン１３０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い上層磁性塗料２を作成した。

【００７６】下層塗料１を表面粗さ(Ra)＝６nm、62μｍ
厚のＰＥＮフィルムに押し出しダイノズル方式で乾燥厚
み1.5 μｍに塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後、電子
線照射（５Mrad）を行った。次に同じような手順でもう
一方の面も形成し両面下塗層のロールを作成した。次
に、上層磁性塗料２にコロネートＬ（日本ポリウレタン
工業（株) 製）を４重量部添加し、この塗料を超音波分
散機で再分散しながら、この下層塗布済みのロールに押
し出しダイノズル方式で、乾燥膜厚０．０４μｍの厚み
になるように塗布し、無配向磁石にて無配向化を行い、
乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度９０℃
にてカレンダー処理を行い、片面の塗膜を仕上げた。次
に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の
原反ロールを作成した。最後にこの原反ロールをディス
ク状に打ち抜いてその後70℃、24時間の条件で熱硬化を
行いディスクを作成した。

【００７７】［実施例９］＜上層磁性塗料３＞バリウムフェライト磁性粉１００重量部 (Hc=1900Ｏe,σs=56emu/g, BET=43m²/g,平均粒径=0.035μｍ、板状比=4）塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株) 製：MR110 ）２０重量部（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子） −ＯＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂８重量部（Mn=25000、極性基濃度＝1 個／１分子）研磨材 α−Ａｌ₂Ｏ₃（住友化学工業（株) 製：HIT82) １０重量部（平均粒径＝0.12μｍ、BET=20m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：ＣＦ−９）３重量部（平均粒径＝40nm, BET=60 m²/g, DBP吸油量＝64ml/100g ）ソルビタンモノステアレート３重量部イソセチルステアレート３重量部ブチルステアレート２重量部ＭＥＫ３８０重量部トルエン１３０重量部シクロヘキサノン１３０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い上層磁性塗料３を作成した。

【００７８】下層塗料１を表面粗さ(Ra)＝６nm、62μｍ
厚のＰＥＮフィルムに押し出しダイノズル方式で乾燥厚
み1.5 μｍに塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後、電子
線照射（５Mrad）を行った。次に同じような手順でもう
一方の面も形成し両面下塗層のロールを作成した。次
に、上層磁性塗料３にコロネートＬ（日本ポリウレタン
工業（株) 製）を４重量部添加し、この塗料を超音波分
散機で再分散しながら、この下層塗布済みのロールに押
し出しダイノズル方式で乾燥膜厚０．４μｍの厚みにな
るように塗布し、無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥
温度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度９０℃にて
カレンダー処理を行い、片面の塗膜を仕上げた。次に同
じような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の原反
ロールを作成した。最後にこの原反ロールをディスク状
に打ち抜いて、その後70℃、24時間の条件で熱硬化を行
いディスクを作成した。

【００７９】［比較例１］実施例１で磁性層の厚みを
０．５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にディス
クを作成した。

【００８０】［比較例２］実施例１で磁性層の厚みを
０．０５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にディ
スクを作成した。［比較例３］実施例１で磁性層のカレンダー加工温度を
５０℃に変更した以外は、実施例１と同様にディスクを
作成した。［比較例４］実施例１で磁性粉の粒径を０．１μｍに変
更した以外は、実施例１と同様にディスクを作成した。

【００８１】［実施例１０］＜上層磁性塗料４＞バリウムフェライト磁性粉１００重量部 (Hc=1900Ｏe,σs=56emu/g, BET=43m²/g,平均粒径=0.035μｍ、板状比=4）塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株) 製：MR110 ）１０重量部（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子） −ＯＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂７重量部（Mn=25000、極性基濃度＝1 個／１分子）研磨材 α−Ａｌ₂Ｏ₃（住友化学工業（株) 製：HIT82) １２重量部（平均粒径＝0.12μｍ、BET=20m²/g）ミリスチン酸２重量部ＭＥＫ２５０重量部トルエン８０重量部シクロヘキサノン８０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い上層磁性塗料４を作成した。

【００８２】＜下層塗料３＞ α−Ｆｅ₂Ｏ₃（戸田工業（株) 製：DPN-250BW ）７５重量部（平均長軸径＝150nm,BET=55m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：＃９５０Ｂ）２０重量部（平均粒径＝16nm, BET=250m²/g, DBP吸油量＝80ml/100g ） α−Ａｌ₂Ｏ₃（住友化学工業（株) 製：HIT60A) ５重量部（平均粒径＝0.18μｍ、BET=12m²/g）電子線硬化型塩化ビニル系共重合体（東洋紡績（株) 製：TB0246 30%溶液）（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子）１２重量部電子線硬化型ポリウレタン樹脂（東洋紡績（株) 製：TB0242 35%溶液）（Mn=25000, 極性基：リン化合物＝１個／１分子）４重量部３官能アクリルモノマー（三洋化成工業（株) 製：TA505 ）２重量部ブチルステアレート１重量部ステアリン酸１重量部ＭＥＫ１５０重量部トルエン５０重量部シクロヘキサノン５０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い下層塗料３を作成した。

【００８３】＜バックコート層用塗料＞カーボンブラック８０重量部（コロンビアカーボン社製:Conductex SC 平均粒径=20nm, BET=220m²/g）カーボンブラック１重量部（コロンビアカーボン社製:SevacarbMT 平均粒径=350nm, BET=8 m²/g） α−Ｆｅ₂Ｏ₃（戸田工業社製:TF100 平均粒径=0.1μｍ）１重量部塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体６５重量部（モノマー重量比=92:3:5,平均重合度＝４２０）ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡績社製：UR-8300 ）３５重量部ＭＥＫ２６０重量部トルエン２６０重量部シクロヘキサノン２６０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にてにて分散を行った。

【００８４】次に下記添加剤・溶剤を加え粘度調整を行
った。ステアリン酸１重量部ミリスチン酸１重量部ステアリン酸ブチル２重量部ＭＥＫ２１０重量部トルエン２１０重量部シクロヘキサノン２１０重量部

【００８５】6.1 μｍ厚のＰＥＴフィルムに、最初に下
層塗料３を押し出しダイノズル方式にて、2.0 μｍの厚
み（乾燥膜厚）で塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後、
電子線照射（５Mrad）を行い、下層原反を作製した。次
に上層磁性塗料４にコロネートＬ（日本ポリウレタン工
業（株) 製）を４重量部添加し、バックコート塗料１０
０重量部に１重量部を加え、下層原反の上に上層塗料を
押し出しダイノズル方式にて、0.2 μｍの厚み（乾燥膜
厚）で塗布し、配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を
乾燥させ、温度１００℃、線圧300kg/cmにてカレンダー
処理を行った。次に磁性層と反対のベース面に、バック
コート塗料を押し出しダイノズル方式にて0.5 μｍの厚
みで塗布し、原反ロールを作成した。このロールを２４
時間常温にて放置後、６０℃の加熱オーブン中にて２４
時間硬化した後、１／２インチ幅に切断してＤＬＴカセ
ットに組み込み、磁気テープサンプルとした。

【００８６】［実施例１１］＜下層塗料４＞ α−Ｆｅ₂Ｏ₃（戸田工業（株) 製：DPN-250BW ）７５重量部（平均長軸径＝150nm,BET=55m²/g）カーボンブラック（三菱化学（株) 製：＃９５０Ｂ）２０重量部（平均粒径＝16nm, BET=250m²/g, DBP吸油量＝80ml/100g ） α−Ａｌ₂Ｏ₃（住友化学工業（株) 製：HIT60A) ５重量部（平均粒径＝0.18μｍ、BET=12m²/g）塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株) 製：MR110 ）１０重量部（重合度＝300 、極性基：−ＯＳＯ₃Ｋ＝1.5 個／分子） −ＯＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂６重量部（Mn=25000、極性基濃度＝1 個／１分子）ブチルステアレート１重量部ステアリン酸１重量部ＭＥＫ１５０重量部トルエン５０重量部シクロヘキサノン５０重量部上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い下層塗料４を作成した。

【００８７】コロネートＬ（日本ポリウレタン工業
（株) 製）をそれぞれ、下層塗料４に４重量部、上層磁
性塗料４に４重量部添加し、バックコート塗料１００重
量部に１重量部を加え、6.1 μｍ厚のアラミドフィルム
に、最初に下層塗料４を押し出しダイノズル方式にて1.
5 μｍの厚み（乾燥膜厚）で塗布し、続いて下層塗料が
湿潤状態の内に上層塗料を押し出しダイノズル方式にて
0.2 μｍの厚み（乾燥膜厚）で塗布し配向を行い、乾燥
温度１００℃で塗膜を乾燥させ、温度１００℃、線圧30
0kg/cmにてカレンダー処理を行った。次に磁性層と反対
のベース面にバックコート塗料を押し出しダイノズル方
式にて0.5 μｍの厚みで塗布し、原反ロールを作成し
た。このロールを２４時間常温にて放置後、６０℃の加
熱オーブン中にて２４時間硬化した後、１／２インチ幅
に切断してＤＬＴカセットに組み込み，磁気テープサン
プルとした。

【００８８】［実施例１２］上層磁性塗料４にコロネー
トＬ（日本ポリウレタン工業（株) 製）を４重量部添加
し、バックコート塗料１００重量部に１重量部を加え、
6.1 μｍ厚のアラミドフィルムに、最初に下層塗料３を
押し出しダイノズル方式にて1.5 μｍの厚み（乾燥膜
厚）で塗布し、続いて下層塗料が湿潤状態の内に上層塗
料を押し出しダイノズル方式にて0.2 μｍの厚み（乾燥
膜厚）で塗布し配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を
乾燥させ、温度１００℃、線圧300kg/cmにてカレンダー
処理を行った後、電子線照射（５Mrad）を行った。次に
磁性層と反対のベース面にバックコート塗料を押し出し
ダイノズル方式にて0.5 μｍの厚みで塗布し、原反ロー
ルを作成した。このロールを２４時間常温にて放置後、
６０℃の加熱オーブン中にて２４時間硬化した後、１／
２インチ幅に切断してＤＬＴカセットに組み込み、磁気
テープサンプルとした。

【００８９】［実施例１３］実施例１０で磁性層の厚み
を０．０８μｍに変更した以外は、実施例１０と同様に
磁気テープを作成した。［実施例１４］実施例１０で磁性層の厚みを０．３０μ
ｍに変更した以外は、実施例１０と同様に磁気テープを
作成した。［実施例１５］実施例１０で磁性層のカレンダー加工温
度を７０℃に変更した以外は、実施例１０と同様に磁気
テープを作製した。［実施例１６］実施例１０で磁性粉の粒径を０．０５μ
ｍに変更した以外は、実施例１０と同様に磁気テープを
作成した。

【００９０】［比較例５］実施例１０で磁性層の厚みを
０．５０μｍに変更した以外は、実施例１０と同様に磁
気テープを作成した。［比較例６］実施例１０で磁性層の厚みを０．０５μｍ
に変更した以外は、実施例１０と同様に磁気テープを作
成した。［比較例７］実施例１０で磁性層のカレンダー加工温度
を５０℃に変更した以外は、実施例１０と同様に磁気テ
ープを作製した。［比較例８］実施例１０で磁性粉の粒径を０．１μｍに
変更した以外は、実施例１０と同様に磁気テープを作製
した。

【００９１】＜評価法＞（１）中心線表面粗度Ｒａテーラーホブソン社製タリステップシステムを用い、フ
ィルター０．１８〜９Ｈｚ、触針０．１×２．５μｍ特
殊スタイラス、触針圧２ｍｇ、測定スピード０．０３ｍ
ｍ／ｓｅｃ、測定長５００μｍの条件で行った。（２）磁気特性振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、１０ｋＯｅ
で測定した。

【００９２】（３）電磁変換特性（ＳＮ比）：ディスク
の場合スピンスタンドにＴＤＫ製ＭＲヘッド（記録ヘッド：Ｍ
ＩＧヘッド、ギャップ０．１５μｍ、再生ヘッド：Ｎｉ
−Ｆｅ素子ＭＲヘッド）を取り付け測定した。（４）電磁変換特性（ＳＮ比）：テープの場合市販のデータードライブを改造して、ヘッドの信号入出
力を可能にしたテスターにて、ＴＤＫ製実験用ＭＲヘッ
ドを装着して測定を行った。（記録ヘッド：ＭＩＧヘッ
ド、ギャップ１．０μｍ、再生ヘッド：Ｎｉ−Ｆｅ素子
ＭＲヘッド）を取り付け測定した。

【００９３】（５）耐久性：ディスクの場合 3000rpm の回転速度のZIP ドライブにディスクを挿入
し、２５℃、６０％ＲＨの環境にてヘッドをランダムシ
ークさせ、目視にてキズの有無を確認した。キズが入っ
たところで終了した。キズが入るまでの時間（ｈｒ）を
示した。（６）耐久性：テープの場合電磁変換特性測定で使用した改造ドライブを使用し、作
製したサンプルを１万パス走行させ、走行後のサンプル
の磁性層面を５０倍の顕微鏡で観察し、塗膜表面の走行
キズの有無を確認した。 ◎：キズが全くない ○：短いキズが薄く見られる評価結果を表１（ディスク媒体）及び表２（テープ媒
体）に示す。

【００９４】表１より、実施例１〜９のディスクサンプ
ルはいずれも、ＳＮが２０ｄＢ以上あり、ＭＲヘッドで
の再生に適していることがわかる。実際のＭＲヘッドで
の評価により、ＳＮ値が２０ｄＢ以上あればＭＲヘッド
での再生に適している。ｔ×Ｂｒが５０未満（比較例
２）や２５０を超える（比較例１）サンプルでは、ＳＮ
が２０を割っている。また磁性粉の粒径が０．１μｍの
サンプル（比較例４）や、Ｒａが６．５ｎｍのサンプル
（比較例３）でも同様である。耐久性については、１０
００時間以上が好ましく、すべてのサンプルがクリアー
しているが、このサンプルの中でも、下層バインダーに
電子線硬化性バインダーを用いたサンプルの耐久性が特
に良い。

【００９５】表２より、実施例１０〜１６のテープサン
プルはいずれも、ＳＮが２０ｄＢ以上あり、ＭＲヘッド
での再生に適していることがわかる。ｔ×Ｂｒが５０未
満（比較例６）や２５０を超える（比較例５）サンプル
では、ＳＮが２０を割っている。また磁性粉の粒径が
０．１μｍのサンプル（比較例８）や、Ｒａが６．３ｎ
ｍのサンプル（比較例７）でも同様である。耐久性につ
いては、下層バインダーに電子線硬化性バインダーを用
いたサンプルの耐久性が特に良い。

【００９６】

【発明の効果】本発明によれば、ＭＲヘッドを用いた場
合に良好な特性を有する薄膜磁気記録媒体が提供され
る。また、非磁性下層の結合剤として電子線硬化性の結
合剤を用いると、従来の熱硬化性結合剤を用いた場合に
比べ、耐久性にも優れた媒体が得られる。

【００９７】

【表１】

【００９８】

【表２】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に、少なくとも結合剤樹
脂を含む非磁性層を有し、前記非磁性層上に０．０２〜
０．５μｍの厚みの磁性層を有する、ＭＲヘッドで記録
信号の再生が行われる記録再生システムに用いられる磁
気記録媒体であって、前記磁性層は、磁性粉として平均粒径が０．０５μｍ以
下の六方晶フェライトを含み、前記磁性層の残留磁束密
度Ｂｒ（単位Ｇ）と前記磁性層厚ｔ（単位μｍ）との積
ｔ×Ｂｒが５０〜２５０の範囲にあり、磁性層の表面粗
さＲａが５ｎｍ以下である、磁気記録媒体。
【請求項２】前記非磁性層に含まれる結合剤樹脂が、
放射線硬化型結合剤樹脂である、請求項１に記載の磁気
記録媒体。
【請求項３】前記非磁性層が、カーボンブラックを含
む、請求項１又は２に記載の磁気記録媒体。