JPH06314446A - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH06314446A JPH06314446A JP11218693A JP11218693A JPH06314446A JP H06314446 A JPH06314446 A JP H06314446A JP 11218693 A JP11218693 A JP 11218693A JP 11218693 A JP11218693 A JP 11218693A JP H06314446 A JPH06314446 A JP H06314446A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- protective coat
- optical disk
- fatty acid
- acid ester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10586—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the selection of the material
- G11B11/10589—Details
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10584—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the form, e.g. comprising mechanical protection elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
- G11B5/7262—Inorganic protective coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
- Y10T428/249978—Voids specified as micro
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
- Y10T428/249978—Voids specified as micro
- Y10T428/249979—Specified thickness of void-containing component [absolute or relative] or numerical cell dimension
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249994—Composite having a component wherein a constituent is liquid or is contained within preformed walls [e.g., impregnant-filled, previously void containing component, etc.]
- Y10T428/249995—Constituent is in liquid form
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 光磁気ディスクの保護コートを改良して、磁
気ヘッドとの間の摩擦低減効果が大きく、しかもその持
続性、保存性、耐久性を向上する。 【構成】 基板２上に記録層５を設け、下記式Ｉの脂肪
酸エステルを含有する樹脂製の保護コート８を記録層側
表面に設ける。保護コート８は、下記式Ｉの脂肪酸エス
テル等の潤滑剤と樹脂とを含有する組成物を放射線硬化
させて作製することが好ましく、放射線硬化により保護
コート表面ないしその近傍にマイクロポアを形成し、か
つ保護コート表面ないし表面近傍のマイクロポアに潤滑
剤を存在させることが好ましい。 式Ｉ Ｒ1 ＣＯＯＲ2 ［式Ｉ中、Ｒ1 は炭素原子数１０以上の直鎖もしくは分
岐、Ｒ2 は炭素原子数１０以上の分岐を有する飽和脂肪
族炭化水素残基または炭素原子数１０以上の不飽和脂肪
族炭化水素残基を表わす。］
気ヘッドとの間の摩擦低減効果が大きく、しかもその持
続性、保存性、耐久性を向上する。 【構成】 基板２上に記録層５を設け、下記式Ｉの脂肪
酸エステルを含有する樹脂製の保護コート８を記録層側
表面に設ける。保護コート８は、下記式Ｉの脂肪酸エス
テル等の潤滑剤と樹脂とを含有する組成物を放射線硬化
させて作製することが好ましく、放射線硬化により保護
コート表面ないしその近傍にマイクロポアを形成し、か
つ保護コート表面ないし表面近傍のマイクロポアに潤滑
剤を存在させることが好ましい。 式Ｉ Ｒ1 ＣＯＯＲ2 ［式Ｉ中、Ｒ1 は炭素原子数１０以上の直鎖もしくは分
岐、Ｒ2 は炭素原子数１０以上の分岐を有する飽和脂肪
族炭化水素残基または炭素原子数１０以上の不飽和脂肪
族炭化水素残基を表わす。］
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁界変調方式の光磁気
ディスクに関する。
ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】大容量情報担持媒体として光ディスクが
注目されている。このなかには、磁界変調方式の光磁気
ディスクがあり、データファイル等への応用が期待され
ている。磁界変調方式では、光ヘッドからレーザー光を
ディスクの記録層にＤＣ的に照射してその温度を上昇さ
せておき、これと同時に、変調された磁界を光ヘッドの
反対側に配置した磁気ヘッドから記録層に印加し、記録
を行なう。従って、この方式ではオーバーライト記録が
可能である。
注目されている。このなかには、磁界変調方式の光磁気
ディスクがあり、データファイル等への応用が期待され
ている。磁界変調方式では、光ヘッドからレーザー光を
ディスクの記録層にＤＣ的に照射してその温度を上昇さ
せておき、これと同時に、変調された磁界を光ヘッドの
反対側に配置した磁気ヘッドから記録層に印加し、記録
を行なう。従って、この方式ではオーバーライト記録が
可能である。
【０００３】従来の光磁気ディスク装置では、主として
ＣＳＳ方式が採用されている。ＣＳＳ方式では浮上型の
磁気ヘッドが用いられ、ディスク回転の開始および終了
時にディスク表面に磁気ヘッドが接触する。このため、
ディスクの磁気ヘッド側表面には、磁気ヘッドの吸着や
クラッシュを防止するための保護コートが設けられてい
る。
ＣＳＳ方式が採用されている。ＣＳＳ方式では浮上型の
磁気ヘッドが用いられ、ディスク回転の開始および終了
時にディスク表面に磁気ヘッドが接触する。このため、
ディスクの磁気ヘッド側表面には、磁気ヘッドの吸着や
クラッシュを防止するための保護コートが設けられてい
る。
【０００４】ＣＳＳ方式に用いられる光磁気ディスクの
保護コートには、例えば、含フッ素ポリウレタン系樹脂
を主成分とする樹脂組成物（特開平２−３０１０４０
号、同２−３０１０４１号）や、有機溶媒に可溶性のフ
ッ素樹脂を主成分とする樹脂組成物（特開平３−３７８
４４号）を用いることが提案されており、これらにおい
て、記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾向
の大きい金属元素や滑材を含有させる旨も提案されてい
る。また、特開昭６３−９８８５７号公報には、エポキ
シ樹脂等の樹脂中にフッ化カーボン系潤滑剤を含ませる
旨が提案されている。また、特開平２−４０１４９号に
は、紫外線硬化樹脂に、ステアリン酸エステル等の高級
脂肪酸エステルや、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、シ
リコーンオイル等の潤滑剤を混入させたものを用いる旨
が提案されている。さらに、特開平３−１７８４４号に
も潤滑層を用いる旨が提案されている。また、特開平３
−６２３３８号には、塗布により形成されるオーバーコ
ート層にシリコン樹脂やＮｉなどの微粒子を分散させ
て、その表面に０．１μm 以上０．５μm 以下の凹凸を
均一に存在させる旨が提案されている。また、特開昭６
３−２２２３４９号、特開昭６４−７０９４４号には、
光磁気記録層上に設けた保護膜上に、表面にマイクロポ
アを点在させかつそのポア中に液体潤滑剤を含浸させた
クラッシュ防止膜を設ける旨が提案されている。さら
に、特開平４−６４９３７号には、ボイドを形成した硬
化性樹脂からなり、かつボイド中に潤滑剤成分を含浸さ
せた保護層が提案されている。
保護コートには、例えば、含フッ素ポリウレタン系樹脂
を主成分とする樹脂組成物（特開平２−３０１０４０
号、同２−３０１０４１号）や、有機溶媒に可溶性のフ
ッ素樹脂を主成分とする樹脂組成物（特開平３−３７８
４４号）を用いることが提案されており、これらにおい
て、記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾向
の大きい金属元素や滑材を含有させる旨も提案されてい
る。また、特開昭６３−９８８５７号公報には、エポキ
シ樹脂等の樹脂中にフッ化カーボン系潤滑剤を含ませる
旨が提案されている。また、特開平２−４０１４９号に
は、紫外線硬化樹脂に、ステアリン酸エステル等の高級
脂肪酸エステルや、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、シ
リコーンオイル等の潤滑剤を混入させたものを用いる旨
が提案されている。さらに、特開平３−１７８４４号に
も潤滑層を用いる旨が提案されている。また、特開平３
−６２３３８号には、塗布により形成されるオーバーコ
ート層にシリコン樹脂やＮｉなどの微粒子を分散させ
て、その表面に０．１μm 以上０．５μm 以下の凹凸を
均一に存在させる旨が提案されている。また、特開昭６
３−２２２３４９号、特開昭６４−７０９４４号には、
光磁気記録層上に設けた保護膜上に、表面にマイクロポ
アを点在させかつそのポア中に液体潤滑剤を含浸させた
クラッシュ防止膜を設ける旨が提案されている。さら
に、特開平４−６４９３７号には、ボイドを形成した硬
化性樹脂からなり、かつボイド中に潤滑剤成分を含浸さ
せた保護層が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】最近、コンパクトディ
スク（ＣＤ）と同じ線速度で記録・再生が可能な光磁気
ディスクが、光学系を追加ないし変更するだけでＣＤと
駆動装置を共用できるために注目されている。ＣＤの線
速度は１．２〜１．４m/s と低速であるため、磁気ヘッ
ドを浮上させることができず、上記のようなＣＳＳ方式
を使うことができない。このため、ディスク表面から一
定距離に保たれる固定型磁気ヘッドを用いることが考え
られる。
スク（ＣＤ）と同じ線速度で記録・再生が可能な光磁気
ディスクが、光学系を追加ないし変更するだけでＣＤと
駆動装置を共用できるために注目されている。ＣＤの線
速度は１．２〜１．４m/s と低速であるため、磁気ヘッ
ドを浮上させることができず、上記のようなＣＳＳ方式
を使うことができない。このため、ディスク表面から一
定距離に保たれる固定型磁気ヘッドを用いることが考え
られる。
【０００６】しかし、固定型磁気ヘッドを用いた場合、
ディスクの面振れや駆動装置の振動により磁気ヘッドが
ディスクに衝突する恐れがある。また、ディスクの面振
れに磁気ヘッドを追随させるためにはサーボ手段を設け
る必要があり、駆動装置の構成が複雑となってしまう。
ディスクの面振れや駆動装置の振動により磁気ヘッドが
ディスクに衝突する恐れがある。また、ディスクの面振
れに磁気ヘッドを追随させるためにはサーボ手段を設け
る必要があり、駆動装置の構成が複雑となってしまう。
【０００７】このような事情から、本発明者らは磁気ヘ
ッドがディスク表面を常時摺動する構成とすることを考
え、この構成に対応する光磁気ディスクの保護コートの
検討を行なった。この結果、磁気ヘッドがディスク表面
において摺動する場合には、上記のＣＳＳ方式において
提案されている各種保護コートでは効果が不十分である
ことが判明した。
ッドがディスク表面を常時摺動する構成とすることを考
え、この構成に対応する光磁気ディスクの保護コートの
検討を行なった。この結果、磁気ヘッドがディスク表面
において摺動する場合には、上記のＣＳＳ方式において
提案されている各種保護コートでは効果が不十分である
ことが判明した。
【０００８】すなわち、磁気ヘッドが保護コート表面に
おいて常時摺動しているため、潤滑剤を混入させた保護
コートでは潤滑効果の持続性が不十分となる。より具体
的には、特開昭６３−９８８５７号公報のフッ化カーボ
ン系、特開平２−４０１４９号公報の高級脂肪酸のうち
通常のステアリン酸エステルや、そのほかの高級脂肪酸
ないしはそのエステルアミド、あるいはシリコーンオイ
ル等では、例えば高温下での保存等、保存や使用に従い
摩擦係数が増大したり、ヘッドの摺動音が生じたりし
て、走行性が悪化したり、ジッターが生じたりし、耐久
性が低い。また、塗膜中に微粒子を分散させて保護コー
トの表面粗さを大きくする方法を用いる場合には、ヘッ
ド摺動時に音が発生し、ジッターが悪くなる。また、金
属やセラミックスの微粒子は硬度が高いため、磁気ヘッ
ドを損傷する恐れがある。また、マイクロポアやボイド
を形成し、形成したポアやボイド中に潤滑剤を含浸させ
た保護コートでは、用いる樹脂材料等が限定され、かつ
製造工程が複雑であるばかりでなく、媒体としての寿命
が短かく、耐久性や摩擦特性などの点で不十分である。
おいて常時摺動しているため、潤滑剤を混入させた保護
コートでは潤滑効果の持続性が不十分となる。より具体
的には、特開昭６３−９８８５７号公報のフッ化カーボ
ン系、特開平２−４０１４９号公報の高級脂肪酸のうち
通常のステアリン酸エステルや、そのほかの高級脂肪酸
ないしはそのエステルアミド、あるいはシリコーンオイ
ル等では、例えば高温下での保存等、保存や使用に従い
摩擦係数が増大したり、ヘッドの摺動音が生じたりし
て、走行性が悪化したり、ジッターが生じたりし、耐久
性が低い。また、塗膜中に微粒子を分散させて保護コー
トの表面粗さを大きくする方法を用いる場合には、ヘッ
ド摺動時に音が発生し、ジッターが悪くなる。また、金
属やセラミックスの微粒子は硬度が高いため、磁気ヘッ
ドを損傷する恐れがある。また、マイクロポアやボイド
を形成し、形成したポアやボイド中に潤滑剤を含浸させ
た保護コートでは、用いる樹脂材料等が限定され、かつ
製造工程が複雑であるばかりでなく、媒体としての寿命
が短かく、耐久性や摩擦特性などの点で不十分である。
【０００９】本発明の主たる目的は、磁気ヘッドが常時
摺動する方式に用いられる光磁気ディスクにおいて、磁
気ヘッドとの間の摩擦低減効果が大きく、特に高温下で
の保存や使用、あるいはアルコール等の薬品との接触に
よってもその持続性が良好であり、ヘッド摺動音の発生
がなく、ジッターも少なく、耐摺動の高い保護コートを
提供することである。
摺動する方式に用いられる光磁気ディスクにおいて、磁
気ヘッドとの間の摩擦低減効果が大きく、特に高温下で
の保存や使用、あるいはアルコール等の薬品との接触に
よってもその持続性が良好であり、ヘッド摺動音の発生
がなく、ジッターも少なく、耐摺動の高い保護コートを
提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１２）の本発明により達成される。 （１）基板上に記録層を有し、下記式Ｉで表わされる脂
肪族エステルと樹脂とを含有する保護コートを記録層側
表面に有し、磁界変調方式の光磁気記録に用いられ、前
記保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するように使用さ
れる光磁気ディスク。 式Ｉ Ｒ1 −ＣＯＯ−Ｒ2 ［式Ｉ中、Ｒ1 は炭素原子数１０以上の直鎖もしくは分
岐を有する飽和脂肪族炭化水素残基または炭素原子数１
０以上の不飽和脂肪族炭化水素残基を表わし、Ｒ2 は炭
素原子数１０以上の分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残
基または炭素原子数１０以上の不飽和脂肪族炭化水素残
基を表わす。］ （２）Ｒ1 が直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基であり、Ｒ
2 が分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残基である上記
（１）の光磁気ディスク。 （３）前記Ｒ1 およびＲ2 のそれぞれの炭素原子数が１
０〜３０である上記（１）または（２）の光磁気ディス
ク。 （４）前記脂肪酸エステルは常温で液体である上記
（１）〜（３）のいずれかの光磁気ディスク。 （５）前記脂肪酸エステルが０．１〜２０重量％含有さ
れる上記（１）〜（４）のいずれかの光磁気ディスク。 （６）前記脂肪酸エステルが前記保護コート表面に存在
する上記（１）〜（５）のいずれかの光磁気ディスク。 （７）前記保護コート表面にマイクロポアが形成され、
マイクロポア内に前記脂肪酸エステルが存在する上記
（１）〜（６）のいずれかの光磁気ディスク。 （８）前記保護コートの表面から１／２の膜厚までの前
記脂肪酸エステルの含有量が、前記保護コートの記録層
側界面から１／２の膜厚までの前記脂肪酸エステルの含
有量より多い上記（１）〜（７）のいずれかの光磁気デ
ィスク。 （９）前記保護コートの表面から１／２の膜厚までにマ
イクロポアが形成され、マイクロポア内に前記脂肪酸エ
ステルが存在する上記（１）〜（８）のいずれかの光磁
気ディスク。 （１０）前記樹脂が放射線硬化樹脂である上記（１）〜
（９）のいずれかの光磁気ディスク。 （１１）前記保護コートの厚さが１〜３０μm である上
記（１）〜（10）のいずれかの光磁気ディスク。 （１２）基板上に記録層を有し、潤滑剤と樹脂とを含有
する保護コートを記録層側表面に有し、磁界変調方式の
光磁気記録に用いられ、前記保護コート表面で磁気ヘッ
ドが摺動するように使用される光磁気ディスクにおい
て、前記保護コートは、潤滑剤と放射線硬化型化合物と
を含有する組成物を放射線硬化して得られ、放射線硬化
により前記保護コート表面ないしその近傍に偏在した状
態でマイクロポアを形成するとともに、前記保護コート
表面ないしその近傍のマイクロポア内に潤滑剤を存在さ
せた光磁気ディスク。
（１）〜（１２）の本発明により達成される。 （１）基板上に記録層を有し、下記式Ｉで表わされる脂
肪族エステルと樹脂とを含有する保護コートを記録層側
表面に有し、磁界変調方式の光磁気記録に用いられ、前
記保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するように使用さ
れる光磁気ディスク。 式Ｉ Ｒ1 −ＣＯＯ−Ｒ2 ［式Ｉ中、Ｒ1 は炭素原子数１０以上の直鎖もしくは分
岐を有する飽和脂肪族炭化水素残基または炭素原子数１
０以上の不飽和脂肪族炭化水素残基を表わし、Ｒ2 は炭
素原子数１０以上の分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残
基または炭素原子数１０以上の不飽和脂肪族炭化水素残
基を表わす。］ （２）Ｒ1 が直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基であり、Ｒ
2 が分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残基である上記
（１）の光磁気ディスク。 （３）前記Ｒ1 およびＲ2 のそれぞれの炭素原子数が１
０〜３０である上記（１）または（２）の光磁気ディス
ク。 （４）前記脂肪酸エステルは常温で液体である上記
（１）〜（３）のいずれかの光磁気ディスク。 （５）前記脂肪酸エステルが０．１〜２０重量％含有さ
れる上記（１）〜（４）のいずれかの光磁気ディスク。 （６）前記脂肪酸エステルが前記保護コート表面に存在
する上記（１）〜（５）のいずれかの光磁気ディスク。 （７）前記保護コート表面にマイクロポアが形成され、
マイクロポア内に前記脂肪酸エステルが存在する上記
（１）〜（６）のいずれかの光磁気ディスク。 （８）前記保護コートの表面から１／２の膜厚までの前
記脂肪酸エステルの含有量が、前記保護コートの記録層
側界面から１／２の膜厚までの前記脂肪酸エステルの含
有量より多い上記（１）〜（７）のいずれかの光磁気デ
ィスク。 （９）前記保護コートの表面から１／２の膜厚までにマ
イクロポアが形成され、マイクロポア内に前記脂肪酸エ
ステルが存在する上記（１）〜（８）のいずれかの光磁
気ディスク。 （１０）前記樹脂が放射線硬化樹脂である上記（１）〜
（９）のいずれかの光磁気ディスク。 （１１）前記保護コートの厚さが１〜３０μm である上
記（１）〜（10）のいずれかの光磁気ディスク。 （１２）基板上に記録層を有し、潤滑剤と樹脂とを含有
する保護コートを記録層側表面に有し、磁界変調方式の
光磁気記録に用いられ、前記保護コート表面で磁気ヘッ
ドが摺動するように使用される光磁気ディスクにおい
て、前記保護コートは、潤滑剤と放射線硬化型化合物と
を含有する組成物を放射線硬化して得られ、放射線硬化
により前記保護コート表面ないしその近傍に偏在した状
態でマイクロポアを形成するとともに、前記保護コート
表面ないしその近傍のマイクロポア内に潤滑剤を存在さ
せた光磁気ディスク。
【００１１】
【作用および効果】本発明の光磁気ディスクでは、ディ
スクの磁気ヘッド摺動面に形成される樹脂製の保護コー
トに、所定の炭素原子数で、所定の分岐ないし不飽和構
造をもつ脂肪酸エステルを含有させる。これにより、常
時接触型磁気ヘッドとの間の摩擦を十分に低くすること
ができる。また、ヘッド摺動の際の音の発生もなく、ジ
ッターも小さい。そして、特に高温下等での保存や使
用、あるいはアルコール等の薬品との接触による摩擦の
増大や、摺動音の発生や、ジッターの増大も少ない。ま
た、常時接触している磁気ヘッドに損傷を与えることが
ない。
スクの磁気ヘッド摺動面に形成される樹脂製の保護コー
トに、所定の炭素原子数で、所定の分岐ないし不飽和構
造をもつ脂肪酸エステルを含有させる。これにより、常
時接触型磁気ヘッドとの間の摩擦を十分に低くすること
ができる。また、ヘッド摺動の際の音の発生もなく、ジ
ッターも小さい。そして、特に高温下等での保存や使
用、あるいはアルコール等の薬品との接触による摩擦の
増大や、摺動音の発生や、ジッターの増大も少ない。ま
た、常時接触している磁気ヘッドに損傷を与えることが
ない。
【００１２】なお、後述の実施例からも明らかになる
が、特開平３−１７８４４号公報のステアリン酸エステ
ルでも、Ｒ2 が上記のとおりでないと、本発明の効果は
全く実現しない。これは、この公報の光磁気ディスク
は、本発明とは異なる非接触型の磁気ヘッドとともに用
いられるものであるからである。
が、特開平３−１７８４４号公報のステアリン酸エステ
ルでも、Ｒ2 が上記のとおりでないと、本発明の効果は
全く実現しない。これは、この公報の光磁気ディスク
は、本発明とは異なる非接触型の磁気ヘッドとともに用
いられるものであるからである。
【００１３】本発明では、上記の脂肪酸エステルを用い
る場合も含め、放射線硬化型化合物と潤滑剤、好ましく
は脂肪酸エステルとを含有する組成物を放射線硬化さ
せ、この放射線硬化により、表面ないしその近傍にマイ
クロポアを形成し、かつ表面ないしその近傍に潤滑剤を
偏析させた保護コートを得ることが好ましい。これによ
り、上記の特性の向上効果が得られる。
る場合も含め、放射線硬化型化合物と潤滑剤、好ましく
は脂肪酸エステルとを含有する組成物を放射線硬化さ
せ、この放射線硬化により、表面ないしその近傍にマイ
クロポアを形成し、かつ表面ないしその近傍に潤滑剤を
偏析させた保護コートを得ることが好ましい。これによ
り、上記の特性の向上効果が得られる。
【００１４】なお、後述の実施例からも明らかになる
が、特開昭６３−２２２３４９号、特開昭６４−７０９
４４号公報に記載のような、流動パラフィン等の硬化に
関与しない材料と硬化性材料との組成物を硬化させ、そ
の後硬化に関与しない材料を抽出して除去し、その除去
後の穴に潤滑剤を含浸させて得られたクラッシュ防止膜
や、特開平４−６４９３７号公報に記載のような、熱可
塑性樹脂を分散した硬化性樹脂組成物を用い、硬化させ
た後、熱可塑性樹脂を溶出して除去して形成したボイド
中に潤滑剤を含浸させて得られた保護層では、本発明の
効果は得られない。また、本発明に比べ製法が複雑であ
る。
が、特開昭６３−２２２３４９号、特開昭６４−７０９
４４号公報に記載のような、流動パラフィン等の硬化に
関与しない材料と硬化性材料との組成物を硬化させ、そ
の後硬化に関与しない材料を抽出して除去し、その除去
後の穴に潤滑剤を含浸させて得られたクラッシュ防止膜
や、特開平４−６４９３７号公報に記載のような、熱可
塑性樹脂を分散した硬化性樹脂組成物を用い、硬化させ
た後、熱可塑性樹脂を溶出して除去して形成したボイド
中に潤滑剤を含浸させて得られた保護層では、本発明の
効果は得られない。また、本発明に比べ製法が複雑であ
る。
【００１５】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
に説明する。
【００１６】本発明の光磁気ディスクは、基板上に記録
層を有し、記録層側表面に樹脂製の保護コートを有す
る。具体的には、例えば図１に示される構成とすること
が好ましい。同図において、光磁気ディスク１は、基板
２表面上に、保護層４、記録層５、保護層６、反射層
７、保護コート８を有する。ディスク駆動時には、保護
コート８表面で磁気ヘッドが摺動する。なお、磁気ヘッ
ドは、通常、サスペンションで支持する構成としてディ
スクの面振れに追従可能とするので、ディスク表面から
離れることはない。
層を有し、記録層側表面に樹脂製の保護コートを有す
る。具体的には、例えば図１に示される構成とすること
が好ましい。同図において、光磁気ディスク１は、基板
２表面上に、保護層４、記録層５、保護層６、反射層
７、保護コート８を有する。ディスク駆動時には、保護
コート８表面で磁気ヘッドが摺動する。なお、磁気ヘッ
ドは、通常、サスペンションで支持する構成としてディ
スクの面振れに追従可能とするので、ディスク表面から
離れることはない。
【００１７】保護コート８は上記式Ｉで表わされる脂肪
酸エステルを含有する。式Ｉにおいて、Ｒ1 は炭素原子
数１０以上、特に１０〜３０、より好ましくは１１〜２
４の直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基を表す。あるいはＲ
1 は、炭素原子数１０以上、特に１０〜３０、より好ま
しくは１０〜２４の分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残
基を表す。分岐は１〜１０、特に１〜５が好ましく、分
岐の炭素原子数に特に制限はない。あるいはＲ1 は炭素
原子数１０以上、特に１０〜３０、より好ましくは１２
〜２４の不飽和の脂肪族炭化水素残基を表す。不飽和脂
肪族炭化水素残基中の二重結合数は１〜３、特に１〜２
が好ましく、またその位置も任意であり、通常直鎖であ
る。
酸エステルを含有する。式Ｉにおいて、Ｒ1 は炭素原子
数１０以上、特に１０〜３０、より好ましくは１１〜２
４の直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基を表す。あるいはＲ
1 は、炭素原子数１０以上、特に１０〜３０、より好ま
しくは１０〜２４の分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残
基を表す。分岐は１〜１０、特に１〜５が好ましく、分
岐の炭素原子数に特に制限はない。あるいはＲ1 は炭素
原子数１０以上、特に１０〜３０、より好ましくは１２
〜２４の不飽和の脂肪族炭化水素残基を表す。不飽和脂
肪族炭化水素残基中の二重結合数は１〜３、特に１〜２
が好ましく、またその位置も任意であり、通常直鎖であ
る。
【００１８】またＲ2 は炭素原子数１０以上、特に１０
〜３０、より好ましくは１０〜２４の分岐を有する飽和
脂肪族炭化水素残基を表す。分岐は１〜１０、特に１〜
５が好ましく、分岐の炭素原子数に特に制限はない。あ
るいはＲ2 は炭素原子数１０以上、特に１０〜３０、よ
り好ましくは１２〜２４の不飽和の脂肪族炭化水素残基
を表す。この不飽和脂肪族炭化水素残基中の二重結合数
は１〜３、特に１〜２が好ましく、またその位置も任意
であり、通常直鎖である。
〜３０、より好ましくは１０〜２４の分岐を有する飽和
脂肪族炭化水素残基を表す。分岐は１〜１０、特に１〜
５が好ましく、分岐の炭素原子数に特に制限はない。あ
るいはＲ2 は炭素原子数１０以上、特に１０〜３０、よ
り好ましくは１２〜２４の不飽和の脂肪族炭化水素残基
を表す。この不飽和脂肪族炭化水素残基中の二重結合数
は１〜３、特に１〜２が好ましく、またその位置も任意
であり、通常直鎖である。
【００１９】このような中で、最も好ましいのはＲ1 が
直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基であり、Ｒ2 が分岐を有
する飽和脂肪族炭化水素残基であるものである。このも
のは、特に高温での保存や使用による特性劣化が最も少
なく、摩擦係数も小さい。なお、これらの脂肪酸エステ
ルは常温で液体であり、−４０℃〜２０℃、特に−３０
〜１０℃の融点をもつことが好ましい。また、脂肪酸エ
ステルの総炭素原子数は２０〜４０程度が好ましい。
直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基であり、Ｒ2 が分岐を有
する飽和脂肪族炭化水素残基であるものである。このも
のは、特に高温での保存や使用による特性劣化が最も少
なく、摩擦係数も小さい。なお、これらの脂肪酸エステ
ルは常温で液体であり、−４０℃〜２０℃、特に−３０
〜１０℃の融点をもつことが好ましい。また、脂肪酸エ
ステルの総炭素原子数は２０〜４０程度が好ましい。
【００２０】このような脂肪酸エステルの具体例を以下
に挙げる。なお、このような脂肪酸は市販のものを用い
ればよい。
に挙げる。なお、このような脂肪酸は市販のものを用い
ればよい。
【００２１】
【表１】
【００２２】保護コート８全体に対する式Ｉの脂肪酸エ
ステルの含有量は、０．１〜２０重量％、特に０．５〜
１０重量％であることが好ましい。含有量が少なすぎる
と摩擦低減効果が不十分となり、含有量が多すぎると、
分散状態が不良となり、また、放射線硬化樹脂の硬化性
不良が発生したりする。
ステルの含有量は、０．１〜２０重量％、特に０．５〜
１０重量％であることが好ましい。含有量が少なすぎる
と摩擦低減効果が不十分となり、含有量が多すぎると、
分散状態が不良となり、また、放射線硬化樹脂の硬化性
不良が発生したりする。
【００２３】脂肪酸エステルは、通常、保護コート８中
に均一に分散含有させることが好ましいが、必要に応じ
て溶液に溶解し、これを保護コート表面に塗布したりす
ることにより表層に偏在させてもよい。また、図示例で
は、保護コート８を単層で設けているが、保護コート８
を複数層設け、少なくともその表面側の層に脂肪酸エス
テルを含有させてもよい。保護コート８を２層以上の積
層体とするときには、単層塗りの際のピンホール等が解
消し、耐候性が向上する。
に均一に分散含有させることが好ましいが、必要に応じ
て溶液に溶解し、これを保護コート表面に塗布したりす
ることにより表層に偏在させてもよい。また、図示例で
は、保護コート８を単層で設けているが、保護コート８
を複数層設け、少なくともその表面側の層に脂肪酸エス
テルを含有させてもよい。保護コート８を２層以上の積
層体とするときには、単層塗りの際のピンホール等が解
消し、耐候性が向上する。
【００２４】単層あるいは積層構造の保護コート８を構
成する樹脂は、放射線硬化樹脂であることが好ましい。
具体的には、放射線硬化型化合物やその重合用組成物を
放射線硬化させた物質から構成されることが好ましい。
このようなものとしては、イオン化エネルギーに感応
し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアク
リル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合
物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートの
ようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導
体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋あるい
は重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、
オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができる。こ
れらは１種のみ用いても２種以上併用してもよい。
成する樹脂は、放射線硬化樹脂であることが好ましい。
具体的には、放射線硬化型化合物やその重合用組成物を
放射線硬化させた物質から構成されることが好ましい。
このようなものとしては、イオン化エネルギーに感応
し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアク
リル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合
物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートの
ようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導
体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋あるい
は重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、
オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができる。こ
れらは１種のみ用いても２種以上併用してもよい。
【００２５】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート等も挙げられるが、特に好まし
いものとしては、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリ
レート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレート、1,6-
ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げられる
が、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタエリス
リトールアクリレート（メタクリレート)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート（メタクリレート) 、ト
リメチロールプロパンジアクリレート（メタクリレー
ト) 、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、あるい
はこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたも
の、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート
（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号に示
されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタ
クリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル基のつ
いた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号に示さ
れる特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノマーお
よび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、放射線
硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレー
トやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あるいは
これらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたもの等
が挙げられる。
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート等も挙げられるが、特に好まし
いものとしては、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリ
レート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレート、1,6-
ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げられる
が、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタエリス
リトールアクリレート（メタクリレート)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート（メタクリレート) 、ト
リメチロールプロパンジアクリレート（メタクリレー
ト) 、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、あるい
はこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたも
の、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート
（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号に示
されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタ
クリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル基のつ
いた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号に示さ
れる特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノマーお
よび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、放射線
硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレー
トやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あるいは
これらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたもの等
が挙げられる。
【００２６】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
【００２７】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。
【００２８】保護コート８を形成するための放射線硬化
型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂およ
び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用さ
れる。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好
ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有する
ものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポ
キシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，
４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４
−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニル
シクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂
環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、
良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に
１００〜２００であることが好ましい。
型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂およ
び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用さ
れる。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好
ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有する
ものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポ
キシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，
４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４
−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニル
シクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂
環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、
良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に
１００〜２００であることが好ましい。
【００２９】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ6 アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ6 アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。
【００３０】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。
【００３１】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。組成物中
の光カチオン重合触媒の含有量は、エポキシ樹脂１００
重量部に対し、０．０５〜０．７重量部、特に０．１〜
０．５重量部であることが好ましい。このようななかで
も、放射線硬化型化合物としてアクリル基を有するもの
を用い、光重合増感剤ないし開始剤を含有する塗膜を放
射線、特に紫外線硬化したものであることが好ましい。
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。組成物中
の光カチオン重合触媒の含有量は、エポキシ樹脂１００
重量部に対し、０．０５〜０．７重量部、特に０．１〜
０．５重量部であることが好ましい。このようななかで
も、放射線硬化型化合物としてアクリル基を有するもの
を用い、光重合増感剤ないし開始剤を含有する塗膜を放
射線、特に紫外線硬化したものであることが好ましい。
【００３２】保護コート８の厚さは、全体で１〜３０μ
m 、好ましくは２〜２０μm とするのがよい。膜厚が薄
すぎると一様な膜を形成することが困難となり、耐久性
が不十分となってくる。また、厚すぎると、硬化の際の
収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生
し易くなってくる。
m 、好ましくは２〜２０μm とするのがよい。膜厚が薄
すぎると一様な膜を形成することが困難となり、耐久性
が不十分となってくる。また、厚すぎると、硬化の際の
収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生
し易くなってくる。
【００３３】保護コート８中の脂肪酸エステルは、好ま
しくは放射線硬化された樹脂中で、表面近傍に偏析して
いることが好ましい。より具体的には、脂肪酸エステル
が保護コート表面に存在することが好ましい。あるいは
保護コートを膜厚の１／２で切った場合、表面側の１／
２の部分の脂肪酸エステルの含有量Ｃu が、記録層側の
１／２の部分の含有量Ｃl より大きいことが好ましい。
本発明で用いる脂肪酸エステルは、放射線硬化後も樹脂
とは結合しないので、表面に存在するか否かは、保護コ
ート表面を適当な溶剤、例えばアセトン、エタノール、
クロロホルム、トルエン、ベンゼン等で洗い流したり、
超音波により抽出したりし、これを例えばガスクロマト
グラムで固定することによって確認することができる。
この場合、このようにして測定された表面担持量は、１
〜５００mg/m2 程度であることが好ましい。
しくは放射線硬化された樹脂中で、表面近傍に偏析して
いることが好ましい。より具体的には、脂肪酸エステル
が保護コート表面に存在することが好ましい。あるいは
保護コートを膜厚の１／２で切った場合、表面側の１／
２の部分の脂肪酸エステルの含有量Ｃu が、記録層側の
１／２の部分の含有量Ｃl より大きいことが好ましい。
本発明で用いる脂肪酸エステルは、放射線硬化後も樹脂
とは結合しないので、表面に存在するか否かは、保護コ
ート表面を適当な溶剤、例えばアセトン、エタノール、
クロロホルム、トルエン、ベンゼン等で洗い流したり、
超音波により抽出したりし、これを例えばガスクロマト
グラムで固定することによって確認することができる。
この場合、このようにして測定された表面担持量は、１
〜５００mg/m2 程度であることが好ましい。
【００３４】また、Ｃu とＣl とは、保護コートを実際
に１／２の膜厚で切って剥離し、これを溶剤抽出し、ガ
スクロマトグラムで測定すればよい。あるいは、このと
き保護コート表面、１／２膜厚切断面、記録層側界面そ
れぞれの表面担持量を測定し、Ｃu 、Ｃl を推定しても
よい。これらの場合、Ｃl ／Ｃu は１／５以下、一般に
０〜１／１０であることが好ましい。以上のように表面
部に脂肪酸エステルを偏析させることにより、摩擦係数
がより一層減少し、耐久走行性も安定する。また、摺動
音の発生がより一層減少し、ジッターも安定する。そし
て、これらの保存や使用による経時劣化も減少する。
に１／２の膜厚で切って剥離し、これを溶剤抽出し、ガ
スクロマトグラムで測定すればよい。あるいは、このと
き保護コート表面、１／２膜厚切断面、記録層側界面そ
れぞれの表面担持量を測定し、Ｃu 、Ｃl を推定しても
よい。これらの場合、Ｃl ／Ｃu は１／５以下、一般に
０〜１／１０であることが好ましい。以上のように表面
部に脂肪酸エステルを偏析させることにより、摩擦係数
がより一層減少し、耐久走行性も安定する。また、摺動
音の発生がより一層減少し、ジッターも安定する。そし
て、これらの保存や使用による経時劣化も減少する。
【００３５】本発明では、上記のように保護コート表面
部に脂肪酸エステルを偏析させることが好ましいが、こ
の場合さらに保護コートの、特に表面にマイクロポアを
形成し、保護コート表面のマイクロポア内に脂肪酸エス
テルを存在させることが好ましい。すなわち、脂肪酸エ
ステルの表面部偏析とともに、表面およびその近傍には
閉空間を形成するマイクロポアが一部表面で破断された
状態で存在することになる。マイクロポアは、保護コー
トの全体厚にもよるが、保護コートの表面側１／２部分
に存在することが好ましく、さらには表層のみに形成さ
れることが好ましい。ここで、「表層のみに形成され
る」とは、マイクロポアが破断された状態で開口して保
護コート表面に存在している状態をいう。従って、閉空
間を形成するポアが保護コート中に実質的に存在しない
か、極めて少ないことが好ましい。
部に脂肪酸エステルを偏析させることが好ましいが、こ
の場合さらに保護コートの、特に表面にマイクロポアを
形成し、保護コート表面のマイクロポア内に脂肪酸エス
テルを存在させることが好ましい。すなわち、脂肪酸エ
ステルの表面部偏析とともに、表面およびその近傍には
閉空間を形成するマイクロポアが一部表面で破断された
状態で存在することになる。マイクロポアは、保護コー
トの全体厚にもよるが、保護コートの表面側１／２部分
に存在することが好ましく、さらには表層のみに形成さ
れることが好ましい。ここで、「表層のみに形成され
る」とは、マイクロポアが破断された状態で開口して保
護コート表面に存在している状態をいう。従って、閉空
間を形成するポアが保護コート中に実質的に存在しない
か、極めて少ないことが好ましい。
【００３６】マイクロポアの平均径は０．０１〜１μm
程度が好ましく、深さも平均で０．０１〜１μm である
ことが好ましい。従って、マイクロポアの保護コートに
おける存在領域は、表面から２μm 以下、さらには１．
２μm 以下の領域とすることが好ましく、特には０．０
１〜１．２μm の領域とすることが好ましい。また、マ
イクロポアの保護コート表面、あるいは表面から２μm
までの領域における存在率は、上方から観察したとき、
１０μm2当りの個数で表わして、５０〜５００個程度と
することが好ましい。
程度が好ましく、深さも平均で０．０１〜１μm である
ことが好ましい。従って、マイクロポアの保護コートに
おける存在領域は、表面から２μm 以下、さらには１．
２μm 以下の領域とすることが好ましく、特には０．０
１〜１．２μm の領域とすることが好ましい。また、マ
イクロポアの保護コート表面、あるいは表面から２μm
までの領域における存在率は、上方から観察したとき、
１０μm2当りの個数で表わして、５０〜５００個程度と
することが好ましい。
【００３７】なお、特に、保護コートの記録層側の１／
２部分には、マイクロポアは実質的に存在しないことが
好ましい。「マイクロポアは実質的に存在しない」と
は、１０μm3当りのマイクロポアの存在個数が１０個以
下のことをいい、好ましくは０個であることが好まし
い。
２部分には、マイクロポアは実質的に存在しないことが
好ましい。「マイクロポアは実質的に存在しない」と
は、１０μm3当りのマイクロポアの存在個数が１０個以
下のことをいい、好ましくは０個であることが好まし
い。
【００３８】また、表面に形成されるマイクロポアは脂
肪酸エステルで充填されていることが好ましく、表面で
脂肪酸エステルが一部ポア外にはみ出た構造となってい
ることが好ましく、保護コートの表面を脂肪酸エステル
の薄膜で覆う形とすることが好ましい。
肪酸エステルで充填されていることが好ましく、表面で
脂肪酸エステルが一部ポア外にはみ出た構造となってい
ることが好ましく、保護コートの表面を脂肪酸エステル
の薄膜で覆う形とすることが好ましい。
【００３９】このような薄膜の厚さは、ポアの深さを無
視した場合１０〜５００nm程度である。
視した場合１０〜５００nm程度である。
【００４０】上記のようにマイクロポアを形成させ、か
つポア内に脂肪酸エステルを存在させることにより、保
護コート表面部に脂肪酸エステルを偏析させた場合と同
等の効果が得られるほか、潤滑効果の持続性を向上させ
ることができる。このため、例えばアルコール等の薬品
と接触したのちにおいても摩擦の特性劣化が少ない。
つポア内に脂肪酸エステルを存在させることにより、保
護コート表面部に脂肪酸エステルを偏析させた場合と同
等の効果が得られるほか、潤滑効果の持続性を向上させ
ることができる。このため、例えばアルコール等の薬品
と接触したのちにおいても摩擦の特性劣化が少ない。
【００４１】なお、マイクロポアの存在は、光学顕微鏡
や走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察することがで
きる。また、径や深さ、あるいは単位面積もしくは単位
体積当りのマイクロポアの個数はＳＥＭ観察により求め
ることができる。
や走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察することがで
きる。また、径や深さ、あるいは単位面積もしくは単位
体積当りのマイクロポアの個数はＳＥＭ観察により求め
ることができる。
【００４２】さらに、脂肪酸エステルの表面担持量は、
この場合も、上記と同様にして求めることができ、その
量も上記と同様である。
この場合も、上記と同様にして求めることができ、その
量も上記と同様である。
【００４３】なお、保護コート８を複数層設けるとき
は、表面側の層にマイクロポアを形成し、かつポア内に
脂肪酸エステルを存在させるものとすればよい。
は、表面側の層にマイクロポアを形成し、かつポア内に
脂肪酸エステルを存在させるものとすればよい。
【００４４】このような保護コート８を形成するには、
例えば以下のようにする。まず、前記のような樹脂、好
ましくは放射線硬化樹脂用組成物に前記の液状の脂肪酸
エステルを所定量添加し、このものの反射層７上に形成
する。塗膜の形成方法に特に制限はなく、通常、スピン
コート、スクリーン印刷、グラビア塗布、スプレーコー
ト、ディッピング等、種々の公知の方法から適宜選択す
ればよい。この際の塗布条件は、重合用組成物の粘度、
目的とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
ただし、保護コートを単層構造としたり、積層構造とす
るときの最下層保護コートはスピンコートとすることが
好ましい。このとき、ゴミやチリの影響が防止され、量
産性が向上する。
例えば以下のようにする。まず、前記のような樹脂、好
ましくは放射線硬化樹脂用組成物に前記の液状の脂肪酸
エステルを所定量添加し、このものの反射層７上に形成
する。塗膜の形成方法に特に制限はなく、通常、スピン
コート、スクリーン印刷、グラビア塗布、スプレーコー
ト、ディッピング等、種々の公知の方法から適宜選択す
ればよい。この際の塗布条件は、重合用組成物の粘度、
目的とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
ただし、保護コートを単層構造としたり、積層構造とす
るときの最下層保護コートはスピンコートとすることが
好ましい。このとき、ゴミやチリの影響が防止され、量
産性が向上する。
【００４５】次いで、紫外線を照射して塗膜を硬化す
る。なお、場合によっては、加熱後に紫外線を照射して
もよく、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。
塗膜に照射する紫外線強度は、通常、５０mW/cm2程度以
上、照射量は、通常、２００〜２０００mJ/cm2程度とす
ればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常
のものを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化
合物はラジカル重合する。
る。なお、場合によっては、加熱後に紫外線を照射して
もよく、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。
塗膜に照射する紫外線強度は、通常、５０mW/cm2程度以
上、照射量は、通常、２００〜２０００mJ/cm2程度とす
ればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常
のものを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化
合物はラジカル重合する。
【００４６】このような場合、脂肪酸エステルを表面近
傍に偏析させるには、紫外線による硬化を比較的ゆるや
かに行なうことが好ましい。これにより、脂肪酸エステ
ルが硬化時に表面部に集合してくるからである。このよ
うな条件としては、２００〜１０００mJ/cm2程度の積算
光量を、表面温度が３０℃〜６５℃となるような範囲内
で与えるのが好ましい。
傍に偏析させるには、紫外線による硬化を比較的ゆるや
かに行なうことが好ましい。これにより、脂肪酸エステ
ルが硬化時に表面部に集合してくるからである。このよ
うな条件としては、２００〜１０００mJ/cm2程度の積算
光量を、表面温度が３０℃〜６５℃となるような範囲内
で与えるのが好ましい。
【００４７】また、表面にマイクロポアを形成し、かつ
脂肪酸エステルをマイクロポア内に存在させるには、表
面近傍に偏析させる場合とほぼ同様の紫外線硬化条件と
すればよい。なお、具体的には用いる脂肪酸エステルや
樹脂、あるいは塗膜形成用塗布液におけるこれら成分の
組成比などに応じて選択すればよい。本発明に用いる硬
化前の塗布液は、樹脂および脂肪酸エステルが相溶して
いるものであり、スピンコート等の塗布条件、硬化条件
などの制御によりマイクロポアを形成し、かつマイクロ
ポア内に脂肪酸エステルを存在させるものである。
脂肪酸エステルをマイクロポア内に存在させるには、表
面近傍に偏析させる場合とほぼ同様の紫外線硬化条件と
すればよい。なお、具体的には用いる脂肪酸エステルや
樹脂、あるいは塗膜形成用塗布液におけるこれら成分の
組成比などに応じて選択すればよい。本発明に用いる硬
化前の塗布液は、樹脂および脂肪酸エステルが相溶して
いるものであり、スピンコート等の塗布条件、硬化条件
などの制御によりマイクロポアを形成し、かつマイクロ
ポア内に脂肪酸エステルを存在させるものである。
【００４８】本発明では、上記のように、放射線硬化に
より、表面ないしその近傍にマイクロポアを形成させ、
かつ表面ないしその近傍に式Ｉの脂肪酸エステルを偏析
させた保護コートを用いることが好ましく、この場合、
潤滑剤としては、上記のように、脂肪酸エステルを使用
することが好ましい。ただし、このような保護コートの
製法を採る場合、式Ｉの脂肪酸エステル系の潤滑剤のほ
か、変性シリコーン系の潤滑剤（例えばジメチルポリシ
ロキサンの両端をアルコール変性やアミン変性したも
の、あるいは側鎖をアルコール変性やアミン変成したも
のなど）、変性フッ素系の潤滑剤（例えば、パーフロロ
ポリエーテルの側鎖または両端をアルコール変性、アミ
ン変性ないしカルボキシ変性したものなど）、脂肪酸系
の潤滑剤（例えば、ネオデカン酸、ネオトリデカン酸、
イソステアリン酸などの分岐脂肪酸など）、式Ｉで表わ
されるもの以外の脂肪酸エステル系の潤滑剤（例えば、
トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、トリ−
２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ−２−エチル
ヘキサン酸ペンタエリスリトールなどの多価アルコール
の脂肪酸エステルなど）、などの液体潤滑剤を用いるこ
とができる。このような液体潤滑剤の保護コート中の含
有量等は、式Ｉの脂肪酸エステルと同様にすればよく、
同様の効果が得られる。
より、表面ないしその近傍にマイクロポアを形成させ、
かつ表面ないしその近傍に式Ｉの脂肪酸エステルを偏析
させた保護コートを用いることが好ましく、この場合、
潤滑剤としては、上記のように、脂肪酸エステルを使用
することが好ましい。ただし、このような保護コートの
製法を採る場合、式Ｉの脂肪酸エステル系の潤滑剤のほ
か、変性シリコーン系の潤滑剤（例えばジメチルポリシ
ロキサンの両端をアルコール変性やアミン変性したも
の、あるいは側鎖をアルコール変性やアミン変成したも
のなど）、変性フッ素系の潤滑剤（例えば、パーフロロ
ポリエーテルの側鎖または両端をアルコール変性、アミ
ン変性ないしカルボキシ変性したものなど）、脂肪酸系
の潤滑剤（例えば、ネオデカン酸、ネオトリデカン酸、
イソステアリン酸などの分岐脂肪酸など）、式Ｉで表わ
されるもの以外の脂肪酸エステル系の潤滑剤（例えば、
トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、トリ−
２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ−２−エチル
ヘキサン酸ペンタエリスリトールなどの多価アルコール
の脂肪酸エステルなど）、などの液体潤滑剤を用いるこ
とができる。このような液体潤滑剤の保護コート中の含
有量等は、式Ｉの脂肪酸エステルと同様にすればよく、
同様の効果が得られる。
【００４９】保護コート８の厚さは、全体で１〜３０μ
m 、好ましくは２〜２０μm とするのがよい。膜厚が薄
すぎると一様な膜を形成することが困難となり、耐久性
が不十分となってくる。また、厚すぎると、硬化の際の
収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生
し易くなってくる。これに加え、厚すぎると、脂肪酸エ
ステル等の潤滑剤が表面に偏析する前に硬化してしま
い、また、マイクロポアの形成が困難になる。
m 、好ましくは２〜２０μm とするのがよい。膜厚が薄
すぎると一様な膜を形成することが困難となり、耐久性
が不十分となってくる。また、厚すぎると、硬化の際の
収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生
し易くなってくる。これに加え、厚すぎると、脂肪酸エ
ステル等の潤滑剤が表面に偏析する前に硬化してしま
い、また、マイクロポアの形成が困難になる。
【００５０】本発明の光磁気ディスクに対し記録および
再生を行なう際には、光学ヘッドは基板２の裏面側（図
中下側）に位置し、基板を通してレーザー光が照射され
るので、基板には、ガラスや、ポリカーボネート、アク
リル樹脂、非晶質ポリオレフィン、スチレン系樹脂等の
透明樹脂が用いられる。基板２の記録層５側表面には、
通常、トラッキング用やアドレス用等のグルーブやピッ
トが形成されている。
再生を行なう際には、光学ヘッドは基板２の裏面側（図
中下側）に位置し、基板を通してレーザー光が照射され
るので、基板には、ガラスや、ポリカーボネート、アク
リル樹脂、非晶質ポリオレフィン、スチレン系樹脂等の
透明樹脂が用いられる。基板２の記録層５側表面には、
通常、トラッキング用やアドレス用等のグルーブやピッ
トが形成されている。
【００５１】保護層４および保護層６は、Ｃ／Ｎの向上
および記録層の腐食防止作用を有し、層厚は３０〜３０
０nm程度とされる。これら保護層は少なくとも一方、好
ましくは両方設けられることが望ましい。これらの保護
層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるいはこ
れらの混合物からなる誘電体物質から構成されることが
好ましく、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の
各種気相成膜法により形成されることが好ましい。
および記録層の腐食防止作用を有し、層厚は３０〜３０
０nm程度とされる。これら保護層は少なくとも一方、好
ましくは両方設けられることが望ましい。これらの保護
層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるいはこ
れらの混合物からなる誘電体物質から構成されることが
好ましく、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の
各種気相成膜法により形成されることが好ましい。
【００５２】記録層５は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層５は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、例えば、希土類金属元素
を含有する合金、特に希土類金属と遷移金属との合金
を、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等、特にス
パッタにより、非晶質膜として形成したものであること
が好ましい。具体的組成としては、ＴｂＦｅＣｏ、Ｄｙ
ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＧｄＦｅＣｏ等
が挙げられる。記録層５の層厚は、通常、１０〜１００
０nm程度である。
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層５は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、例えば、希土類金属元素
を含有する合金、特に希土類金属と遷移金属との合金
を、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等、特にス
パッタにより、非晶質膜として形成したものであること
が好ましい。具体的組成としては、ＴｂＦｅＣｏ、Ｄｙ
ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＧｄＦｅＣｏ等
が挙げられる。記録層５の層厚は、通常、１０〜１００
０nm程度である。
【００５３】反射層７は必要に応じて設けられる。反射
層７を構成する材質は、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等の比較的高反射率の金属、ある
いはこれらの合金、あるいはこれらの化合物であってよ
い。反射層７は、記録層５と同様にして設層すればよ
い。反射層７の層厚は３０〜２００nm程度とすることが
好ましい。
層７を構成する材質は、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等の比較的高反射率の金属、ある
いはこれらの合金、あるいはこれらの化合物であってよ
い。反射層７は、記録層５と同様にして設層すればよ
い。反射層７の層厚は３０〜２００nm程度とすることが
好ましい。
【００５４】なお、基板２の裏面側には、図示されるよ
うに透明なハードコート３を形成してもよい。ハードコ
ートの材質および厚さは、保護コート８と同様とすれば
よい。ハードコートには、例えば界面活性剤の添加など
により帯電防止性を付与することが好ましい。ハードコ
ートは、ディスク主面だけに限らず、ディスクの外周側
面や内周側面に設けてもよい。
うに透明なハードコート３を形成してもよい。ハードコ
ートの材質および厚さは、保護コート８と同様とすれば
よい。ハードコートには、例えば界面活性剤の添加など
により帯電防止性を付与することが好ましい。ハードコ
ートは、ディスク主面だけに限らず、ディスクの外周側
面や内周側面に設けてもよい。
【００５５】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００５６】実施例１ 下記表２に示される光磁気ディスクサンプルを作製し
た。
た。
【００５７】まず、外径６４mm、内径１１mm、記録部厚
さ１．２mmのポリカーボネート樹脂基板の一方の主面お
よび周側面に、ハードコート用組成物の塗膜を形成し、
この塗膜を紫外線硬化して、厚さ約５μm のハードコー
トを形成した。
さ１．２mmのポリカーボネート樹脂基板の一方の主面お
よび周側面に、ハードコート用組成物の塗膜を形成し、
この塗膜を紫外線硬化して、厚さ約５μm のハードコー
トを形成した。
【００５８】次いで、ハードコート形成面の反対側主面
に、ＳｉＮx 保護層を高周波マグネトロンスパッタによ
り層厚８０nmに設層した。次に、この保護層上に、Ｔｂ
23Ｆｅ72Ｃｏ5 の組成を有する記録層を、スパッタによ
り層厚２０nmに設層した。さらに、この記録層上に、前
記保護層と同組成の２０nmの保護層を高周波マグネトロ
ンスパッタにより設層し、この保護層上に、８０nmのＡ
ｌ合金反射層、保護コートおよび耐摺動性コートを順に
設層した。
に、ＳｉＮx 保護層を高周波マグネトロンスパッタによ
り層厚８０nmに設層した。次に、この保護層上に、Ｔｂ
23Ｆｅ72Ｃｏ5 の組成を有する記録層を、スパッタによ
り層厚２０nmに設層した。さらに、この記録層上に、前
記保護層と同組成の２０nmの保護層を高周波マグネトロ
ンスパッタにより設層し、この保護層上に、８０nmのＡ
ｌ合金反射層、保護コートおよび耐摺動性コートを順に
設層した。
【００５９】保護コートは、下記の重合用組成物の塗膜
をスピンコートによって形成し、この塗膜に紫外線を照
射して硬化したものであり、硬化後の平均厚さは約５μ
m とした。紫外線照射量は５００mJ/cm2、表面温度５５
℃とした。
をスピンコートによって形成し、この塗膜に紫外線を照
射して硬化したものであり、硬化後の平均厚さは約５μ
m とした。紫外線照射量は５００mJ/cm2、表面温度５５
℃とした。
【００６０】重合用組成物 オリゴエステルアクリレート （分子量５，０００） ５０重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート ５０重量部 アセトフェノン系光重合開始剤 ３重量部 下記表２に示される脂肪酸エステル３重量部
【００６１】また、脂肪酸エステルの替わりに平均粒径
１．０μm のＳｉＯ2 微粒子を５重量部分散して用いた
他は上記と同様にして作製したものを比較サンプルとし
た。
１．０μm のＳｉＯ2 微粒子を５重量部分散して用いた
他は上記と同様にして作製したものを比較サンプルとし
た。
【００６２】これらのサンプルについて、下記の評価を
行なった。結果を表２に示す。 （１）動摩擦係数 プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、１．
４m/s でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定
し、これから動摩擦係数μを算出した。荷重は２g とし
た。
行なった。結果を表２に示す。 （１）動摩擦係数 プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、１．
４m/s でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定
し、これから動摩擦係数μを算出した。荷重は２g とし
た。
【００６３】（２）摺動時の音 プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、ヘッ
ドを接触させて１．４m/s で回転させ、摺動時の音の発
生の有無を確認した。
ドを接触させて１．４m/s で回転させ、摺動時の音の発
生の有無を確認した。
【００６４】（３）高温保存性テスト ８５℃、約０％ＲＨにて４日間保存後、上記の摩擦係数
を求め、摺動音の有無を確認した。
を求め、摺動音の有無を確認した。
【００６５】
【表２】
【００６６】表２に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。
明らかである。
【００６７】実施例２ 保護コートとして、下記の重合用組成物を用い、紫外線
照射量は５００mJ/cm2、表面温度４０℃とした他は、実
施例１と同様にして各種サンプルを得た。
照射量は５００mJ/cm2、表面温度４０℃とした他は、実
施例１と同様にして各種サンプルを得た。
【００６８】重合用組成物 オリゴエステルアクリレート （分子量５，０００） ２０重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート ３０重量部 ジエチレングリコールジアクリレート ５０重量部 アセトフェノン系光重合開始剤 ３重量部 下記表３に示される脂肪酸エステル３重量部
【００６９】これら各サンプルは表面に脂肪酸エステル
が偏析しており、Ｃu ＞Ｃl のものであった。また、脂
肪酸エステルの表面担持量はいずれも、２００mg/m2 程
度と推定された。これらはガスクロマトグラフによって
確認した。
が偏析しており、Ｃu ＞Ｃl のものであった。また、脂
肪酸エステルの表面担持量はいずれも、２００mg/m2 程
度と推定された。これらはガスクロマトグラフによって
確認した。
【００７０】また、これら各サンプルは、表面にマイク
ロポアが形成されており、マイクロポア内には脂肪酸エ
ステルが充填されており保護コート表面を脂肪酸エステ
ルの薄膜（１００nm厚）が覆う形となっていた。マイク
ロポアは表面から１μm までの表層に存在しており、マ
イクロポアの平均径は０．２μm 、平均深さは０．３μ
m であり、マイクロポアの個数は表面上方からみたとき
１０μm2当り１５０個であった。また、保護コートにお
いて、表層以外の部分ではマイクロポアの形成はなかっ
た。以上のことは、光学顕微鏡およびＳＥＭに観察によ
って確認した。
ロポアが形成されており、マイクロポア内には脂肪酸エ
ステルが充填されており保護コート表面を脂肪酸エステ
ルの薄膜（１００nm厚）が覆う形となっていた。マイク
ロポアは表面から１μm までの表層に存在しており、マ
イクロポアの平均径は０．２μm 、平均深さは０．３μ
m であり、マイクロポアの個数は表面上方からみたとき
１０μm2当り１５０個であった。また、保護コートにお
いて、表層以外の部分ではマイクロポアの形成はなかっ
た。以上のことは、光学顕微鏡およびＳＥＭに観察によ
って確認した。
【００７１】これらのサンプルについて、前記の（１）
〜（３）および下記（４）〜（６）の評価を行った。結
果を表３に示す。
〜（３）および下記（４）〜（６）の評価を行った。結
果を表３に示す。
【００７２】（４）ジッター 測定機としてパルステック工業（株）製 ＤＤＵ−１５
１０、ジッターメーターとしてリーダー電子工業（株）
製 ＬＪＭ−１８５１を使用した。ディスクをＣＬＶ
１．４m/s で回転し、７８０nmの連続レーザ光を照射し
つつ２００Oeの印加磁界で磁界変調して、ＥＦＭ信号を
記録した。このときの記録パワーは、４．５mWとした。
この記録された３Ｔ信号のジッターを測定した。また、
前記（３）の保存後のジッターも同様に測定した。
１０、ジッターメーターとしてリーダー電子工業（株）
製 ＬＪＭ−１８５１を使用した。ディスクをＣＬＶ
１．４m/s で回転し、７８０nmの連続レーザ光を照射し
つつ２００Oeの印加磁界で磁界変調して、ＥＦＭ信号を
記録した。このときの記録パワーは、４．５mWとした。
この記録された３Ｔ信号のジッターを測定した。また、
前記（３）の保存後のジッターも同様に測定した。
【００７３】（５）耐久性 上記と同じ測定機を用い、上記サンプルを温度７０℃の
条件下で、回転数６７０rpm で回転させ、摩擦係数が
０．３になった時間から耐久パス回数を算出した。
条件下で、回転数６７０rpm で回転させ、摩擦係数が
０．３になった時間から耐久パス回数を算出した。
【００７４】（６）耐薬品性 上記サンプルの表面をエタノールで洗浄したのち、前記
（１）と同様に摩擦係数を求めた。
（１）と同様に摩擦係数を求めた。
【００７５】
【表３】
【００７６】表３に示される結果から、表面にマイクロ
ポアを形成し、ポア内に脂肪酸エステルを存在させるこ
とにより脂肪酸エステルを偏析させた効果が明らかであ
る。
ポアを形成し、ポア内に脂肪酸エステルを存在させるこ
とにより脂肪酸エステルを偏析させた効果が明らかであ
る。
【００７７】なお、特開昭６３−２２２３４０号実施例
１と同様のクラッシュ防止膜を設けたサンプル、特開昭
６４−７０９４４号実施例と同様の保護膜を設けたサン
プル、および特開平４−６４９３７号実施例１と同様の
樹脂保護層を設けたサンプルを、これら公報の記載に準
じて各々作製し、上記と同様にして特性を調べたとこ
ろ、表３の本発明のサンプルより特性が明らかに劣るこ
とがわかった。また、これらのサンプルは本発明のもの
に比べ、製造工程が複雑であり、煩雑であった。
１と同様のクラッシュ防止膜を設けたサンプル、特開昭
６４−７０９４４号実施例と同様の保護膜を設けたサン
プル、および特開平４−６４９３７号実施例１と同様の
樹脂保護層を設けたサンプルを、これら公報の記載に準
じて各々作製し、上記と同様にして特性を調べたとこ
ろ、表３の本発明のサンプルより特性が明らかに劣るこ
とがわかった。また、これらのサンプルは本発明のもの
に比べ、製造工程が複雑であり、煩雑であった。
【図１】本発明の光磁気ディスクの１例を示す部分断面
図である。
図である。
１ 光磁気ディスク ２ 基板 ３ ハードコート ４ 保護層 ５ 記録層 ６ 保護層 ７ 反射層 ８ 保護コート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小巻 壮 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 基板上に記録層を有し、下記式Ｉで表わ
される脂肪族エステルと樹脂とを含有する保護コートを
記録層側表面に有し、磁界変調方式の光磁気記録に用い
られ、前記保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するよう
に使用される光磁気ディスク。 式Ｉ Ｒ1 −ＣＯＯ−Ｒ2 ［式Ｉ中、Ｒ1 は炭素原子数１０以上の直鎖もしくは分
岐を有する飽和脂肪族炭化水素残基または炭素原子数１
０以上の不飽和脂肪族炭化水素残基を表わし、Ｒ2 は炭
素原子数１０以上の分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残
基または炭素原子数１０以上の不飽和脂肪族炭化水素残
基を表わす。］ - 【請求項２】 Ｒ1 が直鎖の飽和脂肪族炭化水素残基で
あり、Ｒ2 が分岐を有する飽和脂肪族炭化水素残基であ
る請求項１の光磁気ディスク。 - 【請求項３】 前記Ｒ1 およびＲ2 のそれぞれの炭素原
子数が１０〜３０である請求項１または２の光磁気ディ
スク。 - 【請求項４】 前記脂肪酸エステルは常温で液体である
請求項１〜３のいずれかの光磁気ディスク。 - 【請求項５】 前記脂肪酸エステルが０．１〜２０重量
％含有される請求項１〜４のいずれかの光磁気ディス
ク。 - 【請求項６】 前記脂肪酸エステルが前記保護コート表
面に存在する請求項１〜５のいずれかの光磁気ディス
ク。 - 【請求項７】 前記保護コート表面にマイクロポアが形
成され、マイクロポア内に前記脂肪酸エステルが存在す
る請求項１〜６のいずれかの光磁気ディスク。 - 【請求項８】 前記保護コートの表面から１／２の膜厚
までの前記脂肪酸エステルの含有量が、前記保護コート
の記録層側界面から１／２の膜厚までの前記脂肪酸エス
テルの含有量より多い請求項１〜７のいずれかの光磁気
ディスク。 - 【請求項９】 前記保護コートの表面から１／２の膜厚
までにマイクロポアが形成され、マイクロポア内に前記
脂肪酸エステルが存在する請求項１〜８のいずれかの光
磁気ディスク。 - 【請求項１０】 前記樹脂が放射線硬化樹脂である請求
項１〜９のいずれかの光磁気ディスク。 - 【請求項１１】 前記保護コートの厚さが１〜３０μm
である請求項１〜１０のいずれかの光磁気ディスク。 - 【請求項１２】 基板上に記録層を有し、潤滑剤と樹脂
とを含有する保護コートを記録層側表面に有し、磁界変
調方式の光磁気記録に用いられ、前記保護コート表面で
磁気ヘッドが摺動するように使用される光磁気ディスク
において、 前記保護コートは、潤滑剤と放射線硬化型化合物とを含
有する組成物を放射線硬化して得られ、放射線硬化によ
り前記保護コート表面ないしその近傍に偏在した状態で
マイクロポアを形成するとともに、前記保護コート表面
ないしその近傍のマイクロポア内に潤滑剤を存在させた
光磁気ディスク。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11218693A JPH06314446A (ja) | 1992-06-19 | 1993-04-15 | 光磁気ディスク |
| EP19930109724 EP0574930A2 (en) | 1992-06-19 | 1993-06-17 | Magneto-optical disc |
| US08/400,192 US5578355A (en) | 1992-06-19 | 1995-03-03 | Magneto-optical disk having a microporous protective coating containing a lubricant |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18581392 | 1992-06-19 | ||
| JP4-185813 | 1993-03-04 | ||
| JP6936193 | 1993-03-04 | ||
| JP5-69361 | 1993-03-04 | ||
| JP11218693A JPH06314446A (ja) | 1992-06-19 | 1993-04-15 | 光磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06314446A true JPH06314446A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=27300028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11218693A Pending JPH06314446A (ja) | 1992-06-19 | 1993-04-15 | 光磁気ディスク |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5578355A (ja) |
| EP (1) | EP0574930A2 (ja) |
| JP (1) | JPH06314446A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6319583B1 (en) | 1998-03-19 | 2001-11-20 | Seagate Technology Llc | Lubricated and overcoated magneto-optical media with improved tribological performance |
| JPH11339253A (ja) * | 1998-05-21 | 1999-12-10 | Sony Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US6381200B1 (en) * | 1998-11-18 | 2002-04-30 | Seagate Technology Llc | Flash layer overcoat for first surface magneto-optical media |
| JP4258150B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2009-04-30 | 富士通株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気ディスク装置 |
| JP2000353340A (ja) * | 1999-06-10 | 2000-12-19 | Sony Chem Corp | 光記録媒体 |
| JP3725412B2 (ja) * | 1999-11-19 | 2005-12-14 | Ｔｄｋ株式会社 | 光記録媒体 |
| US6849304B1 (en) * | 2001-03-16 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Method of forming lubricant films |
| JP4229613B2 (ja) * | 2002-01-09 | 2009-02-25 | リンテック株式会社 | 光ディスク用保護フィルム及びそれを用いた光ディスク |
| US6916510B1 (en) * | 2002-05-17 | 2005-07-12 | Seagate Technology Llc | Method for improving efficiency of UV curing of lubricant thin films and improved data/information storage media obtained thereby |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2929847C2 (de) * | 1979-07-23 | 1981-12-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
| US4546035A (en) * | 1983-06-27 | 1985-10-08 | International Business Machines Corporation | Polymeric additives for magnetic coating materials |
| US4693908A (en) * | 1985-08-19 | 1987-09-15 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk with improved lubricant retention |
| JPH0760508B2 (ja) * | 1985-12-10 | 1995-06-28 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録ディスクおよびその製造方法 |
| JPH0792907B2 (ja) * | 1986-05-09 | 1995-10-09 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS6342028A (ja) * | 1986-08-05 | 1988-02-23 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスクの製造方法 |
| JPS6398857A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-04-30 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスク |
| US4985295A (en) * | 1987-01-23 | 1991-01-15 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and method for producing the same |
| JPS63222349A (ja) * | 1987-03-11 | 1988-09-16 | Fujitsu Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JP2600710B2 (ja) * | 1987-09-10 | 1997-04-16 | 富士通株式会社 | 光磁気ディスクとその製造方法 |
| US5126215A (en) * | 1988-04-13 | 1992-06-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a surface with pores of specified average inlet diameter and wide pore size distribution controlled by calender treatment |
| JP2649951B2 (ja) * | 1988-07-21 | 1997-09-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2804045B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1998-09-24 | 株式会社日立製作所 | 光記録媒体 |
| JP2559262B2 (ja) * | 1988-10-13 | 1996-12-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気デイスク |
| US5045372A (en) * | 1989-01-19 | 1991-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium containing ferromagnetic metal powder and a specific fatty acid ester in a content dependent upon the specific surface area of the ferromagnetic metal powder |
| JPH02253889A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-12 | Toppan Printing Co Ltd | 紫外線硬化樹脂塗膜の形成方法 |
| JP2507597B2 (ja) * | 1989-05-15 | 1996-06-12 | 帝人株式会社 | 光磁気記録媒体 |
| JP2507596B2 (ja) * | 1989-05-15 | 1996-06-12 | 帝人株式会社 | 光磁気記録媒体 |
| JPH0317844A (ja) * | 1989-06-14 | 1991-01-25 | Hitachi Ltd | 光磁気デイスク |
| JP2656621B2 (ja) * | 1989-07-05 | 1997-09-24 | 帝人株式会社 | 光磁気ディスク |
| JPH0362338A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク用オーバーコート層およびその材料 |
| EP0756275B1 (en) * | 1990-06-29 | 1999-12-15 | Sony Corporation | Magneto-optical disc recording/reproducing system |
| JPH0464937A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-02-28 | Canon Inc | 光学的記録媒体およびその製造方法 |
| JP3453491B2 (ja) * | 1996-05-29 | 2003-10-06 | 花王株式会社 | 炭酸ガス硬化用粘結剤組成物 |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP11218693A patent/JPH06314446A/ja active Pending
- 1993-06-17 EP EP19930109724 patent/EP0574930A2/en not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-03-03 US US08/400,192 patent/US5578355A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0574930A3 (ja) | 1994-03-16 |
| US5578355A (en) | 1996-11-26 |
| EP0574930A2 (en) | 1993-12-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3102599B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| US6821627B2 (en) | Planarization and corrosion protection of patterned magnetic media | |
| US5568466A (en) | Magneto-optical disc | |
| JP2002260280A (ja) | 光情報媒体およびその評価方法 | |
| JP2994538B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH0534729B2 (ja) | ||
| US5279877A (en) | Magneto optical disc | |
| JPH08329520A (ja) | ポリジメチルシロキサンを含んで成る放射線硬化性組成物 | |
| JPH06314446A (ja) | 光磁気ディスク | |
| US5620766A (en) | Magneto-optical disk | |
| WO2004047094A1 (ja) | 表面潤滑性を付与されたハードコート層を有する光ディスク | |
| JP3611438B2 (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH05298765A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP3102601B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP2983108B2 (ja) | 光磁気ディスクの製造方法および光磁気ディスク | |
| KR100577905B1 (ko) | 광기록매체의 제조방법 및 광기록매체 | |
| JPH0567359A (ja) | 光磁気デイスク | |
| JP2826692B2 (ja) | 光磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2931743B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP2002216401A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP3382010B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0636371A (ja) | 光磁気ディスクの製造方法および光磁気ディスク | |
| JP2000215513A (ja) | 光記録媒体及び光記録装置 | |
| JPH05225613A (ja) | 被覆形成方法および光ディスク | |
| JPH06131720A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010424 |