JP3102599B2

JP3102599B2 - 光磁気ディスク

Info

Publication number: JP3102599B2
Application number: JP04131648A
Authority: JP
Inventors: 恒男桑原; 広行遠藤; 勇栗林; 秀樹平田
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-04-24
Filing date: 1992-04-24
Publication date: 2000-10-23
Anticipated expiration: 2015-10-23
Also published as: JPH05303785A; US5580633A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁界変調方式の光磁気
ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】大容量情報担持媒体として光ディスクが
注目されている。このなかには、磁界変調方式の光磁気
ディスクがあり、データファイル等への応用が期待され
ている。磁界変調方式では、光ヘッドからレーザー光を
ディスクの記録層にＤＣ的に照射してその温度を上昇さ
せておき、これと同時に、変調された磁界を光ヘッドの
反対側に配置した磁気ヘッドから記録層に印加し、記録
を行なう。従って、この方式ではオーバーライト記録が
可能である。

【０００３】従来の光磁気ディスク装置では、主として
ＣＳＳ方式が採用されている。ＣＳＳ方式では浮上型の
磁気ヘッドが用いられ、ディスク回転の開始および終了
時にディスク表面に磁気ヘッドが接触する。このため、
ディスクの磁気ヘッド側表面には、磁気ヘッドの吸着や
クラッシュを防止するための保護コートが設けられてい
る。

【０００４】ＣＳＳ方式に用いられる光磁気ディスクの
保護コートには、例えば、含フッ素ポリウレタン系樹脂
を主成分とする樹脂組成物（特開平２−３０１０４０
号、同２−３０１０４１号）や、有機溶媒に可溶性のフ
ッ素樹脂を主成分とする樹脂組成物（特開平３−３７８
４４号）を用いることが提案されており、これらにおい
て、記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾向
の大きい金属元素や滑材を含有させる旨も提案されてい
る。また、特開平２−４０１４９号には、紫外線硬化樹
脂に潤滑剤を混入させたものを用いる旨が、特開平３−
１７８４４号には潤滑層を用いる旨が、それぞれ提案さ
れている。また、特開平３−６２３３８号には、塗布に
より形成されるオーバーコート層にシリコン樹脂やＮｉ
などの微粒子を分散させて、その表面に０．１μm 以上
０．５μm 以下の凹凸を均一に存在させる旨が提案され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】最近、コンパクトディ
スク（ＣＤ）と同じ線速度で記録・再生が可能な光磁気
ディスクが、光学系を追加ないし変更するだけでＣＤと
駆動装置を共用できるために注目されている。ＣＤの線
速度は１．２〜１．４m/s と低速であるため、磁気ヘッ
ドを浮上させることができず、上記したようなＣＳＳ方
式を使うことができない。このため、ディスク表面から
一定距離に保たれる固定型磁気ヘッドを用いることが考
えられる。

【０００６】しかし、固定型磁気ヘッドを用いた場合、
ディスクの面振れや駆動装置の振動により磁気ヘッドが
ディスクに衝突する恐れがある。また、ディスクの面振
れに磁気ヘッドを追随させるためにはサーボ手段を設け
る必要があり、駆動装置の構成が複雑となってしまう。

【０００７】このような事情から、本発明者らは磁気ヘ
ッドがディスク表面を常時摺動する構成とすることを考
え、この構成に対応する光磁気ディスクの研究を行なっ
た。

【０００８】その結果、磁気ヘッドがディスク表面にお
いて摺動する場合には、上記したＣＳＳ方式において提
案されている各種保護コートでは効果が不十分であるこ
とがわかった。

【０００９】すなわち、磁気ヘッドが保護コート表面に
おいて常時摺動しているため、潤滑剤を混入させた保護
コートでは潤滑効果の持続性が不十分となる。また、塗
膜中に微粒子を分散させて保護コートの表面粗さを大き
くする方法を用いる場合、特開平３−６２３３８号に開
示されているような０．１μm 以上０．５μm 以下の凹
凸が形成されるような微細な粒子では保護コート表面の
粗さが不足し、摩擦低減効果が不十分である。これらの
ため、磁気ヘッドとの間の摩擦を常に低く保つことが困
難である。また、金属やセラミックスの微粒子は硬度が
高いため、磁気ヘッドを損傷する恐れがある。

【００１０】本発明はこのような事情からなされたもの
であり、磁気ヘッドが常時摺動する方式に用いられる光
磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドとの間の摩擦低減効
果が大きく、しかもその持続性が良好である表面コート
層を実現することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（３）の構成によって逹成される。（１）磁界変調方式の光磁気記録に用いられる光磁気
ディスクであって、基板上に記録層を有し、カーボン粒
子を含有する樹脂製の耐摺動性コートを記録層側表面に
有し、前記カーボン粒子の平均粒子径が１〜１５μm で
あり、前記耐摺動性コート表前記耐摺動性コート中にお
ける前記カーボン粒子の含有量が５〜５０重量％であ
り、前記耐摺動性コートの厚さが１〜３０μm であり、
前記耐摺動性コート表面の中心線平均粗さ（Ｒa ）が
０．１〜１．０μm であり、前記耐摺動性コート表面で
磁気ヘッドが摺動するように使用されることを特徴とす
る光磁気ディスク。（２）平均粒子径の０．２〜５倍までの範囲に全カー
ボン粒子の９９％以上が含まれる上記（１）に記載の光
磁気ディスク。（３）前記耐摺動性コートを構成する樹脂が放射線硬
化樹脂である上記（１）または（２）に記載の光磁気デ
ィスク。

【００１２】

【００１３】

【００１４】

【００１５】

【００１６】

【００１７】

【００１８】

【作用および効果】本発明の光磁気ディスクでは、ディ
スクの磁気ヘッド摺動面に形成される樹脂製の耐摺動性
コートに平均粒子径１μm 以上の大粒径のカーボン粒子
を含有させる。このようなカーボン粒子を含有すること
により耐摺動性コート表面が十分な粗さを示すようにな
り、常時接触型磁気ヘッドとの間の摩擦を十分に低くす
ることができる。また、このような大粒径のカーボン粒
子は凝集しにくいため、耐摺動性コート中における分散
が良好となり、耐摺動性コート全面にわたって摩擦係数
を低くすることができる。また、カーボン粒子は金属や
セラミックスの粒子よりも柔らかいため、常時接触して
いる磁気ヘッドに損傷を与えることがない。

【００１９】なお、特開平３−１５７８３６号公報に
は、ディスク最上層の膜中に研磨剤と共に帯電防止剤と
してカーボンを添加することが開示されている。しか
し、同公報にはカーボンの粒子径の開示はなく、摺動性
を向上させようというものではない。また、特開平２−
３０１０４０号公報には、ディスク最上層の膜中にカー
ボンブラックやグラファイトを添加して耐久性を向上さ
せることが開示されている。しかし、同公報にはこれら
の粒子径に関する記載はなく、また、カーボンブラック
は粒子径が一般にサブミクロン領域であり、本発明にお
けるカーボン粒子とは異なる。また、特開昭６４−４２
０４２号公報には、ディスク最上層の膜中に着色材とし
てカーボンを添加することが開示されている。しかし、
同公報には用いるカーボンの粒子径は開示されていな
い。しかも、これら各公報に記載されている光磁気ディ
スクは、本発明とは異なり常時接触型の磁気ヘッドと共
に用いられるものではない。

【００２０】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００２１】本発明の光磁気ディスクは、基板上に記録
層を有し、記録層側表面に樹脂製の耐摺動性コートを有
する。具体的には、例えば図１に示される構成を有する
ことが好ましい。同図において、光磁気ディスク１は、
基板２表面上に、保護層４、記録層５、保護層６、反射
層７、保護コート８および耐摺動性コート９を有する。
ディスク駆動時には、耐摺動性コート９表面で磁気ヘッ
ドが摺動する。なお、磁気ヘッドは、通常、サスペンシ
ョンで支持する構成としてディスクの面振れに追従可能
とするので、ディスク表面から離れることはない。

【００２２】耐摺動性コート９はカーボン粒子を含有す
る。カーボン粒子の形状に特に制限はなく、球状、薄片
状、塊状、繊維状等のいずれであってもよいが、好まし
くは球状のものを用いる。カーボン粒子の平均粒子径
は、１〜１５μm 、特に２〜１０μm であることが好ま
しい。平均粒子径が前記範囲未満であると磁気ヘッドの
摺動の際の摩擦が大きくなり過ぎ、磁気ヘッドおよび駆
動装置に対する負荷が問題となる。平均粒子径が前記範
囲を超えている場合も摩擦が大きくなりすぎる。なお、
カーボン粒子の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）等により測定する。なお、カーボン粒子が球状でな
い場合は、投影面積を円に換算してその直径を求め、平
均粒子径を算出する。

【００２３】また、耐摺動性コート中に含まれるカーボ
ン粒子の粒子径を測定したとき、平均粒子径の０．２〜
５倍までの範囲に全カーボン粒子の９９％以上が含まれ
ることが好ましい。このような粒度分布のカーボン粒子
を用いることにより、本発明の効果はいっそう向上す
る。

【００２４】なお、カーボン粒子は市販のものを用いて
もよく、樹脂粒子などを焼成して製造してもよい。

【００２５】耐摺動性コート９全体に対するカーボン粒
子の含有量は、５〜５０重量％、特に１０〜３０重量％
であることが好ましい。含有量が前記範囲未満であると
摩擦低減効果が不十分となる傾向にあり、含有量が前記
範囲を超えている場合、分散状態が不良となり、また、
塗料の粘性が大きくなって塗工が困難となる傾向にあ
る。

【００２６】カーボン粒子は、通常、耐摺動性コート９
中に均一に分散させることが好ましいが、必要に応じて
表層に偏在させてもよい。また、図示例では、カーボン
粒子を含まない保護コート８上に耐摺動性コート９を設
けているが、保護コート８を設けなくてもよい。

【００２７】本発明において、耐摺動性コートの表面
は、JIS B 0601において規定されている中心線平均粗さ
（Ｒa ）が０．１〜１．０μm （測定長０．５mm）であ
る。Ｒa が前記範囲未満であると磁気ヘッドの摺動の際
の摩擦が大きくなり過ぎ、磁気ヘッドおよび駆動装置に
対する負荷が問題となる。Ｒa が前記範囲を超えている
場合も摩擦が大きくなりすぎる。上記した平均粒子径の
カーボン粒子を含有させた場合、容易にこのようなＲa
とすることができる。

【００２８】耐摺動性コート９を構成する樹脂は、放射
線硬化樹脂であることが好ましい。具体的には、放射線
硬化型化合物やその重合用組成物を放射線硬化させた物
質から構成されることが好ましい。このようなものとし
ては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を
示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子
中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポ
リマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に
３官能以上であることが好ましく、１種のみ用いても２
種以上併用してもよい。

【００２９】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタ
エリスリトールアクリレート（メタクリレート) 、トリ
メチロールプロパントリアクリレート（メタクリレー
ト) 、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタク
リレート)、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、
あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入され
たもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレ
ート（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号
に示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号
に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノ
マーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、
放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入された
もの等が挙げられる。

【００３０】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

【００３１】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。

【００３２】耐摺動性コート９を形成するための放射線
硬化型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂
および光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使
用される。

【００３３】エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹
脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテ
ル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好
ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限
はないが、良好な硬化性が得られることから、６０〜３
００、特に１００〜２００であることが好ましい。

【００３４】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ₆ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。

【００３５】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。

【００３６】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。

【００３７】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。

【００３８】このようななかでも、放射線硬化型化合物
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。

【００３９】耐摺動性コート９の厚さは、１〜３０μm
、好ましくは２〜２０μm とするのがよい。膜厚が薄
すぎると一様な膜を形成することが困難となり、耐久性
が不十分となってくる。また、厚すぎると、硬化の際の
収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生
し易くなってくる。

【００４０】耐摺動性コート９を形成するには、例えば
以下のようにする。まず、前記のような樹脂、好ましく
は放射線硬化樹脂用組成物に前記のカーボン粒子を所定
量添加し、このものの塗膜を保護コート８上に形成す
る。塗膜の形成方法に特に制限はなく、通常、スピンコ
ート、スクリーン印刷、グラビア塗布、スプレーコー
ト、ディッピング等、種々の公知の方法から適宜選択す
ればよい。この際の塗布条件は、重合用組成物の粘度、
目的とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

【００４１】次いで、紫外線を照射して塗膜を硬化す
る。なお、場合によっては、加熱後に紫外線を照射して
もよく、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。
塗膜に照射する紫外線強度は、通常、５０mW/cm²程度以
上、照射量は、通常、５００〜２０００mJ/cm²程度とす
ればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常
のものを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化
合物はラジカル重合する。

【００４２】本発明の光磁気ディスクに対し記録および
再生を行なう際には、光学ヘッドは基板２の裏面側（図
中下側）に位置し、基板を通してレーザー光が照射され
るので、基板には、ガラスや、ポリカーボネート、アク
リル樹脂、非晶質ポリオレフィン、スチレン系樹脂等の
透明樹脂が用いられる。基板２の記録層５側表面には、
通常、トラッキング用やアドレス用等のグルーブやピッ
トが形成されている。

【００４３】保護層４および保護層６は、Ｃ／Ｎの向上
および記録層の腐食防止作用を有し、層厚は３０〜３０
０nm程度とされる。これら保護層は少なくとも一方、好
ましくは両方設けられることが望ましい。これらの保護
層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるいはこ
れらの混合物からなる誘電体物質から構成されることが
好ましく、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の
各種気相成膜法により形成されることが好ましい。

【００４４】記録層５は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層５は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、例えば、希土類金属元素
を含有する合金、特に希土類金属と遷移金属との合金
を、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等、特にス
パッタにより、非晶質膜として形成したものであること
が好ましい。具体的組成としては、ＴｂＦｅＣｏ、Ｄｙ
ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＧｄＦｅＣｏ等
が挙げられる。記録層５の層厚は、通常、１０〜１００
０nm程度である。

【００４５】反射層７は必要に応じて設けられる。反射
層７を構成する材質は、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等の比較的高反射率の金属、ある
いはこれらの合金、あるいはこれらの化合物であってよ
い。反射層７は、記録層５と同様にして設層すればよ
い。反射層７の層厚は３０〜２００nm程度とすることが
好ましい。

【００４６】保護コート８は、反射層７までのスパッタ
積層膜の保護のために設けられる。保護コート８の構成
は、カーボン粒子を含有させない他は耐摺動性コート９
と同様とすればよい。

【００４７】なお、基板２の裏面側には、図示されるよ
うに透明なハードコート３を形成してもよい。ハードコ
ートの材質および厚さは、保護コート８と同様とすれば
よい。ハードコートには、例えば界面活性剤の添加など
により帯電防止性を付与することが好ましい。ハードコ
ートは、ディスク主面だけに限らず、ディスクの外周側
面や内周側面に設けてもよい。

【００４８】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００４９】下記表１に示される光磁気ディスクサンプ
ルを作製した。

【００５０】まず、外径６４mm、内径１１mm、記録部厚
さ１．２mmのポリカーボネート樹脂基板の一方の主面お
よび周側面に、ハードコート用組成物の塗膜を形成し、
この塗膜を紫外線硬化して、厚さ約５μm のハードコー
トを形成した。

【００５１】次いで、ハードコート形成面の反対側主面
に、ＳｉＮ_x 保護層を高周波マグネトロンスパッタによ
り層厚８０nmに設層した。次に、この保護層上に、Ｔｂ
₂₃Ｆｅ₇₂Ｃｏ₅ の組成を有する記録層を、スパッタによ
り層厚２０nmに設層した。さらに、この記録層上に、前
記保護層と同組成の２０nmの保護層を高周波マグネトロ
ンスパッタにより設層し、この保護層上に、８０nmのＡ
ｌ合金反射層、保護コートおよび耐摺動性コートを順に
設層した。

【００５２】保護コートは、下記の重合用組成物の塗膜
をスピンコートによって形成し、この塗膜に紫外線を照
射して硬化したものであり、硬化後の平均厚さは約５μ
m とした。紫外線照射量は１０００mJ/cm²とした。

【００５３】重合用組成物オリゴエステルアクリレート（分子量５，０００）５０重量部トリメチロールプロパントリアクリレート５０重量部アセトフェノン系光重合開始剤３重量部耐摺動性コートは、上記重合用組成物にカーボン粒子を
混合した組成物を硬化後の保護コート上にスピンコート
により塗工し、これを保護コートと同様にして硬化して
形成した。カーボン粒子の平均粒子径および耐摺動性コ
ート全体に対する含有量を表１に示す。なお、カーボン
粒子は、前述した粒度分布を有するものを用いた。硬化
後の平均厚さは約５μm であった。

【００５４】また、耐摺動性コートを形成しなかった他
は上記と同様にして作製したものを比較サンプル（サン
プルNo. ６）とした。さらに、カーボン粒子の替わりに
フェノール樹脂粒子を用いた他は上記と同様にして作製
したものを比較サンプル（サンプルNo. ５）とした。

【００５５】各サンプルの耐摺動性コート表面のＲa を
表１に示す。なお、Ｒa はタリステップにより測定し
た。

【００５６】これらのサンプルについて、下記の評価を
行なった。結果を表１に示す。（１）動摩擦係数プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、１rp
m でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定し、
これから動摩擦係数μを算出した。荷重は１５g とし
た。

【００５７】（２）接触耐久テストプラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、ヘッ
ドを接触させて１．４m/s で回転させ、２０℃、５０％
ＲＨの条件下で２００万パス後の動摩擦係数μ₁ を求
め、摩擦耐久性を調べた。

【００５８】

【表１】

【００５９】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。すなわち、カーボン粒子の平均粒子径が
本発明範囲で耐摺動性コートのＲa が本発明範囲である
サンプルNo. １および２では、動摩擦係数μが低く、接
触走行後にも動摩擦係数の増加は認められない。一方、
平均粒子径およびＲa が本発明範囲を超えているサンプ
ルNo. ４および平均粒子径７μm の樹脂粒子を含有する
耐摺動性コートを設けたサンプルNo. ５では、μが高
く、接触走行後の増加も大きい。また、平均粒子径およ
びＲa が本発明範囲未満であるサンプルNo. ３および保
護コートだけを設けたサンプルNo. ６では、動摩擦係数
測定の際に磁気ヘッドがディスク表面に吸着してしまっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気ディスクの１例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１光磁気ディスク２基板３ハードコート４保護層５記録層６保護層７反射層８保護コート９耐摺動性コート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平田秀樹東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (56)参考文献特開平４−195748（ＪＰ，Ａ) 特開平５−12736（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 11/105

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】磁界変調方式の光磁気記録に用いられる
光磁気ディスクであって、基板上に記録層を有し、カー
ボン粒子を含有する樹脂製の耐摺動性コートを記録層側
表面に有し、前記カーボン粒子の平均粒子径が１〜１５
μm であり、前記耐摺動性コート表前記耐摺動性コート
中における前記カーボン粒子の含有量が５〜５０重量％
であり、前記耐摺動性コートの厚さが１〜３０μm であ
り、前記耐摺動性コート表面の中心線平均粗さ（Ｒa ）
が０．１〜１．０μm であり、前記耐摺動性コート表面
で磁気ヘッドが摺動するように使用されることを特徴と
する光磁気ディスク。
【請求項２】平均粒子径の０．２〜５倍までの範囲に
全カーボン粒子の９９％以上が含まれる請求項１に記載
の光磁気ディスク。
【請求項３】前記耐摺動性コートを構成する樹脂が放
射線硬化樹脂である請求項１または２に記載の光磁気デ
ィスク。