JP3102601B2

JP3102601B2 - 光磁気ディスク

Info

Publication number: JP3102601B2
Application number: JP04151586A
Authority: JP
Inventors: 恒男桑原; 和志田中; 勇栗林; 広行遠藤
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-05-19
Filing date: 1992-05-19
Publication date: 2000-10-23
Anticipated expiration: 2015-10-23
Also published as: JPH05325285A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁界変調方式の光磁気
ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】大容量情報担持媒体として光ディスクが
注目されている。このなかには、オーバライト可能なも
のとして磁界変調方式の光磁気ディスクがあり、データ
ーファイル等への応用が期待されている。この磁界変調
方式は、光ピックアップから、レーザ光を光磁気ディス
クの磁性層にＤＣ的に照射して、その温度を上昇させて
おき、これと同時に、光ピックアップと反対側に配置し
た磁気ヘッドから、変調磁界を磁性層上に印加してオー
バーライト記録を行なうものである。

【０００３】そして、この場合、磁気ヘッドとディスク
が接触状態から回転し、停止後接触状態に戻るＣＳＳ方
式が主に採用される。

【０００４】従って、光磁気ディスクにおいて、磁気ヘ
ッド側に設けられる表面保護膜には、吸着防止対策、ヘ
ッドクラッシュ等に対する耐久性が要求される。

【０００５】このようなことから、上記のような保護膜
としては種々の提案がなされている。例えば、特開平２
−３０１０４０号、同２−３０１０４１号には、含フッ
素ポリウレタン系樹脂を主成分とする樹脂組成物を用い
る旨が、また特開平３−３７８４４号には、有機溶媒に
可溶性のフッ素樹脂を主成分とする樹脂組成物を用いる
旨がそれぞれ提案されている。また、これらにおいて、
記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾向の大
きい金属元素や滑材を含有させる旨も提案されている。

【０００６】さらに、特開平２−４０１４９号には、液
状の紫外線硬化樹脂に、潤滑剤としてステアリン酸エス
テルを添加、攪拌し、このものを塗布後紫外線照射を行
ない硬化させる旨が開示されている。また、特開平３−
１７８４４号には潤滑層を用いる旨が開示されており、
この潤滑層はカーボン化合物を用い、塗布、蒸着、スパ
ッタ等により形成することが記載されている。

【０００７】しかし、これらのいずれにおいても十分で
はない。例えば、樹脂のみの平滑面では潤滑性が十分で
はなく、また金属や滑材を混合させたものでは、硬質の
ものを用いるとヘッドを傷つける問題が生じる。また、
潤滑剤のみの添加でも十分な潤滑性が得られない。

【０００８】また、特開平３−６２３３８号には、オー
バーコート層の表面に０．１μm 以上０．５μm 以下の
凹凸を均一に存在させる旨が提案されている。

【０００９】このものでは、凹凸を形成するために、シ
リコーン樹脂微粒子を分散させたり、Ｎｉなどの強磁性
体微粒子を分散させた後磁石によりこの微粒子を引き付
けたりする方法などが用いられている。

【００１０】しかし、シリコーン樹脂微粒子を用いて、
所定の凹凸を形成し所定の特性を得るには比較的多量の
粒子を含有させる必要があり、コスト面等で不利であ
る。

【００１１】また、強磁性体微粒子を用いる場合は磁石
を使用する必要があるなど操作が煩雑である。

【００１２】従って、この点の改善が望まれている。

【００１３】ところで、最近、光学系を追加ないし変更
するだけでコンパクトディスク（ＣＤ）と駆動装置を共
用できる光磁気ディスクが注目されている。このような
光磁気ディスクでは、磁気ヘッドがディスク表面に常時
接触する方式が採用されている。

【００１４】この常時接触方式に用いる光磁気ディスク
では、ＣＳＳ方式に比べて、さらに保護コートにおける
摩擦特性および耐久性の改善が望まれるところである。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、少な
い微粒子含有量で所定の凹凸を形成することができてコ
スト面で有利であり、摩擦特性が良好で、耐久性に優れ
た磁界変調方式の光磁気ディスクを提供することにあ
る。

【００１６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（９）の本発明により達成される。（１）基板上に記録層を有し、この記録層上に保護コ
ートを有する磁界変調方式の光磁気ディスクにおいて、
前記保護コートは、二次凝集体構造を有する微粒子を含
有する樹脂層であり、前記保護コートの表面粗さが、Ｊ
ＩＳＢ０６０１の定義に従う中心線平均粗さ（Ｒａ）
で０．１〜０．５μm であり、ＪＩＳＢ０６０１の定
義に従う十点平均粗さ（Ｒｚ）で０．５〜２．５μmで
あることを特徴とする光磁気ディスク。（２）前記二次凝集体構造を構成する粒子集団全体の
平均径が０．５〜１０μm である上記（１）に記載の光
磁気ディスク。（３）前記二次凝集体構造を構成する一次粒子の個数
が１００〜１０，０００個である上記（１）または
（２）に記載の光磁気ディスク。（４）前記二次凝集体構造を構成する一次粒子の平均
粒径が０．０５〜０．５μm である上記（１）ないし
（３）のいずれかに記載の光磁気ディスク。（５）前記微粒子の保護コート中における含有量が３
〜２０wt% である上記（１）ないし（４）のいずれかに
記載の光磁気ディスク。（６）前記微粒子が含有される樹脂は放射線硬化樹脂
である上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光磁
気ディスク。（７）前記保護コートは、さらに融点が６０℃以下の
潤滑剤を含有する上記（１）ないし（６）のいずれかに
記載の光磁気ディスク。（８）前記潤滑剤の保護コート中における含有量が２
〜２０wt% である上記（７）に記載の光磁気ディスク。（９）前記保護コートの厚さが１〜３０μm である上
記（１）ないし（８）のいずれかに記載の光磁気ディス
ク。

【００１７】

【００１８】

【００１９】

【００２０】

【００２１】

【００２２】

【００２３】

【００２４】

【００２５】

【００２６】

【００２７】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００２８】本発明の光磁気ディスクは、例えば図１に
示される構成のものである。

【００２９】図１に示される光磁気ディスクを例に挙げ
て説明する。図１に示される光磁気ディスク１は基板２
表面上に、保護層４、中間層５、記録層６、保護層７、
反射層８および保護コート９を順次有する。この際、デ
ィスク表面、すなわち基板２の裏面側には、ハードコー
ト３を設けてもよい。

【００３０】そして、本発明において、保護コート９
は、二次凝集体構造を有する微粒子を含有する樹脂層で
ある。

【００３１】このような微粒子を含有させることによっ
て、微粒子の含有量を少なくしても保護コート表面に所
定の凹凸を形成することが可能となり、コスト面で有利
となり、本発明の効果を奏する。

【００３２】例えば、特開平３−６２３３８号に開示さ
れているシリコーン樹脂からなる微粒子などと比較した
場合、本発明ではその使用量を格段と減少することがで
きる。

【００３３】二次凝集体構造を構成する粒子集団全体の
平均径は０．５〜１０μm 、好ましくは１〜５μm であ
る。

【００３４】このような平均径のものを用いることによ
って、本発明の効果が向上する。平均径があまり小さく
なると、二次凝集体構造を構成することによる効果が得
られなくなる。これに対し、平均径があまり大きくなる
と表面粗さが大きくなりすぎる。

【００３５】なお、二次凝集体構造を有することは、保
護コート９表面を光学顕微鏡により観察すること、さら
には保護コート９表面あるいは膜中を走査型電子顕微鏡
（ＳＥＭ）により観察することによって確認することが
できる。また、二次凝集体構造を構成する粒子集団全体
の平均径は、上記と同様の光学顕微鏡、ＳＥＭ観察によ
り求めることができる。このときの平均径は、二次凝集
体構造を構成する粒子集団が球状でない場合は、投影面
積を円に換算して求めた値である。

【００３６】また、前記二次凝集体構造を構成する一次
粒子の個数は１００〜１０，０００個、好ましくは１，
０００〜１０，０００個とするのがよい。

【００３７】このような個数とすることによって、本発
明の効果が向上する。この個数があまり少なくなりすぎ
ると、二次凝集体構造を構成することによる効果が得ら
れなくなる。これに対し、この個数があまり大きくなり
すぎると、平均径が大きくなりすぎて表面粗さが大とな
る。

【００３８】なお、この個数は、保護コート９の膜中を
ＳＥＭ観察することにより求めることができる。

【００３９】本発明における二次凝集体構造は、ＳＥＭ
観察等からかなり大きな空隙構造を有していることが確
認される。

【００４０】このような空隙構造を有することも、本発
明の効果を向上させる上で好ましいと考えられる。

【００４１】本発明において二次凝集体構造を構成する
一次粒子の平均粒径は、０．０５〜０．５μm 、好まし
くは０．１〜０．３μm である。

【００４２】一次粒子の平均粒径を上記範囲とすること
によって本発明の効果が向上する。平均粒径があまり小
さくなりすぎると、二次凝集体において空隙構造を有す
ることが困難となる。これに対し、平均粒径があまり大
きくなりすぎると、二次凝集体を形成しにくくなる。

【００４３】なお、一次粒子の平均粒径はＳＥＭ観察に
よって求めることができる。一次粒子が球状でない場合
は、投影面積を円に換算して求めた値である。

【００４４】本発明において、二次凝集体構造を構成す
るものとしては、まず、尿素とホルムアルデヒドを縮
合、架橋反応させて得られた熱硬化性樹脂からなる有機
微粒子が好ましく用いられる。

【００４５】このものは、流動性の白色微粉末で、「有
機フィラー」の商品名〔日本化成（株）製〕で市販され
ており、市販品をそのまま用いることができる。また、
真比重１．５１程度、カサ密度０．１〜０．２g/ml程度
であり、水や一般の有機溶剤に対する分散性に優れる。

【００４６】このほか、二次凝集体構造を有するものと
しては、平均粒径が１００nm以下のカーボンブラックや
γ−アルミナなどの無機微粒子を挙げることができる
が、本発明の効果を得る上では上記の有機微粒子が好ま
しい。

【００４７】このような二次凝集体構造を有する微粒子
の保護コート９中における含有量は、３〜２０wt% 、好
ましくは３〜１０wt% とすればよい。

【００４８】このような含有量とすることによって本発
明の効果が向上する。含有量があまりに少なくなりすぎ
ると本発明の実効が得られず、含有量があまり多くなり
すぎると分散性が悪化し、塗布液が高粘度となるばかり
でなく、無駄な使用となってコスト的に不利となる。

【００４９】本発明において、二次凝集体構造を有する
微粒子は、保護コート９中に均一に分散していることが
好ましい。そして、この場合、二次凝集体もこれに対応
して均一に分布していることが好ましい。

【００５０】また、多層塗布等により、保護コート９の
表層に上記微粒子を偏在させてもよく、この場合、これ
に対応して、二次凝集体は表層に均一に分布しているこ
とが好ましい。

【００５１】本発明においては、二次凝集体がさらに凝
集した三次凝集体を一部に有することもある。

【００５２】以上のようにして設層した樹脂層である保
護コート層の表面粗さは、ＪＩＳＢ０６０１の定義に従
う中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．１〜０．５μm （測定
長０．５mm）となる。また、十点平均粗さ（Ｒｚ）で
０．５〜２．５μm （基準長さ０．５mm）となる。

【００５３】表面粗さを上記範囲とすることによって、
摩擦特性が良好で、耐久性に優れたものとなる。

【００５４】また、この場合の動摩擦係数は０．１８〜
０．２５程度となり、繰り返し使用後においても変化が
小さい。

【００５５】また、本発明において、保護コート９中に
は、融点が６０℃以下の潤滑剤を含有させることが好ま
しい。さらには、融点が室温以下の常温で液体の潤滑剤
の使用が好ましい。

【００５６】このような潤滑剤を含有させることによっ
て、摩擦特性および耐久性がさらに向上する。すなわ
ち、動摩擦係数は０．１３〜０．２０程度となる。

【００５７】さらに、本発明においては、二次凝集体構
造中に存在する空隙構造により潤滑剤が吸収されること
によるためか、潤滑剤のヘッドへの付着はみられない。

【００５８】これに対し、前記の特開平３−６２３３８
号に開示されるようなシリコーン樹脂微粒子では、二次
凝集体構造を有さないため、同様に潤滑剤を添加する
と、潤滑剤のヘッドへの付着がみられる。

【００５９】本発明に用いる潤滑剤としては、具体的に
は、オレイン酸エステル、ステアリン酸エステル等の脂
肪酸エステル、有機アルコールやその誘導体、シリコー
ンオイル等が挙げられる。

【００６０】保護コート９中における潤滑剤の含有量は
２〜２０wt% 、好ましくは３〜１５wt% とするのがよ
い。

【００６１】このような含有量とすることによって、摩
擦特性および耐久性における向上効果がみられる。含有
量が少なくなるとこのような向上効果の実効が得られ
ず、含有量が多くなりすぎると、潤滑剤のブリードアウ
トが多くなりすぎる。

【００６２】保護コート９において、上記微粒子を含有
させる樹脂としては、放射線硬化樹脂であることが好ま
しい。具体的には、放射線硬化型化合物やその重合用組
成物を、放射線硬化させた物質から構成されることが好
ましい。このようなものとしては、イオン化エネルギー
に感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有す
るアクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレ
ートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋
あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノ
マー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができ
る。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ま
しく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。

【００６３】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタ
エリスリトールアクリレート（メタクリレート) 、トリ
メチロールプロパントリアクリレート（メタクリレー
ト) 、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタク
リレート)、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、
あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入され
たもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレ
ート（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号
に示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号
に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノ
マーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、
放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入された
もの等が挙げられる。

【００６４】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

【００６５】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。

【００６６】保護コート９を形成するための放射線硬化
型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂およ
び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用さ
れる。

【００６７】エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹
脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。

【００６８】脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニル
シクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂
環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、
良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に
１００〜２００であることが好ましい。

【００６９】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ₆ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。

【００７０】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。

【００７１】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。

【００７２】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。

【００７３】このようななかでも、放射線硬化型化合物
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。

【００７４】保護コート９を形成するには、例えば以下
のようにする。まず、前記のような樹脂、好ましくは放
射線硬化樹脂用組成物に前記の微粒子および好ましくは
潤滑剤を所定量添加し、ボールミル分散するなどして混
合し、このものの塗膜を反射層８上に形成する。なお、
本発明では、潤滑剤を上記のようにして添加することが
耐久性等の点で好ましいが、場合によっては、保護コー
ト９を形成したのち、液状の潤滑剤を塗布するなどして
保護コート中に含有させることもできる。

【００７５】塗膜の形成方法に特に制限はなく、通常、
スピンコート、スクリーン印刷、グラビア塗布、スプレ
ーコート、ディッピング等、種々の公知の方法を組み合
わせて形成すればよい。この際の塗布条件は、重合用組
成物の粘度、目的とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定
すればよい。

【００７６】そして、紫外線を照射して塗膜を硬化す
る。なお、場合によっては、加熱後に紫外線を照射して
もよく、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。

【００７７】塗膜に照射する紫外線強度は、通常、５０
mW/cm²程度以上、照射量は、通常、５００〜２０００mJ
/cm²程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀
灯などの通常のものを用いればよい。紫外線の照射によ
り、上記各化合物はラジカル重合する。

【００７８】このようにして得られる保護コート９の厚
さは、１〜３０μm 、好ましくは２〜２０μm とするの
がよい。

【００７９】このような膜厚とすることによって本発明
の効果が向上する。膜厚が薄すぎると一様な膜を形成す
ることが困難となり、耐久性が不十分となってくる。ま
た、厚すぎると、硬化の際の収縮によりクラックが生じ
たり、ディスクに反りが発生し易くなってくる。

【００８０】本発明における基板２の材質には、透明な
ものであれば特に制限はなく、ガラス、各種透明樹脂が
用いられる。透明樹脂としては、ポリカーボネート樹
脂、アクリル樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、スチレ
ン系樹脂等が挙げられる。

【００８１】また、図１に示されるように、基板２の裏
面側には透明なハードコート３が形成されている。ハー
ドコート３は、前記保護コート９を構成する好ましい樹
脂と同様の放射線硬化性樹脂材質とすればよい。

【００８２】このハードコート３の厚さは、１〜３０μ
m 、特に３〜１０μm であることが好ましい。

【００８３】このようなハードコート３を塗布した基板
２の記録光および再生光に対する透過率は、８０％以
上、特に８５％以上であることが好ましい。また、ハー
ドコートは、ディスク主面のみに限らず、外周側面や内
周側面にも形成されていてもよい。

【００８４】なお、基板２の記録層６形成面には、トラ
ッキング用のグルーブが形成されていてもよい。

【００８５】図１に示される光磁気記録ディスクにおい
て、基板２上には、下地層としての保護層４、中間層５
を介して記録層６が形成されている。中間層５は、Ｃ／
Ｎ比を向上させるために設けられ、各種誘電体物質から
形成されることが好ましく、その層厚は３０〜１５０nm
程度であることが好ましい。

【００８６】また保護層４とともに記録層６の上にも保
護層７を設けることもできる。併用する場合には、保護
層４と保護層７の組成は同一であっても異っていてもよ
い。必要に応じて設けられる保護層４および保護層７
は、記録層６の耐食性向上のために設けられるものであ
り、これらは少なくとも一方、好ましくは両方が設けら
れることが好ましい。これら保護層は、各種酸化物、炭
化物、窒化物、硫化物あるいはこれらの混合物からなる
無機薄膜から構成されることが好ましい。また、保護層
４、７は、上記の中間層材質で形成してもよい。保護層
の層厚は３０〜３００nm程度であることが耐食性向上の
点から好ましい。このような保護層４、７や中間層５
は、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の各種気
相成膜法、特にスパッタによって形成されることが好ま
しい。

【００８７】記録層６は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層６は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有す
る合金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッ
タ、蒸着、イオンプレーティング等、特にスパッタによ
り、非晶質膜として形成したものであることが好まし
い。希土類金属としては、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｓ
ｍ、Ｃｅのうちの１種以上を用いることが好ましい。遷
移金属としては、ＦｅおよびＣｏが好ましい。この場
合、ＦｅとＣｏの総含有量は、６５〜８５at％であるこ
とが好ましい。そして、残部は実質的に希土類金属であ
る。

【００８８】好適に用いられる記録層の組成としては、
ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、
ＮｄＧｄＦｅＣｏ等がある。なお、記録層中には、１０
at％以下の範囲でＣｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｓｉ、Ｍ
ｏ、Ｍｎ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｕ等が含有
されてもよい。また、１０at％以下の範囲で、Ｓｃ、
Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等の他の希土類金属元素を含有し
てもよい。このような記録層６の層厚は、通常、１０〜
１０００nm程度である。そして、保護層７上には金属製
の反射層８が設けらる。

【００８９】反射層８を構成する材質は、Ａｕ、Ａｇ、
Ｐｔ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等の金属、あるい
はこれらの合金、あるいはこれらの化合物であってよ
い。また、反射層８は、記録層６と同様にして設層すれ
ばよい。反射層８の膜厚は３０〜２００nm程度とする。

【００９０】以上、図１の構成に従って説明してきた
が、本発明の光磁気ディスクは、この構成に限定される
ものではない。

【００９１】例えば、図１においては、上記微粒子を含
有する保護コート９を１層のみ設ける構成としている
が、保護コートを２層設けるものとしてもよい。

【００９２】この保護コートを２層とする構成は、常時
接触方式に用いる光磁気ディスクにおいて、特に、有効
である。

【００９３】この場合、ヘッドと接触する最上層の保護
コートのみに上記微粒子を含有させるものとし、その下
に位置する保護コートには上記微粒子を含有させないも
のとすることもできる。

【００９４】このような２層構成の保護コートとする場
合の膜厚は、最上層の膜厚を１〜２０μm 、好ましくは
２〜１０μm とし、その下の層の膜厚を１〜２０μm 、
好ましくは２〜１０μm とすればよい。

【００９５】また、図１においては中間層５を設ける構
成としているが、必ずしも設ける必要はない。

【００９６】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００９７】実施例１外径６４mm、内径１１mm、記録部の厚さ１．２mmのポリ
カーボネート樹脂基板の記録層形成側裏面および周面
に、ハードコート層用組成物の塗膜を形成し、この塗膜
を紫外線硬化してハードコートを形成した。ハードコー
トは、下記の重合用組成物（Ａ）をスピンコートにより
塗布し、紫外線を照射して硬化したものであり、硬化後
の平均厚さは５μm とした。

【００９８】重合用組成物（Ａ）オリゴエステルアクリレート（分子量５，０００）５０重量部トリメチロールプロパントリアクリレート５０重量部アセトフェノン系光重合開始剤３重量部

【００９９】次いで、上記のようにハードコートを形成
した基板の他面上の一定領域に、ガラス製の保護層を高
周波マグネトロンスパッタにより４０nmの層厚に設層し
た。この保護層上に、ＳｉＮ_x 中間層を高周波マグネト
ロンスパッタにより層厚８０nmに設層した。次に、この
中間層上に、Ｔｂ₂₃Ｆｅ₇₂Ｃｏ₅ の組成を有する記録層
を、スパッタにより層厚２０nmに設層した。

【０１００】さらに、この記録層上に、前記保護層と同
組成の２０nmの保護層を高周波マグネトロンスパッタに
より設層し、この保護層上に、８０nmのＡｌ合金反射
層、さらにその上に保護コートを設層した。

【０１０１】保護コートは、以下のような重合用組成物
（１）をボールミルにて混合して得、このものの塗膜を
スピンコートによって形成し、この塗膜を紫外線を照射
して硬化したものであり、硬化後の平均厚さは５μm と
した。紫外線照射は、照射量１０００mJ/cm²の条件下で
行なった。

【０１０２】重合用組成物（１）オリゴエステルアクリレート（分子量５，０００）５０重量部トリメチロールプロパントリアクリレート５０重量部アセトフェノン系光重合開始剤３重量部ホルムアルデヒド−尿素樹脂微粒子〔商品名「有機フィラー」日本化成（株）製：真比重１．５１程度：カサ密度０．１〜０．２g/ml程度〕６重量部

【０１０３】これをサンプルNo. １とする。

【０１０４】なお、保護コートの膜中のＳＥＭ観察を行
なったところ、上記微粒子は二次凝集体構造を有するこ
とが確認された。また、二次凝集体構造全体の平均径は
３μm 程度であり、これを構成する一次粒子の平均粒径
は０．２μm 程度であった。また、二次凝集体構造を構
成する一次粒子の個数は１０００〜５０００個程度であ
った。平均径、平均粒径は、球状でない場合は、投影面
積を円に換算して求めた値である。また、一部、三次凝
集体もみられた。

【０１０５】サンプルNo. １の保護コートにおいて、特
開平３−６２３３８号に準じて上記の微粒子のかわりに
シリコーン樹脂微粒子（東芝シリコーン製トスパール１
２０：平均粒径２μm ）を６重量部用いるほかは同様に
してサンプルNo. ２を得た。

【０１０６】ＳＥＭ観察の結果によれば、このシリコー
ン樹脂微粒子は二次凝集体構造を有するものではなかっ
た。

【０１０７】また、サンプルNo. ２の保護コートにおい
て、シリコーン樹脂微粒子を４５重量部とするほかは同
様にしてサンプルNo. ３を得た。ＳＥＭ観察の結果によ
れば、このものにおいても二次凝集体構造を有するもの
ではなかった。

【０１０８】また、サンプルNo. １の保護コートにおい
て、微粒子を平均粒径０．３μm のα−アルミナにか
え、これを４５重量部用いるほかは同様にしてサンプル
No. ４を得た。

【０１０９】ＳＥＭ観察の結果、このものにおいても二
次凝集体構造を有するものではなかった。

【０１１０】上記サンプルNo. １〜No. ４について、Ｊ
ＩＳＢ０６０１の定義に従うＲａ（測定長０．５mm）
およびＲｚ（基準長さ０．５mm）を測定した。

【０１１１】さらに、（Ｍｎ−Ｚｎフェライト）コンポ
ジットヘッドを用いて以下の評価を行なった。

【０１１２】（１）動摩擦係数μ₁ プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、１rp
m でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定し、
これからμ₁ を算出した。荷重は１５g とした。

【０１１３】（２）接触耐久テストプラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、ヘッ
ドを接触させて１．４m/s で回転させ、２０万パス後の
μ₁ を求め、摩擦耐久性を調べた。

【０１１４】これらの結果を表１に示す。なお、表１に
は、微粒子の保護コート中における含有率等も併せて記
す。

【０１１５】

【表１】

【０１１６】表１から明らかなように、本発明のサンプ
ルNo. １では微粒子の含有量を少なくして所定の効果を
得ることができる。これに対し、比較のサンプルNo. ３
では、同じ微粒子を用いたサンプルNo. ２に比べたと
き、微粒子の含有量を多くすることによって本発明のサ
ンプルNo. １とほぼ同等の効果を示すといえるが、コス
ト的に不利である。

【０１１７】実施例２実施例１のサンプルNo. １〜４の保護コートにおいて、
その重合用組成物（１）に、各々、潤滑剤を８重量部添
加するものとするほかは同様にして、サンプルを得た。
これらのサンプルを実施例１のものに対応させてサンプ
ルNo. ２１〜No. ２４とする。

【０１１８】なお、潤滑剤はオレイルオレート（融点−
１０℃）を用いた。

【０１１９】上記サンプルNo. ２１〜No. ２４につい
て、実施例１と同様の測定および評価を行なった。な
お、上記サンプルNo. ２１〜No. ２４における二次凝集
体構造等についてはサンプルNo. １〜No. ４とほぼ同様
であった。

【０１２０】結果を表２に示す。

【０１２１】

【表２】

【０１２２】表２の結果から明らかなように、本発明の
サンプルNo. ２１においては、実施例１のサンプルNo.
１に比べて、摩擦特性が向上し、また接触耐久テスト後
においてヘッドに対する付着物もみられなかった。

【０１２３】これに対し、比較のサンプルNo. ２３で
は、初期およびテスト後の摩擦特性は向上するものの、
接触耐久テスト後においてヘッドに対する付着物がみら
れた。

【０１２４】このほか、比較のサンプルNo. ２２、No.
２４でも、初期およびテスト後の摩擦特性は向上するも
のの十分なレベルではない。

【０１２５】

【発明の効果】本発明によれば、微粒子の含有量を少な
くして所定の凹凸を形成することができ、摩擦特性およ
び耐久性に優れる。また、コスト面で有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気ディスクの１例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１光磁気ディスク２基板３ハードコート４保護層５中間層６記録層７保護層８反射層９保護コート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者遠藤広行東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (56)参考文献特開平４−315839（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 11/105

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に記録層を有し、この記録層上に
保護コートを有する磁界変調方式の光磁気ディスクにお
いて、前記保護コートは、二次凝集体構造を有する微粒子を含
有する樹脂層であり、前記保護コートの表面粗さが、ＪＩＳＢ０６０１の定
義に従う中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．１〜０．５μm
であり、ＪＩＳＢ０６０１の定義に従う十点平均粗さ（Ｒｚ）
で０．５〜２．５μmであることを特徴とする光磁気デ
ィスク。
【請求項２】前記二次凝集体構造を構成する粒子集団
全体の平均径が０．５〜１０μm である請求項１に記載
の光磁気ディスク。
【請求項３】前記二次凝集体構造を構成する一次粒子
の個数が１００〜１０，０００個である請求項１または
２に記載の光磁気ディスク。
【請求項４】前記二次凝集体構造を構成する一次粒子
の平均粒径が０．０５〜０．５μm である請求項１ない
し３のいずれかに記載の光磁気ディスク。
【請求項５】前記微粒子の保護コート中における含有
量が３〜２０wt% である請求項１ないし４のいずれかに
記載の光磁気ディスク。
【請求項６】前記微粒子が含有される樹脂は放射線硬
化樹脂である請求項１ないし５のいずれかに記載の光磁
気ディスク。
【請求項７】前記保護コートは、さらに融点が６０℃
以下の潤滑剤を含有する請求項１ないし６のいずれかに
記載の光磁気ディスク。
【請求項８】前記潤滑剤の保護コート中における含有
量が２〜２０wt% である請求項７に記載の光磁気ディス
ク。
【請求項９】前記保護コートの厚さが１〜３０μm で
ある請求項１ないし８のいずれかに記載の光磁気ディス
ク。