JPH08329520A - ポリジメチルシロキサンを含んで成る放射線硬化性組成物 - Google Patents

ポリジメチルシロキサンを含んで成る放射線硬化性組成物

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JPH08329520A
JPH08329520A JP8125505A JP12550596A JPH08329520A JP H08329520 A JPH08329520 A JP H08329520A JP 8125505 A JP8125505 A JP 8125505A JP 12550596 A JP12550596 A JP 12550596A JP H08329520 A JPH08329520 A JP H08329520A
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T Ha Thi Minh Chau
チャウ・ティ・ミン・ハー
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光磁気記録媒体上の被覆に有用なポリジメチ
ルシロキサン化合物を含んで成る放射線硬化性組成物の
提供。 【解決手段】 ディスクの表面に提供された被覆を含ん
で成る光磁気記録ディスクであって、前記被覆が、 a)放射線硬化性成分、および b)ポリオキシアルキレンセグメントを含んで成る放射
線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物 から構成される放射線硬化性組成物から得られるディス
ク。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリジメチルシロ
キサン化合物を含んで成る放射線硬化性組成物に関す
る。特に、本発明は、放射線硬化性組成物中におけるポ
リジメチルシロキサン化合物の使用に関し、該ポリジメ
チルシロキサン化合物は、ポリオキシアルキレンセグメ
ンを含んで成る。放射線硬化性組成物は、特に、光磁気
記録媒体上の被覆に有用である。
【0002】
【従来の技術】光磁気記録媒体は、典型的に、例えばガ
ラスまたはプラスチックの透明基材上に提供された光磁
気記録層から構成されている。記録層は、典型的に、金
属材料から作製されており、(相変化を記録することに
より)光学的に、または(磁化の方向を記録することに
より)磁気的に情報を記録することができる。
【0003】記録層上に情報を磁気的に記録するため
に、レーザービームを記録層の一部に投影し、レーザー
で記録層のその部分を加熱して、その温度を材料のキュ
リー温度を超えるまでまたは磁気補償温度付近を超える
点まで高める。この温度では、記録層のこの部分の保磁
力(Hc)が、0または実質上0になる。その時に、外
部磁界(バイアス磁界)が、記録層の加熱した部分に適
合する。レーザービームエネルギーを除去すると、磁気
記録媒体のその部分の温度は低下し、磁化が記録され
る。この種の記録を、熱磁気記録という。
【0004】高速で外部磁界の方向を記録するために、
外部磁界発生素子の磁気ヘッド(すなわち、コイルおよ
びコイルコア)を出来る限り小さくすることが望まれて
いる。しかしながら、このことは、より小さな磁界をも
たらす。磁気記録領域の低減した寸法を補うために、磁
気ヘッドと磁気記録媒体との間の距離も縮小されなけれ
ばならない。いくつかの適用では、磁気ヘッドと磁気録
媒体との間の距離は、ミクロン単位である。例として
は、直接上書き記録すること(予め記録した情報を始め
に消去することなく、再記録すること)が可能な適用で
は、磁気ヘッドとディスクとの間のギャップは数ミクロ
ン程度に小さくすることができる。
【0005】磁気記録ヘッドと光磁気ディスクの間のそ
のような小さなギャップの場合、操作中、ディスクが高
速で回転している間に、記録ヘッドがディスクと接触ま
たは「衝突(crashing)」する危険があり、ヘッドへの
傷、またはディスクからの情報の損失をもたらす。
【0006】磁気ヘッドが光磁気ディスクと衝突するこ
とによって生じる電位の損傷を最小限にするために、場
合により、光磁気記録媒体は、潤滑層として作用する被
覆を含んで成ることがある。潤滑層は、比較的低い摩擦
係数を有する。そのため、接触が、ディスクと磁気ヘッ
ドとの間で生じると、非常に高速でも、潤滑層は、ヘッ
ドをディスクから遠ざけることにより、ヘッドまたはデ
ィスクの損傷を防止する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来、被覆には、潤滑
剤としてシリコーン化合物を使用していた。しかしなが
ら、シリコーン化合物、特にポリジメチルシロキサン
は、被覆溶液の放射線硬化性成分と非相溶である傾向が
あり得る。この放射線硬化性成分と混合したポリジメチ
ルシロキサン化合物は、曇りもしくはみかん肌組織のよ
うな表面上の欠陥、または他の表面上の欠陥を有する被
覆表面をもたらし得る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、放射線硬化性
成分および放射線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物
を含んで成る放射線硬化性組成物を提供するものであ
る。放射線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物は、ポ
リオキシアルキレンセグメントを含んで成る。このポリ
ジメチルシロキサン化合物は、放射線硬化性成分と相溶
することから、本発明の硬化した組成物は、表面上、許
容できる外観を有する。硬化した組成物は、比較的、み
かん肌組織や曇り等がない。さらに、硬化した組成物
は、向上した摩擦特性を提供し得る。
【0009】本発明のもう一つの面は、上記の放射線硬
化性組成物の硬化した被覆を含んで成る光磁気記録ディ
スクである。
【0010】
【発明の実施の形態】図1は、例示的な光磁気(「M
O」)記録ディスク10の一部の大きく拡大した模式的
な断面図を示す。しかしながら、本適用は、MO媒体、
特に、直接上書き記録するのに適したMO媒体を用いた
本発明の使用を表すが、本発明の被覆組成物は、MO媒
体での使用に限定されるものではなく、むしろ、低減し
た摩擦特性が望まれる広く様々な利用における使用に適
していると解される。
【0011】図1を参照すると、記録層12は、透明基
材14によって支えられている。反射表面を有するフィ
ルム16は、記録層12の上の、基材14の反対側に配
置されている。フィルム16は、最初、記録層12を透
過した入射光40を反射し、その光は、次に、記録層1
2を介して戻って行く。場合により、透明誘電層15お
よび18を、記録層12の一方の面または両面の上であ
って、かつ基材14とフィルム16の間に配置する。当
業者に既知のように、そのような誘電層は、光磁気記録
層12からの光信号を増幅し、さらに、記録層12を、
熱、湿度もしくは不純物との化学反応による酸化または
腐食から保護する。場合により、基材14の上の、記録
層12と反対側にハードコート層22を配置してよい。
ハードコート層22は、基材14を機械的損傷から保護
するのに役立つ。記録ヘッド24は、サスペンション2
6によって、ディスク10上に支えられている。ディス
ク10が回転すると、ヘッド24は、ディスク10とヘ
ッド24の間に小さなギャップを持たせて、ディスク1
0上を浮動する。
【0012】基材14、記録層12、フィルム16、ハ
ードコート層2並びに誘電層15および18は、当業者
に既知のどのような種類のものであってよい。被覆層2
0は、本発明の硬化した組成物であり、図1で表された
例では、フィルム16の上に配置されている。被覆層2
0は、放射線硬化性成分、およびポリアルキレンセグメ
ントを含む放射線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物
を含んで成る。
【0013】本発明の実施において、放射線硬化性成分
は、放射線(例えば、紫外線、電子線など)、好ましく
はUV光で露光すると硬化する。有用な放射線硬化性成
分を、本発明の他の成分と組み合わせて、優れた湿潤お
よび流動特性を提供し、比較的速く硬化でき、かつスピ
ンコートするのに十分に低い粘度を有する未硬化の混合
物を提供することができる。例えば、放射線硬化性成分
と放射線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物を含んで
成る混合物の粘度は、好ましくは、25℃の温度でわず
か約100cpsである。未硬化の混合物の粘度が、高
過ぎると、混合物は、未硬化の被覆組成物を光磁気記録
媒体基材に適用するのに最も好ましく使用されるスピン
コート技術を用いて使用するのに不適当であることがあ
る。好ましくは、放射線硬化性成分は、硬化して、優れ
た研磨耐性および基材へに優れた接着性、並びに低減し
た摩擦特性を有する被覆を提供する。
【0014】本発明の放射線硬化性成分は、モノマーお
よび/またはオリゴマー放射線硬化性成分1種またはそ
れ以上から構成され得る。各モノマーまたはオリゴマー
成分は、適する放射線で露光すると重合する反応性ビニ
ル不飽和基1つまたはそれ以上から構成されてよい。好
ましい放射線硬化性成分としては、一般式(I):
【化4】 (式中、RAは、好ましくは水素または-CH3であり、
およびyは、好ましくは約1〜6の範囲である。)で表
される(メタ)アクリレート官能性モノマーおよびオリ
ゴマーが挙げられる。Zの正確な性質は、重要ではな
い。代表的なZ基としては、例えば、ウレタン、ポリウ
レタン、エステル、ポリエステル、オキシアルキレン
基、エポキシ、アルキル基、アリール含有基およびアリ
ル含有基などから構成される基が挙げられ、そのどれも
が、直鎖、分枝、環式、芳香族、飽和または不飽和で有
り得る。
【0015】本発明の放射線硬化性成分は、様々な分子
量の異なる単官能もしくは多官能の放射線硬化性化合物
2つまたはそれ以上から構成されてよい。好ましくは、
本発明の放射線硬化性成分は、(メタ)アクリレート官
能性希釈剤、および多官能オリゴマーを含んで成る。
【0016】本発明の目的のために、(メタ)アクリレ
ート官能性希釈剤(「反応性希釈剤」ともいう。)は、
比較的低い分子量の単官能、二官能、または三官能の非
芳香族(メタ)アクリレートモノマーである(すなわ
ち、式(I)中のyは、1、2または3に等しい。)。
比較的低い粘度(例えば、25℃で約30cps未満)
のこの比較的低分子量の反応性希釈剤が有利である。二
官能または三官能の非芳香族(メタ)アクリレートは、
一般に、より早い硬化時間が見込まれるため、単官能の
非芳香族(メタ)アクリレートよりも好ましい。好まし
い反応性希釈剤としては、1,6-ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート[ラドキュアー(Radcure)製HD
ODA]、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、イソボルニル(メタ)アクリレート(ラドキュ
アー製IBOA)、2-(2-エトキシエトキシ)エチル
(メタ)アクリレート[サートマー・カンパニー・イン
コーポレイテッド・オブ・エクストン(Sartomer Compan
y, Inc. of Exton)、ペンシルバニア州から(Sartomer)2
56という商品名で販売されている。]、n-ビニルホル
ムアルデヒド(サートマー497)、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート(サートマー285)、ポリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート(サートマー
344)、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート(ラドキュアー)、ネオペンチルグリコールジアル
コキシジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチルプロパントリ
(メタ)アクリレート(TMPTA)、およびそれらの
混合物が挙げられる。
【0017】本発明の別の有用な放射線硬化性成分は、
2つまたはそれ以上の(メタ)アクリレート基を有し、
好ましくは平均分子量(Mw)が約400〜2000の
範囲である多官能(メタ)アクリレートオリゴマー類で
ある。好ましい多官能(メタ)アクリレートオリゴマー
としては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリウ
レタン(メタ)アクリレート、および(メタ)アクリル
化エポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。(メ
タ)アクリル化エポキシ(メタ)アクリレートは、比較
的低い粘度を有する傾向があり、そのため、スピンコー
ティング法によって均一な層が適用できるため、最も好
ましい。特に、好ましい多官能(メタ)アクリレートオ
リゴマーとしては、ユー・シー・ビー・ケミカルズ・イ
ンコーポレイテッド・オブ・スミルナ・ジョージア(UCB
Chemicals, Inc. of Smyrna Georgia)からエベクリル
(Ebecryl)(Eb)という登録商標で市販されている(メ
タ)アクリレート[Eb40(四官能アクリル化ポリエステ
ルオリゴマー)、Eb80(ポリエステル四官能(メタ)ア
クリレートオリゴマー)、Eb81(多官能(メタ)アクリ
ル化ポリエステルオリゴマー)、Eb600(ビスフェノー
ルAエポキシジ(メタ)アクリレート)、Eb605(25
%トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートで
希釈したビスフェノールAエポキシジ(メタ)アクリレ
ート)、Eb639(ノボラックポリエステルオリゴマ
ー)、Eb2047(三官能アクリル化ポリエステルオリゴマ
ー)、Eb3500(二官能ビスフェノールAオリゴマーアク
リレート)、Eb3604(多官能ポリエステルアクリレート
オリゴマー)、Eb6602(三官能芳香族ウレタンアクリレ
ートオリゴマー)、Eb8301(六官能脂肪族ウレタンアク
リレート)、Eb8402(二官能脂肪族ウレタンアクリレー
トオリゴマー)、およびそれらの混合物]が挙げられ
る。
【0018】(メタ)アクリレート官能性希釈剤は、好
ましくは放射線硬化性成分中に、放射線硬化性成分10
0部に対し、約20〜70重量部(pbw)の範囲の量
で存在する。2つまたはそれ以上の(メタ)アクリレー
ト基を有し、かつ平均分子量が約400〜2000の範
囲である多官能(メタ)アクリレートオリゴマーは、好
ましくは放射線硬化性成分中に、放射線硬化性成分10
0部に対し、約15〜60pbwの範囲の量で存在す
る。
【0019】放射線硬化性組成物は、放射線硬化性成分
の有用な量を包含し得る。放射線硬化性成分の有用な量
は、未硬化の混合物をスピンコートすることができ、か
つ所望の摩擦特性および表面上の特性を有する硬化被覆
を提供する。好ましくは、放射線硬化性成分は、放射線
硬化性組成物中に、放射線硬化性組成物100部に対
し、85〜98pbwの範囲の量で存在する。
【0020】本発明の放射線硬化性組成物は、放射線硬
化性ポリジメチルシロキサン化合物を含んで成る。ポリ
ジメチルシロキサン化合物は、1つまたはそれ以上のビ
ニル不飽和基を含んで成る。そのため、適する放射線で
露光すると、ポリジメチルシロキサン化合物は、放射線
硬化性成分と共重合する。放射線硬化性成分と共重合す
ることにより、ポリジメチルシロキサン化合物は、硬化
した組成物の必須部分となる。好ましくは、ポリジメチ
ルシロキサン化合物のビニル不飽和基は、(メタ)アク
リレート基であり、また、放射線硬化性ポリジメチルシ
ロキサン化合物は、ポリジメチルシロキサンアクリレー
トである。
【0021】好ましい放射線硬化性ポリジメチルシロキ
サン化合物は、ポリオキシアルキレンセグメント(例え
ば、ポリオキシメチレン、ポリオキシエチレン、ポリオ
キシプロピレン等)、好ましくはポリオキシプロピレン
セグメントを含んで成る。ポリオキシアルキレンセグメ
ントは、放射線硬化性成分と放射線硬化性ポリジメチル
シロキサン化合物との相溶性を高めることが分かった。
相溶性が向上すると、放射線硬化性ポリジメチルシロキ
サン化合物は、放射線硬化性成分に、より容易に溶解し
得る。ポリオキシアルキレンセグメントの不存在下で
は、放射線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物と放射
線硬化性成分は、組み合わされると、組成物を塗布およ
び硬化したときに、曇り、みかん肌、クレーター、ゴー
スト、または他の表面欠陥をもたらす2相を形成する傾
向があり得る。
【0022】好ましい放射線硬化性ポリジメチルシロキ
サン化合物類は、一般式(II):
【化5】 (式中、Rは、水素またはアルキル基、R1は、好まし
くはHまたは-CH3、xは、好ましくは約1〜7の範
囲、最も好ましくは7であり、およびyは、好ましくは
約17〜25の範囲、最も好ましくは17である。)で
表されるポリジメチルシロキサンアクリレート化合物で
ある。
【0023】本発明の放射線硬化性組成物は、様々な量
の放射線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物を含有し
得る。有用な量は、摩擦係数が向上した硬化した放射線
硬化性組成物を提供し、同時に、許容できる表面上の外
観を有する硬化した被覆を提供する。放射線硬化性組成
物100部に対して、放射線硬化性ポリジメチルシロキ
サン化合物約0.1〜5pbw、特に約0.1〜2pb
w、最も好ましくは約0.2〜1pbwを使用すること
が好ましい。
【0024】本発明の放射線硬化性組成物は、場合によ
り、当業者に既知の他の成分(例えば、光重合開始剤、
防食剤、界面活性剤または帯電防止剤)を含有してよ
い。
【0025】有用な光重合開始剤の例としては、ダロキ
ュアー(Darocure)1173、ダロキュアー4265、イルガキュ
アー(Irgacure)184、およびイルガキュアー907[いずれ
も、チバ-ガイギー・オブ・アードスリー(Ciba-Geigy o
f Ardsley)、ニューヨークから市販されている。]が挙
げられるが、これらに限定されるものではない。好まし
い光開始剤は、酸化ホスフィン基を含有する光開始剤、
例えば、2,4,6-(トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィン)オキサイド、ビス(2,6-ジメチオキシベンゾ
イル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサ
イド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファ
イト、およびそれらの混合物である。光重合開始剤を、
0.25〜15重量部の範囲の量で含むことができ、好
ましくは、放射線硬化性組成物100重量部に対して約
4〜12pbwの範囲で存在する。
【0026】好ましくは、本発明の放射線硬化性組成物
は、成分の未硬化の混合物から調製される。この未硬化
の混合物を、光磁気記録ディスク10の記録層のような
光磁気記録媒体に、スピンコーティング技術、電気噴霧
技術または真空蒸着を用いて適用することができる。好
ましくは、本発明の組成物を、スピンコーティング技術
を用いて基材に適用した後、組成物を紫外線で硬化し
て、硬化した組成物を形成する。
【0027】スピンコーティングに適した本発明の混合
物は、典型的には、放射線硬化性成分、放射線硬化性ポ
リジメチルシロキサン化合物、並びに場合により、光重
合開始剤および防食剤を包含し得る。有利には、この混
合物の粘度は、典型的には、溶媒を組成物に添加せずに
スピンコーティングできるほど十分に低い。
【0028】スピンコーティングは、厚さ3〜20μ
m、好ましくは3〜15μm、特に5〜15μm、最も
好ましくは6〜10μmの極めて均一な被覆層を迅速か
つ容易に製造することができる。スピンコーティング技
術によれば、未硬化の成分の混合物を、先ず調製する。
混合物を、通常のスピンコーティング器具を用いて、光
磁気ディスク10上に分配する。そのような器具は、一
般に、計量分配針、シリンジおよびポンプを包含する。
混合物をディスク上に分配することは、流体を、シリン
ジと針を用いて、手動的または自動的に分配することを
伴う。好ましくは、被覆されるディスクを、スピンコー
ティングする前に、イオン化空気で予備洗浄する。粘度
が5〜100cpsの範囲の混合物では、ディスクを3
0〜100rpmで回転させているときに、針圧5〜2
0psi(25〜103mmHg)で、混合物の適量
を、約2秒内にディスク中央上に分配する。好ましく
は、イン-ラインフィルター(0.1〜2μm)を用い
て、混合物が計量分配針を通過する前に、混合物から粒
子を取り除く。分配後、1800〜3500rpmの高
いスピンオフ速度によって、3〜5秒間、溶液を薄く均
一な被覆に分散させる。
【0029】その後、未硬化の混合物を、適する放射線
形態で硬化する。好ましくは、硬化は、排気ファンの装
着されたチャンバー内で行う。典型的には、低沸点の揮
発性成分をチャンバーから取り除くために、排気ファン
を、硬化中作動する。さらに、スピンコーティングおよ
び/または硬化は、好ましくは不活性雰囲気下、例え
ば、90%またはそれ以上の窒素を含んで成る雰囲気下
で行う。
【0030】本発明の未硬化の組成物を、適する放射線
形態(例えば、電子線または紫外線)を用いて硬化して
よい。組成物は、光硬化し得る(すなわち、紫外線照射
によって硬化し得る)ことが好ましい。中圧または高圧
水銀ランプのような電力アークランプ、並びにH-型、
D-型またはV-型ハロゲン化金属ランプのような無電極
ランプを含む様々なUV光源が適している。具体的な照
射光源は、放射線硬化性成分並びに放射線硬化性ポリジ
メチルシロキサン化合物および使用される光重合開始剤
の吸収スペクトルに対応して、選択されなければならな
い。例として、波長領域が240〜450nmで、エネ
ルギーが2〜6秒間で200〜450mJ/cm2のU
V光源が好ましい。
【0031】以下の実施例により、本発明の目的および
長所をさらに述べるが、これらの実施例中の具体的な物
質およびその量、並びに条件および詳細は、本発明を不
当に制限するものではないと考えられるべきである。
【0032】
【実施例】表1の成分から、放射線硬化性組成物の試料
を製造した。放射線硬化性アクリレート、ポリジメチル
シロキサンアクリレートおよび光重合開始剤の成分か
ら、組成物を製造した。試料は、UV硬化でき、付加的
な溶媒を含まなかった。
【0033】
【表1】
【0034】TMTPAは、トリメチルプロパントリ
(メタ)アクリレートである。HDODAは、1,6-ヘ
キサンジオールジ(メタ)アクリレートである。ポリジ
メチルシロキサン1で表された試料1、2および3のポ
リジメチルシロキサン化合物は、
【0035】
【化6】
【0036】(式中、RおよびR'は、上述の定義と同
様である。)であった。ポリジメチルシロキサン2で表
された比較試料4のポリジメチルシロキサン化合物は、
ゴールドシュミット・オブ・ジャーマニー(Goldschmidt
ofGermany)からRC726という商品名で入手でき、以下の
式で表される。
【0037】
【化7】
【0038】この化合物は、ポリオキシアルキレン基を
含まない。ポリジメチルシロキサン2は、放射線硬化性
コーティングの他の成分とは非相溶である。ポリジメチ
ルシロキサン2を放射線硬化性成分と混合しようとする
と、2相溶液が得られ、さらには、「みかん肌」組織を
有する被覆表面をもたらした。
【0039】コンヴァック・オブ・ジャーマニー(Conva
c of Germany)製のコンヴァック(Convac)コーターを用
いて、試料1、2および3並びに対照試料を光磁気ディ
スクのアルミニウム表面上にスピンコートした。ディス
クを、分散速度30〜100rpmで2〜3秒間回転し
ているときに、0.5μmディスポーサブルフィルター
を装着したシリンジを介して各試料を手動で分配した
後、2500〜3600rpmの速いスピニングサイク
ルで4秒間回転させた。その後、組成物を、H-型電球
を装着したフージョン(Fusion)システムで、「触って粘
着しない」表面になるまで硬化した。
【0040】硬化した組成物の表面を、たてすじ、みか
ん肌および曇りのような表面上の欠陥について、目視お
よび顕微鏡検査により試験した。試料1、2、3および
対照試料は、表面上は、容認できた(すなわち、それぞ
れの硬化した被覆には、みかん肌、曇りまたは他の表面
欠陥がなかった。)。
【0041】較正された液体を用いて、各試料の界面エ
ネルギーを概算した。結果を表2にまとめる。
【0042】
【表2】
【0043】表2は、ポリジメチルシロキサン1を1%
含有している試料2の界面エネルギーが、アルミニウム
/クロム表面(光記録媒体の反射層)、およびポリジメ
チルシロキサンを含まない対照試料の両者よりも低いこ
とを表している。
【0044】次に、10gの磁気ヘッドと試料1、2、
3および対照試料の間の摩擦係数を、様々な回転速度で
測定した。結果を表3にまとめる。
【0045】
【表3】
【0046】表3のデータを、図2にグラフ化する。図
2から、ポリジメチルシロキサン1の量が増加すると、
静的および動的摩擦係数がいずれも低下することが分か
る。
【0047】上記のデータは、ポリオキシアルキレンセ
グメントを含有する放射線硬化性ポリジメチルシロキサ
ンアクリレートが、光磁気媒体の放射線硬化性組成物の
ための結合潤滑剤として有効であることを実証してい
る。この放射線硬化性組成物は、向上した摩擦特性を与
え、かつヘッドまたは媒体を損傷する低下した電位で
は、磁気ヘッドをディスク表面と密に接触または直接滑
り接触させることができる。そのため、この組成物は、
直接上書き記録できる光磁気記録ディスク上において、
特に有用である。
【0048】
【発明の効果】本発明の組成物を用いることにより、磁
気ヘッドとの間の摩擦係数を低減することができ、かつ
曇りまたはみかん肌組織もしくはクレーターのような表
面上の結果を有しない光磁気記録媒体上の被覆が提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の組成物の被覆を含んで成る光磁気記
録ディスクの模式的な断面図である。
【図2】 本発明の光磁気記録ディスクおよび対照資料
の回転速度に対する摩擦係数のグラフである。
【符号の説明】
10…光磁気記録ディスク、12…記録層、14…透明
基材、15…透明誘電層、16…フィルム、18…透明
誘電層、20…被覆層、22…ハードコート層、24…
記録ヘッド、26…サスペンション、40…入射光。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 163/10 PJK C09D 163/10 PJK G11B 11/10 521 9075−5D G11B 11/10 521E

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ディスクの表面に提供された被覆を含ん
    で成る光磁気記録ディスクであって、前記被覆が、 a)放射線硬化性成分、および b)ポリオキシアルキレンセグメントを含んで成る放射
    線硬化性ポリジメチルシロキサン化合物から構成される
    放射線硬化性組成物から得られるディスク。
  2. 【請求項2】 ポリジメチルシロキサン化合物が、下
    式: 【化1】 (式中、Rは、水素またはアルキル基、R'は、水素ま
    たは−CH3、xは、約1〜7の範囲であり、およびy
    は、約17〜25の範囲である。)で表される請求項1
    に記載のディスク。
  3. 【請求項3】 ポリジメチルシロキサン化合物が、下
    式: 【化2】 で表される請求項2に記載のディスク。
  4. 【請求項4】 ディスクの表面に提供された被覆を含ん
    で成る光磁気記録ディスクであって、前記被覆が、1,
    6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ
    チルプロパントリ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
    ルAエポキシジ(メタ)アクリレート、およびそれらの
    混合物からなる群より選ばれた放射線硬化性成分85〜
    90重量部、および式: 【化3】 で表されるポリジメチルシロキサン化合物約0.1〜5
    重量部から構成される放射線硬化性組成物から得られる
    ディスク。
JP8125505A 1995-06-05 1996-05-21 ポリジメチルシロキサンを含んで成る放射線硬化性組成物 Pending JPH08329520A (ja)

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