JPH05298765A

JPH05298765A - 光磁気ディスク

Info

Publication number: JPH05298765A
Application number: JP12126992A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Endo; 広行遠藤; Isamu Kuribayashi; 勇栗林; Hideki Hirata; 秀樹平田; Setsuko Shibuya; 節子渋谷; Tsuneo Kuwabara; 恒男桑原
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-04-15
Filing date: 1992-04-15
Publication date: 1993-11-12

Abstract

(57)【要約】【目的】光磁気ディスクにおいて、保護コートの塗膜
の塗布状態を良好とし、表面性に優れたものとする。ま
た、摩擦特性および摩擦耐久性に優れたものとする。【構成】保護コート中にフッ素系樹脂微粒子およびフ
ッ素系の非イオン性界面活性剤を含有させる。このとき
の界面活性剤は、少なくとも１つのエチレンオキシド基
を介して、両端に、各々、パーフルオロアルキル基およ
びアルキル基を有する基本構造ないし基本構造単位を有
するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁界変調方式の光磁気
ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】大容量情報担持媒体として光ディスクが
注目されている。このなかには、オーバライト可能なも
のとして磁界変調方式の光磁気ディスクがあり、データ
ーファイル等への応用が期待されている。この磁界変調
方式は、光ピックアップから、レーザ光を光磁気ディス
クの磁性層にＤＣ的に照射して、その温度を上昇させて
おき、これと同時に、光ピックアップと反対側に配置し
た磁気ヘッドから、変調磁界を磁性層上に印加してオー
バーライト記録を行なうものである。

【０００３】そして、この場合、磁気ヘッドとディスク
が接触状態から回転し、停止後接触状態に戻るＣＳＳ方
式が主に採用される。また、常時接触タイプの磁気ヘッ
ドも提案されている。

【０００４】従って、光磁気ディスクにおいて、磁気ヘ
ッド側に設けられる表面保護膜には、吸着防止対策、ヘ
ッドクラッシュ等に対する耐久性が要求される。

【０００５】このようなことから、上記のような保護膜
としては種々の提案がなされている。例えば、特開平２
−３０１０４０号、同２−３０１０４１号には、含フッ
素ポリウレタン系樹脂を主成分とする樹脂組成物を用い
る旨が、また特開平３−３７８４４号には、有機溶媒に
可溶性のフッ素樹脂を主成分とする樹脂組成物を用いる
旨がそれぞれ提案されている。また、これらにおいて、
記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾向の大
きい金属元素や滑材を含有させる旨も提案されている。

【０００６】さらに、特開平２−４０１４９号には、紫
外線硬化樹脂に潤滑剤を混入させたものを用いる旨が、
特開平３−１７８４４号には潤滑層を用いる旨が、それ
ぞれ提案されている。

【０００７】また、特開平３−６２３３８号には、オー
バーコート層の表面に０．１μm 以上０．５μm 以下の
凹凸を均一に存在させる旨が提案されている。

【０００８】しかし、これらのいずれにおいても十分で
はない。例えば、樹脂のみの平滑面では潤滑性が十分で
はなく、また金属や滑材を混合させたものでは、硬質の
ものを用いるとヘッドを傷つける問題が生じる。また、
潤滑材を用いることは、ディスク特性上好ましくない。

【０００９】このようなことから、本出願人は、先に、
保護コートにフッ素系樹脂微粒子を含有させる旨を提案
している（特願平３−２５４５９７号）。

【００１０】そして、これにより摩擦特性が良好とな
り、耐久性が向上する効果を得ている。

【００１１】このような保護コートは、塗布によって設
層されるが、このようなものでは塗布状態が良好とはい
えず、乾燥後においても表面性が不十分である。また、
繰り返し使用するうちに、摩擦特性が悪化してしまい、
摩擦耐久性に劣るという欠点がある。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、保護
コートの塗布状態が良好で表面性に優れ、特に摩擦耐久
性に優れた光磁気ディスクを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（８）の構成によって逹成される。（１）基板上に記録層を有し、この記録層上に保護コー
トを有する磁界変調方式の光磁気ディスクにおいて、前
記保護コートは、フッ素樹脂微粒子およびフッ素系の非
イオン性界面活性剤を含有し、前記界面活性剤は、少な
くとも１つのエチレンオキシド基を介して、パーフルオ
ロアルキル基およびアルキル基を有する基本構造を有す
ることを特徴とする光磁気ディスク。

【００１４】（２）前記非イオン性界面活性剤は分子量
１０００以上の成分を含有する上記（１）に記載の光磁
気ディスク。

【００１５】（３）前記非イオン性界面活性剤の保護コ
ート中における含有量が０．１〜５重量％である上記
（１）または（２）に記載の光磁気ディスク。

【００１６】（４）前記微粒子が含有される樹脂は放射
線硬化樹脂である上記（１）ないし（３）のいずれかに
記載の光磁気ディスク。

【００１７】（５）前記微粒子を構成するフッ素系樹脂
は、低分子量四フッ化エチレン樹脂である上記（１）な
いし（４）のいずれかに記載の光磁気ディスク。

【００１８】（６）前記微粒子の平均粒径は０．１〜１
０μm である上記（１）ないし（５）のいずれかに記載
の光磁気ディスク。

【００１９】（７）前記微粒子の保護コート中における
含有量が２〜４０wt% である上記（１）ないし（６）の
いずれかに記載の光磁気ディスク。

【００２０】（８）前記保護コートの厚さが１〜３０μ
m である上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の光
磁気ディスク。

【００２１】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００２２】本発明の光磁気ディスクは、例えば図１に
示される構成のものである。

【００２３】図１に示される光磁気ディスクを例に挙げ
て説明する。図１に示される光磁気ディスク１は基板２
表面上に、保護層４、中間層５、記録層６、保護層７、
反射層８および保護コート９を順次有する。この際、デ
ィスク表面、すなわち基板２の裏面側には、ハードコー
ト３を設けてもよい。

【００２４】そして、本発明において、保護コート９
は、フッ素系樹脂微粒子およびフッ素系の非イオン性界
面活性剤を含有する。

【００２５】この場合、フッ素系の非イオン性界面活性
剤は、少なくとも１つのエチレンオキサイド基を介し
て、両端に、パーフルオロアルキル基およびアルキル基
を有する基本構造を有するものである。

【００２６】フッ素系樹脂微粒子およびフッ素系の非イ
オン性界面活性剤を含有させることによって、良好な摩
擦特性および摩擦耐久性を示す。また、塗膜の塗布状態
が良好で、表面性に優れる。

【００２７】ここで、摩擦耐久性とは、磁気ヘッドを接
触させて走行させる接触耐久テストを繰り返した場合の
摩擦特性の変化を示す指標をいう。

【００２８】このような効果は、両者を併用することに
よって得られるものであり、一方のみを用いては得られ
るものではない。

【００２９】フッ素系樹脂微粒子のみを含有させた場合
は、摩擦特性の点では満足できるレベルにあるが、摩擦
耐久性、塗膜の塗布状態、表面性のいずれの点において
も十分ではない。

【００３０】さらに、フッ素系の非イオン性界面活性剤
として、上記において、アルキル基を有さないような本
発明とは異なる構造のものを用いたときにも、本発明の
ような良好な効果は、得られるものではない。

【００３１】本発明において、微粒子を構成するフッ素
系樹脂は、化１に示されるような低分子量四フッ化エチ
レン樹脂であることが好ましい。

【００３２】

【化１】

【００３３】化１において、ｎは５〜２０００、特に８
〜５００であることが好ましい。

【００３４】このものの平均分子量は６００〜２００，
０００、好ましくは１，０００〜５０，０００である。
また、融点は７０〜３５０℃、好ましくは９０〜３３０
℃のものであり、真比重は２．０〜２．５、特に２．３
前後であることが好ましい。

【００３５】このような微粒子は、表面エネルギーが低
いものであり、表面エネルギーは、バルク状態で４０er
g/cm² 以下、特に２５erg/cm² 以下であることが好まし
い。

【００３６】表面エネルギーは、例えば縦２cm、横２c
m、厚さ０．２cm程度の大きさの試料を用い、表面張力
が既知である各種液体と表面との接触角から求められる
臨界表面張力に基づき求めるか、あるいは液体の飽和蒸
気を用いた吸着実験に基づき求めたものである。

【００３７】また、摩擦係数は、ＪＩＳＫ７２１８によ
る滑り摩耗試験で求めて、バルク状態で０．３以下であ
ることが好ましい。

【００３８】また、微粒子の形状には特に制限はなく、
球状、薄片状、塊状、塊繊維状等のいずれであってもよ
く、特に球状であることが好ましい。

【００３９】また、平均粒径は、電子顕微鏡写真（ＳＥ
Ｍ）の観察から０．１〜１０μm 、好ましくは０．２〜
３μm とすればよい。

【００４０】このような粒径とすることによって、摩擦
特性が向上する。

【００４１】また、フッ素系微粒子の保護コート９全体
に対する含有量は２〜４０wt% 、好ましくは１０〜３０
wt% とするのがよい。

【００４２】このような含有量とすることによって、摩
擦特性が向上する。

【００４３】フッ素系微粒子は、保護コート９中に、通
常、均一に分散させることが好ましいが、場合によって
は、多層塗布等により表層に偏在させてもよい。

【００４４】本発明におけるフッ素系の非イオン性界面
活性剤は、前記したとおりのものであり、親水基として
エチレンオキシド基を有し、親油基としてアルキル基を
有するものである。

【００４５】このようなものとしては、化２で示される
ものおよびこれを基本構造としてこれから導かれるオリ
ゴマー等の化合物であることが好ましい。

【００４６】

【化２】

【００４７】化２において、Ｒｆはパーフルオロアルキ
ル基を表し、炭素数は４〜１２、さらには６〜１０であ
るものが好ましい。

【００４８】Ｌ₁ はスルホニル基またはカルボニル基を
表し、スルホニル基が好ましく、Ｌ₂ はカルボニル基、
またはカルボニルオキシ基を表す。

【００４９】Ｒ₁ は、水素または置換もしくは無置換の
アルキル基を表し、無置換アルキル基としては炭素数１
〜６のものが好ましく、ブチル基、ペンチル基等が好ま
しい。置換アルキル基の場合の置換基としては、アルキ
ル基、アリール基等が好ましい。

【００５０】Ｒ₂ は、アルキル基を表し、炭素数１〜５
のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基等
が挙げられる。

【００５１】ｍは、１〜２０の正の整数を表す。

【００５２】また、化２で示されるもののなかの１つと
して、化３で示されるように、Ｒ₁とＬ₂ とをもってポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）骨格を形成し、高
分子化したものも好ましい。

【００５３】

【化３】

【００５４】化３において、Ｒｆ、Ｌ₁ 、Ｒ₂ およびｍ
は化２と同義であり、ｑは２〜２０の正の整数を表す。

【００５５】本発明に用いる非イオン性界面活性剤は、
分子量１０００以上、好ましくは２０００〜２００００
の成分を含有するものである。

【００５６】そして、このような主分子量となる成分
は、界面活性剤全体の５０％程度以上、さらには５０％
程度〜１００％であることが好ましい。

【００５７】このような分子量ないし分子量分布のもの
を用いることによって、摩擦耐久性等の本発明の効果が
向上する。

【００５８】本発明に用いる界面活性剤は、化２で示さ
れる基本構造のものの１種のみ、あるいは、２種以上の
混合物として市販されているものもあり、このようなも
のとしては、Ｆ−１７７、Ｆ−１７２〔大日本インキ
（株）製〕などが挙げられる。

【００５９】また、このような界面活性剤の保護コート
９全体に対する含有量は、０．１〜５重量％、好ましく
は０．５〜３重量％とするのがよい。

【００６０】このような含有量とすることによって、摩
擦耐久性等の本発明の効果が向上する。

【００６１】本発明では、このような界面活性剤のみを
用いることが好ましいが、場合によっては、本発明にお
ける界面活性剤のほかに、別種の界面活性剤を併用して
もよい。この場合、本発明における界面活性剤を６０wt
% 以上とすることが、本発明の効果を得る上で好まし
い。

【００６２】保護コート９において、フッ素系樹脂微粒
子およびフッ素系の非イオン性界面活性剤を含有させる
樹脂としては、放射線硬化樹脂であることが好ましい。
具体的には、放射線硬化型化合物やその重合用組成物
を、放射線硬化させた物質から構成されることが好まし
い。このようなものとしては、イオン化エネルギーに感
応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するア
クリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化
合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレート
のようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘
導体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋ある
いは重合する基を分子中に含有または導入したモノマ
ー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができ
る。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ま
しく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。

【００６３】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタ
エリスリトールアクリレート（メタクリレート) 、トリ
メチロールプロパントリアクリレート（メタクリレー
ト) 、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタク
リレート)、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、
あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入され
たもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレ
ート（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号
に示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号
に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノ
マーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、
放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入された
もの等が挙げられる。

【００６４】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

【００６５】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。

【００６６】保護コート９を形成するための放射線硬化
型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂およ
び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用さ
れる。

【００６７】エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹
脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。

【００６８】脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニル
シクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂
環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、
良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に
１００〜２００であることが好ましい。

【００６９】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ₆ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。

【００７０】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。

【００７１】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。

【００７２】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。

【００７３】このようななかでも、放射線硬化型化合物
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。

【００７４】保護コート９を形成するには、例えば以下
のようにする。まず、前記のような樹脂、好ましくは放
射線硬化樹脂用組成物に前記の樹脂微粒子および界面活
性剤を所定量添加し、超音波分散するなどして混合し、
このものの塗膜を反射層８上に形成する。

【００７５】塗膜の形成方法に特に制限はなく、通常、
スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッ
ピング等、種々の公知の方法を組み合わせて形成すれば
よい。この際の塗布条件は、重合用組成物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

【００７６】そして、紫外線を照射して塗膜を硬化す
る。なお、場合によっては、加熱後に紫外線を照射して
もよく、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。

【００７７】塗膜に照射する紫外線強度は、通常、５０
mW/cm²程度以上、照射量は、通常、５００〜２０００mJ
/cm²程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀
灯などの通常のものを用いればよい。紫外線の照射によ
り、上記各化合物はラジカル重合する。

【００７８】このようにして得られる保護コート９の厚
さは、１〜３０μm 、好ましくは２〜２０μm とするの
がよい。

【００７９】このような膜厚とすることによって本発明
の効果が向上する。膜厚が薄すぎると一様な膜を形成す
ることが困難となり、耐久性が不十分となってくる。ま
た、厚すぎると、硬化の際の収縮によりクラックが生じ
たり、ディスクに反りが発生し易くなってくる。

【００８０】そして、保護コート９の表面粗さは、ＪＩ
ＳＢ０６０１の定義に従うＲａを用いて、Ｒａ５０〜１
０００nm、好ましくは１００〜５００nm（測定長０．５
mm）程度となる。また、動摩擦係数は０．０５〜０．１
５程度となり、繰り返し使用後においても変化が小さ
い。

【００８１】本発明における基板２の材質には、透明な
ものであれば特に制限はなく、ガラス、各種透明樹脂が
用いられる。透明樹脂としては、ポリカーボネート樹
脂、アクリル樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、スチレ
ン系樹脂等が挙げられる。

【００８２】また、図１に示されるように、基板２の裏
面側には透明なハードコート３が形成されている。ハー
ドコート３は、前記保護コート９を構成する好ましい樹
脂と同様の放射線硬化性樹脂材質とすればよい。

【００８３】このハードコート３の厚さは、１〜３０μ
m 、特に３〜１０μm であることが好ましい。

【００８４】このようなハードコート３を塗布した基板
２の記録光および再生光に対する透過率は、８０％以
上、特に８５％以上であることが好ましい。また、ハー
ドコートは、ディスク主面のみに限らず、外周側面や内
周側面にも形成されていてもよい。

【００８５】なお、基板２の記録層６形成面には、トラ
ッキング用のグルーブが形成されていてもよい。

【００８６】図１に示される光磁気記録ディスクにおい
て、基板２上には、下地層としての保護層４、中間層５
を介して記録層６が形成されている。中間層５は、Ｃ／
Ｎ比を向上させるために設けられ、各種誘電体物質から
形成されることが好ましく、その層厚は３０〜１５０nm
程度であることが好ましい。

【００８７】また保護層４とともに記録層６の上にも保
護層７を設けることもできる。併用する場合には、保護
層４と保護層７の組成は同一であっても異っていてもよ
い。必要に応じて設けられる保護層４および保護層７
は、記録層６の耐食性向上のために設けられるものであ
り、これらは少なくとも一方、好ましくは両方が設けら
れることが好ましい。これら保護層は、各種酸化物、炭
化物、窒化物、硫化物あるいはこれらの混合物からなる
無機薄膜から構成されることが好ましい。また、保護層
４、７は、上記の中間層材質で形成してもよい。保護層
の層厚は３０〜３００nm程度であることが耐食性向上の
点から好ましい。このような保護層４、７や中間層５
は、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の各種気
相成膜法、特にスパッタによって形成されることが好ま
しい。

【００８８】記録層６は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層６は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有す
る合金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッ
タ、蒸着、イオンプレーティング等、特にスパッタによ
り、非晶質膜として形成したものであることが好まし
い。希土類金属としては、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｓ
ｍ、Ｃｅのうちの１種以上を用いることが好ましい。遷
移金属としては、ＦｅおよびＣｏが好ましい。この場
合、ＦｅとＣｏの総含有量は、６５〜８５at％であるこ
とが好ましい。そして、残部は実質的に希土類金属であ
る。

【００８９】好適に用いられる記録層の組成としては、
ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、
ＮｄＧｄＦｅＣｏ等がある。なお、記録層中には、１０
at％以下の範囲でＣｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｓｉ、Ｍ
ｏ、Ｍｎ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｕ等が含有
されてもよい。また、１０at％以下の範囲で、Ｓｃ、
Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等の他の希土類金属元素を含有し
てもよい。このような記録層６の層厚は、通常、１０〜
１０００nm程度である。そして、保護層７上には金属製
の反射層８が設けらる。

【００９０】反射層８を構成する材質は、Ａｕ、Ａｇ、
Ｐｔ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等の金属、あるい
はこれらの合金、あるいはこれらの化合物であってよ
い。また、反射層８は、記録層６と同様にして設層すれ
ばよい。反射層８の膜厚は３０〜２００nm程度とする。

【００９１】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００９２】実施例１外径８６mm、内径１５mm、厚さ１．２mmのポリカーボネ
ート樹脂基板の記録層形成側裏面および周面に、ハード
コート層用組成物の塗膜を形成し、この塗膜を紫外線硬
化してハードコートを形成した。ハードコートは、下記
の重合用組成物（Ａ）をスピンコートにより塗布し、紫
外線を照射して硬化したものであり、硬化後の平均厚さ
は５μm とした。

【００９３】重合用組成物（Ａ）オリゴエステルアクリレート５０重量部（分子量５，０００）ポリメチロールプロパントリアクリレート５０重量部アセトフェノン系光重合開始剤３重量部

【００９４】次いで、上記のようにハードコートを形成
した基板の他面上の一定領域に、ガラス製の保護層を高
周波マグネトロンスパッタにより４０nmの層厚に設層し
た。この保護層上に、ＳｉＮ_x 中間層を高周波マグネト
ロンスパッタにより層厚８０nmに設層した。次に、この
中間層上に、Ｔｂ₂₃Ｆｅ₇₂Ｃｏ₅ の組成を有する記録層
を、スパッタにより層厚２０nmに設層した。

【００９５】さらに、この記録層上に、前記保護層と同
組成の２０nmの保護層を高周波マグネトロンスパッタに
より設層し、この保護層上に、８０nmのＡｌ合金反射
層、さらにその上に保護コートを設層した。

【００９６】保護コートは、以下のような重合用組成物
（１）を超音波分散装置にて混合して得、このものの塗
膜をスピンコートによって形成し、この塗膜を紫外線を
照射して硬化したものであり、硬化後の平均厚さは５μ
m とした。紫外線照射は、照射量１０００mJ/cm²の条件
下で行なった。

【００９７】重合用組成物（１）オリゴエステルアクリレート５０重量部（分子量５，０００）ポリメチロールプロパントリアクリレート５０重量部アセトフェノン系光重合開始剤３重量部テフロンゾル［化１に示すもの：ｎ＝５０：平均分子量約５，０００：融点３００℃：真比重２．３：平均粒径０．２５μm ：固形分２０重量％］４０重量部フッ素系非イオン性界面活性剤〔Ｆ−１７７：大日本インキ（株）製：オリゴマータイプ：成分の主分子量１４０００（全体の５０％程度）〕１重量部

【００９８】これをサンプルNo. １とする。なお、微粒
子を構成するフッ素系樹脂は、本文記載の方法、条件で
測定して、表面エネルギーがバルク状態で２０erg/cm²
のものである。また、摩擦係数はＪＩＳＫ７２１８によ
って求めるとバルク状態で０．３以下のものである。

【００９９】サンプルNo. １において、フッ素系の界面
活性剤を化３に示すようなエチレンオキシド基を介して
アルキル基を有さないタイプのもの〔Ｆ−１４２Ｄ：大
日本インキ（株）製：化４においてＲ＝Ｃ₃ Ｈ₇ 、ｐ＝
１０〕に変更する以外は、同様にしてサンプルNo. ２を
得た。

【０１００】サンプルNo. １において、フッ素系の界面
活性剤を含有させないものとするほかは同様にしてサン
プルNo. ３を得た。

【０１０１】

【化４】

【０１０２】（化４において、Ｒは水素または低級アル
キル基を表し、ｍは１０〜２０の整数を表す。）

【０１０３】上記サンプルNo. １〜No. ３についてＪＩ
ＳＢＯ６０１の定義に従うＲａ（測定長０．５mm）を
測定した。また、スピンコート後の塗膜について塗布状
態を目視により観察した。

【０１０４】さらに、（Ｍｎ−Ｚｎフェライト）コンポ
ジットヘッドを用いて以下の評価を行なった。

【０１０５】（１）動摩擦係数μ₁ プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、１rp
m でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定し、
これからμを算出した。荷重は１５g とした。

【０１０６】（２）接触耐久テストプラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、ヘッ
ドを接触させて１．４m/s で回転させ、２０万パス後の
μ₁ を求め、摩擦耐久性を調べた。

【０１０７】これらの結果を表１に示す。

【０１０８】

【表１】

【０１０９】表１から明らかなように、本発明のサンプ
ルNo. １は、塗布状態が良好で、表面性に優れ、初期の
μ₁ が小さく、接触走行後においてもμ₁ が良好な状態
にあることがわかる。

【０１１０】これに対し、別種のフッ素系の界面活性剤
を用いた比較のサンプルNo. ２は、塗布状態に難点があ
り、これに対応して表面性が劣り、初期のμ₁ は小さい
が、接触走行後のμ₁ は満足できるレベルにない。さら
に、接触走行後のヘッドに付着物がみられた。

【０１１１】また、フッ素系の界面活性剤を用いない比
較のサンプルNo. ３は、塗布状態が不良で、表面性が悪
く、初期のμ₁ は小さいが、接触走行後のμ₁ は満足で
きるレベルにない。また、接触走行後のヘッドにさらに
多くの付着物がみられた。

【０１１２】なお、サンプルNo. １において、フッ素系
の非イオン性界面活性剤を、同種のＦ−１７２〔大日本
インキ（株）製：オリゴマータイプ：成分の主分子量５
０００（全体の５０％程度）〕を３重量部用いるものと
するほかは、同様にサンプルNo. ４を得、同様に特性を
調べたところ、サンプルNo. １と同等の良好な結果を示
した。

【０１１３】

【発明の効果】本発明によれば、保護コートの塗布状態
が良好で表面性に優れ、摩擦特性および摩擦耐久性に優
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気ディスクの１例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１光磁気ディスク２基板３ハードコート４保護層５中間層６記録層７保護層８反射層９保護コート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渋谷節子東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (72)発明者桑原恒男東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に記録層を有し、この記録層上に
保護コートを有する磁界変調方式の光磁気ディスクにお
いて、前記保護コートは、フッ素樹脂微粒子およびフッ素系の
非イオン性界面活性剤を含有し、前記界面活性剤は、少
なくとも１つのエチレンオキシド基を介して、パーフル
オロアルキル基およびアルキル基を有する基本構造を有
することを特徴とする光磁気ディスク。
【請求項２】前記非イオン性界面活性剤は分子量１０
００以上の成分を含有する請求項１に記載の光磁気ディ
スク。
【請求項３】前記非イオン性界面活性剤の保護コート
中における含有量が０．１〜５重量％である請求項１ま
たは２に記載の光磁気ディスク。
【請求項４】前記微粒子が含有される樹脂は放射線硬
化樹脂である請求項１ないし３のいずれかに記載の光磁
気ディスク。
【請求項５】前記微粒子を構成するフッ素系樹脂は、
低分子量四フッ化エチレン樹脂である請求項１ないし４
のいずれかに記載の光磁気ディスク。
【請求項６】前記微粒子の平均粒径は０．１〜１０μ
m である請求項１ないし５のいずれかに記載の光磁気デ
ィスク。
【請求項７】前記微粒子の保護コート中における含有
量が２〜４０wt% である請求項１ないし６のいずれかに
記載の光磁気ディスク。
【請求項８】前記保護コートの厚さが１〜３０μm で
ある請求項１ないし７のいずれかに記載の光磁気ディス
ク。