JPH04247338A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザーなどの光によ
り、情報の記録、再生を行う光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、高密度・大容量の情報記
録媒体として注目され種々のタイプの光ディスクの研究
開発が行われている。これらの中で、消去可能で書換え
可能な光磁気ディスクは利用分野が広く、将来への期待
が大きい。そのため、種々の材料・システムが発表され
ており、その実用化が期待される。

【０００３】これらの光ディスクには、ほこりなどの付
着を防止するために帯電防止処理を行う必要があり、通
常は基板の表面に帯電防止剤を塗工したり、帯電防止剤
の基板への練り込みによる方法などがとられている。し
かし、前者の処理では耐久性に問題があり、後者では成
型性、光透過性の点で問題がある。

【０００４】一方、光ディスクの基板は一般的にはポリ
カーボネート樹脂などが用いられるために、基板の表面
硬度が小さい。そこで、表面の損傷を避けるためにＵＶ
硬化樹脂などにより表面硬化処理を施すことが提案され
ている。しかし、これらのＵＶ硬化樹脂の塗工による被
覆では、ディスクの回転中の空気との摩擦による樹脂の
帯電があり、ゴミ、ホコリの付着による読み出し面の汚
れなどが多く、記録、読み出し信号の信頼性を低下させ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐久性に優
れた帯電防止性を有し、しかも、十分な表面硬度を有す
る光ディスクの提供を目的とする。さらに詳しくは、表
面電気抵抗が低くかつ表面硬度の高い塗膜を基板上に設
けた光デイスクの提供を目的とする。また、一般には光
デイスクの基板材料としてはポリカーボネートのような
有機高分子からなる樹脂が用いられ、かつ、ホコリを極
端に嫌うためにクリーンルーム内で塗工される。このよ
うな、制約の下では、溶媒の使用及び高温の使用は好ま
しくなく、かかる使用の必要がない光ディスクをも目的
とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、塗工性の
観点から無溶媒でも薄膜塗工が可能な低粘度の紫外線（
ＵＶ）硬化性樹脂組成物に焦点を当てた。しかしながら
、一般にＵＶ硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜の表
面電気抵抗は高く帯電防止性に劣る。本発明者らはこの
点の解決をはかるために鋭意検討の結果、オリゴエチレ
ンオキシドのモノ（メタ）アクリレートが低い表面電気
抵抗を有する塗膜を与えることを見いだし既に提案した
（特願平２−１７２６５５）。このオリゴエチレンオキ
シドのモノ（メタ）アクリレートは単官能性であるため
硬化性の点からはできるだけ少ない量で低い表面抵抗を
有する硬化塗膜を得ることが望ましく、本発明者らは、
この樹脂に相溶しかつ高い硬度を付与し得る多官能性ア
クリレートを鋭意探索した。その結果、カプロラクトン
変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートまたは
そのカプロラクトン変性体を混ぜることにより、表面電
気抵抗を大きく増加させることなく表面硬度を上げるこ
とが出来、更に必要に応じて低分子量のアクリレートを
添加することにより、容易に塗工出来る範囲にまで塗液
粘度を下げることが出来る事を見いだし本発明に到達し
た。

【０００７】即ち、本発明は、光ディスクの少なくとも
光照射面（読み取り面）を （Ａ）一般式（Ｉ） ＣＨ２　＝ＣＲ１　ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨＲ２　）ｎ　
ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｉ）（
式中、Ｒ１　、Ｒ２　は水素原子またはメチル基を、ｎ
は４〜６の整数を示す。）で表されるオリゴエチレンオ
キシドおよびオリゴプロピレンオキシドのモノ（メタ）
アクリレートの１種またはそれ以上を２０〜４０重量％
、（Ｂ）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリ
レートまたはそのカプロラクトン変性体の１種またはそ
れ以上を４０〜８０重量％、（Ｃ）成分（Ａ）、（Ｂ）
以外の重合性希釈剤を必要に応じて０〜４０重量％、お
よび、（Ｄ）光重合開始剤を成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ
）の合計量に対して１〜１０重量％を含んでなる硬化性
樹脂組成物を硬化してなる塗膜で被覆したことを特徴と
する光ディスクである。

【０００８】本発明の光ディスクとしては、ガラスや樹
脂などからなる基板上にピットが形成された記録媒体か
らなるピットタイプの光ディスク、基板上に熱記録層が
形成された記録媒体、レーザー光などの照射によりバブ
ルを形成し、反射光の変化でレベル変動を検知するバブ
ルタイプの光ディスク、あるいは基板上に光磁気記録層
が形成された記録媒体からなる光磁気ディスクなどが含
まれる。

【０００９】本発明に於て用いられる基板としては、ガ
ラス基板の他に、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、アモルファスポリオレフィンなどの樹脂基板
が用いられるが、本発明は樹脂基板に特に好ましく適用
される。

【００１０】光ディスクの記録面とは、樹脂などの基板
上に記録層が形成されている面をいう。記録面の反対面
すなわち光照射面（読み取り面）は、例えば光磁気ディ
スクにおいてはグルーブが形成されておらずフラットな
面である。

【００１１】本発明に用いられる成分（Ａ）のオリゴエ
チレンオキシドおよびオリゴプロピレンオキシドのモノ
（メタ）アクリレート［本発明において（メタ）アクリ
レートは、アクリレートおよびメタアクリレートを表わ
す。］は、下記式で表わされる。 ＣＨ２　＝ＣＲ１　ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨＲ２　）ｎ　
ＯＨ式中、Ｒ１　、Ｒ２　は水素原子又はメチル基であ
り、そのＵＶ硬化性、併用する樹脂との相溶性および硬
化物の表面電気抵抗、表面硬度を勘案して選ばれる。一
般には、ＵＶ硬化性の観点からはＲ１　が水素原子、即
ちアクリレートの方がメチル基、即ちメタアクリレート
より好ましい。また、Ｒ２　が水素原子の場合の方が、
メチル基の場合より表面電気抵抗が低く好ましい。ｎは
４〜６の整数であり、この範囲の（メタ）アクリレート
が最も高い相溶性を示し、かつ低い表面電気抵抗を示す
塗膜を与える。ｎが７以上の（メタ）アクリレートから
得られる塗膜は相溶性或いは硬化物の接着性が低く好ま
しくない。 また、ｎが３以下の（メタ）アクリレートは表面電気抵
抗値が高く好ましくない。具体的には、テトラエチレン
グリコールモノメタクリレート、ペンタエチレングリコ
ールモノメタクリレート、ヘキサエチレングリコールモ
ノメタアクリレート、テトラエチレングリコールモノア
クリレート、ペンタエチレングリコールモノアクリレー
ト、ヘキサエチレングリコールモノアクリレート、テト
ラプロピレングリコールモノメタクリレート、テトラプ
ロピレングリコールモノアクリレート等が好適に用いら
れる。

【００１２】前記式（Ｉ）で表わされるオリゴエチレン
オキシド又はオリゴプロピレンオキシドのモノ（メタ）
アクリル酸エステルは、該組成物中２０〜４０重量％含
有される。２０重量％未満では帯電防止効果が不足し、
一方４０重量％を超えると該組成物で被覆し硬化させた
光ディスクの表面硬度が不十分で好ましくない。

【００１３】本発明において、前記成分Ｂは、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートまたはそのカプロラ
クトン変性体である。この中でカプロラクトン変性体が
より好ましい。カプロラクトン変性体は、下式で表わさ
れる。

【００１４】

【化１】 （式中、ＡはＣＨ２　＝ＣＨＣＯ−であり、ｐ、ｑ、ｒ
、ｓ、ｔおよびｕは０〜１０の整数であり、かつ、ｐ＋
ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕ≦１４である。） 上述のカプロラクトン変性体は、一般にはジペンタエリ
スリトールとカプロラクトンおよびアクリル酸を直接あ
るいは逐次的にエステル化するために、これらの化合物
の混合物として得られる。また、カプロラクトン変性の
程度はジペンタエリスリトールに対するカプロラクトン
の使用量で決まる。ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕ＞１５では
、光架橋性のアクリレート基の密度が低下するため架橋
密度が低下し、目的とする硬度が発現せず、好ましくな
い。具体的には日本化薬製の商品名ＤＰＣＡ２０、ＤＰ
ＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０が挙げられる
。これらはジペンタエリスリトールをそれぞれ平均２、
３、６、１２分子のカプロラクトンで変性したものであ
り、皮膚刺激性が少なく、臭気が少ないモノマーで、硬
化速度は極めて早く、且つ硬化物は硬度が高いにも拘ら
ず柔軟性を示すため、耐候性に優れた硬化物を与える。 更に、粘度も低いため組成物を形成したときに塗布性も
良好となる。使用するＢ成分の量は該組成物中４０〜８
０重量％、好適には５０〜８０重量％である。８０重量
％を超えると、塗膜の表面電気抵抗が高くなり好ましく
ない。また、４０重量％未満では、塗膜の表面硬度を上
げることが出来ないため好ましくない。

【００１５】成分Ｃは、必須ではなく、塗液の粘度を下
げる目的で必要に応じて用いられる。従って、それ自体
低粘度の１〜３官能性の（メタ）アクリレートが用いら
れる。併用する成分（Ａ）および（Ｂ）の種類と組成に
もよるが、Ｂ型粘度計をによる粘度１０ポイズ以下、更
には５ポイズ以下の（メタ）アクリレートが好ましく用
いられる。好適に用いられる（メタ）アクリレートとし
ては、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート、ヘキサメチレングリ
コールジメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート
、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアク
リレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レート等が挙げられる。これらの中でヘキサメチレング
リコールジアクリレート、テトラヒドロフルフリルアク
リレートが硬化物のポリカーボネート基板への接着性を
改良したり、組成物の粘度を調製する上で特に好適に用
いられる。（Ｃ）成分の使用量は使用しない場合の０％
を含めて全組成物の４０重量％以下すなわち０〜４０重
量％、好ましくは０〜３０重量％が用いられる。４０重
量％を超えると、種類によっては表面硬度が高くなるが
、表面電気抵抗が低下せず、また基板との接着性が低下
するために好ましくない。

【００１６】光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、
ミヒラーズケトンなどのベンゾフェノン系開始剤、ベン
ジル、フェニルメトキシジケトンなどのジケトン系開始
剤、アセトフェノンなどのアセトフェノン系開始剤、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタールな
どのベンゾイン系開始剤、２，４−ジエチルチオキサン
トンなどのチオキサントン系開始剤、２−メチルアント
ラキノン、カンファーキノンなどのキノン系開始剤など
が好適に用いられる。必要に応じてアミン系促進剤など
の促進剤の併用も可能である。用いる開始剤量としては
、その上限はコスト等の実用面から制限され、該成分（
Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計量に対して１〜１０重量％
、好ましくは２〜５重量％が用いられる。

【００１７】本発明の硬化性樹脂組成物は、公知のスピ
ンコーティング法、浸漬コーティング法、ドクターナイ
フによるコーティング、バーコーターによる方法で、光
ディスクの表面を被覆することが出来る。特にスピンコ
ーテイング法は、膜厚が容易に制御でき実用上最も好ま
しい。光ディスクの被覆にあたっては、光ディスクの側
面をも被覆すると帯電防止効果を向上させることが出来
る。いずれにせよ溶媒を用いずに塗工を可能にするため
に、該硬化性樹脂組成物の粘度は、Ｂ型粘度計をによる
２５℃の測定で２０ポイズ以下、好ましくは１０ポイズ
以下、更に好ましくは５ポイズ以下である。２０ポイズ
を超えると塗膜制御が円滑に行えないために好ましくな
い。

【００１８】本発明の硬化後の塗膜の厚さは１〜３０μ
ｍ　であり、好ましくは５〜２５μｍ　である。１μｍ
　以下では硬度の上で十分な性能が発揮されず、３０μ
ｍ　以上では膜厚制御が困難になるばかりか、内部の硬
化性が低下するために好ましくない。

【００１９】該組成物を塗布した光ディスクは低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯などの紫外ランプ、ハロゲ
ンランプ、電子線などの活性光線、あるいは熱処理など
を用いて公知の方法、条件により硬化される。この中で
、紫外ランプ、ハロゲンランプ、電子線などの活性光線
を用いるのが操作性、生産性の観点から好ましい。

【００２０】本発明で得られる光ディスクの表面抵抗は
１０１５Ω／□未満、好ましくは１０１４Ω／□以下で
ある。これ以上の抵抗を有するものは帯電防止性の観点
から効果がない。また、表面硬度は取扱いの観点から鉛
筆硬度がＨＢ以上、好ましくはＦ以上である。

【００２１】

【発明の効果】本発明は無溶媒で高度の耐久性をもつ帯
電防止能を有し、しかも充分な表面硬度を有する光ディ
スクを提供することができる。

【００２２】

【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。本発明はかかる実施例に限定されない。

【００２３】実施例において、表面抵抗（Ω／□）はＪ
ＩＳ　　Ｋ６９１１によった。また、鉛筆硬度は、三菱
鉛筆製ユニを用いて測定した。

【００２４】

【実施例１】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）４ＯＨで
表されるテトラエチレングリコールモノアクリレートが
３０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして共に日本化薬製のＤＰＣＡ
６０とＤＰＣＡ３０が夫々２０重量％、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートが２０重量％、ヘキサメチ
レングリコールジアクリレートが１０重量％からなる組
成物１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７
（チバガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物
を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計による２５
℃の測定で１．３ポイズであった。この組成物を厚さ１
．２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に
８μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布
した。 引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い
、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬
化させた。

【００２５】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００２６】その結果表面鉛筆硬度はＨで、表面抵抗は
１．０×１０１３Ω／□であった。

【００２７】また、この硬化物塗膜を形成したポリカー
ボネートディスクを８０℃，８５％湿度の湿熱試験器中
で耐候性試験を２０００時間行ったが、試験の前後で硬
化塗膜に変化は認められなかった。

【００２８】

【実施例２】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）６ＯＨで
表されるヘキサエチレングリコールモノアクリレートが
２０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして共に日本化薬製のＤＰＣＡ
１２０とＤＰＣＡ２０が夫々２０重量％、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートが３０重量％、ヘキサメ
チレングリコールジアクリレートが１０重量％からなる
組成物１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０
７（チバガイギー社製）を５重量部含む硬化性樹脂組成
物を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる
２５℃の測定で１．１ポイズであった。この組成物を厚
さ１．２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット
面に１０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法によ
り塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧
水銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射
し、塗膜を硬化させた。

【００２９】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３０】得られたディスクの表面硬度はＨであり、
表面抵抗は６．５×１０１３Ω／□であった。

【００３１】

【実施例３】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）５ＯＨで
表されるペンタエチレングリコールモノアクリレートが
３０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして共に日本化薬製のＤＰＣＡ
６０が３０重量％とＤＰＣＡ３０が２０重量％、トリメ
チロールプロパントリアクリレートが１０重量％、ヘキ
サメチレングリコールジアクリレートが１０重量％から
なる組成物１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア
９０７（チバガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂
組成物を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をに
よる２５℃の測定で１．８ポイズであった。この組成物
を厚さ１．２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラ
ット面に１０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法
により塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの
高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間
照射し、塗膜を硬化させた。

【００３２】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３３】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は１．１×１０１３Ω／□であった。

【００３４】

【実施例４】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）４ＯＨで
表されるテトラエチレングリコールモノアクリレートが
３０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして日本化薬製のＤＰＣＡ６０
とＤＰＣＡ３０が夫々３５重量％からなる組成物１００
重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバガイ
ギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調製した
。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃の測定
で２．１ポイズであった。この組成物を厚さ１．２ｍｍ
　のポリカーボネートディスクのフラット面に１０μｍ
　の厚さになるようにスピンコート法により塗布した。 引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い
、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬
化させた。

【００３５】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３６】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は４．３×１０１３Ω／□であった。

【００３７】

【実施例５】 　　　　ＣＨ２　＝ＣＨ（ＣＨ３　）−ＣＯ（ＯＣＨ２
　ＣＨ２　）４　ＯＨで表されるテトラエチレングリコ
ールモノメタクリレートが３０重量％、カプロラクトン
変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとして
日本化薬製のＤＰＣＡ６０とＤＰＣＡ３０が夫々３５重
量％からなる組成物１００重量部に、光重合開始剤イル
ガキュア９０７（チバガイギー社製）を３重量部含む硬
化性樹脂組成物を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘
度計をによる２５℃の測定で１．９ポイズであった。こ
の組成物を厚さ１．２ｍｍ　のポリカーボネートディス
クのフラット面に１０μｍ　の厚さになるようにスピン
コート法により塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、
２ＫＷの高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線
を１分間照射し、塗膜を硬化させた。

【００３８】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３９】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は５．８×１０１３Ω／□であった。

【００４０】

【実施例６】 　　　　ＣＨ２　＝ＣＨ（ＣＨ３　）−ＣＯ（ＯＣＨ２
　ＣＨ２　）４　ＯＨで表されるテトラエチレングリコ
ールモノメタクリレートが３０重量％、カプロラクトン
変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとして
日本化薬製のＤＰＣＡ１２０とＤＰＣＡ２０が夫々３０
重量％、ヘキサメチレングリコールジアクリレート１０
重量％からなる組成物１００重量部に、光重合開始剤α
−ヒドロキシイソブチルフェノン（ダロキュア１１７３
；メルク社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調製
した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃の
測定で０．９８ポイズであった。この組成物を厚さ１．
２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に１
０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布
した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯
を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗
膜を硬化させた。

【００４１】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００４２】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は４．１×１０１３Ω／□であった。

【００４３】

【実施例７】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）６ＯＨで
表されるヘキサエチレングリコールモノアクリレートが
２０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして共に日本化薬製のＤＰＣＡ
６０が３０重量％とＤＰＣＡ３０が２０重量％、トリメ
チロールプロパントリアクリレート２０％、テトラヒド
ロフルフリルアクリレート１０重量％からなる組成物１
００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバ
ガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調製
した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃の
測定で１．１ポイズであった。この組成物を厚さ１．２
ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に１０
μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布し
た。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を
用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜
を硬化させた。

【００４４】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００４５】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は６．５×１０１３Ω／□であった。

【００４６】

【実施例８】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）６ＯＨで
表されるヘキサエチレングリコールモノアクリレートが
２５重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして共に日本化薬製のＤＰＣＡ
６０が３０重量％とＤＰＣＡ２０が３５重量％、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート１０重量％からなる組
成物１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７
（チバガイギー社製）を４重量部含む硬化性樹脂組成物
を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２
５℃の測定で２．３ポイズであった。この組成物を厚さ
１．２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面
に１０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により
塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水
銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し
、塗膜を硬化させた。

【００４７】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００４８】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は６．９×１０１３Ω／□であった。

【００４９】

【実施例９】 ＣＨ２　＝Ｃ（ＣＨ３　）−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　
）４　ＯＨで表されるテトラエチレングリコールモノメ
タクリレートが３０重量％、カプロラクトン変性ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートとして日本化薬製
のＤＰＣＡ１２０が５０重量％、ヒドロキシピバリン酸
ネオペンチルグリコールジアクリレートが１０重量％、
グリセロールジメタクリレートが１０重量％からなる組
成物１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７
（チバガイギー社製）を５重量部含む硬化性樹脂組成物
を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２
５℃の測定で２．６ポイズであった。この組成物を厚さ
１．２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面
に１０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により
塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水
銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し
、塗膜を硬化させた。

【００５０】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００５１】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は９．８×１０１３Ω／□であった。

【００５２】

【実施例１０】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）４ＯＨで
表されるテトラエチレングリコールモノアクリレートが
３０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートとして日本化薬製のＤＰＣＡ６０
が６０重量％、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
トが１０重量％からなる組成物１００重量部に、光重合
開始剤イルガキュア９０７（チバガイギー社製）を３重
量部含む硬化性樹脂組成物を調製した。この組成物の粘
度はＢ型粘度計をによる２５℃の測定で３．３ポイズで
あった。この組成物を厚さ１．２ｍｍ　のポリカーボネ
ートディスクのフラット面に１０μｍ　の厚さになるよ
うにスピンコート法により塗布した。引き続き、長さ約
２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高さ
から紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化させた。

【００５３】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００５４】得られたディスクの表面硬度はＨであり、
表面抵抗は２．８×１０１３Ω／□であった。

【００５５】

【実施例１１】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ［ＯＣＨ２　ＣＨ（ＣＨ３　）］
４　ＯＨで表されるテトラプロピレングリコールモノア
クリレートが３０重量％、カプロラクトン変性ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートとして日本化薬製の
ＤＰＣＡ６０が６０重量％、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレートが１０重量％からなる組成物１００重量
部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバガイギー
社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調製した。こ
の組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃の測定で３
．３ポイズであった。この組成物を厚さ　１．２ｍｍの
ポリカーボネートディスクのフラット面に１０μｍ　の
厚さになるようにスピンコート法により塗布した。引き
続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い、２
０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化さ
せた。

【００５６】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００５７】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は５．８×１０１３Ω／□であった。

【００５８】

【比較例１】カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの共に日本化薬製のＤＰＣＡ６０
とＤＰＣＡ３０が夫々３０重量％、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートが２０重量％、ヘキサメチレン
グリコールジアクリレートが２０重量％からなる組成物
１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チ
バガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調
製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃
の測定で３．３ポイズであった。この組成物を厚さ１．
２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に８
μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布し
た。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を
用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜
を硬化させた。

【００５９】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００６０】得られたディスクの表面硬度はＨであり、
表面抵抗は６．５×１０１５Ω／□であった。

【００６１】

【比較例２】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）６ＯＨで
表されるヘキサエチレングリコールモノアクリレートが
３０重量％、トリメチロールプロパントリアクリレート
が５０重量％、ヘキサメチレングリコールジアクリレー
トが２０重量％からなる組成物１００重量部に、光重合
開始剤イルガキュア９０７（チバガイギー社製）を５重
量部含む硬化性樹脂組成物を調製した。この組成物の粘
度はＢ型粘度計をによる２５℃の測定で０．７５ポイズ
であった。この組成物を厚さ１．２ｍｍ　のポリカーボ
ネートディスクのフラット面に１０μｍ　の厚さになる
ようにスピンコート法により塗布した。引き続き、長さ
約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高
さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化させた。

【００６２】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００６３】得られたディスクの表面硬度はＢであり、
表面抵抗は６．２×１０１５Ω／□であった。

【００６４】

【比較例３】 ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）４ＯＨで
表されるテトラエチレングリコールモノアクリレートが
４５重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの共に日本化薬製ＤＰＣＡ６０が
２５重量％とＤＰＣＡ３０が２０重量％、ヘキサメチレ
ングリコールジアクリレート１０重量％からなる組成物
１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チ
バガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調
製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃
の測定で１．０ポイズであった。この組成物を厚さ１．
２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に８
μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布し
た。 引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い
、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬
化させた。

【００６５】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００６６】得られたディスクの表面硬度は２Ｂであり
、表面抵抗は１．０×１０１１Ω／□であった。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　光ディスクの少なくとも光照射面（読
   み取り面）を、 （Ａ）一般式（Ｉ） ＣＨ２　＝ＣＲ１　ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨＲ２　）ｎ　
   ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｉ）（
   式中、Ｒ１　、Ｒ２　は水素原子またはメチル基を、ｎ
   は４〜６の整数を示す。）で表されるオリゴエチレンオ
   キシドおよびオリゴプロピレンオキシドのモノ（メタ）
   アクリレートの１種またはそれ以上を２０〜４０重量％
   、（Ｂ）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリ
   レートまたはそのカプロラクトン変性体の１種またはそ
   れ以上を４０〜８０重量％、 （Ｃ）成分（Ａ）、（Ｂ）以外の重合性希釈剤を必要に
   応じて０〜４０重量％、および （Ｄ）光重合開始剤を成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合
   計量に対して１〜１０重量％を含んでなる硬化性樹脂組
   成物を硬化してなる塗膜で被覆したことを特徴とする光
   ディスク。
2. 【請求項２】　　成分（Ｂ）がカプロラクトン変性のジ
   ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであ
   ることを特徴とする請求項１の光ディスク。
3. 【請求項３】　　成分（Ｃ）が、Ｂ型粘度計による２５
   ℃の測定で粘度１０ポイズ以下の１〜３官能性の（メタ
   ）アクリレートであることを特徴とする請求項１又は２
   の光デイスク。
4. 【請求項４】　　成分（Ｃ）がヘキサメチレングリコー
   ルジアクリレート及び／またはテトラヒドロフルフリル
   アクリレートであることを特徴とする請求項１〜３のい
   ずれかの光デイスク。
5. 【請求項５】　　硬化性樹脂組成物の粘度がＢ型粘度計
   による２５℃の測定で１０ポイズ以下であることを特徴
   とする請求項１〜４のいずれかの光デイスク。
6. 【請求項６】　　硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜
   の鉛筆硬度がＦ以上であり、かつ、表面抵抗が１０１４
   Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜５いずれ
   かの光デイスク。