JPH0467330A

JPH0467330A - 光デイスク

Info

Publication number: JPH0467330A
Application number: JP2172657A
Authority: JP
Inventors: Tsuneo Hagiwara; 恒夫萩原; Aritami Yonemura; 米村　有民; Eiichi Hashimoto; 橋本　ひで一
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1990-07-02
Filing date: 1990-07-02
Publication date: 1992-03-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、レーザーなどの光により、情報の記録、再生
を行う光ディスクに関する。

〔従来の技術〕

光ディスクは高密度・大容量の情報記録媒体として注目
され種々のタイプの光ディスクの研究開発が行われてい
る。

これらのなかで、消去可能で書換え自由な光磁気ディス
クは応用分野が広く、将来への期待が大きい。そのため
、種々の材料・システムが発表されており、その実用化
が期待される。

これらの光ディスクには、はこりなどの付着を防止する
ため帯電防止処理を行う必要があり、通常は基板の表面
に帯電防止剤を塗工したり、帯電防止剤の基板への練り
込みによる方法などがとられている。しかし、前者の処
理では耐久性に問題があり、後者では成形性、光透過性
の点で問題がある。

一方、光ディスクの基板は一般にポリカーボネート樹脂
などが用いられるために、基板の表面硬度が小さい。そ
こで、表面の損傷を避けるためにＵＶ硬化樹脂などによ
り表面硬化処理を施すことが提案されている。

しかし、これらのＵＶ硬化樹脂の塗工による被覆では、
ディスクの回転中に空気との摩擦による樹脂の帯電があ
り、ゴミ、ホコリの付着による読み出し面の汚れなどが
多く、記録、読み出し信号の信頼性を低下させている。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、耐久性に優れた帯電防止性を有し、しかも充
分な表面硬度を有する光ディスクの提供を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、光ディスクの少なくとも光照射面（読み取り
面）を一般式（１）％式％（）〔式中、Ｒ＋　は水素原子またはメチル基を示す〕で表
されるエチレングリコールモノ（メタ）アクリル酸エス
テルの燐酸モノエステル化合物と有機アミン化合物の１
＝１付加物を０．１〜２０重置％含有する硬化性樹脂組
成物で被覆したことを特徴とする光ディスクである。

本発明の光ディスクとしては、樹脂などからなる基板上
にビットが形成された記録媒体からなるビットタイプの
光ディスク、基板上に熱的記録層が形成された記録媒体
からなり、レーザー光などの照射によりバブルを形成し
、反射光の変化でレベル変動を検知するバブルタイプの
光ディスク、あるいは基板上に光磁気記録層が形成され
た記録媒体からなる光磁気ディスクが含まれる。

光ディスクの光照射面とは、読み取りまたは／および書
き込みの光ビームが入゛射される面で、通常樹脂などの
基板の記録層の形成されている面の反対側の面である。

光照射面は、例えば光磁気ディスクにおいてはグループ
が形成されておらずフラットな面である。

本発明は、前記光ディスクの少なくとも光照射面（読み
取り面）を一般式（１）で表されるエチレングリコール
モノ（メタ）アクリル酸エステルの燐酸モノエステル化
合物と有機アミン化合物の１：１付加物を０．１〜２０
重量％含有する硬化性樹脂組成物で被覆したことを特徴
とする。

一般式（Ｉ）で表されるエチレングリコールモノ（メタ
）アクリル酸エステルの燐酸モノエステル化合物と有機
アミン化合物の１＝１付加物としでは、例えば、などが挙げられる。これらはホスマーＤＭ、ホスマーＤ
Ｅなどの商品名で、ユニケミカル■などより市販されて
いる。

本発明の一般式（、、Ｉ）で表されるエチレングリコー
ルモノ（メタ）アクリル酸エステルの燐酸モノエステル
化合物と有機アミン化合物の１：ｌ付加物は、硬化性樹
脂組成物中０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１
５重量％、特に好ましくは０．５〜１０重量％含有され
る。該化合物が０．１重量％未滴では帯電防止効果が不
足、し、−方２０重量％を超えると硬化性樹脂に相溶し
にく（なり、塗膜の形成性の観点から好ましくない。

本発明において、前記一般弐（１）の化合物以外の硬化
性樹脂組成物として、一般に知られた重合性単量体や重
合性オリゴマー、重合性プレポリマーが用いられる０例
えばビスフェノールＡエポキシアクリレート、脂肪酸変
性エポキシアクリレート、ノボラックエポキシアクリレ
ート、フェノールノボラックエポキシアクリレート、ポ
リエステルオリゴウレタンアクリレート、多官能ヒドロ
キシ化合物のウレタンアクリレート、ポリブタジェンア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ　（メタ）アク
リレート、（ポリ）アルキレングリコールのジ（メタ）
アクリレートなどの脂肪族多官能アクリレート、多官能
オリゴエステルアクリレート、多官能ポリエステルアク
リレート、ホスファゼン化合物のアクリレート変性物、
イソシアヌル酸の多官能アクリレート、その他ビニル重
合性化合物、アクリル系重合性化合物などが使用できる
。これらの重合性化合物は単独あるいは混合して使用さ
れる。

本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて光重合開
始剤、熱重合開始剤などのラジカル重合開始剤などを添
加して用いる。

光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケ
トンなどのベンゾフェノン系開始剤、ベンジル、フェニ
ルメトキシジケトンなどのジケトン系開始剤、アセトフ
ェノンなどのアセトフェノン系開始剤、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイ
ン系開始剤、２．４−ジエチルチオキサントンなどのチ
オキサントン系開始剤、２−メチルアントラキノン、カ
ンファーキノンなどのキノン系開始剤などが好適に用い
られる。

本発明の硬化性樹脂組成物には必要に応じてアミン系促
進剤などの促進剤の併用も可能である。

開始剤量としては、組成物に対して０．１〜１０Ｐｈｒ
、好ましくは０．５〜７ｐｈｒが用いられる。また、熱
硬化の場合にはアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ
）、ベンゾイルペルオキシド（ＢＰＯ）、クメンヒドロ
ペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジターシャリ−
ブチルペルオキシド、ラウロイルペルオキシドなどが挙
げられる。

本発明の硬化性樹脂組成物は塗布性の改善、作業性の向
上などのために、必要に応じて溶媒で希釈される。なお
、ポリカーボネート樹脂を基板として用いる場合はメタ
ノール、エタノール、イソプロパツールなどのアルコー
ル性溶媒が好適に用いられる。

光ディスクの硬化性樹脂組成物による被覆は、記録層の
形成前であっても形成後であってもよい。

本発明の硬化性樹脂組成物は、公知のスピンコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ドクターナイフによるコー
ティング、バーコーターによる方法で、光ディスクの表
面を被覆することができる。

光ディスクの被覆にあたっては、光ディスクの側面をも
被覆すると帯電防止効果を向上させることができる。

本発明の塗膜の硬化後の厚さは、２〜３０μｍであり、
好ましくは５〜２５μｍである。

硬化性樹脂組成物を塗布した光ディスクは低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯などの紫外ランプ、ハロゲンラ
ンプ、電子線などの活性光線、あるいは熱処理などを用
いて公知の方法、条件により硬化される。この中で、紫
外ランプ、ハロゲンランプ、電子線などの活性光線を用
いるのが操作性、生産性の観点から好ましい。

本発明で得られる光ディスクの表面抵抗は、１０１５Ω
／口未満が好ましい。これ以上の抵抗を有するものは帯
電防止性の観点から効果がない。

また、表面硬度は取扱いの観点から鉛筆硬度が）ｔＢＢ
１０ものが好ましい。

〔実施例〕

以下実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はかかる実施例に限定されない。

実施例において、表面抵抗（Ω／口）はＪＩＳＫ−６９
１１によった。また鉛筆硬度は、ＪＩＳ−５４００に準
拠し、三菱鉛筆製ユニを用いて測定した。

実施例１〜６、比較例１〜２１３０■直径、ＩＳＯ規格準拠のフォーマット、ＣＣＳ
サーボ方式のポリカーボネート基板に５ｉＮ（１３００
人）／ＴｂＦｅＣｏ　（２００人）／５ｉＮ（３５０人
）／Ａｉ、合金（４００人）の積層構成〔（）内は各層
膜厚を示す〕の記録層をスパッタ法で形成し、／１合金
反射層上にフェノール・ノボラック・アクリレートを主
成分とする紫外線硬化樹脂を約ＩＯμｍの厚さに形成し
た。

このディスクのフラット面に硬化性樹脂組成物（日本積
比麹製、Ｎ５Ｃ−７１０６）に、下記エチレングリコー
ルのモノ（メタ）アクリル酸エステルの燐酸モノエステ
ル化合物と有機アミン化合物の１：１付加物（共重合モ
ノマー）を第１表に示す量（％は重量％）添加したもの
を、５〜１０μｍの厚さになるようにスピンコード法に
より塗布した。引き続き、長さ約２７ＣＩｌ、２Ｋｗの
高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間
照射し、塗膜を硬化させた。

共重合モノマー：ホスマーＤＭ、ユニケミカル■製結果を第１表に示す。

第１表ホスマーＤＥ、ユニケミカル■製ホスマーＭＨ，ユニケミカル■製比較例１は共重合モノマーを用いない場合であり、比較
例２はボ、リカーボネート基板上に、練り込み型帯電防
止剤ソルビタンラウレート（日本錆化■製）をアルコー
ルに溶かして塗布し、乾燥させたものである。

前記硬化条件でこれら塗布物を硬化させた場合、外見硬
化は充分で残存上ツマ−を示すベタツキなどは認められ
なかった。

硬化後のポリカーボネートディスクの硬化面について、
表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

実施例１〜３および比較例１で得られた光磁気ディスク
を、室温下に２４時間純水中に浸漬後表面抵抗を測定し
たが変化はなかった。比較例２の光磁気ディスクの同様
の処理後の表面抵抗は２Ｘ１０”Ω／口であった。

実施例４６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（Ｕ１２２６Ａ
、新中村化学工業■製）４０重量％、６官能アクリレー
トオリゴマー（ＫＡＹＡＲＡＤ　　ＤＰＣ６０，日本化薬■製）４０
重量％、およびホスマーＤＭ（ユニケミカル■製）２０
重量％、光開始剤ダロキュア１１７３ｐを３ｐｈｒから
なる硬化性樹脂組成物を、実施例１と同じ積層構成の記
録層を有する光磁気ディスクのポリカーボネート基板に
塗布し、前記と同様に光硬化させた。得られたディスク
の表面硬度はＨＢであり、表面抵抗は１．ｌＸｌ０”Ω
／口であった。

実施例５ホスファゼンのへキサアクリレート（Ｕ−１０００、出
光石油化学■製）９９重量％にエチレングリコールモノ
メタクリレートの燐酸モノエステルとトリエチルアミン
１：１付加物１重量％、光開始剤イルガキュア９０７（
チバガイギー社製）５ｐｈｒからなる硬化性樹脂組成物
を実施例４と同様に光硬化させた。硬化塗膜の表面硬度
は３Ｈで表面抵抗は８．５Ｘ１０１′Ω／口であった。

実施例６ホスファゼンのへキサアクリレート（Ｕ−１０００、出
光石油化学■製）９９．５重置％にエチレングリコール
モノメタクリレートの燐酸モノエステルとトリエチルア
ミン１：１付加物０．５重量％およびラジカル開始剤Ａ
ＩＢＮを５ｐｈｒからなる硬化性樹脂組成物を、実施例
１と同じ積層構成の記録層を有する光ディスクのポリカ
ーボネート基板上にスピンコードし、８０°Ｃで熱硬化
させた。

硬化塗膜の表面硬度は３Ｈで表面抵抗は９．５Ｘ１０１
４Ω／口であった。

〔発明の効果〕

本発明は、高度の耐久性をもつ帯電防止性を有し、表面
硬度に優れた光ディスクを提供することができる。

特許出願人　　帝　人　株式会社代理人　弁理士　白　井　重　隆

Claims

【特許請求の範囲】

（１）光ディスクの少なくとも光照射面を一般式（ I
）▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）（式中、Ｒ＿１は水素原子またはメチル基を示す）で表
されるエチレングリコールモノ（メタ）アクリル酸エス
テルの燐酸モノエステル化合物と有機アミン化合物の１
：１付加物を０．１〜２０重量％含有する硬化性樹脂組
成物で被覆したことを特徴とする光ディスク。