KR20060049031A - 코팅용 조성물, 코팅필름, 코팅필름 제조방법 및 광기록매체 - Google Patents

코팅용 조성물, 코팅필름, 코팅필름 제조방법 및 광기록매체 Download PDF

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KR20060049031A
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사토루 쇼시
히데오 센누
타케시 야마사키
토모미 유쿠모토
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

피코팅면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도, 이것을 은폐하여 평활성이 높은 표면을 형성할 수 있는 코팅용 조성물 및 코팅 필름 제조 방법 및 높은 표면 평활성을 갖는 코팅 필름 및 광기록 매체를 제공한다.
전리 방사선 경화성 화합물을 주성분으로 하는 코팅제와 용제를 함유하는 코팅용 조성물이고, 코팅용 조성물에서의 코팅제의 농도(a:중량%)가 다음 조건 하
0＜a≤60
에서, 코팅제의 농도(a)와, 코팅용 조성물의 표면장력(b:dyne/cm)이 다음 관계
b≤(-a/15)+26
를 만족하는 코팅용 조성물을, 보호필름(11)의 표면에 도포하여 경화시켜 하드코트층(12)을 형성한다.
코팅용 조성물, 코팅 필름 제조 방법, 코팅 필름

Description

코팅용 조성물, 코팅필름, 코팅필름 제조방법 및 광기록 매체{Coating composition, coating film, method of manufacturing coating film, and optical recording medium}
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 하드코트필름의 단면도.
도 2는 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 하드코트필름의 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광디스크의 단면도.
도 4는 종래의 하드코트필름의 단면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1, 1' : 하드코트필름(코팅 필름) 10 : 볼록부
11 : 보호 필름(수지 필름) 12, 12P : 하드코트층(코트층)
2 : 광 디스크 21 : 광 디스크 기판
22 : 정보 기록층 23 : 접착층
3 : 박리 씨트
본 발명은 코팅용 조성물, 코팅필름, 코팅필름 제조방법 및 광기록 매체에 관한 것으로, 특히 평활성이 높은 표면을 형성할 수 있는 코팅용 조성물 및 코팅필름 제조방법 및 높은 표면 평활성을 갖는 코팅필름 및 광기록 매체에 관한 것이다.
차세대 광 디스크인 블루 레이 디스크(Blu-ray disc)에 있어서는, 통상의 광디스크와 마찬가지로, 정보 기록층을 보호하기 위하여 폴리 카보네이트 수지로 이루어진 보호 필름이 정보 기록층에 접착되어 있는데, 블루 레이 디스크의 기록정보는 극히 대용량·고밀도이고, 보호 필름에 아주 적은 흠집이 생겨도 정보의 독출 또는 기입에 에러가 발생할 우려가 있기 때문에, 현재 상황에서는 블루 레이 디스크는 카트리지에 수납되어 취급되고 있다.
그렇지만, 블루 레이 디스크의 미디어로서의 컴팩트화나, 제조 비용의 감소 를 위해서도 카트리지레스타입(cartridge less type)의 블루 디스크가 바람직하다.
그렇기 때문에 예를 들면, 도 4에 나타낸 바와 같이 정보 기록층용의 보호 필름(11)에 하드코트층(12P)을 형성하는 것이 제안되어 있다(일본공개특허공보 제2002-245672호).
블루 레이 디스크 등의 보호 필름(11)은 통상적으로 폴리 카보네이트 수지를 용제로 희석한 용액을 벨트 상에 캐스트 제막함으로써 제조되는데, 제조되는 보호 필름(11)의 표면에 볼록부(10)가 형성되는 경우가 있다.
상기와 같은 볼록부(10)를 갖는 보호 필름(11)의 표면에 하드코트층(12P)이 형성된 경우, 상기 볼록부(10)를 핵으로 하여 하드코트층(12P)표면에 결점이 생겨 신호 특성의 악화를 초래하게 된다.
또한 하드코트층(12P)을 형성할 때에, 보호 필름(11)의 표면에 먼지, 티끌 등의 이물질이 부착된 그 상태로 하드코트층(12P)에 도포제를 도공한 경우에도 상기와 같은 문제가 발생된다.
본 발명은 이와 같은 실상을 감안하여 이루어진 것으로, 피코팅면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도, 이것들을 은폐하여 평활성이 높은 표면을 형성할 수 있는 코팅용 조성물, 코팅필름 제조방법과 높은 표면 평활성을 갖는 코팅필름 및 광기록 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여 첫번째로 본 발명은 전리 방사선 경화성 화합물(ionizing radiation-curable compound)을 주성분으로 하는 코팅제를 함유하는 코팅용 조성물이고, 상기 코팅용 조성물에서의 상기 코팅제의 농도(a:중량%)가 다음 조건 하
0＜ａ≤60
에서, 상기 코팅제의 농도(a)와, 상기 코팅용 조성물의 표면장력(b:dyne/cm)이 다음 관계
b≤(-a/15)+26
를 만족하는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물을 제공한다(청구항1).
상기 발명(청구항1)에 의하면, 피코팅면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도, 이것들을 은폐하여 평활성이 높은 표면을 형성할 수 있다.
상기 발명(청구항1)에 있어서, 상기 코팅제는 디 메틸 실록산계 화합물 및 불소계 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하고(청구항2), 디 메틸 실록산계 화합물을 함유하는 경우에는 그 함유량을 0.5∼50중량%으로 하는 것이 바람직하고(청구항3), 불소계 화합물을 함유하는 경우에는 그 함유량을 0.1∼20중량%으로 하는 것이 바람직하다(청구항4).
상기 발명(청구항2∼4)에 의하면 코팅용 조성물에 상기 조건을 만족하는 표면장력을 부여하는 것이 용이하게 된다.
두번째로 본 발명은 수지 필름과 상기 수지 필름의 적어도 일측 면에 상기 코팅용 조성물(청구항1∼4)을 도포하여 경화시켜 이루어진 코트층을 구비한 것을 특징으로 하는 코팅 필름을 제공한다(청구항5).
상기 발명(청구항5)에 따른 코팅 필름에 의하면, 상기 코팅용 조성물을 사용하여 코트층을 형성하고 있기 때문에, 수지 필름의 코트층 형성면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도, 코트층에 의해 이것들을 은폐할 수 있어 표면 평활성을 높일 수 있다.
상기 발명(청구항5)에 있어서, 상기 수지 필름의 코트층 형성면에는 볼록부가 존재하고, 상기 볼록부의 최대 높이가 h(㎛)일 때에는, 상기 코트층의 두께(d:㎛)가 다음 조건
d≥h+1
을 만족하는 것이 바람직하다(청구항6).
상기 발명(청구항6)에 의하면 코트층에 의해 볼록부를 확실하게 은폐할 수 있기 때문에 매우 높은 표면 평활성을 얻을 수 있다.
상기 발명(청구항5, 6)에 있어서, 상기 수지 필름의 코트층 비형성면에는, 접착층이 형성되어 있어도 된다( 청구항7).
상기 발명(청구항5∼7)에 있어서는, 상기 수지 필름이 폴리 메틸 메타 크릴레이트 수지, 폴리 카보네이트 수지 및 시클로 올레핀계 수지의 어느 하나를 주성분으로 하는 재료로 이루어져도 되고(청구항8), 이러한 코팅 필름은 광기록 매체의 보호층으로써 바람직하다.
세번째로 본 발명은 전리 방사선 경화성 화합물을 주성분으로 하는 코팅제의 농도를 조정하여 얻어진 코팅용 조성물을 수지 필름의 표면에 도포하여 경화시켜 코트층을 형성하는 코팅필름의 제조방법으로서, 상기 코팅용 조성물에서의 상기 코팅제의 농도(a:중량%)가 다음 조건
0＜a≤60
일 때에, 상기 코팅제의 농도(a)와, 상기 코팅용 조성물 표면장력(b:dyne/㎝)이 다음 관계
b≤(-a/15)+26
를 만족하도록 상기 코팅용 조성물을 조제하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름 제조 방법을 제공한다(청구항9).
상기 발명(청구항9)에 의하면 수지 필름의 코트층 형성면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도, 코트층에 의해 이것들을 은폐할 수 있기 때문에 표면 평활성이 높은 코팅 필름을 얻을 수 있다.
상기 발명(청구항9)에 있어서는 상기 수지 필름의 코트층 형성면에 최대 높이가 h(㎛)인 볼록부가 존재하는 경우에 상기 코트층의 두께 (d:㎛)가 다음 조건
d≥h+1
을 만족하도록 상기 코트층을 형성하는 것이 바람직하다(청구항10).
상기 발명(청구항10)에 의하면 코트층에 의해 볼록부를 확실하게 은폐하여, 표면 평활성이 매우 높은 코팅 필름을 얻을 수 있다.
네번째로 본 발명은 상기 코팅 필름(청구항5∼8) 또는 상기 코팅 필름 제조 방법(청구항9, 10)으로 얻어진 코팅 필름을 구비한 것을 특징으로 하는 광기록 매체를 제공한다(청구항11).
상기 발명(청구항11)에 따른 광기록 매체는, 상기 코트층에 의해 표면 평활성이 높아져 있기 때문에, 상기 수지 필름의 볼록부에 기인하는 신호 특성의 악화가 없어, 에러 율이 매우 낮게 된다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명 한다.
〔코팅용 조성물〕
본 실시 형태에 따른 코팅용 조성물은, 전리 방사선 경화성 화합물을 주성분으로 하는 코팅제를 함유한다.
전리 방사선 경화성 화합물로서는, 예를 들면 광중합성 프리폴리머 및 / 또는 광중합성 모노머를 들 수 있다. 광중합성 프리폴리머에는 래디컬 중합형과 카티온 중합형이 있고, 래디컬 중합형의 광중합성 프리폴리머로서는, 예를 들면 폴리 에스테르 아크릴레이트계, 에폭시 아크릴레이트계, 우레탄 아크릴레이트계, 폴리올 아크릴레이트계 등을 들 수 있다.
폴리 에스테르 아크릴레이트계 프리폴리머로서는, 예를 들면 다가 카르복시산과 다가 알콜과의 축합에 의해 얻어지는 양말단에 수산기를 갖는 폴리 에스테르 올리고머의 수산기를 (메타)아크릴산에서 에스테르화 함으로써, 또는 다가 카르복시산에 알킬렌 옥사이드를 부가하여 얻어지는 올리고머의 말단의 수산기를 (메타)아크릴산에서 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.
에폭시 아크릴레이트계 프리폴리머는, 예를 들면 비교적 저분자량의 비스페놀형 에폭시 수지나 노볼락형 에폭시 수지의 옥시란환에, (메타)아크릴산을 반응시켜 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.
우레탄 아크릴레이트계 프리폴리머는, 예를 들면 폴리 에테르 폴리올이나 폴리 에스테르 폴리올과 폴리 이소시아네이트와의 반응에 의해 얻어지는 폴리 우레탄 올리고머를 (메타)아크릴산에서 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.
폴리올 아크릴레이트계 프리폴리머는, 폴리 에테르 폴리올의 수산기를 (메타)아크릴산에서 에스테르화 함으로써 얻을 수 있다.
카티온 중합형의 광중합성 프리폴리머로서는 에폭시계 수지가 통상적으로 사용된다. 이 에폭시계 수지로서는 예를 들면 비스페놀 수지나 노볼락 수지 등의 다가 페놀류를 에피클로로히드린 등에서 에폭시화한 화합물, 직쇄상 올레핀 화합물이나 환상 올레핀 화합물을 과산화물 등에서 산화하여 얻어진 화합물 등을 들 수 있다.
이상의 광중합성 프리폴리머는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
한편, 광중합성 모노머로서는, 예를 들면 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 아디페이트 디(메타)아크릴레이트, 히도록시 피발릭산 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜텐일 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 변성 인산(phosphoric acid) 디(메타)아크릴레이트, 알릴화 시클로헥실 디(메타)아크릴레이트, 이소시아누레이트 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌 옥사이드 변성 트리 메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴록시에틸)이소시아누레이트, 펜타에리스리톨 테트라 아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디 펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등의 다관능 아크릴레이트를 들 수 있다.
이들 광중합성 모노머는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있고, 또한 상기 광중합성 프리폴리머와 병용할 수도 있다.
코팅제는 상기 전리 방사선 경화성 화합물 이외에도 소망의 광중합 개시제나 충전제 또한 다른 전리 방사선 경화성 화합물을 함유해도 된다.
광중합 개시제로서는 래디컬 중합형의 광중합성 프리폴리머나 광중합성 모노머에 대해서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 아세트페논, 디메틸 아미노 아세트페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세트페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세트페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시 시클로 헥실 페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴리노-프로판-1-온, 4-(2-히드록시 에톡시)페닐-2(히드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논, p-페닐벤조페논, 4,4'-디에틸아미노 벤조페논, 디클로로 벤조페논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, 2-t-부틸 안트라퀴논, 2-아미노 안트라퀴논, 2-메틸티오 크산톤, 2-에틸티오 크산톤, 2-클로로티오 크산톤, 2,4-디 메틸티오 크산톤, 2,4-디 에틸티오 크산톤, 벤질 디 메틸 케탈, 아세트페논 디메틸 케탈, p-디메틸 아민 안식향산 에스테르 등 이 외에, 올리고{2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸 비닐)페닐]프로파논} 등의 고분자량 광중합 개시제 등을 사용할 수 있다.
또한 카티온 중합형의 광중합성 프리폴리머에 대해서는 예를 들면 방향족 설포늄이온, 방향족 옥소 설포늄이온, 방향족 아이오도늄 이온 등의 오늄과, 테트라 플루오르 붕산, 헥사 플루오르 인산(phosphate), 헥사 플루오르 안티몬산염, 헥사 플루오르 알세네이트 등의 음이온으로 이루어지는 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시제의 배합량은 상기 광중합성 프리폴리머 및 광중합성 모노머의 합계량 100중량부에 대해 통상적으로 0.2∼10중량부이다.
충전제로서는 예를 들면, 얻어지는 코트층의 굴절율의 조절이나 필름의 경화 강도를 높이기 위해서 무기 미립자를 사용할 수 있다. 이와 같은 무기 미립자로서 는 2산화 규소 입자, 2산화 티타늄 입자, 산화 알루미늄 입자, 산화석 입자, 탄산 칼슘 입자, 황산 바륨 입자, 탤크, 카오린, 황산 칼슘 입자 등을 들 수 있고, 그 평균 입자경은 0.5㎛이하인 것이 바람직하다. 또한 상기 무기 미립자는 코팅용 조성물 중에서의 안정성, 코트층의 강화를 위하여 표면처리 되어 있어도 된다.
또한 얻어진 코트층의 굴절율을 높이기 위하여 티타늄, 알루미늄, 인듐, 아연, 주석 및 안티몬으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 산화물로 이루어지는 미립자, 예를 들면 TiO2, Al2O3, In2O3, ZnO, SnO2, Sb2O3, ITO 등의 미립자로서 입자경이 100nm이하, 바람직하게는 50nm이하인 것을 충전제로서 사용할 수도 있다. 이와 같은 금속 산화물의 미립자는, 입자경이 빛의 파장보다도 충분히 작기 때문에 빛의 산란이 발생되지 않아, 이 금속 산화물 미립자가 분산된 분산체(코트층)는 광학적으로 균일한 물질로 작용한다.
상기 무기 미립자(금속 산화물 미립자)의 배합량은 코팅제의 10∼90중량%인 것이 바람직하다.
또한 얻어진 코트층의 경도를 향상시켜 코트층에 흠집 방지 성능을 부여하기 위하여, 전리 방사선 경화성 화합물로서, 반응성 입자, 예를 들면 일본특개2000-273272호 공보에 기재된 반응성 입자를 사용할 수도 있다. 이 반응성 입자는 무기 산화물 입자에 분자 내에 1개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 유기화합물(a)이 화학적으로 결합되어 있는 것이다.
반응성 입자의 무기 산화물 입자로서는, 실리카, 알루미나, 지르코니아, 산 화 티타늄, 산화 아연, 산화 게르마늄, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 안티몬, 산화 세륨 등의 입자를 들 수 있고, 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
본 코팅용 조성물을 광학용 필름이나 광학 제품 등의 코팅층(하드코트층)의 형성에 사용되는 경우에는, 무기 산화물 입자로서 빛의 흡수가 적고 광투과성이 높은 실리카 입자를 사용하는 것이 바람직하다.
무기 산화물 입자의 평균 입경은 0.001∼2㎛인 것이 바람직하고, 특히 0.001∼0.2㎛인 것이 바람직하며, 0.001∼0.1㎛인 것이 더욱 바람직하다. 무기 산화물 입자의 평균 입경이 2㎛을 초과하면, 본 코팅용 조성물을 경화시켜 얻어진 코트층의 광투과성이 저하되거나, 해당 코트층의 표면 평활성이 나빠질 우려가 있다.
무기 산화물 입자의 형상은, 구형상, 중공형상, 다공질형상, 봉형상, 판형상, 섬유형상, 부정형 형상 등이 모두 가능하지만, 특히 구형상인 것이 바람직하다.
무기 산화물 입자의 비표면적(질소를 사용한 BET법에 의한 비표면적)은, 10∼1000㎡/g인 것이 바람직하고, 특히 100∼500 ㎡/g인 것이 바람직하다.
상기 무기 산화물 입자에 결합되어 있는 유기화합물(a)이 갖는 중합성 불포화기로서는 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 프로페닐기, 부타디 에닐기, 스티릴기, 에치닐기, 신나모일기, 말레인산기, 아크릴 아미드기 등을 들 수 있다.
유기 화합물(a) 중에서의 중합성 불포화기의 갯수는, 분자 내에 1개 이상이 면 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로는 1∼4개이다.
유기 화합물(a)은 상기 중합성 불포화기 이외에 식[-X-C(=Y)-NH-](식 중, X는 NH, O 또는 S이고, Y는 O 또는 S이다.)으로 표현되는 기를 포함하는 것이 바람직하다. 또한 유기 화합물(a)은 분자 내에 실라놀기를 갖는 화합물, 또는 가수분해에 의해 실라놀기를 생성하는 화합물인 것이 바람직하다.
이와 같은 유기 화합물(a)의 바람직한 구체적인 예로서는, 예를 들면, 하기식(1)으로 표현되는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112005042661277-PAT00001
식(1) 중, R1 및 R2는, 수소 원자 또는 탄소수1∼8의 알킬기 또는 아릴기이고, R1 및 R2는 동일해도 되고, 달라도 된다. 이와 같은 관능기로서는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 옥틸기, 페닐기, 크실릴기 등을 들 수 있다.
식[(R1O)mR2 3-mSi-]으로 표현되는 기로서는, 예를 들면 트리 메톡시 실릴기, 트리 에톡시 실릴기, 트리 페녹시 실릴기, 메틸 디 메톡시 실릴기, 디 메틸 메톡시 실릴기 등을 들 수 있고, 이것들 중에서도 트리 메톡시 실릴기 또는 트리 에톡시 실릴기 등이 바람직하다. 여기에서 m은 1∼3의 정수이다.
R3은 탄소수1∼12의 지방족 또는 방향족 구조를 갖는 2가 유기기이고, 쇄형상, 분기 형상 또는 환 형상 구조를 포함해도 된다. 이와 같은 유기기로서는 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 헥사 메틸렌기, 시클로 헥실렌기, 페닐렌기, 크실렌기, 도데카 메틸렌기 등을 들 수 있고, 이것들 중에서도, 메틸렌기, 프로필렌기, 시클로 헥실렌기, 페닐렌기 등이 바람직하다.
R4는, 2가 유기기이고, 통상적으로 분자량 14∼1만, 바람직하게는 분자량 76∼500의 2가 유기기 중에서 선택된다. 2가 유기기로서는 예를 들면, 헥사 메틸렌, 옥타메틸렌, 도데카 메틸렌 등의 쇄형상 폴리 알킬렌기 ; 시클로 헥실렌, 노르보렌 등의 지환식 또는 다환식의 2가 유기기 ; 페닐렌, 나프틸렌, 비페닐렌, 폴리 페닐렌 등의 2가 방향족기 ; 및 이들의 알킬기 치환체 또는 아릴기 치환체를 들 수 있다. 이들 2가 유기기는, 탄소 및 수소 원자 이외의 원소를 포함하는 원자단을 포함하고 있어도 되고, 또한 폴리 에테르 결합, 폴리 에스테르 결합, 폴리 아미드 결합, 폴리 카보네이트결합, 또는 식[-X-C(=Y)-NH-](식 중, X는 NH, O 또는 S를 나타내고, Y는 O 또는 S를 나타낸다.)으로 표현되는 기를 포함하고 있어도 된다.
R5는, (n+1)가 유기기이고, 바람직하게는 쇄형상, 분기 형상 또는 환 형상의 포화 탄화수소기 또는 불포화 탄화수소기 중에서 선택된다. 여기에서 n은 1∼20의 정수인 것이 바람직하고, 특히 1∼10의 정수인 것이 바람직하며, 1∼5의 정수인 것이 더욱 바람직하다.
Z는 활성 래디컬 종의 존재 하에서 분자간 가교 반응할 수 있는 중합성 불포 화기를 분자 중에 갖는 1가 유기기이다. 이와 같은 유기기로서는 예를 들면, 아크릴로일(옥시)기, 메타아크릴로일(옥시)기, 비닐(옥시)기, 프로페닐(옥시)기, 부타디에닐(옥시)기, 스티릴(옥시)기, 에치닐(옥시)기, 신나모일(옥시)기, 말레인산기, 아크릴 아미드기, 메타 아크릴 아미드기 등을 들 수 있고, 이것들 중에서도 아크릴로일(옥시)기 및 메타 아크릴로일(옥시)기가 바람직하다.
반응성 입자는 상기 무기 산화물 입자와 유기 화합물(a)을 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 상기 무기 산화물 입자의 표면에는 유기 화합물(a)과 반응할 수 있는 성분이 존재한다고 생각되고 있으며, 분말 형상의 무기 산화물 입자 또는 무기 산화물 입자의 용제 분산졸과 유기화합물(a)을 수분 존재 하에서 또는 존재하지 않는 상태 하에 혼합하여 가열, 교반처리함으로써 무기 산화물 입자의 표면 성분과 유기 화합물(a)이 반응하여 반응성 입자를 얻을 수 있다.
코팅제 중에서의 반응성 입자의 함유량(고형분)은 5∼80중량%인 것이 바람직하고, 특히 10∼70중량%인 것이 바람직하다.
반응성 입자의 함유량이 5중량% 미만에서는 얻어지는 코트층의 경도가 충분하지 않는 경우가 있고, 반응성 입자의 함유량이 90중량%을 초과하면, 코팅용 조성 물의 경화성이 나빠지는 경우가 있다.
본 실시 형태에서의 코팅제는 코팅용 조성물이 후술하는 표면장력을 가질 수 있도록 디메틸 실록산계 화합물 및 / 또는 불소계 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
디메틸 실록산계 화합물로서는 예를 들면, 메르캅토 변성 폴리 디메틸 실록 산, 페놀 변성 폴리 디메틸 실록산, 폴리 에테르 변성 폴리 디 메틸 실록산, 지방산 에스테르 변성 폴리 디메틸 실록산, (메타)아크릴레이트 변성 폴리 디메틸 실록산, 디메틸 실록산 골격을 갖는 실리콘 그라프트 아크릴 수지 등을 들 수 있다.
코팅제 중에서의 디메틸 실록산계 화합물의 함유량은 0.5∼50중량%인 것이 바람직하고, 특히 0.5∼5중량%인 것이 바람직하다.
불소계 화합물로서는 플루오르 알킬카르본산염, 플루오르 알킬 제 4급 암모늄염, 플루오르 알킬에틸렌 옥사이드 부가물 등의 플루오르 알킬기를 갖는 화합물 ; 퍼플루오로 알킬카르본산염, 퍼플루오로 알킬 제 4급 암모늄염, 퍼플루오로 알킬 에틸렌 옥사이드 부가물 등의 퍼플루오로 알킬기를 갖는 화합물 ; 플루오르 카본기를 갖는 화합물 ; 테트라 플루오르 에틸렌 중합체 ; 불화 비닐리덴과 테트라 플루오르 에틸렌의 공중합체 ; 불화 비닐리덴과 헥사 플루오르 프로필렌과의 공중합체 ; 함 불소(메타)아크릴산 에스테르 ; 함 불소(메타)아크릴산 에스테르의 중합체 ; 함 불소(메타)아크릴산 알킬 에스테르의 중합체 ; 함 불소(메타)아크릴산 에스테르와 다른 모노머의 공중합체 등을 들 수 있다.
코팅제 중에서의 불소계 화합물의 함유량은 0.5∼20중량%인 것이 바람직하고, 특히 0.5∼5중량%인 것이 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 코팅용 조성물은 용제를 포함하는 것이 바람직하고, 이것에 의해 코팅제의 농도와 코팅용 조성물 표면장력이 후술하는 관계를 쉽게 만족하게 된다. 본 실시 형태에서의 용제로서는 상기 코팅제 중의 전리 방사선 경화성 화합물을 용해할 수 있고, 또한 코팅 대상물에 악영향을 주지 않는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로파놀, 이소부탄올, 옥탄올 등의 알코올류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로 헥사논 등의 케톤류 ; 초산에틸, 초산부틸, 유산에틸,
Figure 112005042661277-PAT00002
-부티로락톤 등의 에스테르류 ; 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르(메틸 셀로솔브), 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르(에틸 셀로솔브), 디 에틸렌 글리콜 모노 부틸에테르(부틸 셀로솔브), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 등의 에테르류 ; 벤젠, 톨루엔, 기시렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 디 메틸 포름 아미도, 디 메틸 아세트 아미도, N-메틸 피로리돈 등의 아미드류 등에서 적당하게 선택하여 사용할 수 있다.
본 실시 형태에서의 코팅제는 이상의 성분 이외에도, 예를 들면 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 실란커플링제, 노화 방지제, 열중합 금지제, 착색제, 레벨링제, 계면활성제, 보존안정제, 가소제, 윤활제, 유기계 충전제, 필러, 도포성 개량제, 도포면 개량제 등의 각종 첨가제를 함유해도 된다.
본 실시 형태에 따른 코팅용 조성물은, 코팅용 조성물에서의 코팅제의 농도(a:중량%)가 다음 조건 하
0＜a≤60
에서, 코팅제의 농도(a)와, 코팅용 조성물의 표면장력(b:dyne/cm)이 다음 관계
b≤(-a/15)+26
를 만족하는 것이다.
코팅제의 농도(a) 및 코팅용 조성물의 표면장력(b)이 상기 관계를 만족함으로써 피코팅면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도 그것을 코트층으로 은폐하여 평활성이 높은 표면을 형성할 수 있다. 또한 상기 관계에 있어서, b>(-a/15)+26이면, 상기 효과가 떨어질 뿐만 아니라, 코팅용 조성물의 가공 효율의 저하를 초래한다고 하는 문제도 생긴다.
이상 설명한 코팅용 조성물은 소망의 기재에 도포하여, 경화시킴으로써 기재의 표면에 표면 평활성이 높은 코트층, 소망하는 하드코트층을 형성할 수 있다. 코팅 대상의 기재로서는, 예를 들면 플라스틱 필름, 플라스틱 씨트, 플라스틱판 등의 플라스틱 제품 외에, 금속제품, 글래스 제품, 석재 등을 들 수 있다.
〔코팅 필름〕
본 실시 형태에서는 코팅 필름으로서 광디스크의 정보 기록층을 보호하기 위한 하드코트 필름을 일례로 들어서 설명 했는데, 본 발명 코팅 필름은 이러한 용도에 한정되는 것은 아니다.
본 실시 형태에 따른 하드코트필름(1)은 도 1에 나타낸 바와 같이 보호필름(11)과, 보호필름(11)의 일측 면에 형성된 하드코트층(12)으로 이루어진다.
보호필름(11)은 정보의 독출 또는 기입을 위한 빛의 파장역에 대해 충분한 광투과성을 갖음과 동시에 광디스크를 용이하게 제조하기 위하여 강성이나 유연성이 적당하게 있고, 또한 광디스크의 보관을 위하여 온도에 대해 안정한 것이 바람직하다. 이와 같은 보호필름(11)으로서는 폴리 카보네이트, 시클로 올레핀계 폴리머 또는 폴리 메틸 메타크릴레이트를 주성분으로 하는 광투과성 필름이 바람직하 고, 특히 후술하는 하드코트층(12)과의 밀착성이 높은 폴리카보네이트를 주성분으로 하는 필름이 바람직하다. 또한 시클로 올레핀계 폴리머를 주성분으로 하는 필름을 사용하는 경우에는, 하드코트층(12)과의 밀착성을 높이기 위해서, 하드코트층(12)를 형성하는 면에 코로나 방전 처리를 하는 것이 바람직하다.
보호 필름(11)의 두께는 광디스크의 종류나 광디스크의 이외의 구성 부위의 두께에 따라 결정되는데, 통상적으로는 25∼300㎛정도이고, 바람직하게는 50∼200㎛정도이다.
또한 보호필름(11)은, 통상적으로 소망의 수지를 용제에서 희석한 용액을 벨트상에 캐스트제막함으로써 제조되는데, 보호필름(11)의 표면에는 볼록부(10)가 많이 형성되고, 또한 보호필름(11)에 부착된 이물질에 의해 볼록부(10)가 형성되는 경우도 있다. 이러한 볼록부(10)의 높이는, 통상적으로 0.1∼10㎛정도이다.
하드코트층(12)은, 전술한 코팅용 조성물 바람직하게는 충전제를 함유하는 코팅용 조성물을 보호필름(11)의 표면에 도포하고 경화시킴으로써 형성된다.
코팅용 조성물 도포는 통상적인 방법으로 수행하면 되고, 예를 들면 바 코터법, 나이프 코터법, 롤 코터법, 블래이드 코터법, 다이 코터법, 그라비아 코터법으로 수행하면 된다. 코팅용 조성물을 도포하면 도막을 50∼120℃정도에서 건조시키는 것이 바람직하다.
코팅용 조성물의 경화는 코팅용 조성물의 도막에 전리 방사선을 조사함으로써 수행할 수 있다. 전리 방사선으로서는 통상적으로 자외선, 전자선 등이 사용된다. 전리 방사선의 조사량은, 전리 방사선의 종류에 따라 다르지만, 예를 들면 자 외선의 경우에는 광량 100∼500mJ/㎠정도가 바람직하고, 전자선의 경우에는, 10∼1000krad정도가 바람직하다.
하드코트층(12)의 두께는 상기 볼록부(10)의 최대 높이가 h(㎛)일 때, h+1(㎛)이상으로 하는 것이 바람직하다. 이것에 의해 볼록부(10)가 확실하게 은폐되어 매우 높은 표면 평활성을 얻을 수 있다. 하드코트층(12)의 두께의 상한은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 얻어지는 하드코트필름(1)의 휨을 방지하기 위하여 20㎛이하, 특히 10㎛이하로 하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 하드코트필름(1)은 전술한 코팅용 조성물을 경화시켜 이루어진 하드코트층(12)을 구비하고 있기 때문에, 보호필름(11)의 표면에 볼록부(10)가 존재하는 경우라도, 그 볼록부(10)가 은폐되어 표면 평활성이 높게 된다.
또한 본 실시 형태에 따른 하드코트필름(1)은 보호필름(11)과 하드코트층(12)으로 이루어지는데, 도 2에 나타낸 하드코트필름(1')과 같이 보호필름(11)의 하드코트층(12)의 반대면에 접착층(23)이 형성되어 있어도 되고, 또한 접착층(23)에 박리씨트(3)가 적층되어 있어도 된다.
접착층(23)을 구성하는 접착제의 종류로서는 광디스크를 구성할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 아크릴계, 폴리에스테르계, 우레탄계, 고무계, 실리콘계 등의 점착제 또는 점접착제이어도 되고, 전리 방사선 경화성, 열경화성, 열가소성 등의 접착제이어도 된다.
접착제층(23)의 두께는 통상적으로 5∼100㎛정도이고, 바람직하게는 10∼30㎛정도이다.
박리씨트(3)로서는, 종래 주지된 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트나 폴리프로필렌 등의 수지 필름을 실리콘계 박리제 등으로 박리 처리한 것을 사용할 수 있다.
〔광 디스크〕
본 실시 형태에 따른 광디스크(2)는 도 3에 나타낸 바와 같이 요철패턴(피트 또는 그루브/랜드)를 갖는 광디스크 기판(21)과, 광디스크 기판(21)의 요철면 상에 형성된 정보기록층(22)과, 정보기록층(22) 상에 적층된 접착층(23)과, 접착층(23) 상에 적층된 보호필름(11)과, 보호필름(11) 상에 적층된 하드코트층(12)으로 이루어진다.
이와 같은 광디스크(2)는 예를 들면, 다음과 같은 방법으로 제조할 수 있다.
(1) 하드코트필름(1)의 이면(하드코트층(12)이 존재하지 않는 측의 면. 이하 동일), 또는 광디스크 기판(21)의 요철면 상에 형성된 정보 기록층(22)에, 전리 방사선 경화성 접착제 등의 접착제를 도포하고, 하드코트필름(1)과 정보기록층(22)을 접착한다.
(2) 박리 씨트를 갖는 아크릴계, 폴리에스테르계, 우레탄계, 고무계, 실리콘계 등의 점착제로 이루어지는 점착제층(점착 씨트)을 하드코트필름(1)의 이면, 또는 광디스크 기판(21)의 요철면 상에 형성된 정보 기록층(22)에 부착하여, 박리씨트를 박리하여 노출된 점착제층을 매개하여 하드코트필름(1)과 정보 기록층(22)을 접착한다.
(3) 하드코트필름(1')의 박리씨트(3)를 박리하여 접착층(23)을 노출시키고, 그 접착층(23)과, 광디스크 기판(21)의 요철면 상에 형성된 정보 기록층(22)를 접착한다.
본 실시 형태에 따른 광디스크(2)에 있어서는 보호필름(11)의 하드코트층(12) 측에 존재하는 볼록부(10)는 하드코트층(12)에 의해 은폐되어, 광디스크(2:하드코트층(12))의 표면 평활성이 높아 지게 되기 때문에, 상기 볼록부(10)에 기인하는 신호 특성의 악화는 없고, 에러율은 매우 낮게 된다.
또한 본 실시 형태에 따른 광디스크(2)는 한쪽 면이 1층식인 것인데, 한쪽 면이 2층식인 것도 되고, 그 형태는 특별히 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명의 범위는 이러한 실시예 등으로 한정되는 것은 아니다.
〔실시예 1〕
전리 방사선 경화성 화합물로서 우레탄 아크릴레이트계 프리폴리머(아라카와 화학공업사 제품, 상품명 "빔 세트 575CB", 고형분 농도 100중량%, 광중합 개시제 함유)100중량부와, 디 메틸 실록산계 화합물(빅케미·제팬사 제품, 상품명 "BYK-300", 고형분 농도 52중량%) 5중량부를 혼합하여 이것을 코팅제로 하고, 또한 용제로서 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르를 가하고, 코팅제의 농도(a)가 15중량%, 35중량%, 60중량%의 코팅용 조성물을 조제했다. 또한, 코팅제 중에서의 디 메틸 실록산계 화합물의 함유량은 2.5중량%이었다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을, 표면장력계(쿄우와 가이멘 가가꾸사 제품, 상품명 "CBVP-A")를 사용하여 측정했다( 이하 동일). 표면장력의 측정결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 최대 높이 4.1㎛의 볼록 결점이 무수하게 존재하는 폴리 카보네이트 필름(데이진 가세이사 제품, 상품명 "퓨어 에이스 C110-75", 두께:75㎛)의 볼록 결점이 존재하는 면에, 건조 후의 코트층의 두께가 5.5㎛가 되도록 바코터로 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 다음 자외선을 조사(조사 조건:조도310mW/㎠, 빛의 양 300mJ/㎠)하고, 하드코트층을 갖는 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔실시예 2〕
전리 방사선 경화성 화합물로서 우레탄 아크릴레이트계 프리폴리머(아라카와 카가꾸 공업사 제품, 상품명 "빔 세트 575CB", 고형분 농도 100중량%, 광중합 개시제 함유) 25중량부 및 반응성 입자(JSR사 제품, 상품명 "데소라이트 Z7524", 고형분 농도 75중량%) 100중량부와, 디 메틸 실록산계 화합물(빅케미·제팬사 제품, 상품명 "BYK-300", 고형분 농도 52중량%) 5중량부와를 혼합하여 이것을 코팅제로 하고, 또한 용제로서 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르를 가하고, 코팅제의 농도(a)가 15중량%, 35중량%, 60중량%의 코팅용 조성물을 얻었다. 또한 코팅제 중에서의 디 메틸 실록산계 화합물의 함유량은 2.5중량%이었다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을 측정한 결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔실시예 3〕
실시예 1에서의 디 메틸 실록산계 화합물 5중량부를, 불소계 화합물(다이닛폰 잉크 카가꾸 공업사 제품, 상품명 "MEGAFAC F-470", 고형분 농도 100중량%) 1중량부로 변경한 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 코팅용 조성물을 조제했다. 또한 코팅제 중에서의 불소계 화합물의 함유량은 1.0중량%이었다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을 측정한 결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔실시예 4〕
실시예 1에서의 디 메틸 실록산계 화합물 양을 2.94 중량부로 하고, 또한 불소계 화합물(다이닛폰 잉크 카가꾸 공업사 제품, 상품명 "MEGAFAC F-470", 고형분 농도 100중량%) 0.5중량부를 가한 이 외는 실시예 1과 동일하게 하여 코팅용 조성물을 조제했다. 또한 코팅제 중에서의 디 메틸 실록산계 화합물의 함유량은 1.5중량%, 불소계 화합물의 함유량은 0.5중량%이었다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을 측정한 결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 사용하고 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔실시예 5〕
용제를 이소부탄올로 한 이 외는 실시예 1과 동일하게 하여 코팅용 조성물을 조제했다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을 측정한 결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 사용하고 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코 팅 필름)을 제작했다.
〔실시예 6〕
실시예 1에서 얻어진 코팅용 조성물을 건조 후의 코트층의 두께가 4.5㎛가 되도록 도포한 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔비교예 1〕
디 메틸 실록산계 화합물 양을 0.15중량부로 한 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 코팅용 조성물을 조제했다. 또한 코팅제 중에서의 디 메틸 실록산계 화합물의 함유량은 0.078중량%이었다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을 측정한 결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔비교예 2〕
불소계 화합물 양을 0.05중량부로 한 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 코팅용 조성물을 조제했다. 또한 코팅제 중에서의 불소계 화합물의 함유량은 0.05중량%이었다. 얻어진 코팅용 조성물의 표면장력을 측정한 결과를 표 1로 나타낸다.
상기 코팅용 조성물을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 하드코트필름(코팅 필름)을 제작했다.
〔시험예〕
실시예 또는 비교예로 제작한 하드코트필름의 표면에 존재하는 결점(폴리카 보네이트 필름의 볼록부에 기인하는 볼록부)의 수를 카운트 하고, 광디스크의 한 쪽 면의 면적(436㎠)당 환산하여 결점수로 했다. 카운트하는 결점은 직경100㎛이상의 것으로 하여 공초점 현미경(레이저텍사 제품, HD100D)을 사용하여 카운트했다. 결과를 표 1로 나타낸다.
[표 1]
b(dyne/cm) 결점수(개)
a: 15중량% a: 35중량% a: 60중량%
실시예 1 23.0 21.7 21.0 0
실시예 2 23.2 21.6 19.6 0
실시예 3 24.5 23.0 21.2 0
실시예 4 23.1 21.8 21.2 0
실시예 5 22.3 22.6 21.8 0
실시예 6 23.0 21.7 21.0 20
비교예 1 27.0 27.4 27.2 400
비교예 2 25.8 24.0 22.8 300
표 1에서 명백하게 알 수 있듯이, 직경 100㎛이상의 결점은, 실시예 1∼5에서 제작한 하드코트필름에서는 전혀 보이지 않고, 실시예 6에서 제작한 하드코트필름에서는 매우 적었다.
본 발명의 코팅용 조성물 또는 코팅 필름 제조 방법에 의하면, 피코팅면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도, 이것을 은폐하여 평활성이 높은 표면을 형성할 수 있다. 또한 본 발명의 코팅 필름 및 광기록 매체는 코트층의 피코팅면에 볼록부나 이물질이 존재하는 경우라도 높은 표면 평활성을 가질수 있게 된다.
본 발명의 코팅용 조성물은 소망의 기재, 특히 수지 필름에 하드코트층을 형성하는데 바람직하고, 본 발명의 코팅 필름은 광학 제품, 특히 광기록 매체의 보호 필름으로써 바람직하다.

Claims (11)

  1. 전리 방사선 경화성 화합물을 주성분으로 하는 코팅제를 함유하는 코팅용 조성물로서, 상기 코팅용 조성물에서의 상기 코팅제의 농도(a:중량%)가 다음 조건 하
    0＜ａ≤60
    에서, 상기 코팅제의 농도(a)와, 상기 코팅용 조성물의 표면장력(b:dyne/cm)이 다음 관계
    b≤(-a/15)+26
    를 만족하는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 코팅제는 디 메틸 실록산계 화합물 및 불소계 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 코팅제는 디 메틸 실록산계 화합물을 0.5∼50중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 코팅제는 불소계 화합물을 0.1∼20중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물.
  5. 수지 필름과,
    상기 수지 필름의 적어도 일측 면에, 청구항 1 내지 4의 어느 한 항 기재의 코팅용 조성물을 도포하여 경화시켜 이루어진 코트층을 구비한 것을 특징으로 하는 코팅필름.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 수지 필름의 코트층 형성면에는 볼록부가 존재하고, 상기 볼록부의 최대 높이가 h(㎛)일 때에는, 상기 코트층의 두께(d:㎛)가 다음 조건
    d≥h+1
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름.
  7. 제 5항 또는 제 6항에 있어서,
    상기 수지 필름의 코트층 비형성면에는, 접착층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅 필름.
  8. 제 5항 내지 제 7항 중의 어느 한 항에 있어서,
    상기 수지 필름이, 폴리 메틸 메타 크릴레이트 수지, 폴리 카보네이트 수지 및 시클로 올레핀계 수지의 어느 하나를 주성분으로 하는 재료로 이루어진 것을 특 징으로 하는 코팅 필름.
  9. 전리 방사선 경화성 화합물을 주성분으로 하는 코팅제의 농도를 조정하여 얻어진 코팅용 조성물을 수지 필름의 표면에 도포하여 경화시켜 코트층을 형성하는 코팅 필름의 제조 방법으로서,
    상기 코팅용 조성물에서의 상기 코팅제의 농도(a:중량%)가 다음 조건 하
    0＜ａ≤60
    일 때에, 상기 코팅제의 농도(a)와, 상기 코팅용 조성물의 표면장력(b:dyne/cm)이 다음 관계
    b≤(-a/15)+26
    를 만족하도록 상기 코팅용 조성물을 조제하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름 제조 방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 수지 필름의 코트층 형성면에 최대 높이가 h(㎛)인 볼록부가 존재하는 경우에, 상기 코트층의 두께(d:㎛)가 다음 조건
    d≥h+1
    을 만족하도록 상기 코트층을 형성하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름 제조 방법.
  11. 청구항 5 내지 8 중의 어느 한 항에 기재된 코팅 필름 또는 청구항 9 또는 10에 기재된 코팅 필름 제조 방법으로 얻어진 코팅 필름을 구비한 것을 특징으로 하는 광기록 매체.
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