JPS59188856A - レ−ザ−記録媒体 - Google Patents
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- JPS59188856A JPS59188856A JP58064035A JP6403583A JPS59188856A JP S59188856 A JPS59188856 A JP S59188856A JP 58064035 A JP58064035 A JP 58064035A JP 6403583 A JP6403583 A JP 6403583A JP S59188856 A JPS59188856 A JP S59188856A
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- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24053—Protective topcoat layers lying opposite to the light entrance side, e.g. layers for preventing electrostatic charging
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- G—PHYSICS
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発ＦＪＪ８Ｊは、透明なプラスチック基板上にレーザ
ーによシ情報′？を臀き込み及び／又は読み取シのでき
る記録物質層を有する情報記録媒体に関し、更に詳しく
は、吸湿膨張による基板の変形全防止したレーザー記録
媒体に関するものである。
ーによシ情報′？を臀き込み及び／又は読み取シのでき
る記録物質層を有する情報記録媒体に関し、更に詳しく
は、吸湿膨張による基板の変形全防止したレーザー記録
媒体に関するものである。
記録物質層に微細な変形を施したり、あるいは穴をあけ
ることにより情報を記録丁ゐレーザー記録媒体が注目さ
ｎており、最近ではこｆ′Ｌ、を利用したビデオディス
クが市場に提供さ九るようになっている。このレーザー
記録媒体には製造後に情報を光学的に記録するものと、
製造時に情報を記録しておくものとがあ、る。
ることにより情報を記録丁ゐレーザー記録媒体が注目さ
ｎており、最近ではこｆ′Ｌ、を利用したビデオディス
クが市場に提供さ九るようになっている。このレーザー
記録媒体には製造後に情報を光学的に記録するものと、
製造時に情報を記録しておくものとがあ、る。
レーザー記録媒体の基本構造は透明な基板とその片面に
層設さｎた記録物質層とからなるものであり、まπこＩ
Ｌを改良したものとしては、特開昭！７−）ｇりＪｒｒ
ｉｔに記載さ几ているように透明な基板の上に保護層を
介して記録物質層を層設し、ぢらにその上に安定用被積
層全段けたもの、特開昭！コー／ ！Ａ ＡＯ！号公報
に記載さｎているように、記録物質層にスペーサーを介
して保護層金膜けたもの、２枚のンーザー記録媒体ケ用
い・その記録物質層が内側に来るよう向かい合わせ、そ
の間にスペーサーを介して接合したもの、又特開１１１
ｄｊ７−／ ７Ｊ ｊｒｌ１３に記載さ几でいるように
２枚のレーザー記録媒体を記録物質層が内０Ｉ１１に米
る工うに向かい合わせ接着剤で貼り合わせたもの等が提
案さｎている。
層設さｎた記録物質層とからなるものであり、まπこＩ
Ｌを改良したものとしては、特開昭！７−）ｇりＪｒｒ
ｉｔに記載さ几ているように透明な基板の上に保護層を
介して記録物質層を層設し、ぢらにその上に安定用被積
層全段けたもの、特開昭！コー／ ！Ａ ＡＯ！号公報
に記載さｎているように、記録物質層にスペーサーを介
して保護層金膜けたもの、２枚のンーザー記録媒体ケ用
い・その記録物質層が内側に来るよう向かい合わせ、そ
の間にスペーサーを介して接合したもの、又特開１１１
ｄｊ７−／ ７Ｊ ｊｒｌ１３に記載さ几でいるように
２枚のレーザー記録媒体を記録物質層が内０Ｉ１１に米
る工うに向かい合わせ接着剤で貼り合わせたもの等が提
案さｎている。
基板としては、透明でろゐこと、光学的異方性がないこ
と、安価であること、変形しないこと等が要求され、一
般的にはポリメチルメタアクリル樹脂が用いらｎる。記
録物質層としては、毒性が少ないこと、基板上への膜の
形成が容易なこと、融解又は蒸発に要するエネルギーが
小さいこと等が要求され、一般的にはＧｅ、Ｔｅ、Ｂｉ
、Ｉｎ等の金属が用すらｎる。なお再生専用の複製盤に
は反射率の高い金属、例えばＡｔ、Ｃｒ等が用すらｎる
。
と、安価であること、変形しないこと等が要求され、一
般的にはポリメチルメタアクリル樹脂が用いらｎる。記
録物質層としては、毒性が少ないこと、基板上への膜の
形成が容易なこと、融解又は蒸発に要するエネルギーが
小さいこと等が要求され、一般的にはＧｅ、Ｔｅ、Ｂｉ
、Ｉｎ等の金属が用すらｎる。なお再生専用の複製盤に
は反射率の高い金属、例えばＡｔ、Ｃｒ等が用すらｎる
。
一般的にポリメチルメタアクリル樹脂は、吸湿膨張が大
きいため、こｆ’Ｌｉ基板に用いた場合に空気中の水分
が浸透して変形するという欠点がある。
きいため、こｆ’Ｌｉ基板に用いた場合に空気中の水分
が浸透して変形するという欠点がある。
例えば、基板の片面に記録物質／Ｆｔ−蒸着した構造の
ものでは、蒸着面側と反蒸着面側とで吸湿速度が異なる
ため、反りが生じてしまい、レーザービームの反射方向
かずｎたり、あるいは記録物質層の凹凸又は穴の位置ず
れが生じたりする。また変形が記録再生装置の自動焦点
調節機構の追従範囲を超えると、書き込み、読み取りが
不可能となる。
ものでは、蒸着面側と反蒸着面側とで吸湿速度が異なる
ため、反りが生じてしまい、レーザービームの反射方向
かずｎたり、あるいは記録物質層の凹凸又は穴の位置ず
れが生じたりする。また変形が記録再生装置の自動焦点
調節機構の追従範囲を超えると、書き込み、読み取りが
不可能となる。
この吸湿による変形を防止するために無機物例えは−酸
化ケイ素（Ｓｉｎ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯｚ）、酸化
アルミニウム（Ａｚ２ｏ３ ）、酸化スズ（ＳｎＯｚ）
、酸化インジウム（Ｉｎ２０３）等の無機酸化物や、フ
ッ化マグネシウム（ＭｇＦｚ）等の無機フン化物の皮膜
を真空蒸着やス・ξツタリング等の方法により、基板の
記録ｖｌＪＸ層の反対面に設けることが特開昭ｊ７−ｊ
ｊ！ｒ’ｌｊ及び特開昭よ７−Ａ＆ｔ≠λ等において知
らｎている。ところが、無機蒸着薄膜に一般的にｉｊ：
耐傷性が劣り、取扱い中に剥ｎや丁いという欠点を有し
て１／′する。
化ケイ素（Ｓｉｎ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯｚ）、酸化
アルミニウム（Ａｚ２ｏ３ ）、酸化スズ（ＳｎＯｚ）
、酸化インジウム（Ｉｎ２０３）等の無機酸化物や、フ
ッ化マグネシウム（ＭｇＦｚ）等の無機フン化物の皮膜
を真空蒸着やス・ξツタリング等の方法により、基板の
記録ｖｌＪＸ層の反対面に設けることが特開昭ｊ７−ｊ
ｊ！ｒ’ｌｊ及び特開昭よ７−Ａ＆ｔ≠λ等において知
らｎている。ところが、無機蒸着薄膜に一般的にｉｊ：
耐傷性が劣り、取扱い中に剥ｎや丁いという欠点を有し
て１／′する。
本発明は上記のような点に鑑み、無機物質薄膜Ｊ−の上
にさらに放射線硬化樹脂膜もしくはプラズマ重合膜を設
けることによシ、耐傷性にすぐｎｌかつ吸湿による変形
の少ないレーザー記録媒体？提供しようとするものであ
る。
にさらに放射線硬化樹脂膜もしくはプラズマ重合膜を設
けることによシ、耐傷性にすぐｎｌかつ吸湿による変形
の少ないレーザー記録媒体？提供しようとするものであ
る。
無機物質薄膜層上に、ただ単に高分子化合物の保護層を
塗布Ｖこより設けた場合、高分子化合物膜の剥離が生じ
やすい。本発明のごとく無機物質薄膜上に放射様硬化樹
脂もしくはプラズマ重合膜？設けた場合、接着力が高く
、剥離は生じない。また吸湿の防止効果が飛躍的に改嵜
さ几ゐ。その理由は、放射線硬化もしくはプラズマ重合
時に生じる活性種が、無機物質薄膜表面と直接反応し、
何らかの結合が形成さｎるためと考えられる。
塗布Ｖこより設けた場合、高分子化合物膜の剥離が生じ
やすい。本発明のごとく無機物質薄膜上に放射様硬化樹
脂もしくはプラズマ重合膜？設けた場合、接着力が高く
、剥離は生じない。また吸湿の防止効果が飛躍的に改嵜
さ几ゐ。その理由は、放射線硬化もしくはプラズマ重合
時に生じる活性種が、無機物質薄膜表面と直接反応し、
何らかの結合が形成さｎるためと考えられる。
以下、本発明について詳細に説明する。第１図において
、基板／は厚味ｌ〜２鮎で中ノし・に孔λを有し、円盤
状そしている。この基＆ｌは、透明なアクリル系樹脂を
主成分とするプラスチック、例えばポリメチルメタアク
リル樹脂、アクリルモノマーとアクリル化ウレタンオリ
ゴマーの架橋物等を用いる。この基板ｌの片面には、記
録物質層３を形成しであるが、この記録物質層３に用い
る物質としては、一般にＧｅｈ Ｔｅ、Ｂｉ、Ｉｎ等で
あシ、特に再生専用の複製盤には、Ａｔ、（、：ｒ吟を
用いる。これらの金属は１種あるいは一２種以上、又は
合金を蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等
徨々の方法によって基板ｌ上に直接又は下塗層等を介し
て単層又は重層として形成する。
、基板／は厚味ｌ〜２鮎で中ノし・に孔λを有し、円盤
状そしている。この基＆ｌは、透明なアクリル系樹脂を
主成分とするプラスチック、例えばポリメチルメタアク
リル樹脂、アクリルモノマーとアクリル化ウレタンオリ
ゴマーの架橋物等を用いる。この基板ｌの片面には、記
録物質層３を形成しであるが、この記録物質層３に用い
る物質としては、一般にＧｅｈ Ｔｅ、Ｂｉ、Ｉｎ等で
あシ、特に再生専用の複製盤には、Ａｔ、（、：ｒ吟を
用いる。これらの金属は１種あるいは一２種以上、又は
合金を蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等
徨々の方法によって基板ｌ上に直接又は下塗層等を介し
て単層又は重層として形成する。
再生専用の複製盤の場合、この基板／の片面はあらかじ
めスタンパ−で微＃Ｉな凹凸を形成し、反射物質ノー、
例えばＡ ｔｓ Ｌ ｒ等で反覆する。
めスタンパ−で微＃Ｉな凹凸を形成し、反射物質ノー、
例えばＡ ｔｓ Ｌ ｒ等で反覆する。
基板ｌの記録物質層３の反対面には、無機防湿Ｌｉを設
ける。無機防湿層の無機物質には、二酸化ケイ素、−酸
化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウ
ム等の酸化物や、フッ化セリウム、フッ化トリウム、フ
ッ化ビスマス、フッ化マグネシウム等のフッ化物、Ｓｉ
３Ｎ４のごとき窒化物などが用いらｎる。こｆＬらのう
ち、特に二酸化ケイ素、−酸化ケイ累及びフッ化マグネ
シウムは緻密な膜になりやすいといつ点及び放射線硬化
樹脂もしくはプラズマ重合膜とより強固な結合を作る嵩
で好ましい。
ける。無機防湿層の無機物質には、二酸化ケイ素、−酸
化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウ
ム等の酸化物や、フッ化セリウム、フッ化トリウム、フ
ッ化ビスマス、フッ化マグネシウム等のフッ化物、Ｓｉ
３Ｎ４のごとき窒化物などが用いらｎる。こｆＬらのう
ち、特に二酸化ケイ素、−酸化ケイ累及びフッ化マグネ
シウムは緻密な膜になりやすいといつ点及び放射線硬化
樹脂もしくはプラズマ重合膜とより強固な結合を作る嵩
で好ましい。
この無機防湿層ｌは前述の如く、無機酸化物、フッ化物
等を真空蒸着、スパッタリング等によってｉｏｏ〜ｊ０
００Ａの厚さで形成丁ゐものである。無機防湿Ｎｇの上
にはさらに、耐傷性と耐水性？付与ｊるπめの保護層５
全層設すゐ。この保護層！は無機防湿Ｌｉとの密着力が
強く、緻密な構造？有し、硬質であることが要求さ几る
。この保護層ｊは放射線、例えば電子側、紫外線等の照
射により硬化さｔ″Ｌ′ｒｃＬ′ｒｃ樹脂プラズマ重合
により作成さｔｌ、た膜により構成さ九る。
等を真空蒸着、スパッタリング等によってｉｏｏ〜ｊ０
００Ａの厚さで形成丁ゐものである。無機防湿Ｎｇの上
にはさらに、耐傷性と耐水性？付与ｊるπめの保護層５
全層設すゐ。この保護層！は無機防湿Ｌｉとの密着力が
強く、緻密な構造？有し、硬質であることが要求さ几る
。この保護層ｊは放射線、例えば電子側、紫外線等の照
射により硬化さｔ″Ｌ′ｒｃＬ′ｒｃ樹脂プラズマ重合
により作成さｔｌ、た膜により構成さ九る。
上記の放射線硬化素材としては、−一エチルへキシルア
クリレートのような単官能モノマー、／。
クリレートのような単官能モノマー、／。
ｔヘキサンジオールジアクリレートのようなλ官能モノ
マー、トリメチロールプロパントリアクリレートのよう
な３官能モノマー、テトラメチロールメタンテトラ−ア
クリレートのような弘官能モノマー、あるいはウレタン
オリゴマーアクリレート等があり、これらを１種または
λ種以上混合して用いる。
マー、トリメチロールプロパントリアクリレートのよう
な３官能モノマー、テトラメチロールメタンテトラ−ア
クリレートのような弘官能モノマー、あるいはウレタン
オリゴマーアクリレート等があり、これらを１種または
λ種以上混合して用いる。
さらに膜質全向上させる目的で非反応性ポリマー等全添
加してもよい。
加してもよい。
こｎらを無機防湿層、４’−ｈに層設するには、例えば
スピンコーターで上記モノマー、オリゴマーｋｍ布後不
活性ガス中で電子線或いは紫外線を照射すｎばよい。紫
外線硬化型の場合４Ｃは、七ツマ−、オリゴマー中に適
当な重合開始剤會ふ加すゐ必要がある。その例としては
ベンゾインエチルエーテル及ヒミヒラーズケトン等のラ
ジカル発生剤があげらｎる。皮膜の厚さとしては、θ、
ｌ〜ＩＯμあｎば耐傷性付与の目的には十分である。
スピンコーターで上記モノマー、オリゴマーｋｍ布後不
活性ガス中で電子線或いは紫外線を照射すｎばよい。紫
外線硬化型の場合４Ｃは、七ツマ−、オリゴマー中に適
当な重合開始剤會ふ加すゐ必要がある。その例としては
ベンゾインエチルエーテル及ヒミヒラーズケトン等のラ
ジカル発生剤があげらｎる。皮膜の厚さとしては、θ、
ｌ〜ＩＯμあｎば耐傷性付与の目的には十分である。
一方プラズマ重合膜の場合、無機防湿層≠を層設した基
板を真空槽に入れ、／ ０ ” Ｔｏｒｒ以下の圧力
に排気した後モノマーガス全導入し、θ。
板を真空槽に入れ、／ ０ ” Ｔｏｒｒ以下の圧力
に排気した後モノマーガス全導入し、θ。
ｌ〜３Ｔｏｒｒの圧力に保ちながら内部電極に夕ＯＨｚ
の通常交流から高周波までの適切な交番電圧全印加して
無機防湿Ｍグ上に重合膜を堆積させる。
の通常交流から高周波までの適切な交番電圧全印加して
無機防湿Ｍグ上に重合膜を堆積させる。
内部電極の代わりに外部コイルＶＣよる無電極放電を用
いてもよいがこの場合は印加電圧は高周波でなけ１ｌ−
ｖｊ：、ならない。
いてもよいがこの場合は印加電圧は高周波でなけ１ｌ−
ｖｊ：、ならない。
導入するモノマとしては、例えばメタン、エタン・ プ
ロパン等の飽オロ炭化水素、エチレン、プロピレン等の
オレフィン類、ベンゼン、スチレン、バラキシレン等の
芳香族炭化水素、弘フッ化エチレン等の含フツ素化合物
、ヘキサメチルジシロキサン等の含ケイ素化合物、アク
リロニトリル等の含窒素化合物等がある。プラズマ重合
膜は、適切な条件を選ぶことにより、強固な膜？形成丁
心ことができ、膜厚としては３０（１７Ａ−／θμあｎ
ばよい。
ロパン等の飽オロ炭化水素、エチレン、プロピレン等の
オレフィン類、ベンゼン、スチレン、バラキシレン等の
芳香族炭化水素、弘フッ化エチレン等の含フツ素化合物
、ヘキサメチルジシロキサン等の含ケイ素化合物、アク
リロニトリル等の含窒素化合物等がある。プラズマ重合
膜は、適切な条件を選ぶことにより、強固な膜？形成丁
心ことができ、膜厚としては３０（１７Ａ−／θμあｎ
ばよい。
通常のポリｉ−でも有機保護層として適用することは不
可能ではないが、こｎらを塗布するためには、有機溶剤
に溶解した９、ラテックスとして用いねばならず、塗布
後の乾燥工程が必要になる。
可能ではないが、こｎらを塗布するためには、有機溶剤
に溶解した９、ラテックスとして用いねばならず、塗布
後の乾燥工程が必要になる。
乾燥による高温と、塗膜の乾燥収縮によム基板が変形す
るという問題がここに生ずる。
るという問題がここに生ずる。
これに比して、放射線硬化型樹脂を用い罠場合には、放
射線？照射することで即座に硬化を完了し、高温にさら
さｎ／）ことはなく、ま７こ硬化による塗膜の収縮も少
な１／′まため基板の変形はきわめて小さめ０さらに硬
化後の膜は架橋構造を有し、緻密で硬いため、耐傷ノ換
として最適である。
射線？照射することで即座に硬化を完了し、高温にさら
さｎ／）ことはなく、ま７こ硬化による塗膜の収縮も少
な１／′まため基板の変形はきわめて小さめ０さらに硬
化後の膜は架橋構造を有し、緻密で硬いため、耐傷ノ換
として最適である。
また、プラズマ重合膜を用いた場合は、気体から直接皮
膜化するため塗布、乾燥にともなう欠点はなくなり、ピ
ンホールフリーの緻密な膜が形成でき、さらに超薄膜化
が可能になるｌこめ感度の低下が少なく、また層中に欠
陥の生じｂ率も小さい罠め欠陥の少いレーザー記録材料
が傅らｎ、ゐ等の利点がある。
膜化するため塗布、乾燥にともなう欠点はなくなり、ピ
ンホールフリーの緻密な膜が形成でき、さらに超薄膜化
が可能になるｌこめ感度の低下が少なく、また層中に欠
陥の生じｂ率も小さい罠め欠陥の少いレーザー記録材料
が傅らｎ、ゐ等の利点がある。
第２図はエアーサンドイツチタイゾのレーザー記録媒体
を示すものである。第１図に示した記録要素２枚をスペ
ーサー６．７を介して、サンドイッチにさｎ、ておジ、
両面に情報金記鍮するようになっている。無機防湿層と
有機保饅Ｍは基板ｌ上の記録物質Ｎｉ３の反対面に積層
するだけでなく、レーザー記録媒体の端部紫含めた外表
面すべてに設けてもよい。
を示すものである。第１図に示した記録要素２枚をスペ
ーサー６．７を介して、サンドイッチにさｎ、ておジ、
両面に情報金記鍮するようになっている。無機防湿層と
有機保饅Ｍは基板ｌ上の記録物質Ｎｉ３の反対面に積層
するだけでなく、レーザー記録媒体の端部紫含めた外表
面すべてに設けてもよい。
実施例１
厚さｉ、ｓｔｒｍ、外径ｊ ００ ｒｏｒのポリメチル
メタクリレート円板上に！００に厚のＴｅを記録層とし
て真空蒸腐によって設けた。
メタクリレート円板上に！００に厚のＴｅを記録層とし
て真空蒸腐によって設けた。
この基板の記録層の反対側に防湿層として／Ｑｏｏ７Ｖ
厚の５ｉ０２を真空蒸着により形成した。さらにその上
に、／、Ｊヘキサンジオールジアクリレート管５μ厚に
スピンコードし、輩累雰囲気中でＪ ００１（Ｖ ｊＭ
ｒａｄの条件で電子線を照射し、耐傷性ｔ４Ｎとし７ｃ
ａ このような基板２枚を記録Ｍを内側にして、スペーサー
を介して接合し、エアサンドイッチ型ディスクを作った
。
厚の５ｉ０２を真空蒸着により形成した。さらにその上
に、／、Ｊヘキサンジオールジアクリレート管５μ厚に
スピンコードし、輩累雰囲気中でＪ ００１（Ｖ ｊＭ
ｒａｄの条件で電子線を照射し、耐傷性ｔ４Ｎとし７ｃ
ａ このような基板２枚を記録Ｍを内側にして、スペーサー
を介して接合し、エアサンドイッチ型ディスクを作った
。
実施例２
１．ｔヘキサンジオールジアクリレートの電子線硬化層
の代わりに、テトラフルオロエチレンのプラズマ重合膜
をθ、３μ形成した他は実施例１と同じディスクを作っ
た。該層は、内部電極型のプラズマ重合装置を用い、テ
トラフルオロエチレンガスを導入して０−／！Ｔｏｒｒ
に保ちながら電極に／３．ｊｔＭＨ１Ｑ高周波葡印加す
ることにょ９形成した。
の代わりに、テトラフルオロエチレンのプラズマ重合膜
をθ、３μ形成した他は実施例１と同じディスクを作っ
た。該層は、内部電極型のプラズマ重合装置を用い、テ
トラフルオロエチレンガスを導入して０−／！Ｔｏｒｒ
に保ちながら電極に／３．ｊｔＭＨ１Ｑ高周波葡印加す
ることにょ９形成した。
比較例ｌ
５ｉ０２蒸着膜及び／、Ａヘキサンジオールジアクリレ
ートの電子線硬化層を設けない他は実施例１と同じディ
スク？作った。
ートの電子線硬化層を設けない他は実施例１と同じディ
スク？作った。
比較例２
／、Ｊヘキサンジオールジアクリレートの電子線硬化層
を設けない他は実施例１と同じディスクを作った。
を設けない他は実施例１と同じディスクを作った。
比較例３
／、４ヘキサンジオールジアクリレートのｔ→線線化化
層代わりにポリメチルメタクリレートのメチルエチルケ
トン溶液をスピンコードし、すＯ°Ｃ２θ分間乾燥して
ｊμ厚の膜を形成したが、基板の変形量が大きいためエ
アサンドインチ型ディスクには組み立てられなかった。
層代わりにポリメチルメタクリレートのメチルエチルケ
トン溶液をスピンコードし、すＯ°Ｃ２θ分間乾燥して
ｊμ厚の膜を形成したが、基板の変形量が大きいためエ
アサンドインチ型ディスクには組み立てられなかった。
実施例１．２、比較例１，２のディスク全≠００Ｃ９０
％ＲＨの雰囲気に１週問おいて吸湿による変形量を調べ
た。比較例１のディスクは反りが大きくなっていたが、
実施例１．２、比較例２のディスクはほとんど変形しな
かつ罠。
％ＲＨの雰囲気に１週問おいて吸湿による変形量を調べ
た。比較例１のディスクは反りが大きくなっていたが、
実施例１．２、比較例２のディスクはほとんど変形しな
かつ罠。
次に、実施例１．２、比較例２のディスクの基板表面を
木綿布で強くこすって耐傷性を調べた。
木綿布で強くこすって耐傷性を調べた。
実施例１．２のディスクの表面はほとんど傷つかなかっ
たが、比較例２のディスクは大きな傷がついた。
たが、比較例２のディスクは大きな傷がついた。
以上説明した如く、本発明のレーザー記録媒体は、基板
表面に無機防湿層を設け、さらにその上に放射＠硬化樹
脂膜やプラズマ重合膜からなる保護層を積層して吸湿に
よる基板の変形を防止するとともに表面の傷や、汚ｎを
防止できるものであって、基板の変形によ６情報の誓き
込み、読み取りミスが生じない。また記録物質層が基板
から浸透した水分によって劣化するのを防止することが
できる。
表面に無機防湿層を設け、さらにその上に放射＠硬化樹
脂膜やプラズマ重合膜からなる保護層を積層して吸湿に
よる基板の変形を防止するとともに表面の傷や、汚ｎを
防止できるものであって、基板の変形によ６情報の誓き
込み、読み取りミスが生じない。また記録物質層が基板
から浸透した水分によって劣化するのを防止することが
できる。
第１図は基板の片面に記録層全般けたレーザー記録媒体
の断面図であム第２図は記録層を設けた２枚の基板をス
ペーサーを介して接合し７ｃｌ／１ｖゆるエアサンドイ
ンチ型レーザー記録媒体の断面図である。 ｌ：基板１．２二敗りつけ孔、３：記録物質層、≠：無
機防湿層、！：保瞳層、６．７：スペーサー特許出願人
富士写真フィルム株式会社第１図 第２図
の断面図であム第２図は記録層を設けた２枚の基板をス
ペーサーを介して接合し７ｃｌ／１ｖゆるエアサンドイ
ンチ型レーザー記録媒体の断面図である。 ｌ：基板１．２二敗りつけ孔、３：記録物質層、≠：無
機防湿層、！：保瞳層、６．７：スペーサー特許出願人
富士写真フィルム株式会社第１図 第２図
Claims (1)
- 透明なプラスチック基板上に、レーザーによシ情報を誉
き込み及び／又は読み取シができる記録物質層を有する
情報記録媒体において、該基板の記録物質層を設け７ｃ
面の反対面上に無機物質膜を設けさらにその上［、放射
線硬化樹脂膜もしくはプラズマ重合膜を設けたこと′ｔ
″特徴とするレーザー記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58064035A JPS59188856A (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | レ−ザ−記録媒体 |
| EP84104135A EP0123223A3 (en) | 1983-04-12 | 1984-04-12 | Laser recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58064035A JPS59188856A (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | レ−ザ−記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59188856A true JPS59188856A (ja) | 1984-10-26 |
Family
ID=13246458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58064035A Pending JPS59188856A (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | レ−ザ−記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0123223A3 (ja) |
| JP (1) | JPS59188856A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61217287A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-26 | Nippon Columbia Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| JPS6381325U (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-28 | ||
| KR100247065B1 (ko) * | 1997-01-22 | 2000-03-15 | 윤종용 | 보호막을 가지는 광디스크 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123033A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 保護膜構造体 |
| US4782477A (en) * | 1985-09-30 | 1988-11-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical recording medium with fluorine resin adhesive |
| US5013594A (en) * | 1987-09-25 | 1991-05-07 | Hitachi Maxwell, Ltd. | Optical information recording medium and its production |
| JP3491575B2 (ja) | 1999-09-24 | 2004-01-26 | ソニーケミカル株式会社 | 光記録媒体 |
| JP2006052260A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Lintec Corp | コーティング用組成物、コーティングフィルム、コーティングフィルム製造方法および光記録媒体 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6034171B2 (ja) * | 1977-04-05 | 1985-08-07 | ソニー株式会社 | 光学記録方式によるビデオデイスク原盤 |
| NL8002039A (nl) * | 1980-04-08 | 1981-11-02 | Philips Nv | Optisch uitleesbare informatieschijf. |
| DE3176118D1 (en) * | 1980-10-09 | 1987-05-21 | Toshiba Kk | Data recording medium |
| JPS57150151A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-16 | Asahi Denka Kogyo Kk | Optical disc with coated surface |
| JPS5837855A (ja) * | 1981-08-31 | 1983-03-05 | Ayao Wada | 画像、音声、磁気、信号等の記録、再生用デイスク盤 |
-
1983
- 1983-04-12 JP JP58064035A patent/JPS59188856A/ja active Pending
-
1984
- 1984-04-12 EP EP84104135A patent/EP0123223A3/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61217287A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-26 | Nippon Columbia Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| JPS6381325U (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-28 | ||
| KR100247065B1 (ko) * | 1997-01-22 | 2000-03-15 | 윤종용 | 보호막을 가지는 광디스크 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0123223A3 (en) | 1984-12-05 |
| EP0123223A2 (en) | 1984-10-31 |
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