JPH0258742A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 九胛ム狡■列■ 本発明は、情報信号をレーザー光などにより再生する光
ディスクに関する。さらに詳しくは、本発明は、耐腐蝕
性に優れた反射膜を有する光ディスクに関する。

発明の技術的　景ならびにその問題 光ディスクとしては、片面に情報記録に対応した記録ピ
ットか形成された記録面をもつ透明基板層と、その記録
面上に形成された反射膜層と、反射膜層上に形成された
保護膜層とからなる単板構造の光ディスクか知られてお
り、また上記のような２枚のディスクを記録面が内側に
くるようにして接着した張り合わせ構造の光ディスク類
られている。

このような光ディスクの透明基板としては、通常、ポリ
カーボネート樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、非
晶質ポリオレフィン樹脂などが用いられている。

また、光ディスクの反射膜としては通常、＋１が用いら
れているか、このようなＡ１反射膜は、透明基板あるい
は保護膜層を透過してくる酸素、水分などによって腐蝕
したり、あるいはポリカーボネート樹脂など基板に残存
する塩素等により腐蝕したりすることかあった。

このようにもし反射膜に腐蝕か生ずると、再生時におけ
る記録情報の読み取り誤りなどの不良原因となる。

従来、上記のような光ディスクにおりる反射膜の腐蝕を
改善するため、種々の方法が提案されている。たとえは
特開昭５７−１８６２４４号公報には、光ディスクの反
射膜としてＡ、Ｑ　−Ｃｒ　、Ａ、Ｑ　−Ｃｕ、Ａｊ　
−Ｂ、Ａ、Ｑ　−Ｍｎ　、Ａ、ｌｌ−ランタニドなとの
Ａｌ合金を用いることにより、反射膜の安定性を高める
とともに基板との接着性を改善する方法が開示されてお
り、また特開昭６１−１３１２５０号公報には、光ディ
スクの反射膜にＮｉ　、Ｐｄ　、Ｐｔから選ばれる少な
くとも１種の金属を含有するＡｌ合金を用いることによ
り反射膜の耐腐蝕性を改善する方法が開示されている。

しかしながら、上記のような従来提案されている反射膜
は、耐腐蝕性などの点で充分に満足しうるちのとは言え
ず、さらに優れた耐腐蝕性を有する反射膜の出現が望ま
れている。

光］し１１的 本発明は、上記のような従来技術におりる問題点を解決
しようとするものであって、耐腐蝕性に優れた反射膜を
有し、長期信頼性の高い光ディスクを提供することを目
的としている。

九肌左且贋 本発明に係る光ディスクは、表面に記録ピッ１〜か形成
された透明基板と、該表面上に設けられた反射膜とを有
する光ディスクにおいて、反射膜かＴｉおよび／または
Ｒｈを含有するＡｌ合金からなることを特徴としている
。

本発明に係る光ディスクにおける反射膜は、０．１〜１
５原子％のＴ１を含有するＡｌ合金または０．１〜３０
原子％の’Ｒｈを含有するＡｌ合金からなることが好ま
しい。

上記のような本発明に係る光ディスクは、優れた耐腐蝕
性を有し、高度の長期信頼性を有する。

日の旦　自長−日 以下本発明に係る光ディスクについて具体的に説明する
。

本発明に係る光ディスクは、第１図に示すように、透明
基板１と、この表面上に設けられた反射Ｍ２とから形成
されている。この透明基板１の表面には記録ピット３か
情報に対応して形成されている。

透明基板１としては、従来光デイスク基板として用いら
れている透明基板を広く用いることかでき、具体的には
、たとえばポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレー
ト、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、非晶質ポリオレフ
ィンなどが用いられる。

本発明に係る光ディスクの反射膜は、ＴｉまなはＲｈあ
るいはこの両者を含有するＡｌ合金用いて形成される。

本発明に係る光ディスクの反射膜がＴ１を含有するＡ層
合金から形成されている場合には、Ｔの含有量は、０．
１〜１５原子％好ましくは０．５〜１０原子％さらに好
ましくは１〜５原子％であることが望ましい。Ｔｉの含
有量が０．１原子％未満であると、反射膜の耐腐蝕性が
充分ではなく、一方１５原子％を超えると反射率の低下
か大きくなる傾向がある。

また本発明に係る光ディスクの反射膜かＲｈを含有する
Ａｌ合金から形成されている場合には、Ｒｈの含有量は
０．１〜３０原子％好ましくは１〜２０原子％さらに好
ましくは２〜１０原子％であることが望ましい。Ｒｈの
含有量が０．１原子％未満であると、反射膜の耐腐蝕性
か充分ではなく、一方３０原子％を超えると反射率の低
下か大きくなる傾向がある。

また本発明に係る光ディスクの反射膜か、ＴおよびＲｈ
を含有するＴｉ−Ｒｈ−Ａ、Ｑ合金から形成されている
場合には、ＴｉおよびＲｈの含有量は０．１〜３０原子
％好ましくは０．５〜２０原子％さらに好ましくは１〜
１０原子％であることか望ましい。また反射膜中のＴｉ
／Ｒｈ（原子比）は、０．２〜１０程度であることが望
ましい。

ＴｉおよびＲｈの含有量か０．１原子％未満であると、
反射膜の耐腐蝕性が充分ではなく、一方３０原子％を超
えると反射率の低下か大きくなる傾向がある。

このような反射膜の膜厚は、通常２５０〜２５００人て
′あり、好ましくは３５０〜１１００人程度である。

本発明に係る光ディスクは、さらにこの反射膜上に保護
膜（図示せず）を有していてもよい。また本発明に係る
光ディスクは、上記のような２枚のディスクを記録面が
内側にくるように張り合わされた構造を有していてもよ
い。

なお保護膜は、通常、アクリル樹脂系などの紫外線硬化
型樹脂塗料により形成されることが好ましい。

次に本発明に係る光ディスクの製造方法について説明す
る。

記録ピットが形成された透明基板１は、従来公知の方法
によって製造することができるが、具体的には、たとえ
ばまずカラス盤上にホトレジストを塗布し、記録情報に
応じてホ１〜レジストをレーザーカッティングし、この
上にニッケル電鋳を行なってニッケル原盤を作成する。

ここでさらにこのニッケル原盤からニッケルスタンパ−
を作成することもある。次いでこのニッケル原盤または
ニッケルスタンパ−になとえばポリカーボネートなどの
基板形成用樹脂を射出成形することによって、表面に記
録ピットが形成された透明基板を製造することかてきる
。

このようにして得られた表面に記録ピットか形成された
透明基板上に、上記のような反射膜をイオンプレーテイ
ンク法、スパッタリング法あるいは真空蒸着法などによ
り被着させれば、本発明に係る光ディスクが得られる。

これらのうちイオンプレーテインク法およびスパッタリ
ング法が、得られる反射膜の耐腐蝕性か優れているため
好ましい。この際ターゲットとしては、アルミニウムと
Ｔｉおよび／またはＲｈとの合金ターゲットを用いても
よく、またアルミニウムとＴ１および／またはＲｈとを
別々のターゲットとして用いてもよい。上記のような透
明基板上に反射膜を設ける際の条件は、従来公知の条件
を採用しろる。

このようにして製造された本発明に係る光ディスクは、
Ｔｉおよび／またはＲｈを含むＡ、Ｑ合金からなる反射
膜を有しているため、たとえば、１１合金からなる反射
膜を有する光ディスクと比較して、耐腐蝕性が優れてい
る。具体的には、たとえばＴ１を２原子％含むＴｉ−Ａ
、Ｑ合金からなる反射膜を有する光ディスクは、温度８
０℃、相対湿度９０％の条件下に３５０時間放置しても
、その反射率は低下しないのに対し１．ｌのみからなる
反射膜を有する光ディスクは、温度８０℃、相対湿度９
０％の条件下に１７５時間放置すると反射率は５７％か
ら０％に低下してしまう。

丸班例ガ】 本発明に係る光ディスクは、反射膜がＴｉおよび／また
はＲｈを含有するＡｌ合金ら形成されているため、優れ
た耐腐蝕性を示し、従来品に比較して長期信頼性が高い
。

以下実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。

夫東叢上ご玉 （光ディスクの製造） 表面に記録ピットが形成された直径１２ｃｍ、厚さ１．
２州のポリカーボネート製基板上に、Ｔｉ−Ａ、Ｑ合金
反射膜を、マグネトロンスパッタ装置を用いて８００人
の膜厚で被着させた。この際スパッタ・ターゲットとし
て、直径８インチ、純度９９．９９％のＡｌターゲット
上に、厚さｌ　ｎｍのＴｉチップ（Ｔｉシート）を、反
射膜中に含まれるＴｉ含有量に応じて適当数乗せたもの
を用い、投入パワー３ＫＩＡ、アルゴン圧５　Ｘ　１０
−”ｔｏｒｒとしてスパッタを行なった。

このようにしてポリカーボネート製基板上に、Ｔ１含有
量かそれぞれ１原子％（実施例１）、２原子％（実施例
２）、３原子％（実施例３）、５原子％（実施例４）、
１０原子％（実施例５）および１５原子％（実施例６）
であるＴｉ−Ａ、ｌ）合金からなる反射膜を形成した。

次に、この反射膜上にＵＶ硬化塗布剤（大日本インキ■
　ダイキュアクリア■５ｌ）−１７）をスピンコード法
で塗布した後、紫外線照射により硬化させ、厚さ６μｍ
の保護膜を反射膜上に形成し、光ディスクを得た。

（光ディスクの環境劣化促進テスト） 上記のようにして得られたＴｉ含有量の異なるＴｉ−Ａ
、Ｑ合金からなる反射膜および保護膜が形成された光デ
ィスクを、温度８０°Ｃ５相対湿度９０％の恒温性湿槽
内に所定時間放置し、反射率の経時変化を７８０ｃｍ−
１のレーザー光を透明基板側から入射して測定しな。

結果を表１および第２図に示す。

ル救■ニ スパッタ・ターゲットとしてＡＩツタ−ットを用いてス
パッタリングを行なった以外は、実施例１〜６と同様に
して光ディスクの作製およびその環境劣化促進テストを
行なった。

結果を表１および第２図に示す。

実ｊ目吐ヱニニＬ旦 スパッタ・ターゲットとして、Ａｌターゲット上に、Ｒ
ｈチップ（シート）を乗せたものを用いた以外は、実施
例１〜６と同様にして光ディスクを作製し、環境劣化促
進テストを行なった。

結果を表２および第３図に示す。

表１− 実施例１６ 反射膜側なりでなく、全面に保護膜を形成した以外は、
実施例２と同様にした。

結果を表３に示す。

火差１」ユ 反射膜側たけでなく、全面に保護膜を形成した以外は、
実施例８と同様にした。

結果を表３に示す。

ル秋冊ス 反射Ｗｉ、側たけでなく、全面に保護膜を形成した以外
は、比較例１と同様にした。

以上の結果より、Ｔ１および／またはＲｈを含有するＡ
、Ｑ合金からなる反射膜を有する光ディスクは、Ａ、Ｑ
単独よりなる反射膜を有する光ディスクより、経過時間
に対する反射率の低下か小さく、耐腐蝕性に優れている
ことがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る光ディスクの断面図である。 第２図は、反射膜中のＴｉ含有量と反射率の経時変化と
の関係を示す。 第３図は、反射膜中のＲｈ含有量と反射率の経時変化と
の関係を示す。 １・・・透明基板　　　　２・・・反射膜３・・・記録
ピット

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）表面に記録ピットが形成された透明基板と、該表面
   上に設けられた反射膜とを有する光ディスクにおいて、
   反射膜がＴｉおよび／またはＲｈを含有するＡｌ合金か
   らなることを特徴とする光ディスク。 ２）反射膜が０．１〜１５原子％のＴｉを含有するＡｌ
   合金からなることを特徴とする請求項第１項に記載の光
   ディスク。 ３）反射膜が０．１〜３０原子％のＲｈを含有するＡｌ
   合金からなることを特徴とする請求項第１項に記載の光
   ディスク。