JPH04364240A

JPH04364240A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH04364240A
Application number: JP3287006A
Authority: JP
Inventors: Kenji Uchiyama; 内山　謙治; Mamoru Usami; 守宇佐美
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1990-10-22
Filing date: 1991-10-07
Publication date: 1992-12-16
Anticipated expiration: 2011-08-07
Also published as: JP2523421B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板上に記録層を有す
る光記録媒体、特にコンパクトディスク対応のライト・
ワンス型の光記録ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】基板上に記録層と反射層とを有する光記
録媒体として、例えば、コンパクトディスク（以下、Ｃ
Ｄと略称する）規格に対応して追記ないし記録を行なう
ことのできる光記録ディスクが提案されている（日経エ
レクトロニクス１９８９年１月２３日号，Ｎｏ．４６５
，Ｐ１０７、社団法人近畿化学協会機能性色素部会，１
９８９年３月３日，大阪科学技術センター、ＳＰＩＥ　
ｖｏｌ　１０７８　Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｄａｔａ　Ｓｔｏ
ｒａｇｅ　Ｔｏｐｉｃａｌ　Ｍｅｅｔｉｎｇ，　８０　
１９８９等）。

【０００３】このものは、透明樹脂基板上に、色素層、
Ａｕ反射層および保護膜をこの順に設層して形成される
。すなわち、反射層を色素層に密着して設けるものであ
る。

【０００４】従来は、色素層にピットを形成するために
色素層上に空気層を設けていたが、この提案では、反射
層を色素層に密着して設ける密着型であるので、ＣＤ規
格のディスク全厚１．２ｍｍの構成が可能となっている
。

【０００５】このような反射層と色素を含有する記録層
とを密着して設ける密着型の媒体の場合には、特に、記
録層の記録光および再生光に対し、６０％以上、特にＣ
Ｄ規格では７０％以上の反射率をもつ必要がある。この
ため、特開平２−７９２３５号公報等に開示されている
とおり、反射層には、反射率が高く、しかも耐食性が良
いＡｕ薄膜が使用されている。

【０００６】しかし、Ａｕは、やわらかいため、記録光
を記録層に照射してピット部を形成すると、記録層の熱
膨張によってピット部上のＡｕ薄膜が変形することがあ
る。このため、再生出力波形であるアイパターンが乱れ
たり、ジッターの増加を招いてしまう。

【０００７】また、Ａｕは高価であるため、反射層とし
て、Ａｇ、Ｃｕ等の比較的安価な金属薄膜を使用する提
案がされている。例えば、特開平２−７９２３５号、同
２−８７３４１号公報等には、反射層としてＡｇ薄膜や
Ｃｕ薄膜等を使用する具体例が記載されている。

【０００８】しかし、Ｃｕ薄膜やＡｇ薄膜の場合、成膜
当初は７０％程度の反射率が得られるが、耐食性が不十
分である。

【０００９】一方、Ａｕ、ＡｇおよびＣｕ以外の金属薄
膜、例えばＡｌ薄膜では、十分な反射率が得られない。

【００１０】このため、Ａｕ以外の金属薄膜を反射層に
適用した光記録ディスクは、エラーレートが大きく、実
用が困難である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反射
率が高く、しかも耐食性が良い反射層を有し、アイパタ
ーンの乱れやジッターの増加がなく、しかもエラーレー
トが小さく、良好な記録や再生を行なうことができる光
記録媒体を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（６）の本発明により達成される。

【００１３】（１）基板上に記録層を有し、この記録層
上に、Ｃｕと４０ａｔ％　未満のＡｇとを含有する合金
薄膜の反射層を有することを特徴とする光記録媒体。

【００１４】（２）前記記録層は色素を含有し、前記記
録層上に密着して前記反射層を積層して構成され、記録
光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生光に
より再生を行なう上記（１）に記載の光記録媒体。

【００１５】（３）基板側から再生光を照射したとき、
未記録部分の反射率が６０％以上であり、記録部分の反
射率が未記録部分の反射率の６０％以下であり、記録光
および再生光の波長における前記記録層の消衰係数ｋが
０．０１〜０．２５であり、記録光および再生光の波長
における前記記録層の屈折率ｎが１．８〜４．０であり
、記録光および再生光の波長が６００〜９００ｎｍであ
る上記（２）に記載の光記録媒体。

【００１６】（４）前記ピット部の前記基板と前記記録
層の界面部には、記録層材質の分解物を含有し、かつ基
板材質を実質的に含有しない層が存在している上記（２
）または（３）に記載の光記録媒体。

【００１７】（５）前記ピット部には、空隙が形成され
ている上記（４）に記載の光記録媒体。

【００１８】（６）前記反射層上に保護膜を有し、この
保護膜の２５℃における鉛筆硬度がＨ〜８Ｈである上記
（２）ないし（５）のいずれかに記載の光記録媒体。

【００１９】

【作用】本発明の光記録媒体の反射層に用いる合金薄膜
は、反射率が高く、しかも耐食性が高い。このため、エ
ラーレートが小さく、良好な記録や再生を行なうことが
できる光記録媒体が実現する。

【００２０】また、基板上に記録層を有し、この記録層
上に密着して反射層を積層した光記録媒体の場合、反射
層が硬いため、記録光を記録層に照射してピット部を形
成しても、ピット部上の反射層が変形しない。このため
、アイパターンの乱れやジッターの増加が生じない。

【００２１】なお、特開昭５７−１８６２４号公報には
、基板上に４０ａｔ％より多量のＡｇを含むＡｇ−Ｃｕ
合金薄膜の反射層を有する光学読取情報ディスクが記載
されている。この光学読取情報ディスクは、記録層のな
い再生専用ディスクであるため、反射層について何の問
題も生じない。

【００２２】しかし、Ａｇ−Ｃｕ合金薄膜の場合、Ａｇ
が４０ａｔ％　以上含まれていると、光記録媒体の反射
層としての十分な硬さが得られない。このため、特に、
記録層上に密着して反射層を積層した光記録媒体の場合
、記録光を照射してピット部を形成すると、記録層の熱
膨張によってピット部上の反射層が変形してしまうこと
がある。そして、この結果、アイパターンが乱れたり、
ジッターの増加を招いてしまう。

【００２３】これに対し本発明では、Ｃｕ−Ａｇ合金薄
膜のＡｇの含有量を４０ａｔ％　未満に規制するため、
前記のとおり十分な硬さを有する反射層とすることがで
きる。

【００２４】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００２５】本発明の光記録媒体は、基板上に記録層を
有し、この記録層上に反射層を有する。この場合、記録
層は、後から情報を記録できるものであれば特に制限は
ないが、ここでは好適例として図１に示される光記録媒
体を例に挙げて説明する。

【００２６】この光記録媒体１は、基板２上に、色素を
含有する記録層３を有し、記録層３に密着して、反射層
４、保護膜５を形成した密着型のものである。

【００２７】基板２は、記録光および再生光（６００〜
９００ｎｍ程度、特に７００〜８００ｎｍ程度の半導体
レーザー光、特に７８０ｎｍ）に対し、実質的に透明（
好ましくは透過率８０％以上）な樹脂あるいはガラスか
ら形成される。これにより、基板裏面側からの記録およ
び再生が可能となる。

【００２８】基板２は、通常のサイズのディスク状であ
って、ＣＤとして用いる場合、厚さは１．２ｍｍ程度、
直径は８０ないし１２０ｍｍ程度とする。

【００２９】この場合、基板材質としては、樹脂を用い
ることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アモルファスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可
塑性樹脂が好適である。

【００３０】なお、必要に応じ、基板２の外表面、内表
面の少なくとも一方と、さらに必要に応じ、内・外周面
に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。

【００３１】基板２の記録層３形成面には、トラッキン
グ用のグルーブが形成されることが好ましい。

【００３２】グルーブは、スパイラル状の連続型グルー
ブであることが好ましく、深さは２５０〜１８００Ａ　
、幅は０．２〜１．１μｍ　、特に０．３〜０．６μｍ
　、ランド（隣り合うグルーブ同士の間の部分）幅は０
．５〜１．４μｍ　、特に１．０〜１．３μｍ　である
ことが好ましい。

【００３３】グルーブをこのような構成とすることによ
り、グルーブ部の反射レベルを下げることなく良好なト
ラッキング信号を得ることができる。なお、グルーブに
は、アドレス信号用の凹凸を設けることもできる。

【００３４】本発明では、基板がグルーブを有する場合
、記録光はグルーブ内の記録層に照射されるよう構成さ
れることが好ましい。すなわち、本発明の光記録媒体は
、グルーブ記録の光記録媒体として用いられることが好
ましい。グルーブ記録とすることにより、記録層の有効
厚さを大きくすることができる。

【００３５】また、基板２上に図示しない樹脂層を例え
ば２Ｐ法により設層して、樹脂層にトラッキング用の溝
やアドレス信号用の凹凸を設けてもよい。

【００３６】樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はな
く、いわゆる２Ｐ法に用いられる公知の樹脂から適宜に
選択すればよいが、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れる。

【００３７】記録層３は、１種あるいは２種以上の色素
を相溶して形成される。

【００３８】この場合、光吸収色素にクエンチャーを混
合してもよく、さらに、色素カチオンとクエンチャーア
ニオンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよ
い。

【００３９】記録層３の記録光および再生光波長におけ
る消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０１〜０．
２５、より好ましくは０．０３〜０．２５であることが
好ましい。ｋが前記範囲未満となると記録層の吸収率が
低下し、通常の記録パワーで記録を行うことが困難であ
る。また、ｋが０．２５をこえると、反射率が６０％を
下回ってしまい、ＣＤ規格による再生を行うことが困難
である。この場合、ｋが０．０４〜０．２０、特に０．
０５〜０．１５であると、きわめて好ましい結果をうる
。

【００４０】また、屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、
１．８〜４．０、より好ましくは、２．２〜３．３であ
ることが好ましい。ｎ＜１．８では反射率が低下し、Ｃ
Ｄ規格による再生が困難となる傾向にある。また、ｎ＞
４．０とするためには、原料色素の入手が難しい。

【００４１】ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明
基板上に記録層を例えば４００〜１０００Ａ　程度の厚
さに実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する
。次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射
率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反
射（５°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率
を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書「
光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出
すればよい。

【００４２】用いる光吸収性の色素としては、吸収極大
が６００〜９００ｎｍ、好ましくは６００〜８００ｎｍ
、より好ましくは６５０〜７５０ｎｍであれば、他に特
に制限はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフ
タロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェ
ニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、
スクワリリウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等
の１種ないし２種以上が好ましい。

【００４３】シアニン色素としては、インドレニン環、
特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素である
ことが好ましい。

【００４４】記録層３の設層方法には特に制限がなく、
例えば、各種溶媒等を用いて塗布によって設層したり、
蒸着等公知の方法を用いればよい。

【００４５】記録層３の厚さは、ランド部で５００〜２
０００Ａ　とすることが好ましい。この範囲外では反射
率が低下して、ＣＤ規格の再生を行うことが難しくなる
。

【００４６】このような記録層３には、直接密着して反
射層４が設層される。

【００４７】反射層４は、ＣｕとＡｇとを含有する合金
薄膜で構成される。前記の合金薄膜を用いることにより
、高い反射率が得られ、Ｃｕ薄膜やＡｇ薄膜に比べ、膜
の耐食性が格段と向上し、しかもＡｕ薄膜に比べ、膜の
硬度が格段と増加する。

【００４８】反射層４中のＡｇの含有量は、４０ａｔ％
　未満とする。前記範囲をこえると、膜の硬さが不十分
であるため、記録光を記録層３に照射してピット部６を
形成する際、記録層３の熱膨張により、ピット部６上の
反射層４が変形してしまう。このため、アイパターンが
乱れたり、ジッターが増加する。

【００４９】ただし、Ａｇの含有量が少なすぎると、耐
食性が不十分である。例えば、高温・高湿下で長期間保
存あるいは使用すると、膜の反射率が低下し、エラーが
増加する。また、反射層４中のＣｕが色素を含有する記
録層３中に拡散し易くなり、悪い影響を及ぼす。

【００５０】前記の理由から、反射層４中のＡｇの含有
量の上限は、好ましくは３８ａｔ％　、より好ましくは
３６ａｔ％　、特に好ましくは３５ａｔ％　である。

【００５１】また、下限は、好ましくは５ａｔ％　、よ
り好ましくは６ａｔ％　、さらに好ましくは８ａｔ％　
、特に好ましくは１０ａｔ％　である。

【００５２】反射層４の厚さは５００Ａ　以上であるこ
とが好ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい
。また、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作
業時間等を考慮すると、１２００Ａ　程度以下であるこ
とが好ましい。

【００５３】これにより、反射層４単独での反射率は、
９０％以上、媒体の未記録部の基板をとおしての反射率
は、６０％以上、特に７０％以上がえられる。

【００５４】反射層４上には、保護膜５が設層される。

【００５５】保護膜５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各
種樹脂材質から、通常は、０．１〜１００μｍ　程度の
厚さに設層すればよい。保護膜５は、層状であってもシ
ート状であってもよい。

【００５６】保護膜５は、特に放射線硬化型化合物およ
び光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化したもので
あることが好ましい。そして、保護膜５の硬度が、２５
℃における鉛筆硬度（ＪＩＳ　　Ｋ−５４００）で、Ｈ
〜８Ｈ、特に２Ｈ〜７Ｈであるように構成されることが
好ましい。

【００５７】このように構成することにより、アイパタ
ーンがより一層良好になり、ジッターが格段と減少する
。また、高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存に
おいても、保護膜と反射層との剥離が生じない。より具
体的には、保護膜の硬度がＨより軟らかいとアイパター
ンが乱れ、ジッターが増大し、８Ｈより硬くなると塗膜
がもろくなり膜形成能が低下する他、反射層との接着力
が低下する。

【００５８】このような保護膜形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。

【００５９】オリゴエステルアクリレートは、アクリレ
ート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴエス
テル化合物である。そして好ましいオリゴエステルアク
リレートとしては、分子量１０００〜１００００、好ま
しくは２０００〜７０００であって、重合度２〜１０、
好ましくは、３〜５のものが挙げられる。また、これら
のうちアクリレート基またはメタクリレート基を２〜６
個、好ましくは３〜６個有する多官能オリゴエステルア
クリレートが好ましい。

【００６０】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。

【００６１】このような放射線硬化型化合物の保護膜の
膜厚は０．１〜３０μｍ　、より好ましくは１〜１０μ
ｍ　である。

【００６２】この膜厚が０．１μｍ　未満になると、一
様な膜を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効
果が十分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジ
ッター防止効果が低下する。また、３０μｍ　をこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中のクラックが生じやすい。

【００６３】このような塗膜は、通常、スピンナーコー
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

【００６４】本発明において塗膜に照射する放射線とし
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。

【００６５】紫外線を用いる場合には、前述したような
放射線硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加
えられる。

【００６６】光重合増感剤としては、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−４−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
セトラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。

【００６７】そして、このような光重合増感剤と放射線
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。

【００６８】このような構成の光記録媒体１に記録ない
し追記を行なうには、例えば７８０ｎｍの記録光を、基
板２をとおしてパルス状に照射する。

【００６９】これにより、記録層３が光を吸収して発熱
し、同時に基板２も加熱される。この結果、基板２と記
録層３との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層３と基板２との界面に圧力が加
わり、グルーブの底壁や側壁を変形させることがある。

【００７０】この場合記録層３の融解物や分解物を含有
する分解物層６１が、通常グルーブ２３の底部および境
界を覆うような形状に残存する。分解物層６１の材質は
、実質的に基板材質を含まない材質であり、記録層材質
の分解物あるいは記録層材質の分解物と、記録層材質と
の混合物によって構成される。分解物層６１は、記録層
３の厚さの通常３０〜９０％程度の厚さである。

【００７１】そして、通常、分解物層６１上には、反射
層との界面に空隙６３が形成され、分解物層６１と、空
隙６３とがピット部６に形成される。空隙６３は、記録
層３の厚さの通常１０〜７０％程度の厚さである。

【００７２】また、このような記録過程において、基板
２は変形しない場合もあるが、通常、基板２のピット部
６は、加熱時の圧力によって凹状にへこむことになる。基板２のへこみ量は、ピット部６の寸法が大きい程大き
く、通常０〜３００Ａ　程度の深さである。

【００７３】また、空隙６３上には、反射層４に密着し
て微小膜厚にて記録層３ないしその分解物等が残存する
こともある。

【００７４】このように、ピット部６の基板２と記録層
３との界面部には、実質的に基板材質を含有しない層が
形成される。

【００７５】なお、記録光のパワーは、通常、５〜９ｍ
Ｗ程度、基板回転線速度は１．２〜１．４ｍ／ｓ　程度
とすればよい。

【００７６】このようにしてピット部６を形成したのち
、例えば７８０ｎｍの再生光を、基板２をとおして照射
すると、ピット部６により光の位相差を生じ、反射率が
未記録部分の６０％以下、特に５０％以下、さらには４
０％以下に低下する。一方、未記録部では、６０％以上
、特に７０％以上の高反射率を示しているので、ＣＤ規
格による再生が可能となる。

【００７７】再生光のパワーは、０．１〜１０ｍＷ程度
とする。

【００７８】なお、前記の光記録媒体は、本発明の光記
録媒体の１例であり、このほか、変調された熱ビームあ
るいは変調された磁界により、情報が磁気的に記録され
、記録情報は磁気−光変換して再生される、いわゆる光
磁気記録媒体であってもよい。この場合、記録層は、光
磁気記録が行なえるものであればその材質に特に制限は
ないが、希土類金属元素を含有する合金、特に希土類金
属と遷移金属との合金を、スパッタ、蒸着法、イオンプ
レーティング法等により、非晶質膜として形成したもの
であることが好ましい。

【００７９】また、本発明に用いる反射層は、光学式ビ
デオディスク、コンパクトディスク等の情報を予め担持
している再生専用の光再生媒体に適用することも可能で
ある。

【００８０】ただ、好ましくは、前述したように色素を
含有する記録層上に密着して反射層を積層して構成した
光記録媒体である。

【００８１】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００８２】実施例１連続グルーブを有する１２０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの
ポリオレフィン樹脂基板上に色素を含有する記録層を設
層した。この記録層上に、スパッタリングによりＣｕ−
Ａｇ合金薄膜を１０００Ａ　厚に設層して反射層とし、
さらに、オリゴエステルアクリレートを含有する紫外線
硬化型樹脂を塗布した後紫外線硬化して５μｍ厚の保護
膜とし、光記録ディスクサンプルＮｏ．　１を得た。

【００８３】サンプルＮｏ．　１の記録層に含有される
色素を下記化１に示す。

【００８４】

【化１】

【００８５】記録層の設層は、基板を５００〜３０００
ｒｐｍ　で回転させながらスピンコート塗布により行な
った。塗布溶液としては、５．０ｗｔ％　シクロヘキサ
ノン溶液を用いた。記録層の厚さはグルーブ部で２８０
０Ａ　、ランド部で１８００Ａ　であった。また、記録
層の屈折率（ｎ）は２．３、消衰係数（ｋ）は、０．０
３であった。

【００８６】ｎおよびｋは、上記色素を含有する溶液を
測定用基板上に乾燥膜厚１０００Ａに成膜して被検記録
層とし、この被検記録層のｎおよびｋを測定することに
より求めた。なお、この測定は、「光学」（石黒浩三著
、共立全書）第１６８〜１７８ページの記載に準じて行
なった。また、上記化１に示される色素を含有する記録
層の測定に際しては、溶媒にシクロヘキサノン、測定用
基板にポリオレフィン基板を用いた。

【００８７】反射層のＣｕ−Ａｇ合金薄膜の組成は、Ｃ
ｕ６５Ａｇ３５（ａｔ％　）であり、成膜条件は、下記
のとおりであった。

【００８８】スパッタ圧力：１．０Ｐａ投入パワー：１
１．０Ｗ／ｃｍ２

【００８９】なお、Ｃｕ−Ａｇ合金薄膜の組成は、誘導
結合高周波プラズマ分光分析にて求めた。

【００９０】また、保護膜は、下記の放射線硬化型化合
物および光重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコ
ートで設層した。

【００９１】（塗布組成物）　　多官能オリゴエステルアクリレート［オリゴエステ
ルアクリレート（３官能以上）３０重量％、トリメチル
プロパンアクリレート７０重量％、商品名アロニックス
Ｍ−８０３０；東亜合成社製］　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１００重量部　　光重合増感剤（商品名：ＩＲ
ＧＡＣＵＲＥ９０７；日本チバガイギー社製）　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　５重量部

【００９２】このような塗布組成物を
設層後、１２０Ｗ／ｃｍの紫外線を１５ｓｅｃ　照射し
架橋硬化させ、硬化膜とした。この膜の鉛筆硬度は２Ｈ
であった。

【００９３】また、反射層のみを下記表１に示される薄
膜にかえたほかはサンプルＮｏ．　１と同様として、サ
ンプルＮｏ．　２〜Ｎｏ．　６を製造した。

【００９４】得られたサンプルＮｏ．　１およびＮｏ．
　２に対し、波長７８０ｎｍ、７ｍＷのレーザーにてＥ
ＦＭ信号の記録を行ない、次いで市販のコンパクトディ
スクプレーヤで再生を行なった。

【００９５】この結果、Ｓ／Ｎ比が高く、良好な再生を
行なうことができた。なお、未記録部で７０％以上の反
射率が得られ、記録部の反射率は未記録部の反射率の４
０％以下であった。

【００９６】次に、各サンプルに対し、下記の評価を行
なった。

【００９７】１）反射率サンプルに対し、波長７８０ｎｍ、７ｍＷのレーザーに
てＥＦＭ信号の記録を行なった後、市販のコンパクトデ
ィスクプレーヤで再生を行なって記録部のＩｔｏｐ　レ
ベルの反射率を測定した。

【００９８】次いで、サンプルを温度８０℃、湿度８０
％ＲＨの環境中に２００時間放置した後、同様に記録部
のＩｔｏｐ　レベルの反射率を測定した。

【００９９】そして、各サンプルの初期の反射率を基準
（１．００）とし、サンプルＮｏ．　１〜Ｎｏ．　６そ
れぞれについて規格化された反射率を算出した。

【０１００】評価基準 ○…規格化した反射率が０．９３超 ×…規格化した反射率が０．９３未満

【０１０１】２）Ｃ１エラー市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
初期および２００時間（８０℃、８０％ＲＨ）後のＣ１
エラーを測定した。

【０１０２】この場合、Ｃ１エラーのＣＤ規格は、２２
０（カウント／秒）以内である。

【０１０３】評価基準 ○…Ｃ１エラー２２０（カウント／秒）以内×…Ｃ１エ
ラー２２０（カウント／秒）超

【０１０４】３）アイパ
ターンの乱れ初期のアイパターンをオシロスコープを用いて観察し、
その乱れ具合を○、△、×の３段階で評価した。

【０１０５】評価基準 ○…アイパターンの乱れなし △…アイパターンの立ち上がり部分が少し乱れる×…ア
イパターンの立ち上がり部分が乱れる

【０１０６】なお
、サンプルＮｏ．　１の初期のアイパターンのオシロ波
形の写真を図２、Ｎｏ．４の初期のアイパターンのオシ
ロ波形の写真を図３に示す。

【０１０７】４）ジッター市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
初期および２００時間（８０℃、８０％ＲＨ）後のジッ
ターを測定した。評価装置は、ＭＥＧＵＲＯ社製ＣＤジ
ッターメーターＭＪＭ−６３１を使用した。

【０１０８】評価基準 ○…３０ｎｓ未満 ×…３０ｎｓ以上

【０１０９】結果は表１に示されるとおりである。

【０１１０】

【表１】

【０１１１】表１に示される結果から本発明の効果が明
らかである。

【０１１２】なお、各サンプルの保護膜の鉛筆硬度を下
げたところ、アイパターンが少し乱れ、ジッターの増加
がみられた。

【０１１３】また、反射層中のＡｇの含有量をかえた各
種サンプルを作製し、前記と同様の評価を行なったとこ
ろ、同等の結果が得られた。

【０１１４】

【発明の効果】本発明の光記録媒体では、反射層の、耐
食性、耐湿性が良いため、高温、高湿下での使用や長期
保存を行なっても高反射率が維持される。

【０１１５】このため、エラーレートが小さく、良好な
記録や再生を行なうことができる光記録媒体が実現する
。

【０１１６】また、本発明の密着型の光記録媒体によれ
ば、高反射率で、しかもピット部での大きな反射率低下
を示すので、ＣＤ規格による再生を行なうことのできる
良好な光記録が可能となる。

【０１１７】しかも、従来のＡｕ薄膜の反射層を形成し
た光記録媒体とは異なり、良好なアイパターンが得られ
、ジッターも少なく、さらに、コスト的に有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体を示す部分断面図である。

【図２】オシロ波形を示す図面代用写真であって、本発
明の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。

【図３】オシロ波形を示す図面代用写真であって、従来
の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。

【符号の説明】

１…光記録媒体２…基板２１…ランド部２３…グルーブ３…記録層４…反射層５…保護膜６…ピット部６１…分解物層６３…空隙

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　基板上に記録層を有し、この記録層上
に、Ｃｕと４０ａｔ％　未満のＡｇとを含有する合金薄
膜の反射層を有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】　　前記記録層は色素を含有し、前記記録
層上に密着して前記反射層を積層して構成され、記録光
を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生光によ
り再生を行なう請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】　　基板側から再生光を照射したとき、未
記録部分の反射率が６０％以上であり、記録部分の反射
率が未記録部分の反射率の６０％以下であり、記録光お
よび再生光の波長における前記記録層の消衰係数ｋが０
．０１〜０．２５であり、記録光および再生光の波長に
おける前記記録層の屈折率ｎが１．８〜４．０であり、
記録光および再生光の波長が６００〜９００ｎｍである
請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】　　前記ピット部の前記基板と前記記録層
の界面部には、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板
材質を実質的に含有しない層が存在している請求項２ま
たは３に記載の光記録媒体。
【請求項５】　　前記ピット部には、空隙が形成されて
いる請求項４に記載の光記録媒体。
【請求項６】　　前記反射層上に保護膜を有し、この保
護膜の２５℃における鉛筆硬度がＨ〜８Ｈである請求項
２ないし５のいずれかに記載の光記録媒体。