JPH04205934A - 光情報媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光情報媒体、特にコンパクトディスク対応の
ライト・ワンス型の光記録ディスクに関する。

〈従来の技術〉 基板上に反射層を有する光情報媒体として、例えば、コ
ンパクトディスク（以下、ＣＤと略称する）規格に対応
して追記ないし記録を行なうことのできる光記録ディス
クが提案されている（日経エレクトロニクス１９８９年
１月２３日号、Ｎｏ、４６５．Ｐ２Ｏ３、社団法人近畿
化学協会機能性色素部会、１９８９年３月３日、大阪科
学技術センター、５ＰＩＥ　ｖｏＬ　１０７８０ｐｔｉ
ｃａｌ　Ｄａｔａ　Ｓｔｏｒａｇｅ　Ｔｏｐｉｃａｌ　
Ｍｅｅｔｉｎｇ、　８０１９８９等）。

このものは、透明樹脂基板上に、色素層、Ａｕ反射層お
よび保護膜をこの順に設層して形成される。　すなわち
、反射層を色素層に密着して設けるものである。

従来は、色素層にピットを形成するために色素層上に空
気層を設けていたが、この提案では、反射層を色素層に
密着して設ける密着型であるので、ＣＤ規格のディスク
全厚１．２ｍｍの構成が可能となっている。

このような反射層と色素を含有する記録層とを密着して
設ける密着型の媒体の場合には、特に、記録層の記録光
および再生光に対し、６０％以上、特にＣＤ規格では７
０％以上の反射率をもつ必要がある。

このため、特開平２−７９２３５号公報に開示されてい
るとおり、反射層には、反射率が高（、しかも耐食性が
良いＡｕ薄膜が使用されている。

しかし、Ａｕは高価であるため、Ａｇ、Ｃｕ等の比較的
安価な金属薄膜を使用する提案がされている。

例えば、特開平２−７９２３５号、同２−８７３４１号
公報には、反射層としてＡｇ薄膜やＣｕ薄膜を使用する
具体例が記載されている。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、Ｃｕ薄膜やＡｇ薄膜等のＡｕ薄膜以外の反射層
を有する光情報媒体の場合、高温・高湿下で使用したり
、長時間保存すると、反射層が部分的に極度に腐食し、
反射層の厚さ方向にピンホールないしスルーホール状の
錆が生じる。

このため、記録や再生時のエラーレートが太き（、実用
が困難である。

本発明の目的は、耐食性が良い反射層を有し、エラーレ
ートが小さ（、良好な記録や再生を行なうことができる
光情報媒体を提供することにある。

く課題を解決するための手段〉 このような目的は下記（１）〜（７）の本発明によって
達成される。

（１）基板上に、銅と、窒素および／または酸素とを含
有する薄膜の反射層を有することを特徴とする光情報媒
体。

（２）前記反射層中の窒素および酸素の含有量が合計０
．５〜２．０ａｔ％である上記（１）に記載の光情報媒
体。

（３）基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録
層上に密着して前記反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生
光により再生を行なう上記（１）または（２）に記載の
光情報媒体。

（４）基板側から再生光を照射したとき、未記録部分の
反射率が６０％以上であり、記録部分の反射率が未記録
部分の反射率の６０％以下であり、 記録光および再生光の波長における前記記録層の消衰係
数ｋが０．０３〜０．２５であり、記録光および再生光
の波長における前記記録層の屈折率ｎが１．８〜４．０
であり、 記録光および再生光の波長が６００〜９００ｎｍである
上記（３）に記載の光情報媒体。

（５）前記ピット部の前記基板と前記記録層の界面部に
は、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板材質を実質
的に含有しない層が存在している上記（３）または（４
）に記載の光情報媒体。

（６）前記ピット部には、空隙が形成されている上記（
５）に記載の光情報媒体。

（７）前記反射層上に保護膜を有し、この保護膜の２５
℃における鉛筆硬度がＨ〜８Ｈである上記（３）ないし
く６）のいずれかに記載の光情報媒体。

く作用〉 本発明の光情報媒体の反射層は、銅と、窒素および／ま
たは酸素とを含有する薄膜で構成される。

銅と、窒素および／または酸素とを含有させることによ
り、反射層の耐食性が向上し、部分的に極度に腐食して
、反射層の厚さ方向にピンホールあるいはスルーホール
状の錆が生じるのを防止できる。

このため、エラーレートが小さ（、良好な記録や再生を
行なうことができる光情報媒体が実現する。

〈具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の光情報媒体は、基板上に反射層を有する。

この場合、光情報媒体とは、情報を予め担持している再
生専用の光再生媒体および情報を担持させつる記録層を
有する光記録媒体の双方を指すものである。

ただし、ここでは好適例として第１図に示される光記録
媒体を例に挙げて説明する。

この光記録媒体１は、基板２上に、色素を含有する記録
層３を有し、記録層３に密着して、反射層４、保護膜５
を形成した密着型のものである。

基板２は、記録光および再生光（６００〜９００　ｎｍ
程度、特に７００〜８０００ｍ程度の半導体レーザー光
、特に７８０　ｎｍ）に対し、実質的に透明（好ましく
は透過率８０％以上）な樹脂あるいはガラスから形成さ
れる。　これにより、基板裏面側からの記録および再生
が可能となる。

基板２は、通常のサイズのディスク状であって、ＣＤと
して用いる場合、厚さは１．２ｍｍ程度、直径は８０な
いし１２０ｍｍ程度とする。

この場合、基板材質としては、樹脂を用いることが好ま
しく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモール
ファスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可塑性樹脂が
好適である。

なお、必要に応じ、基板２の外表面、内表面の少な（と
も一方と、さらに必要に応じ、内・外周面に酸素遮断性
の被膜を形成してもよい。

基板２の記録層３形成面には、トラッキング用のグルー
プが形成されることが好ましい。

グループは、スパイラル状の連続型グループであること
が好ましく、深さは２５０〜１８００人、幅は０．２〜
１．１−１特に０．３〜０．６−、ランド（隣り合うグ
ループ同士の間の部分）幅は０．５〜１．４−１特に１
．０〜１．３−であることが好ましい。

グループをこのような構成とすることにより、グループ
部の反射レベルを下げることなく良好なトラッキング信
号を得ることができる。

なお、グループには、アドレス信号用の凹凸を設けるこ
ともできる。

本発明では、基板がグループを有する場合、記録光はグ
ループ内の記録層に照射されるよう構成されることが好
ましい。　すなわち、本発明の光記録媒体は、グループ
記録の光記録媒体として用いられることが好ましい。　
グループ記録とすることにより、記録層の有効厚さを大
きくすることができる。

また、基板２上に図示しない樹脂層を例えば２Ｐ法によ
り設層して、樹脂層にトラッキング用の溝やアドレス信
号用の凹凸を設けてもよい。

樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわゆる
２Ｐ法に用いられる公知の樹脂から適宜に選択すればよ
いが、通常、放射線硬化型化合物が用いられる。

記録層３は、１種あるいは２種以上の色素を相溶して形
成される。

この場合、光吸収色素にクエンチャ−を混合してもよ（
、さらに、色素カチオンとクエンチャ−アニオンとのイ
オン結合体を光吸収色素として用いてもよい。

記録層３の記録光および再生光波長における消衰係数（
複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５であるこ
とが好ましい。

ｋが０．０３未満となると記録層の吸収率が低下し、通
常の記録パワーで記録を行うことが困難である。

また、ｋが０．２５をこえると、反射率が６０％を下回
ってしまい、ＣＤ規格による再生を行うことが困難であ
る。

この場合、ｋが０．０４〜０．２０、特に０．０５〜０
．１５であると、きわめて好ましい結果をつる。

また、屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、１．８〜４．
０、より好ましくは、２．２〜３．３であることが好ま
しい。

ｎ〈・１．８では反射率が低下し、ＣＤ規格による再生
が困難となる傾向にある。　また、ｎ＞４．０とするた
めには、原料色素の入手が難しい。

ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明基板上に配録
層を例えば４００〜１０００人程度の厚さに実際の条件
にて設層して、測定サンプルを作製する。　次いで、基
板を通しての、あるいは記録層側からの反射率を測定す
る。　反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反射（５°
程度）にて測定する。　また、サンプルの透過率を測定
する。　これらの測定値から、例えば、共立全書「光学
」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すれ
ばよい。

用いる光吸収性の色素としては、吸収極大が６００〜９
００ｎｍ、好ましくは６ｏｏ〜８ｏ。

ｎｌ１１、より好ましくは６５０〜７５ｏｎＩ１１であ
れば、他に特に制限はないが、シアニン系、フタロシア
ニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ビリリウムないしチアピリ
リウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、金属
錯体色素系等の１種ないし２種以上が好ましい。

シアニン色素としては、インドレニン環、特にベンゾイ
ンドレニン環を有するシアニン色素であることが好まし
い。

記録層３の設層方法には特に制限がなく、例えば各種溶
媒等を用いて塗布によって設層したり、蒸着等公知の方
法を用いればよい。

記録層３の厚さは、５００〜２０００人とすることが好
ましい。　この範囲外では反射率が低下して、ＣＤ信号
の再生を行うことが難しくなる。

このような記録層３には、直接密着して反射層４が設層
される。

反射層４は、銅と、窒素および／または酸素とを含有す
る薄膜で構成される。

前記の薄膜を用いることにより、Ｃｕ薄膜、Ａｇ薄膜、
Ａ℃薄膜等のように、膜が部分的に極度に腐食して、反
射層４の厚さ方向にピンホール状やスルーホール状の錆
が生じな（なる。

この場合、より好ましくは、銅と、窒素とを含有し、酸
素を含有しない薄膜で反射層４を構成する。

このような薄膜を用いることにより、本発明の効果がよ
り一層向上する。

反射層４中の窒素および酸素の含有量は、合計、０．５
〜２．０ａｔ％が好ましい。

前記範囲をこえると、反射率が低下し過ぎ、媒体再生時
に必要な反射レベルがどれな（なる傾向にある。

前記範囲未満では、本発明の効果が得られない傾向にあ
る。

このような理由から、反射層４中の窒素および酸素の含
有量の上限は、より好ましくは１．８ａｔ％、さらに好
ましくは１．６ａｔ％、特に好ましくは１．４ａｔ％が
好ましい。

また、下限は、より好ましくは０．７ａｔ％、さらに好
ましくは０．８ａｔ％、特に好ましくは０．９ａｔ％が
好ましい。

また、反射層４は、Ｃｕ、ＮおよびＯに加え、Ａｕ２、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ。

Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｔａ、ｗ、ｐｔ
およびＡｕから選択される添加金属の１種以上を含有し
ていてもよい。

前記添加金属の含有量は、合計２０ａｔ％以下より好ま
しくは１５ａｔ％以下、特に好ましくは１０ａｔ％以下
であることが好ましい。

添加金属の含有量が、前記範囲をこえると反射率が低下
する傾向にある。

このため、反射率の点からは、前記の添加金属を含有し
ない薄膜で反射層４を構成することが好ましい。

反射層４を形成するには、スパッタリング等の各種気相
成膜法を用いればよい。

そして、特に、Ａｒ中にＮ２や０２を含有する雰囲気下
で反応性スパッタを行なうことが好ましい。

この場合、スパッタの方式や使用するスパッタ装置等に
は特に制限がな（、通常のものを用いればよい。

また、動作圧力やスパッタ投入パワー等の諸条件は、ス
パッタ方式等に応じて適宜決定すればよい。

なお、反応性スパッタを行なう場合、例えば、動作圧力
を０．８〜１．２Ｐａ程度とし、Ａｒ中のＮ２や０２の
含有量を２０〜５０体積％程度とすればよい。

これにより反射層４の膜組成を適宜制御できる。

反射層４の厚さは５００Å以上であることが好ましい。

また、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作
業時間等を考慮すると、１２００人程度以下であること
が好ましい。

これにより、反射層４単独での反射率は、８５％以上、
媒体の未記録部の基板をとおしての反射率は、６０％以
上かえられる。

反射層４上には、保護膜５が設層される。

保護膜５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹脂材質か
ら、通常は、０．１〜１００−程度の厚さに設層すれば
よい。　保護膜５は、層状であってもシート状であって
もよい。

保護膜５は、特に放射線硬化型化合物および光重合増感
剤を含有する塗膜を放射線硬化し７たものであることが
好ましい。

そして、保護膜５の硬度が、２５℃における鉛筆硬度（
ＪＩＳ　　Ｋ−５４００）で、Ｈ〜８Ｈ１特に２Ｈ〜７
Ｈであるように構成されることが好ましい。

このように構成することにより、再生出力波形であるア
イパターンが良好になり、ジッターが格段と減少する。

また、高温・高温あるいは温湿度変化条件下の保存にお
いても、保護膜と反射層との剥離が生じない。

より具体的には、保護膜の硬度がＨより軟らかいとアイ
パターンが乱れ、ジッターが増大し、８Ｈより硬くなる
と塗膜がもろくなり膜形成能が低下する他、反射層との
接着力が低下する。

このような保護膜形成に用いる放射線硬化型化合物には
、オリゴエステルアクリレートが含まれることが好まし
い。

オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基または
メタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物で
ある。　そして好ましいオリボステルアクリレートとし
ては、分子量１０００〜ｔ　ｏｏｏｏ、好ましくは２０
００〜７０００であって、重合度２〜１０、好ましくは
、３〜５のものが挙げられる。　また、これらのうちア
クリレート基またはメタクリレート基を２〜６個、好ま
しくは３〜６個有する多官能オリゴエステルアクリレー
トが好ましい。

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて熱
可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られる
放射線硬化型化合物を用いてもよい。

このような放射線硬化型化合物の保護膜の膜厚は０．１
〜３０−１より好ましくは１〜１０−である。

この膜厚が０．１−未満になると、−様な膜を形成しに
＜（、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でな（、
記録層の耐久性が下がる。

しかも、ジッター防止効果が低下する。

また、３０−をこえると、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮
により記録媒体の反りや保護膜中のクラックが生じやす
い。

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい。　この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外線
、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化型
化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられる。

光重合増感剤としては、例えば、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイ
ン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベンゾイン系、
ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホリノジメチル
メチル−４−メチルチオフェニルケトン、ビスジアルキ
ルアミノベンゾフェノン等のケトン類、アセドラキノン
、フエナントラキノン等のキノン類、ベンジルジスルフ
ィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のスルフ
ィド類等を挙げることができる。

そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合物
を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公知
の種々の方法に従えばよい。

たとえば、キセノン放電管、水銀放電管などの紫外線電
球等を用いればよい。

また、場合によっては電子線を用いることもできる。

このような構成の光記録媒体ｌに記録ないし追記を行な
うには、例えば７８０　ｎｍの記録光を、基板２をとお
してパルス状に照射する。

これにより、記録層３が光を吸収して発熱し、同時に基
板２も加熱される。　この結果、基板２と記録層３との
界面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が
生じ、記録層３と基板２との界面に圧力が加わり、グル
ープの底壁や側壁を変形させることがある。

この場合記録層３の融解物や分解物を含有する分解物層
６１が、通常グループ２３の底部および境界を覆うよう
な形状に残存する。

分解物層６１の材質は、実質的に基板材質を含まない材
質であり、記録層材質の分解物あるいは記録層材質の分
解物と、記録層材質との混合物によって構成される。

分解物層６１は、記録層３の厚さの通常３０〜９０％程
度の厚さである。

そして、通常、分解物層６１上には、反射層との界面に
空隙６３が形成され、分解物層６１と、空隙６３とがピ
ット部６に形成される。

空隙６３は、記録層３の厚さの通常１０〜７０％程度の
厚さである。

また、このような記録過程において、基板２は変形しな
い場合もあるが、通常、基板２のピット部６は、加熱時
の圧力によって凹状にへこむことになる。　基板２のへ
こみ量は、ピット部６の寸法が大きい程大きく、通常０
〜３００人程度の以下である。

また、空隙６３上には、反射層４に密着して微少膜厚に
て記録層３ないしその分解物等が残存することもある。

このように、ピット部６の基板２と記録層３との界面部
には、実質的に基板材質を含有しない層が形成される。

なお、記録光のパワーは通常、５〜９ｍＷ程度、基板回
転線速度は１．２〜１．４ｍ／ｓ程度とすればよい。

このようにしてピット部６を形成したのち、例えば７８
０ｎｗの再生光を、基板２をとおして照射すると、ピッ
ト部６により光の位相差を生じ、反射率が未記録部分の
６０％以下、特に５０％以下、さらには４０％以下に低
下する。

一方、未記録部では、６０％以上の高反射率を示す。

再生光のパワーは、０．１〜ｌｏｍＷ程度とする。

なお、前記の光記録媒体は、本発明の光情報媒体の１例
であり、このほか、変調された熱ビームあるいは変調さ
れた磁界により、情報が磁気的に記録され、記録情報は
磁気−光変換して再生される、いわゆる光磁気記録媒体
であってもよい。

この場合、記録層は、光磁気記録が行なえるものであれ
ばその材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有
する合金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパ
ッタ、蒸着法、イオンブレーティング法等により、非晶
質膜として形成したものであることが好ましい。

また、本発明は、光学式ビデオディスク、コンパクトデ
ィスク等の再生専用の光再生媒体であってもよい。

ただ、好ましくは、前述したように色素を含有する記録
層上に密着して反射層を積層して構成した光記録媒体で
ある。

〈実施例〉 実施例１ 連続グループを有する１２０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの
ポリカーボネート樹脂基板上に色素を含有する記録層を
設層した。　この記録層上に、反応性スパッタリングに
より１０　Ｑ　Ｏ入庫の反射層を形成し、さらに、オリ
ゴエステルアクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂を
塗布した後紫外線硬化して５−厚の保護膜とし、光記録
ディスクサンプルＮｏ、　　１を得た。

サンプルＮｏ、　　１の記録層に含有される色素を下記
に示す。

記録層の設層は、基板を５００〜３０００　ｒｐｍで回
転させながらスピンコード塗布により行なった。　塗布
溶液としては、３．５ｗｔ％ジアセトンアルコール溶液
を用いた。　記録層の厚さはグループ部で１４００人、
ランド部で１０００人であった。

サンプルＮｏ、　　１の記録層に含有される色素Ａ１の
含有量は９０ｗｔ％、−重項酸系クエンチャーの含有量
は１０ｗｔ％であり、記録層の屈折率（ｎ）は２．６、
消衰係数（ｋ）は、０．０６であった。

ｎおよびｋは、上記色素を含有する溶液を測定用基板上
に乾燥膜厚１０００人に成膜して被検記録層とし、この
被検記録層のｎおよびｋを測定することにより求めた。

　なお、この測定は、「光学」　（石黒浩三著、共立全
書）第１６８〜１７８ページの記載に準じて行なった。

　また、上記色素Ａｌを含有する記録層の測定に際して
は、溶媒にジアセトンアルコール、測定用基板にポリカ
ーボネート基板を用いた。

反射層の成膜は、Ｃｕターゲットを用い、Ａｒ中にＮ２
を３０体積％含有する雰囲気下で、下記の条件で行なっ
た。

スパッタ圧カニ１．ＯＰａ 投入パワー：　３　、　ＯＷ／ａｍ２ 反射層の組成を、Ｘ線マイクロアナライザー分析にて求
めたところ、Ｃｕ□Ｎ＋（ａｔ％）であった。

また、保護膜は、下記の放射線硬化型化合物および光重
合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコートで設層し
た。

（塗布組成物） 多官能オリゴエステルアクリレート［オリゴエステルア
クリレート（３官能以上）３０重量％、トリメチルプロ
パンアクリレート７０重量％、商品名アロニックスＭ−
８０３０，東亜合成社製］ １００重量部 光重合増感剤（商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７゜日本
チバガイギー社製） ５重量部 このような塗布組成物を設層後、１２０　Ｗ／ｃｍの紫
外線を１５ｓｅｃ照射し架橋硬化させ、硬化膜とした。

この膜の鉛筆硬度は２Ｈであった。

得られたサンプルＮｏ、　　１に対し、波長７８０ｎｍ
、７ｍＷのレーザーにてコンパクトディスク信号の記録
を行ない、次いで市販のコンパクトディスクプレーヤで
再生を行なった。

この結果、Ｓ／Ｎ比が高く、良好な再生を行なうことが
できた。

なお、未記録部で６０％以上の反射率が得られ、記録部
の反射は未記録部の反射率の６０％以下であった。

また、比較用サンプルとして、Ａｒ雰囲気下でスパッタ
リングを行なってＣｕ薄膜の反射層を形成したほかは同
様として、サンプルＮｏ、　２を製造した。

両サンプルに対し、下記の評価を行なった。

１）Ｃ１エラー サンプル対し、波長７８０　ｎｍ、７ｎ＋Ｗのレーザー
にてコンパクトディスク信号の記録を行なった後、市販
のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって０１エ
ラーを測定した。

次いで、サンプルを温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境
中に６００時間放置した後、同様にＣ１エラーを測定し
た。

この場合、Ｃ１エラーのＣＤ規格は、２２０（カウント
７秒）以内である。

評価基準 Ｏ・・・Ｃ１エラー２２０（カウント７秒）以内×・・
・Ｃ１エラー２２０（カウント７秒）超結果は表１に示
されるとおりである。

なお、６０℃、９０％ＲＨに５００時間放置した後の両
サンプルの反射層を目視および光学顕微鏡にて観察した
ところ、サンプルＮｏ、　　２（比較）には、ピンホー
ル状の錆が部分的に生じていた。

これに対し、サンプルＮｏ、　　１　（本発明）には、
ピンホール状の錆はなかった。

表　　　　　　　１ Ｎｏ、　　　　　　　　　（ａｔ％） １（本発明）　　　Ｃｕ−Ｎ、　　　　　　０２（比　
較）　　　　　Ｃｕ　　　　　　　　Ｘ表１に示される
結果から本発明の効果が明らかである。

なお、本発明のサンプルＮｏ、　　１につき、ＭＥＧＵ
ＲＯ社製ＣＤジッターメーターＭＪＭ−６３１で測定し
たところ、３０ｎｓ未満であり、ジッターも少なかった
。

さらに、再生出力波形であるアイパターンをオシロスコ
ープを用いて観察したところ良好であった。

これに対し、サンプルＮｏ、　　１において保護膜の鉛
筆硬度を下げたところ、再生出力波形のアイパターンの
エンベロープが少し乱れ、ジッターの増加がみられた。

また、反射層中のＮの含有量をかえた各種サンプルを作
製し、前記と同様の評価を行なったところほぼ同等の結
果が得られた。

また、ＣｕとＯから成る薄膜の反射層やＣｕとＯとＮか
ら成る薄膜の反射層を有する各種サンプル、さらには、
Ｃｕと、Ｎおよび／または０と、Ａｕ２、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ。

Ｃ０１Ｎｉ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｔａ。

ｗ、ｐｔおよびＡｕから選ばれる１種以上とを含有する
薄膜の反射層を有する各種サンプルを作製し、前記と同
様の評価を行なったところＣｕ薄膜よりも良好な結果が
得られた。

〈発明の効果〉 本発明の光情報媒体では、反射層の、耐食性、耐湿性が
良いため、高温、高温下での使用や長期保存を行なって
もエラーレートが小さく、良好な記録や再生を行なうこ
とができる。

また、本発明の密着型の光記録媒体によれば、高反射率
で、しかもピット部での大きな反射率低下を示すので、
ＣＤ規格による再生を行なうことのできる良好な光記録
が可能となる。

しかも、良好なアイパターンが得られ、ジッターも少な
い。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光記録媒体を示す部分断面図である
。 符号の説明 １・・・光記録媒体 ２・・・基板 ２１・・・ランド部 ２３・・・グループ ３・・−記録層 ４・・・反射層 ５・・・保護膜 ６・・・ピット部 ６１・・・分解物層 ６３・・・空隙 出　願　人　ティーデイ−ケイ株式会社代　　理　　人
　　弁理士　　　石　　井　　陽　　−同　　　　　弁
理士　　　増　　１）　達　　哉Ｆ　工　Ｇ、　　１ ブ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に、銅と、窒素および／または酸素とを含
   有する薄膜の反射層を有することを特徴とする光情報媒
   体。
2. （２）前記反射層中の窒素および酸素の含有量が合計０
   ．５〜２．０ａｔ％である請求項１に記載の光情報媒体
   。
3. （３）基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録
   層上に密着して前記反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生
   光により再生を行なう請求項１または２に記載の光情報
   媒体。
4. （４）基板側から再生光を照射したとき、未記録部分の
   反射率が６０％以上であり、記録部分の反射率が未記録
   部分の反射率の６０％以下であり、 記録光および再生光の波長における前記記録層の消衰係
   数ｋが０．０３〜０．２５であり、記録光および再生光
   の波長における前記記録層の屈折率ｎが１．８〜４．０
   であり、 記録光および再生光の波長が６００〜９００ｎｍである
   請求項３に記載の光情報媒体。
5. （５）前記ピット部の前記基板と前記記録層の界面部に
   は、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板材質を実質
   的に含有しない層が存在している請求項３または４に記
   載の光情報媒体。
6. （６）前記ピット部には、空隙が形成されている請求項
   ５に記載の光情報媒体。
7. （７）前記反射層上に保護膜を有し、この保護膜の２５
   ℃における鉛筆硬度がＨ〜８Ｈである請求項３ないし６
   のいずれかに記載の光情報媒体。