JPH0425492A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光記録媒体、特にコンパクトディスク対応の
ライト・ワンス型の光記録ディスクに関する。

〈従来の技術〉 コンパクトディスク（以下、ＣＤと略称する）規格に対
応して追記ないし記録を行なうことのできる光記録ディ
スクが提案されている（日経エレクトロニクス１９８９
年１月２３巳号、Ｎｏ、４６５．Ｐ２Ｏ３、社団法人近
畿化学協会機能性色素部会、１９８９年３月３日。

大阪科学技術センター、５ＰＩＥ　ｖｏｌ　１０７８０
ｐｔｉｃａｌＤａｔａ　Ｓｔｏｒａｇｅ　Ｔｏｐｉｃａ
ｌ　Ｍｅｅｔｉｎｇ、　　８０１９８９等）。

このものは、透明樹脂基板上に、色素層、Ａｕ反射層お
よび保護膜をこの順に設層して形成される。　すなわち
、反射層を色素層に密着して設けるものである。

従来は、色素層にピットを形成するために色素層上に空
気層を設けていたが、この提案では、反射層を色素層に
密着して設ける密着型であるので、ＣＤ規格のディスク
金厚１．２ｍｍの構成が可能となっている。

〈発明が解決しようとする課題〉 このような反射層と色素を含有する記録層とを密着して
設ける密着型の媒体の場合には、特に、記録層の記録光
および再生光波長での消衰係数におよび屈折率ｎが、そ
れぞれ０．０３〜０．２５および１．８〜４．０の所定
の値をもち、未記録部での反射率が６０％以上、特に７
０％以上なければならない。

ところで、色素層を記録層として用いる場合、光吸収色
素の耐光性が低（、特に、（り返し再生を行なうと色素
がフォトンモードの劣化を受け、これにより再生劣化が
生じることが知られている。

本発明者らは、この再生劣化を防止して、耐光性を向上
するために、光吸収色素に一重項酸素クエンチャーを添
加する旨を提案している（特開昭５７−１６６８３２号
、同５７−１６８０４８号）。

しかし、密着型の媒体では、通常のクエンチャ−はｋが
太きいく、クエンチャ−の添加により、特に記録層のｋ
が増大し５、反射率か低下し、再生特徴が低下する。

このため、クエンチャ−添加量を増大できず、良好な再
生を行なうためには、十分な耐光性が得られないことが
判明した。

本発明の目的は、良好な記録および再生を行なうことが
できるとともに、十分な耐光性を有する密着型の光記録
媒体を提供することにある。

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は下記（１）〜（８）の本発明によって
達成される。

（１）基板上に記録層を有し、この記録層上に密着して
反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生
光により再生を行なう光記録媒体であって、 前記記録層が、光吸収色素と、ビスフェニレンジチオー
ルの銅錯体とを含有することを特徴とする光記録媒体。

（２）基板側から再生光を照射したとき、未記録部分の
反射率が６０％以上であり、記録部分の反射率が未記録
部分の反射率の６０％以下である上記（１）に記載の光
記録媒体。

（３）記録光および再生光の波長における前記記録層の
消衰係数ｋが、０．０３〜０．２５であり、記録光およ
び再生光の波長における前記記録層の屈折率ｎが、１．
８〜４．０である上記（２）に記載の光記録媒体。

（４）記録光および再生光の波長が６００〜９００　ｎ
ｍである上記（１）ないしく３）のいずれかに記載の光
記録媒体。

（５）前記ピット部の前記基板と前言己記録層の界面部
には、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板材質を実
質的に含有しない層が存在している上記（１）ないしく
４）のいずれかに記載の光記録媒体。

（６）前記ピット部には、空隙が形成されている上記（
５）に記載の光記録媒体。

（７）前記記録層が、２種以上の光吸収色素を含有する
上記（１）ないしく６）のいずれかに記載の光記録媒体
。

（８）前記光吸収色素がシアニン色素である上記（１）
ないしく７）のいずれかに記載の光記録媒体。

く作用〉 本発明で用いるクエンチャ−は、記録・再生光波長にお
いて、Ｏ〜０．０１程度の低いｋをもつ。

このため、添加量を増やしても、良好な再生を行なうこ
とができるとともに、十分高い耐光性を付与できる。

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

第１図には、本発明の光Ｍｅ録媒体１の１例が示される
。

この光記録媒体１は、基板２上に、色素を含有する記録
層３を有し、記録層３に密着して、反射層４、保護膜５
を形成した密着型のものである。

基板２は、記録光および再生光（６００〜９００　ｎｍ
程度、特に７００〜８００ｎｍ程度の半導体レーザー光
、特に７８０　ｎｍ）に対し、実質的に透明（好ましく
は透過率８０％以上）な樹脂あるいはガラスから形成さ
れる。　これにより、基板裏面側からの記録および再生
が可能となる。

基板２は、通常のサイズのディスク状であって、ＣＤと
して用い乙場合、厚さは１．２ｍｍ程度、直径は８０な
いし１２０ｍｍ程度とする。

この場合、基板材質としては、樹脂を用いることが好ま
しく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモルフ
ァスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可塑性樹脂が好
適である。

なお、必要に応じ、基板２の外表面、内表面の少なくと
も一方と、さらに必要に応じ、内・外周面に酸素遮断性
の被膜を形成してもよい。

基板２の記録層３形成面には、トラッキング用のグルー
プが形成されることが好ましい。

グループは、スパイラル状の連続型グループであること
が好ましく、深さは２５０〜１８００人、幅は０．３〜
１．１戸、特に０．４〜０．６μ、ランド（隣り合うグ
ループ同士の間の部分）幅は０．５〜１．３戸、特に１
．０〜１．２戸であることが好ましい。

グループをこのような構成とすることにより、グループ
部の反射レベルを下げることな（良好なトラッキング信
号を得ることができる。

なお、グループには、アドレス信号用の凹凸を設けるこ
ともできる。

本発明では、基板がグループを有する場合、記録光はグ
ループ内の記録層に照射されるよう構成されることが好
ましい。　すなわち、本発明の光記録媒体は、グループ
言己録の光記録媒体として用いられることが好ましい。

　グループ記録とすることにより、記録層の有効厚さを
大きくすることができる。

また、基板２上に図示しない樹脂層を例えば２Ｐ法によ
り設層して、樹脂層にトラッキング用の溝やアドレス信
号用の凹凸を設けてもよい。

樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわゆる
２Ｐ法に用いられる公知の樹脂から適宜に選択すればよ
いが、通常、放射線硬化型化合物が用いられる。

記録層３は、１種あるいは２種以上の光吸収性の色素と
、後述のクエンチャ−とを相溶して形成される。

記録層３の記録光および再生光波長における消衰係数（
複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５であるこ
とが好ましい。

ｋが０，０３未満となると記録層の吸収率が低下し、通
常の記録パワーで記録を行なうことが困難である。

また、ｋが０．２５をこえると、反射率が６０％を下回
ってしまい、ＣＤ規格による再生を行なうことが困難で
ある。

この場合、ｋが０．０４〜０．２０、特に０．０５〜０
．１５、さらには０．０５〜０．１２であると、きわめ
て好ましい結果をつる。

また、屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、１８〜４０、
より好ましくは、２．２〜３．３であることが好ましい
。

ｎく１８では反射率が低下し、ＣＤ規格による再生が困
難となる傾向にある。　また、ｎ〉４０とするためには
、原料色素の入手が難しい。

用いる一重項酸素クエンチャーは、ビスフェニレンジチ
オールの銅錯体であり、特に下記式［Ｉ］で表わされる
ものの１種以上が好適である。

式［Ｉ］ 上記［Ｉ］において、Ｒ１−Ｒ１は、それぞれ、水素原
子、好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基、ハロゲ
ン原子またはアミン基もしくは炭素原子数１〜５のアル
キル基等によって置換されたアミノ基であることが好ま
しい。

Ｃａｔは、好ましくは４級アンモニウムイオン等のカチ
オンを表わし、ｍは通常１である。

以下に、式［Ｉ］ の具体例を挙げる。

なお、下記において、Ｒ ずれかがＨであるときには、 する。

Ｎｏ、　　　　　Ｒ＋　〜Ｒａ　　　　　Ｃａ　ｔＱｌ
　　　　４１ｔ−Ｃ４Ｈｅ）　　　Ｎ”（ｎ−Ｃ４１（
９）４Ｑ２　　　　４ｉｎ−Ｃ８Ｈ１７）　　Ｎ責ｎ−
Ｃ，Ｈ−）４０３　　　　　　　　　　　　Ｎ”　（ｎ
−Ｃ４Ｈ８）４Ｑ４　　　　　４−ＣＨ，Ｎ責ｎ　−Ｃ
４Ｈ９）　４Ｑ５　　　　　　３，４．６４リクロＯＮ
”（ｎ−ＣａＨ９）４０６　　　４−Ｎ（ＣＨｘ）　　
　　Ｎ”（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４Ｑ７　　　４−Ｎ（ｔ−Ｃ
ｌ３）　　Ｎ’（ｎ−Ｃａｔ（１３）。

Ｃ８３４−ジクロロ　　　　　　Ｎ“（ｎ−Ｃｌ３）４
このようなりエンチャーの単層膜は、 再生光波長にて、０〜０．Ｃ１程度の す。

また、通常ｎは、１ これらクエンチャ−は、 〜Ｒ４のうちのい ５種度以上である。

常法に従い、容易に合 表示しないものと で表わされるクエンチャ− 成できる。

用いる光吸収性の色素としては、吸収極大が６００〜９
００ｎｍ、好まし１．、’６００〜８００ｎｍ、より好
ましくは６５０〜７５０　ｒ＋ｍであれば、他に特に制
限はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロ
シアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニル
メタン系、ビリリウムないしチアピリリウム塩系、スク
ヮリノウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等の１
種ないし２種以上が好ましい。

シアニン色素としては、インドレニン環やベンゾインド
レニン環を有するインドレニン系のシアニン色素である
ことが好ましい。

また、光吸収色素に、さらに他のクエンチャ−を混合し
てもよい。　さらに、色素カチオンとクエンチャ−アニ
オンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよい
。

イ井用できるクエンチャ−としては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−ａ−ジケトン系や他のビスフェニ
レンジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコ
ール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェ
ルレート系等の金属錯体が好ましい。

また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物
やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャ−も好適
である。

結合体を構成する色素としては、インドレニン系シアニ
ン色素が、またクエンチャ−としてはビスフェニレンジ
チオール金属錯体等の金属錯体色素が好ましい。

好ましい色素、クエンチャ−１結合体の詳細については
特開昭５９−２４６９２号、同５９−５５７９４号、同
５９−５５７９５号、同５９−８１１９４号、同５９−
８３６９５号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５
８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号
、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６
０−４４５５４号、同６ｏ−４４５５５号、同６０−４
４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−４７０６
９号、同６０−２０９９１号、同６０−７１２９４号、
同６０−５４８９２号、同６０−７１２９５号、同６０
−７１２９６号、同６０−７３８９１号、同６０−７３
８９２号、同６０−７３８９３号、同６０−８３８９２
号、同６０−８５４４９号、同６０−９２８９３号、同
６０−１５９０８７号、同６０−１６２６９１号、同６
０−２０３４８８号、同６０−２０１９８８号、同６０
−２３４８８６号、同６０−２３４８９２号、同６１−
１６８９４号、同６１−１１２９２号、同６１−１１２
９４号、同６１−１６８９１号、同６１−８３８４号、
同６１−１４９８８号、同６１−１６３２４３号、同６
１−２１０５３９号、特願昭６０−５４０１３号、特開
昭６２−３００８８号、同６２−３２１３２号、同６２
−３１７９２号、ＣＭ　Ｃ出版刊「機能性色素の化学」
Ｐ７４〜７６等に記載されている。

なお、上記式［１］で表わされるクエンチャ−は、光吸
収色素の総計の１モルに対し］モル以下、特に０．０５
〜０．５モルさらには０１〜０．５モル程度添加するこ
とが好ましい。

本発明では、上記のような光吸収性色素−クエンチャ−
混合物から上記範囲のｎおよびｋを有するものを選択す
る。

なお、色素の記録光および再生光に対するｋは、その骨
格や置換基によりＯ〜２程度まで種々変化しているため
、例えばｋが０．０３〜０．２５の色素を選定するに際
しては、その骨格や置換基に制限がある。

このため、塗布溶媒に制限を生じたり、基板材質によっ
ては塗工できないこともある。

また、新たに分子設計を行なう場合、設計および合成に
大きな労力を必要とする。

一方、本発明者らの実験によれば、２種以上の色素を含
有する混合色素層のｋは、用いる各色素単独から構成さ
れる色素層のｋに応じ、その混合比にほぼ対応する値に
なることが判明した。　従って、本発明では、記録層３
は２種以上の光吸収性色素を相溶して形成されてもよい
。

この際、はとんどの色素の／１　合糸で混合比にほぼ比
例しなｋがえられるものである。　すなわち、ｉ種の色
素ないしクエンチャ−の混合分率およびｋをそれぞれＣ
ｉおよびに１としたとき、ｋは、はぼΣＣ１ｋｉとなる
。　従って、ｋの異なる色素同士を混合比を制御して混
合することにより、所定のｋをもつ記録層を得ることが
できる。　このため、きわめて広い範囲の色素群の中か
ら用いる色素を選択することができる。

このことは、波長依存性の改善にも適用できる。　半導
体レーザーの波長は通常±１０ｎｍの範囲にあり、市販
のＣＤプレーヤにおいては、７７０から７９０　ｒ＋ｍ
の範囲で反射率を７０％以上に確保する必要がある。　
一般に色素のに値は大きな波長依存性をもつものが多く
、７８０ｎｍでは適切な値であっても、７７０あるいは
７９０　ｎｍでは大きくはずれてしまう場合が多い。

このような場合には、第２の色素を混合することによっ
て、７８０±１０ｎｍの範囲で常に適切なｎおよびに値
が得られるように設定することができる。

この結果、塗布溶媒等の制約など成膜法に制限はなくな
り、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特徴の良
好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能とする
ことができる。

記録層３に２種以上の光吸収色素を用いる場合、用いる
光吸収性色素は、ｎ＝１．６〜６．５、ｋ＝ｏ〜２の範
囲内のものから選択すればよい。

この際、特に互いに縮合状態の異なるインドレニン環を
有するか、あるいはメチン鎖長の異なる２種以上のイン
ドレニン系シアニン色素を用いることが好ましい。

なお、ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明基板上
に記録層を例えば４００〜８００人程度の厚さ以下際の
条件にて設層して、測定サンプルを作製する。　次いで
、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射率を測
定する。　反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反射（
５°程度）にて測定する。　また、サンプルの透過率を
測定する。　これらの測定値から、例えば、共立全書「
光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出
すればよい。

このような記録層３の厚さは、５００〜２０００人とす
ることが好ましい。　この範囲外では反射率が低下して
、ＣＤ規格の再生を行なうことが難しくなる。

記録層３の設層方法に特に制限はないが、本発明では、
色素選択や、媒体設計や、製造上の自由度や容易さがよ
り拡大する点で、塗布によって設層することが好ましい
。

記録層３の塗設には、ケトン系、エステル系、エーテル
系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、アルコール系等
の各種溶媒を用いることができ、溶媒選択の自由度も大
きい。　塗布には、スピンコード等を用いればよい。

なお、記録層３は、場合によっては、蒸着膜によって形
成されてもよい。

このような記録層３には、直接密着して反射層４が設層
される。

反射層４としては、Ａｕ、Ａ２Ｍｇ合金、ＡｆｆＮ　ｉ
合金、Ａｇ、ＰｔおよびＣｕ等の高反射率金属を用いれ
ばよいが、これらのうちでは反射率が特に高いことから
Ａｕ、ＡｆｆＭｇ合金およびＡρＮｉ合金のいずれかを
用いることが好ましい。　なお、ＡρＭｇ合金中のＭｇ
含有率は３〜７ｗｔ％程度が好ましい。　また１、！２
Ｎｉ合金中のＮｉ含有率は３〜４ｗｔ％程度が好ましい
。

反射層４の厚さは５００Å以上であることが好ましく、
蒸着、スパッタ等により設層すればよい。　また、厚さ
の上限に特に制限はないが、コスト、生産作業時間等を
考慮すると、１０００人程度以下であることが好ましい
。

これにより、媒体の未記録部の基板をとおしての反射率
は、６０％以上、特に７０％以上がえられる。

反射層４上には、保護膜５が設層される。

保護膜５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹脂材質か
ら、通常は、０．１〜１００−程度の厚さに設層すれば
よい。　保護膜５は、層状であってもシート状であって
もよい。

保護膜５は、特に放射線硬化型化合物および光重合増感
剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであることが好
ましい。

そして、保護膜５の硬度が、２５℃における鉛筆硬度（
ＪＩＳ　　Ｋ−５４００）で、Ｈ〜８Ｈ１特に２Ｈ〜７
Ｈであるように構成されることが好ましい。

このように構成することにより、ジッターが格段と減少
する。

また、高温・高温あるいは温湿度変化条件下の保存にお
いても、保護膜と反射層との剥離が生じない。

より具体的には、保護膜の硬度がＨより軟らかいとジッ
ターが増大し、８Ｈより硬くなると塗膜がもろくなり膜
形成能が低下する他、反射層との接着力が低下する。

このような保護膜形成に用いる放射線硬化型化合物には
、オリゴエステルアクリレートが含まれることが好まし
い。

オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基または
メタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物で
ある。　そして好ましいオリゴステルアクリレートとし
ては、分子量１０００〜１００００、好ましくは２００
０〜７０００であって、重合度２〜１０．好ましくは、
３〜５のものが挙げられる。　また、これらのうちアク
リレート基またはメタクリレート基を２〜６個、好まし
くは３〜６個有する多官能オリゴエステルアクリレート
が好ましい。

多官能オリゴエステルアクリレートとしてはアロニック
スＭ−７１００、Ｍ−５４００、Ｍ−５５００、Ｍ−５
７００、Ｍ−６２５０、Ｍ−６５００、Ｍ−８０３０、
Ｍ−８０６０、Ｍ−８１００等（東亜合成化学社製）と
して市販されているものを用いることができ、これらは
下記式（Ａ）、（Ｂ）で示されるものである。

（Ａ） （Ｂ） Ａ−ｆ−Ｍ−Ｎ−）−、−Ｍ−Ａ Ａニアクリレート基またはメタクリレート基、　Ｍ：２
価アルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、１．６ヘキサングリコール、ビスフェノ
ールＡ等）残基、Ｎ：２塩基酸（例えば、テレフタル酸
、イソフタル酸、アジピン酸、コハク酸等）残基、ｎ：
１〜１０、好ましくは２〜５ これらのうちでは、（Ａ）で示されるものが好ましい。

このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用し
てもよい。

また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。　そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中２０ｗｔ％以上存在することが好ましい
。

上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線硬
化型化合物を併用することができ、このようなものとし
ては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を
示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
−重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合
等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子中
に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリ
マー等を挙げることができる。　これらは多官能、特に
３官能以上であることが好ましい。

放射線硬化型モノマーとしては、分子量２０００未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子量２０００〜１００
００のものが用いられる。

これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングツコールジメタクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールメタクリレート、１．６−ヘキサングリ
コールジアクリレート、１．６−ヘキサングリコールジ
アクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテ）・ラアクリレート　（
メタクリレート）、ペンタエリスリトールアクリレート
（メタクリレ−１・）、トリメチロールプロパントリア
クリレート（メタクリレート）、トリメチロールプロパ
ンジアクリレート　（メタクリレート）、ウレタンエラ
ストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、ある
いはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたも
の、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート
（メタクリレート）、下記一般式で示されるペンタエリ
スリトール縮合環にアクリル基（メタクリル基）または
ε−カプロラクトン−アクリル基のついた化合物、 （ＣＨ，＝ＣＨＣ０ＯＨ，）。

（ＣＨ２＝ＣＨＣ００Ｈ−）ｓ ［ＣＨ，＝ＣＨ０Ｃ（ＱＣ３ −ＣＣＨ，ＯＨ （特殊アクリレートＡ） −ＣＣＨ２０Ｈ。

（特殊アクリレートＢ） Ｈａ）。−０ＣＲ，］３−ＣＣＨ２ （特殊アクリレートＣ） ＣＨ。

（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ■ ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） 式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４（７）化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃ
という）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝Ｑの化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および下記
一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる。

ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）　４−ＣＯＣ
ＨＨ２ （特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエラ
ストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣ
０ＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて熱
可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られる
放射線硬化型化合物を用いてもよい。

このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカ
ル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メ
タクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリ
ル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基
を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂で
ある。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリニスルチル樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ
キシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセクール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。

このような放射線硬化型化合物の保護膜の膜厚は０．１
〜３０−１より好ましくば１〜１゜牌である。

この膜厚がｏ、ｉｐ未満になると、−様な膜を形成しに
＜（、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でなく、
記録層の耐久性が下がる。

しかも、ジッター防止効果が低下する。

また、３０−をこえると、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮
により記録媒体の反りゃ保護膜中のクラックが生じやす
い。

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい。　この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外線
、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化型
化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられる。

本発明に用いる光重合増感剤としては、下記一般式（Ｉ
）で表わされる化合物が好ましい。　このものを、多官
能オリゴエステルアクリレートと用いることにより、前
記の硬度が容易に得られ、膜物性も良好となる。

そして、接着剤層との剥離も少なくなり、耐久性、耐湿
性も良好となる。

一般式（１） 上記一般式（Ｉ）において、Ｒは炭素数１〜４の置換も
しくは非置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等を表わし、なかでもメチル基
、エチル基等が好ましい。

Ｌは炭素数１〜３の置換もしくは非置換のアルキレン基
、例えば−ＣＨ＊− 晶３ 等を表わし、なかでも が好ましい。

Ｙは、複素環基、例えばモルホリノ基、２モルホリニル
基１、ピペリジノ基、４−ピペリシェル基、２−ピリジ
ル基、２−キノリル基、１−ピロリジニル基、ｌ−ピロ
リル基、２−チエニル基、２−フリル基等を表わし、な
かでもモルホリノ基が好ましい。

Ｒ３−は、一般式（Ｉ）中のベンゼン環の置換可能ない
ずれの位置でベンゼン環と結合してもよいが、 Ｃ−Ｌ−Ｙ の９位であることが好ましい。

本発明において、一般式（Ｉ）で表わされる化合物のう
ちで、最も好ましいものは以下のものである。

化合物Ａ この化合物Ａは、Ｉ　ＲＧＡＣＵＲＥ９０７（日本チバ
ガイギー社製）として市販されているものである。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、放射線硬化の際光
重合開始剤ないし光重合増感剤として作用するものであ
る。

このような化合物の有機保護コート層における含有量は
、０．１〜２０ｗｔ％、好ましくは１〜１０ｗｔ％とす
るのがよい。

０．１ｗｔ％未満では光重合開始剤ないし光重合増感剤
としての作用が十分ではないからであり、２０ｗｔ％を
こえると残存する光重合開始剤ないし光重合増感剤が記
録層に浸透し、記録層に悪影響を与えるからである。

また、光重合増感剤としては、必要に応じ前記の一般式
（Ｉ）で表わされる化合物の他に、次のような公知のも
のが併用できる。

例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベ
ンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケト
ン類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類等を挙げることができる。

そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合物
を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公知
の種々の方法に従えばよい。

たとえば、キセノン放電管、水素放電管などの紫外線電
球等を用いればよい。

また、場合によっては電子線を用いることもできる。

このような保護膜５上には、さらに層状ないしシート状
の樹脂製の保護層が設けられていてもよい。

反射層４上および／または記録層３・反射層４間には、
さらに他のジッター防止膜が設けられてもよい。

このようなジッター防止膜としては、プラズマ重合膜ま
たは無機質薄膜があり、反射層４上に設けるときには、
それ自体保護膜として機能させでも、その上にさらに保
護膜を形成してもよい。

ジッター防止膜５は、０．０５ｐ以上、特に０．１〜１
０−の厚さであることが好ましい。

膜厚が薄すぎると、ジッター防止の効果が低下し、厚す
ぎると、ＣＤ規格からはずれたり、コスト高となり、膜
厚にみあった効果かえられない。

用いるプラズマ重合膜としては、公知のプラズマ重合膜
いずれであってもよ（、Ｃを含み、これに加え、Ｈ，Ｏ
，Ｃ℃、Ｆ等のハロゲン、ＳＬ、Ｎ等の種々の元素を含
むものであってよい。

これらのうちではＣ，Ｈと必要に応じＳｉおよび０の１
種以上とを含むものが好ましい。

この際ソースガスやプラズマ重合条件等は公知のものを
用いればよい。

これらプラズマ重合膜は実質的に透明であるので、反射
層の上層、下層いずれに設層してもよい。

方、用いる無機質膜としても種々の無機化合物であって
よく、酸化物、窒化物、炭化物、ケイ化物等の１種以上
を含有するものであってさらに記録層３と反射層４との
間には、密着して接着層を設けてもよい。

接着層は、有機シリケート化合物、有機チタネート化合
物、有機アルミネート化合物もしくは有機ジルコネート
化合物の加水分解縮合物またはＳｉ、Ｔｉ、Ａｊ２もし
くはＺｒのハロゲン化物の加水分解縮合物を含有するこ
とが好ましい。

用いる有機チタネート化合物としては、公知の種々の化
合物が使用可能であるが、特にアルキルチタン酸エステ
ル、置換アルキルチタン酸エステル、アルケニルチタン
酸エステルまたは置換アルケニルチタン酸エステルが好
ましい。

また、有機ジルコネート化合物としては、公知の種々の
化合物が使用可能であるが、特にアルキルジルコン酸エ
ステル、置換アルキルジルコン酸エステル、アルケニル
ジルコン酸エステルまたは置換アルケニルジルコン酸エ
ステルが好ましい。

また、有機アルミネート化合物としては、アルミニウム
アルコキシド、アルミニウムキレート化合物が好ましい
。

これらのうち、特に好適に使用できるのは、下記構造式
をもつものである。

Ｍ　（ＯＲ，）（ＯＲ，）（ＯＲ，）（ＯＲ４）Ａβ（
ＯＲ，）（ＯＲ，）（ＯＲ，） ここに、Ｍは、ＴｉまたはＺｒを表わす。

また、Ｒ，、Ｒ２，Ｒ３およびＲ４は、それぞれ、水素
原子、または置換もしくは非置換のアルキル基もしくは
アルケニル基を表わす。

ただし、Ｒ１−Ｒ４のうち、少なくとも２個以上は、水
素原子ではなく、アルキル基またはアルケニル基である
ことが好ましい。

また、置換または非置換のアルキル基またはアルケニル
基の炭素原子数は、２〜１８であることが好ましい。

なお、アルキル基またはアルケニル基を置換する基とし
ては、カルボキシル基、アルキルカルボキシ基、ジ（ヒ
ドロキシアルキル）アミノ基等の置換アミノ基、ヒドロ
キシル基、アルキルオキシカルボニル基などが好適であ
る。

以下に、好ましい有機チタネート化合物の具体例を挙げ
る。

Ｔ１　テトラエチルチタネート Ｔ２　テトラプロピルチタネート Ｔ３　テトライソプロピルチタネート Ｔ４　テトラ（ｎ−ブチル）チタネートＴ５　テトラ（
イソブチル）チタネートＴ６　テトラ（５ｅｃ−ブチル
）チタネートＴ７　テトラ（ｔｅｒｔ−ブチル）チタネ
ートＴ８　テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート Ｔ９　テトラステアリルチタネート ＴＩＯヒドロキシチタニウムステアレートＴｌｌ　　イ
ソプロポキシチタニウムステアレート Ｔ１２　　ヒドロキシチタニウムオレエートＴ１３　　
イソプロポキシチタニウムオレエート Ｔ１４　　ジ−ミープロポキシ・ビス（アセチルアセト
ン）チタネート Ｔ１５　　ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（トリエタノールア
ミン）チタネート Ｔ１６　　ジヒドロキシ・ビス（ラフティックアシド）
チタネート Ｔ１７　　テトラオクチレングリコールチタネート Ｔ１８　　ジ−ミープロポキシ・ビス（アセト酢酸エチ
ル）チタネート また、好ましい有機ジルコネート化合物の具体例を挙げ
る。

テトラ−ｎ−プロピルジルコネート、テトラ−１−プロ
ピルジルコネート、テトラ−ｎ−ブチルジルコネート、
テトラ−１−ブチルジルコネート、ジルコニウムテトラ
アセチルアセトナート、ジルコニウム−２−エチルヘキ
ソエート、ジルコニウムナフテン酸、ジアセテートジル
コン酸など。

また、好ましい有機アルミネート化合物の具体例を挙げ
る。

アルミニウムーミープロピレート、モノ−５ｅｃ−ブト
キシアルミニウムジイソオピレート、アルミニウムー５
ｅｃ−ブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウ
ムジイソプロピレート、アルミニウム（エチルアセトア
セテート）など。

有機シリケート化合物としては、アルキルケイ酸、特に
四低級アルキル（メチル、エチル）ケイ酸が好ましい。

なお、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物
、有機アルミネート化合物、有機シリケート化合物は、
塗布液中でオリゴマーやコロイド状縮合酸化物を形成し
ていてもよい。

ハロゲン化物としては、ハロゲン化ケイ素、特に、四塩
化ケーイ素が好ましい。

このような有機シリケート化合物、有機チタネート化合
物、有機アルミネート化合物、有機ジルコネート化合物
あるいはハロゲン化物を用いて接着層を形成するには、
これらを、水、アルコール、ヘキサン、ベンゼン等の溶
媒、あるいはこれらの混合溶媒で希釈し、これを色素層
上に塗布し、放置して加水分解を行ない、縮合物を得れ
ばよい。

接着層の塗布方法に特に制限はなく、スピンコード等を
用いねばよい。

接着層の厚さは、１０〜３００人、特に２０−１００人
であることが好ましい。　厚さがこの範囲未満であると
光学的に不均一となる他、接着強度が不十分となる。　
また、この範囲を超えると光学特徴が変化してしまい、
反射率、変調度ともに大きくとることができなくなる。

このような構成の光記録媒体Ｉに記録ないし追記を行な
うには、例えば７８０ｎｍの記録光を、基板２をとおし
てパルス状に照射する。

これにより、記録層３が光を吸収して発熱し、同時に基
板２も加熱される。　この結果、基板２と記録層３との
界面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が
生じ、記録層３と基板２との界面に圧力が加わり、グル
ープの底壁や側壁を変形させることがある。

この場合記録層３の融解物や分解物を倉荷する分解物層
６１が、通常グループ２３の底部および境界を覆うよう
な形状に残存する。

分解物層６１の材質は、実質的に基板材質を含まない材
質であり、記録層材質の分解物あるいは記録層材質の分
解物と、記録層材質との混合物によって構成される。

分解物層６１は、記録層３の厚さの通常３゜へ９０％程
度の厚さである。

そして、通常、分解物層６１上には、反射層との界面に
空隙６３が形成され１分解物層６１と、空隙６３とがピ
ット部６に形成される。

空隙６３は、記録層３の厚さの通常１０〜７０％程度の
厚さである。

また、このような記録過程において、基板２は変形しな
い場合もあるが、通常、基板２のピット部６は、加熱時
の圧力によって凹状にへこむことになる。　基板２のへ
こみ量は、ピット部６の寸法が大きい程大きく、通常Ｏ
〜３００人程度の以下である。

また、空隙６３上には、反射層４に密着して微少膜厚に
て記録層３ないしその分解物等が残存することもある。

このように、ピット部６の基板２と記録層３との界面部
には、実質的に基板材質を含有しない層が形成される。

本発明者らは、ピット部６の基板２と記録層３間に基板
材質が含まれていないことを下記のように確認した。

まず、一定条件にて作製し、記録を行なった１枚の光記
録媒体１から、いくつかのサンプル片を用意し、各サン
プルから保護膜５と、反射層４とを剥離した。

次いで、基板２の表面をアルコール系の溶剤にて洗浄し
た。

この場合、洗浄条件は、アルコール系の溶剤中にて軽く
揺らす程度の弱い洗浄と、超音波をかけながら洗浄する
強い洗浄との２種類とした。

そして、洗浄後の基板２の走査型トンネル顕微鏡（ＳＴ
Ｍ）出力画像から基板２のグループ内の厚みを求めた。

この結果、強い洗浄力を持つ超音波洗浄を行なったサン
プルの場合、基板２のピット部６は、平坦ないしへこん
でいた。

これに対し、弱い洗浄力にて洗浄を行なったサンプルの
基板２のピット部６は盛り上がっていた。

これらの結果から、弱い洗浄力にて洗浄を行なったサン
プルの盛り上がって見える部分は、色素等の記録層材質
が熱を受けて分解したもの、つまり溶解度が低下した記
録層材質の分解物を含有する層であると考えられる。

実際、これら洗浄後の残存物を液体クロマトグラフィ、
吸収スペクトル、ＦＴＩＲ，ＭＡＳ等により測定した結
果、弱い洗浄力の場合にはピット底には分解物の存在と
、基板材質が含まれていないことが確認されている。

このように、本発明のメカニズムは、日経エレクトロニ
クス１９８９年１月２３日号、Ｎ。

４６５、Ｐ２Ｏ３に開示さねている提案、すなわち 「記録レーザ光を照射した際、色素層が融解ないし分解
するとともに基板も軟化して、色素材料と、基板材料と
が界面で混じり合い、ピット部が形成される。」 というメカニズムとは異なるものである。

そして、その結果、ピット形状が良好となり、Ｓ／Ｎ比
が向上するものである。

なお、記録光のパワーは５〜９ｍＷ程度、基板回転線速
度は１２〜１．４ｍ／ｓ程度とする。

このようにしてピット部６を形成したのち、例えば７８
０　ｎｍの再生光を、基板２をとおして照射すると、ピ
ット部６により光の位相差を生じ、反射率が未飽和部分
の６０％以下、特に５０％以下、さらには４０％以下に
低下する。

一方、未記録部では、６０％以上、特に７０％以上の高
反射率を示しているので、ＣＤ規格による再生が可能と
なる。

再生光のパワーは、０１〜１０ｍＷ程度とする。

〈実施例〉 実施例１ 連続グループを有する１２０＋ｎｍφ、厚さ１．２＋ｎ
ｍのポリカーボネート樹脂基板上に色素を含有する記録
層を設層した。　この記録層上に、蒸着によりＡｕを１
０００人厚に設層して反射層とし、さらに、オリゴエス
テルアクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂を塗布し
た後紫外線硬化して５膜厚の保護膜とし、光記録ディス
クサンプルを得た。

各サンプルの記録層に含有される色素を下記に示す。

ＣＨ，ＣＨ３ 記録層の設層は、基板を５０　Ｏｒｐｍで回転させなが
らスピンコード塗布により行なった。

塗布溶液としては、１．５ｗｔ％メタノール溶液を用い
た。　乾燥後の色素層の厚さは１３００人であった。

各サンプルの記録層が含有する色素およびその含有量比
と、記録層の屈折率（ｎ）および消衰係数（ｋ）とを、
下記表１に示す。

ｎおよびｋは、上記色素を含有する溶液を測定用基板上
に乾燥膜厚６００人に成膜して被検記録層とし、この被
検記録層のｎおよびｋを測定することにより求めた。　
なお、この測定は、「光学」　（石黒浩三著、共立全書
）第１６８〜１７８ページの記載に準じて行なった。　
また、上記色素ＡｌおよびＡ２を含有する記録層の測定
に際しては、溶媒にメタノール、測定用基板にポリカー
ボネート基板を用いた。

表　　　　　　１ サンプル　　色素（ｗｔ％ｌ　　　　ｎ　　　　ｋＮｏ
。

１　　　　　　　　Ａｌ（９０）＋Ａ２（１０）　　　
　２．４　　　　０．１０なお、保護膜は、下記の放射
線硬化型化合物および光重合増感剤を含む塗布組成物を
スピンナーコートで設層した。

（塗布組成物） 多官能オリゴエステルアクリレート［オリゴエステルア
クリレート（３官能以上）３０重量％、トリメチルプロ
パンアクリレート７０重量％、商品名アロニックスＭ−
８０３０．東亜合成社製］ １００重量部 光重合増感剤（前記化合物Ａ：商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７　、日本チバガイギー社製）　
　　　　　　　　　　　　　５重量部このような塗布組
成物を設層後、ｌ　２０　Ｗ／ｃｍの紫外線を１５ｓｅ
ｃ照射し架橋硬化させ、硬化膜とした。

この膜の鉛筆硬度は２Ｈであった。

得られた各サンプルに対し、波長７８０　ｎｍ、７ｍＷ
のレーザーにてコンパクトディスク信号の記録を行ない
、次いで市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行
なった。

この結果、サンプルＮｏ、　　１ではＳ／Ｎ比が高く、
良好な再生を行なうことができた。

次いで前記のサンプルＮ０１１から２枚のサンプル片を
得た。

そして、保護膜と、反射層とを剥離した後、基板の表面
を、メタノールを用いてそれぞれ異なる条件にて２分間
洗浄した。

この場合、メタノール中にて軽く揺らす程度の弱い洗浄
を行なったものをサンプルＮｏ。

１−１とし、超音波をかけながら強い洗浄を行なったも
のをサンプルＮｏ、１−２とする。

洗浄後、基板表面に、膜厚１００人のＡｕ膜をスパッタ
リングにて形成し、東洋テクニカ社から販売されている
走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）を用いて、両サンプル
の表面状態を画像化した。

サンプルＮｏ、１−１の３７Ｍ画像は第２図、サンプル
Ｎｏ、１−２の３７Ｍ画像は第３図に示されるとおりで
ある。

第２図および第３図から、弱い洗浄を行なったサンプル
Ｎｏ、１−１は、グループ内はピット部の膜厚が厚く、
強い洗浄を行なったサンプルＮｏ、１−２は、グループ
内の膜厚がほぼ一定であることが確認できる。

また、グループ内の膜厚をより正確に確認するため、グ
ループに沿った断面における表面状態を示すグラフを作
製した。　サンプルＮｏ。

１−１のグラフを第４図、サンプルＮｏ、１−２のグラ
フを第５図に示す。

グラフの縦軸は基準面からの基板厚さ方向の高さであり
、横軸はグループ方向の距離である。　また、図中、矢
印ａはピット部、矢印すはピット部外の位置を示す。

第４図から明らかなように弱い洗浄を行なったサンプル
Ｎｏ、１−１は、記号ａで示されるようにピット部が盛
り上がっている。

これに対し、第５図から明らかなように強い洗浄を行な
ったサンプルＮｏ、１−２は、記号ａで示されるように
ピット部が少しへこんでいる。

これらの事がらサンプルＮｏ、１−１の盛り上がって見
える部分は、色素が熱を受けて分解したもの、つまり溶
解度が低下した色素の分解物を含有する分解物層と考え
られる。

そして、このピット部の記録層と、基板との界面部に形
成された層を超音波にて剥離した後、分析を行なった結
果、分解物が存在することおよび実質的に基板材質が含
有されていないことが確認できた。

さらに、上記色素Ａ１、Ａ２を用い、下記表２に示され
るような記録層を設層した。

表　　　　　２ サンプル　　　色素（ｗｔ％）　　　ｎ　　　　ｋＮｏ
。

１−３（比較）　　　Ａｌ（１００）　　　　　　２．
４　　０．０２１　（比較）　　　ＡＩ（９０）＋Ａ２
（１０）　　　２．４　　０．１０１−４（比較）　　
　Ａ２（１００）　　　　　　２．３　　１．３５得ら
れた各サンプルに対し、上記と同様に、波長７８０　ｎ
ｍ、７＋ｎＷのレーザーにてコンパクトディスク信号の
記録を行ない、次いで市販のコンパクトディスクプレー
ヤで再生を行なったところ、この結果、サンプルＮ０１
１では上記のとおり良好な再生を行なうことができたが
、その他のサンプルＮｏ、１−３では色素層の吸収が不
十分であり、記録が不可能であった。　また、Ｎｏ、１
−４では反射が小さく、再生が不可能であった。

次に、サンプルＮｏ、　　１を用いて、本発明のクエン
チャ−添加の効果を確認した。

用いた式［Ｉ］で示されるクエンチャ−は下記のＱｌ、
Ｑ６である。

Ｑｌ　　ｋ　（７８０）＝０ Ｑ６　　　ｋ　　（７８０）　　＝０ 各サンプルにつき、上記と同様に記録再生を行なった。

この結果、本発明のサンプルＮＯ１２〜４では、サンプ
ルＮ０１１と同様のピットが形成されていた。

また、未記録部で、７０％以上の反射率が得られ、ＣＤ
信号の１１Ｔパルスの記録部の反射率は、未記録部の４
０％以下であり、良好な記録再生を行なうことができた
。

また、各サンプルにつき１．５ｋｗのＸｅランプを１５
ｃｍの距離から基板をとおして照射し、２０時間後の色
素残有率を測定した。

色素残有率は（１００−Ｒ）／（１００−Ｒ，）（ただ
し、ＲｏおよびＲは、それぞれ、初期および照射後の７
８０　ｒ＋ｍでの反射率）により求めた。

結果を表３に示す。

表３に示される結果から、本発明のクエンチャ−は、ｋ
が小さいので、記録層のｋおよび反射率を所定の値に保
持したまま添加量を増加させることができ、良好な記録
再生特徴と、耐光性とを示すことがわかる。

なお、本発明のサンプルＮｏ、　２〜４につき、ＭＥＧ
ＵＲＯ社製ＣＤジッターメーターＭＪＭ−６３１で測定
したところ、１００ｎｓ以下であり、ジッターも少なか
った。。

さらに、このような効果は、上記の本発明の各クエンチ
ャ−および光吸収色素の組み合わせにて、同等に実現す
ることが確認された。

実施例２ 下記の色素Ａ３を用いて、実施例１と同様としてサンプ
ルＮｏ、１１を作製した。

次に、下記の本発明のクエンチャ−Ｑ】および比較用ク
エンチャ−Ｑ５１を用い、同様にすンブルＮｏ。

■ ２、 ３を作製した。

結果を表４に示す。

表４に示されるように、比較用のニッケル錯体クエンチ
ャ−を用いたサンプルＮｏ、１３では、反射率が６０％
未満であり、再生を行なうことができなかった。

これに対し、サンプルＮｏ、１１．１２は、サンプルＮ
ｏ、　　１同様、７０％以上の反射率かえられ、同様の
ピットが形成され、ジッターのない良好な記録再生を行
なうことができた。

そして、サンプルＮｏ、１２は、きわめて高い耐光性を
示す。

実施例３ 下記の色素Ａ４と、実施例２の色素Ａ３と、クエンチャ
−Ｑｌとを用いて、実施例１と同様としてサンプルＮｏ
、２１を作製した。

Ｃ４Ｈ９Ｃ４Ｈｅ 結果を表５に示す。

表５に示されるように、サンプルＮｏ、２１は、サンプ
ルＮ０１１同様７０％以上の反射率かえられ、同様のピ
ットが形成され、ジッターのない良好な記録再生を行な
うことができ、しかもきわめて高い耐光性を示している
。

〈発明の効果〉 本発明によれば、高反射率で、しかもピット部での大き
な反射率低下を示すので、ＣＤ規格による再生を行なう
ことのできる良好な光記録が可能となる。

そして、ピット形状が良好で、しかも高いＳ／Ｎ比が得
られ、良好な記録・再生を行なうことができる光記録媒
体が実現する。

この際、耐光性もきわめて高（、再生劣化も少ない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光記録媒体を示す部分断面図である
。 第２図および第３図は、それぞれ、光記録媒体の記録層
を洗浄除去した後の基板表面の走査型トンネル顕微鏡の
出力画像の写真である。 第４図および第５図は、それぞれ、光記録媒体の基板表
面のグループに沿った断面における表面状態が示される
グラフである。 符号の説明 １・・・光記録媒体 ２・・・基板 ２１・・・ランド部 ２３・・・グループ ３・・・記録層 ４・・・反射層 ５・・・保護膜 ６・・・ピット部 ６１・・・分解物層 ３・・・空隙 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社 代 理 人

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に記録層を有し、この記録層上に密着して
   反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生
   光により再生を行なう光記録媒体であって、 前記記録層が、光吸収色素と、ビスフェニレンジチオー
   ルの銅錯体とを含有することを特徴とする光記録媒体。
2. （２）基板側から再生光を照射したとき、未記録部分の
   反射率が６０％以上であり、記録部分の反射率が未記録
   部分の反射率の６０％以下である請求項１に記載の光記
   録媒体。
3. （３）記録光および再生光の波長における前記記録層の
   消衰係数ｋが、０．０３〜０．２５であり、記録光およ
   び再生光の波長における前記記録層の屈折率ｎが、１．
   ８〜４．０である請求項２に記載の光記録媒体。
4. （４）記録光および再生光の波長が６００〜９００ｎｍ
   である請求項１ないし３のいずれかに記載の光記録媒体
   。
5. （５）前記ピット部の前記基板と前記記録層の界面部に
   は、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板材質を実質
   的に含有しない層が存在している請求項１ないし４のい
   ずれかに記載の光記録媒体。
6. （６）前記ピット部には、空隙が形成されている請求項
   ５に記載の光記録媒体。
7. （７）前記記録層が、２種以上の光吸収色素を含有する
   請求項１ないし６のいずれかに記載の光記録媒体。
8. （８）前記光吸収色素がシアニン色素である請求項１な
   いし７のいずれかに記載の光記録媒体。