JP3611437B2 - 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体の製造方法及び光記録媒体に関し、より詳しくは、有機色素を主成分とする記録層を有する光記録媒体の製造方法及び光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量情報担持媒体として、追記型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目されている。色素を主成分とする記録層を有する光記録ディスクは、記録層が塗布により形成できるため低コストで製造することが可能である。
【０００３】
色素を主成分とする記録層を有する光記録ディスクとしては、従来、記録層上に空気層が設けられたいわゆるエアーサンドイッチ構造のものが用いられていたが、最近では、記録層表面に反射層を密着して設けることにより、コンパクトディスク（ＣＤ）規格に対応した再生が可能な光記録ディスクが開発されている。すなわち、この光記録ディスクは、ポリカーボネート等の透明基板上に、色素を主成分とする記録層、反射層及び保護膜がこの順に積層され、反射層が記録層に密着して設けられ、ＣＤ規格のディスク全厚１．２ｍｍの構成が可能となっているものである。
さらに、高密度に対応したＤＶＤ規格に準拠した同様の光記録ディスクも提案されている。
【０００４】
ところが、このような層構成の光記録ディスクにおいては、基板として使用されるポリカーボネートの透湿性が高いため、高湿度雰囲気では色素膜に水分が進入し、水分の存在下で色素の劣化が進むという問題がある。
【０００５】
従来、記録層としての色素膜（あるいは非晶質合金薄膜）への水分の進入を防ぐ技術が提案されている。例えば、特開昭５８−６２８４１号公報には、基板面にハードコート層を設ける技術が記載され、特開昭５９−１９８５４５号公報には、基板と合金記録層との間に有機チタニウムの中間層を設ける技術が記載されている。また、特開平４−１０２２４１号公報には、基板と色素層との間に複素環式化合物からなる中間層を設ける技術が記載され、特開平４−１３１２８０号公報には、色素層に複素環式化合物を存在させ、反射層を２層構成とする技術が記載されている。しかしながら、これら公報に記載の技術はいずれも、色素層（あるいは非晶質合金薄膜）を保護するための層を追加するものであり、光記録ディスクの製造工程数の増加を伴い、製品のコストアップにつながるものである。
【０００６】
また、特開平６−２３１４８８号公報には、反射層の保護層側の面をトリアジンチオール系化合物で処理して、反射層の腐食進行を抑えることが記載されている。しかしながら、この公報に記載の技術も、光記録ディスクの製造工程数の増加を伴い、製品のコストアップにつながるものである。
【０００７】
さらに、金属膜自体の腐食を抑えるために、保護層の紫外線硬化樹脂について検討が行われている。例えば、特開平１−１９９３３９号公報では、紫外線硬化性樹脂中の酸価が規定され、特開平５−３６１３３号公報では、硬化後の樹脂中の有機酸成分量が規定され、特開平７−１９２３１５号公報では、紫外線硬化樹脂層のアクリル酸イオン濃度が規定されている。しかしながら、これら公報記載の技術はいずれも、金属膜自体の腐食を抑えることが目的であり、色素膜の腐食に関して触れられたものはない。
【０００８】
特に特開平７−１９２３１５号公報では、基板上に形成された金属薄膜上に、アクリル酸イオン濃度が８００ｐｐｍ以下である紫外線硬化性樹脂層を積層した後に、該紫外線硬化性樹脂を硬化させることが開示され、上記金属薄膜として反射率の低いＡｌまたはＡｌ合金を使用し、アクリル酸イオン濃度を８００ｐｐｍ以下とすることにより、反射膜の部分的な酸化劣化がなくなることについて言及されている。しかし、反射層にＡｌまたはＡｌ合金を使用したのでは、反射率が低いために、所望の性能を有する光記録ディスクが得られない。
【０００９】
このように、反射層に反射率の高い金属あるいは合金が用いられ、記録層に有機色素が用いられた場合に、この有機色素の劣化を簡便に防止し得る技術は未だ知られていない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、有機色素を主成分とする記録層と、反射率の高い金属あるいは合金からなる反射層とを有する光記録媒体であって、有機色素の劣化が防止され、耐久性が向上し且つ信頼性の高い光記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、有機色素を主成分とする記録層と、反射率の高い金属あるいは合金からなる反射層とを有する光記録媒体において、反射層上に積層された紫外線硬化膜中に含まれる有機酸が、色素膜劣化の初期段階を誘発することを突き止めた。
【００１２】
紫外線硬化膜は色素膜と直接は接していないが、反射膜を挟んで、紫外線硬化膜中の有機酸を起因として、色素膜と反射膜の界面で局部電池を形成するため、色素膜劣化が誘発されるものと考えられる。
【００１３】
本発明者らは反射層上に積層し硬化させるべき紫外線硬化性材料について検討し、一定量以下の有機酸含有量の紫外線硬化性材料を用いれば、色素膜劣化を抑えることが可能であることを見出し、本発明に到達した。
【００１４】
すなわち、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に、記録層と反射層とをこの順で形成し、反射層上に紫外線硬化性材料を積層した後、これを硬化させ保護層を形成する光記録媒体の製造方法において、記録層を有機色素としてシアニン系色素を用いて形成し、反射層をＣｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて形成し、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を用いて形成することを特徴とする。
【００１５】
本発明の製造方法において、記録層の有機色素として、シアニン系色素を用いる。また、反射層の金属又は合金として、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いる。
【００１６】
本発明の光記録媒体は、上記製造方法によって得られるものであって、基板上に、記録層と反射層とをこの順で有し、反射層上に、紫外線硬化性材料の硬化物からなる保護層を有する光記録媒体において、記録層はシアニン系色素を主成分とし、反射層はＣｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金からなり、保護層は、有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を硬化させることにより形成されたものであることを特徴とする。
【００１７】
本発明の光記録媒体において、記録層の有機色素として、シアニン系色素が用いられている。また、反射層の金属又は合金は、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金である。
以下、本発明について図面を参照しながら詳しく説明する。
【００１８】
光記録媒体として、図１に示すような層構成の光記録ディスクの製造方法、及びその製造方法によって得られる光記録ディスクについて説明する。すなわち、図１は、光記録ディスクの一例の部分断面を示す図であり、光記録ディスク（１） は、基板（２） 上に、色素を主成分とする塗布型の記録層（３） を有し、記録層（３） に密着して反射層（４） を有し、反射層（４） 上に保護膜（５） を有する。
さらに、例えばＤＶＤ規格に準拠するように、このディスクを２枚貼り合わせた構造のものとしても良い。
【００１９】
基板（２） は、記録光および再生光（波長６００〜９００ｎｍ程度）に対し、実質的に透明（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラスから形成される。これにより、基板裏面側からの記録および再生が可能となる。基板材質としては、樹脂を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモルファスポリオレフィン等の各種熱可塑性樹脂が好適である。
【００２０】
基板（２） は、通常のサイズのディスク状であって、記録可能なＣＤとして用いる場合、厚さは１．２ｍｍ程度、直径は８０〜１２０ｍｍ程度とする。このような基板（２） は射出成形等の公知の方法に従い製造すればよい。また、その際、トラッキング用やアドレス用等のために、グルーブ（２１）等の所定のパターンを基板表面に形成することが好ましい。なお、基板（２） 製造後に、２Ｐ法等によりグルーブ等の所定のパターンを有する樹脂層を形成してもよい。
ＤＶＤ規格では、厚さ０．６ｍｍ程度である。
【００２１】
グルーブは、渦巻状の連続型グルーブであることが好ましく、深さは５０〜３００ｎｍ、幅は０．２〜１．１μｍ、ランド（隣り合うグルーブ同士の間の部分）幅は０．３〜１．４μｍであることが好ましい。グルーブをこのような構成とすることにより、グルーブ部の反射レベルを下げることなく、良好なトラッキング信号を得ることができる。なお、グルーブには、アドレス信号用の凹凸を設けることもできる。また、記録光は、グルーブ内の記録層に照射されるよう構成されることが好ましい。
【００２２】
この基板（２） 上に、有機色素を主成分とする記録層（３） を形成する。
信号を記録する場合には、記録層（３） の記録光および再生光波長における消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５であることが好ましい。ｋが０．０３未満となると記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行なうことが困難となる。一方、ｋが０．２５を超えると、反射率が規格を下回ってしまい再生を行なうことが困難となる。なお、ｋが０．０３〜０．２０、特に０．０３〜０．１５であると、きわめて好ましい結果が得られる。
【００２３】
また、記録層（３） の屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、１．８〜４．０であることが好ましく、２．０〜３．０であることがより好ましい。ｎ＜１．８では反射率が低下し、また信号変調度が小さくなり再生が困難となる傾向にある。一方、ｎ＞４．０とするためには、原料色素の入手が難しい。
【００２４】
記録層（３） に用いる光吸収性の有機色素としては、吸収極大が５００〜９００ｎｍ、好ましくは５００〜８００ｎｍであれば、特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等から１種ないし２種以上を目的に応じて適宜選択すればよい。すなわち、記録層（３） は、１種類の色素だけを含有してもよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成であってもよい。
【００２５】
このように本発明においては、種々の色素を用いることができるが、シアニン系色素を用いた場合に本発明の効果が大きい。というのは、シアニン系色素は共役イオン型構造であり、元々フタロシアニン系色素やアゾ系色素に比べ、水分による劣化を受けやすく、本発明によって劣化を大きく抑制することが可能となるからである。
【００２６】
シアニン系色素としては、特に制限はされないが、芳香族縮合環を有してもよいインドレニン環、特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素が好ましい。また、インドレニン環はメチン鎖を介して結合したものであることが好ましい。
【００２７】
また、光吸収色素に一重項酸素クエンチャーを混合して用いることが好ましい。さらに、色素カチオンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合体を光吸収色素として用いることも好ましい。
【００２８】
クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャーも好適である。
【００２９】
結合体を構成する色素としては、インドレニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとしてはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素が好ましい。
【００３０】
なお、クエンチャーは、光吸収色素と別個に添加しても、結合体の形として用いてもよいが、光吸収色素の総計の１モルに対し１モル以下、特に０．０５〜０．８モル程度添加することが好ましい。これにより、耐光性が向上する。
【００３１】
記録層に用いる色素としては、上記のような光吸収性の色素、色素−クエンチャー混合物、色素−クエンチャー結合体から上記範囲のｎおよびｋを有するものを選択すればよいが、新たに分子設計を行ない合成してもよい。
【００３２】
なお、色素の記録光および再生光に対するｋは、その骨格や置換基により０〜２程度まで種々変化しているため、例えばｋが０．０３〜０．２５の色素を選定するに際しては、その骨格や置換基に制限がある。このため、塗布溶剤に制限を生じたり、基板材質によっては塗工できないこともある。あるいは気相成膜できないこともある。また、新たに分子設計を行なう場合、設計および合成に大きな労力を必要とする。
【００３３】
一方、２種以上の色素を含有する混合色素層のｋは、用いる各色素単独から構成される色素層のｋに応じ、その混合比にほぼ対応する値になることが分かっている。従って、本発明では、記録層（３） は２種以上の色素を相溶して形成されてもよい。
【００３４】
この際、ほとんどの色素の混合系で混合比にほぼ比例したｋが得られる。すなわち、ｉ種の色素の混合分率およびｋをそれぞれＣｉおよびｋｉとしたとき、ｋは、ほぼΣＣｉｋｉとなる。従って、ｋの異なる色素同士を、混合比を制御して混合することにより、ｋ＝０．０３〜０．２５の色素層を得ることができる。このため、きわめて広い範囲の色素群の中から用いる色素を選択することができる。
【００３５】
このことは、波長依存性の改善にも適用できる。半導体レーザーの波長は通常±１０ｎｍの範囲にあり、市販のＣＤプレーヤにおいては、７７０ｎｍから７９０ｎｍの範囲で７０％以上の反射率を確保する必要がある。一般に色素のｋ値は大きな波長依存性をもつものが多く、７８０ｎｍでは適切な値であっても、７７０ｎｍあるいは７９０ｎｍでは大きくはずれてしまう場合が多い。このような場合には、第二の色素を混合することによって、７８０±１０ｎｍの範囲で常に適切なｎおよびｋ値が得られるように設定することができる。
【００３６】
この結果、塗布溶剤等の制約などの制限が緩和され、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特性の良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能とすることができる。
【００３７】
記録層（３） を混合色素層とする場合、用いる色素は、ｎ＝１．６〜６．５、ｋ＝０〜２の範囲内のものから選択すればよい。
なお、ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明基板上に記録層を例えば４０〜１００ｎｍ程度の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製する。次いで、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは記録層側からの反射率を測定する。反射率は、記録再生光波長を用いて鏡面反射（５°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すればよい。
【００３８】
記録層（３） の形成はスピンコート法により行うことができる。すなわち、色素および有機溶剤を含有する塗布液を、回転する基板（２） 上に展開塗布して形成することができる。
記録層形成のための上記塗布液に用いる有機溶剤としては、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から、用いる色素に応じて適宜選択すればよいが、一分子中に２つ以上の官能基を有する有機溶剤が好適である。
スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥させる。
このようにして形成される記録層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるものであるが、通常、１００〜３００ｎｍ程度である。
【００３９】
記録層（３） 上に直接密着して、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて反射層（４） を形成する。
反射層にＡｕを用いると、前述した色素膜と反射膜との界面に局部電池が形成されにくいので、色素膜劣化の度合いは元々抑えられやすいが、高価である。従って、本発明においては、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属を用いて反射層を形成し、且つ色素膜劣化を抑えることが好ましい。Ｃｕ及びＡｇのうち、反射率が高いこと、耐食性が良好であることから、Ａｇがより好ましい。
【００４０】
また、本発明においては、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属の少なくとも１種を含む合金を用いて反射層を形成することもできる。
Ａｇ系合金としては、Ａｇに加え、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ等から選ばれる１種以上の元素を含むものが好ましいが、高反射率を得るためにはＡｇの含有率を４０原子％以上とすることが好ましい。
【００４１】
反射層（４） の形成は、スパッタ、蒸着等の各種気相成膜法により行うことができる。
また、反射層（４） の厚さは、２０ｎｍ以上であることが好ましい。厚さが小さくなると反射率が不十分となる傾向にある。反射層をこのような構成とすることにより、光記録ディスクとしたときの基板を通しての反射率（未記録部）は、６０％以上、特に７０％以上が得られる。
【００４２】
反射層（４） 上に、有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を用いて保護層（５） を形成する。
紫外線硬化性材料の種類には、特に制限はないが、前記材料中の有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下であることが重要である。ここで、有機酸とは、酸性の官能基を有する有機化合物であり、例えば、カルボン酸ＲＣＯＯＨ、スルホン酸ＲＳＯ３ Ｈ、スルフィン酸ＲＳＯ２ Ｈ、フェノールＡｒＯＨ、エノールＲＣＨ＝ＣＲ’（ＯＨ）、チオールＲＳＨ等である。
【００４３】
これら有機酸の紫外線硬化性材料中における総量が、２００重量ｐｐｍ以下であることが重要であり、１８０重量ｐｐｍ以下であることが好ましい。この量が２００重量ｐｐｍを超えると、紫外線硬化性材料を硬化させて形成された保護層中の有機酸量が多すぎ、色素膜と反射膜との界面に局部電池が形成されやすくなり、光ディスクの高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中に、色素膜の劣化が起こりやすくなる。
【００４４】
紫外線硬化性材料としては、紫外線硬化性化合物やその重合用組成物から構成されることが好ましい。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ましく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。
【００４５】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０００〜１００００のものが好適である。これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ） アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ） アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ） アクリレート等が挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が挙げられる。
【００４６】
また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて熱可塑性樹脂を紫外線感応変性することによって得られる紫外線硬化性化合物を用いてもよい。このような紫外線硬化性樹脂の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。紫外線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。
【００４７】
重合用組成物は紫外線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とすればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。
【００４８】
また、紫外線硬化性材料としては、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用される。
エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に１００〜２００であることが好ましい。
【００４９】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【００５０】
また、有機金属化合物と光分解性を有する有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用いることができる。このような光カチオン重合触媒は非強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコキシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシアルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリストリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセトアセトナトアルミニウムが好ましい。
【００５１】
光分解性を有する有機けい素化合物は、紫外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケトシリル基等を有するけい素化合物が好ましい。
【００５２】
組成物中の光カチオン重合触媒の含有量は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ましい。
【００５３】
保護層（５） の形成は、このような紫外線硬化性材料を反射層（４） 上に積層した後、これを硬化させることにより行うことができる。
反射層（４） 上への紫外線硬化性材料の積層は、反射層の損傷を避けるためにスピンコート法により行うことが好ましいが、スクリーン印刷法、ディッピング法またはスプレーコート法等により行っても良い。紫外線硬化性材料の積層条件は特に限定されず、塗布液の粘度や目的とする厚さなどに応じて適宜決定すればよい。
【００５４】
次に、紫外線硬化性材料の塗膜に、紫外線を照射して硬化させる。あるいは、場合によっては、紫外線硬化性材料を加熱後に、紫外線を照射しても良い。また、紫外線の代わりに電子線等を照射しても良い。塗膜に照射する紫外線照射量は、５００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２ 程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常のものを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化合物はラジカル重合し、硬化する。
【００５５】
保護層（５） の厚さは、１〜２０μｍ程度とすることが好ましい。厚さが小さくなると反射層や記録層の防食効果が不十分となる傾向にある。一方、厚さが大きくなると、硬化の際の収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生しやすくなってくる。
さらに、この保護膜（５） 上に、レーベル印刷層を設けてもよい。
【００５６】
本発明の光記録媒体の製造方法によれば、記録層を有機色素を用いて形成し、反射層を高反射率のＣｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて形成し、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を積層した後、これを硬化させて形成するので、形成された保護層中の有機酸量が十分小さく、色素膜と反射膜との界面における局部電池の形成を抑制できる。そのため、得られた光ディスクは、高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中にも、色素膜を安定に維持でき、信頼性が高い。
【００５７】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
実施例及び比較例では、紫外線硬化性材料として以下のものを使用した。
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−３１８
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−２１１
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−１７
・日本化薬製 ＭＤ−３４１
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−２２００
【００５８】
それぞれの紫外線硬化性材料の有機酸含有量を、以下の方法で定量した。
紫外線硬化性材料２ｇ／純水２０ｍｌを１時間、シェーカー（４００回／分）にかけ、その後２時間静置し、材料層と水層とを遠心分離し、水層のイオンクロマトグラフィー分析を行った。
【００５９】
【００６０】
（イオンクロマトグラフィー分析結果）
ＳＤ−３１８ ：有機酸含有量 １７１重量ｐｐｍ
ＳＤ−２１１ ：有機酸含有量 ２６１重量ｐｐｍ
ＳＤ−１７ ：有機酸含有量 ２９０重量ｐｐｍ
ＭＤ−３４１ ：有機酸含有量 １８９重量ｐｐｍ
ＳＤ−２２００：有機酸含有量 ２２０重量ｐｐｍ
【００６１】
［実施例１−１］
図１に示した構成の追記型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）を作成した。
まず、渦巻状の連続グルーブ（２１）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板（２） 上に、色素を含有する厚さ２００ｎｍの記録層（３） を形成した。
記録層（３） 形成には、下記のシアニン系色素Ｃ１（８０重量％）及び一重項酸素クエンチャーＱ（２０重量％）の混合物５重量部を、ジアセトンアルコール９５重量部に溶解した塗布液をスピンコートで塗布した。
【００６２】
【化１】
【００６３】
次に、記録層（３） 上に、銀反射層（４） をスパッタ法により形成した。反射層の厚さは８０ｎｍとした。
次に、反射層（４） 上に、紫外線硬化性材料：ＳＤ−３１８を平均１０μｍの厚さになるようにスピンコートで塗布し、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２ 照射して硬化させて、保護層（５） を形成した。
このようにして、追記型コンパクトディスクサンプルを得た。
【００６４】
［実施例１−２］
実施例１−１において、反射層を金−銀合金（金：銀＝３０：７０（重量比））に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例１−３］
実施例１−１において、反射層を銅に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例１−４］
実施例１−１において、色素として、下記のシアニン系色素Ｃ２（４０重量％）、シアニン系色素Ｃ３（４０重量％）及び前記一重項酸素クエンチャーＱ（２０重量％）の混合物を用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００６５】
【化２】
【００６６】
［実施例１−５］―参考例
実施例１−１において、色素塗布液として、下記のアゾ系色素Ａの３重量部を、メチルセルソルブ９７重量部に溶解したものを用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００６７】
【化３】
【００６８】
［実施例１−６］―参考例
実施例１−１において、色素塗布液として、下記のフタロシアニン系色素Ｐの３重量部を、メチルセルソルブ９７重量部に溶解したものを用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００６９】
【化４】
【００７０】
［実施例１−７］
実施例１−１において、反射層を金に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例１−１］
実施例１−１において、反射層をアルミニウムに変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例１−２］
実施例１−１において、反射層をチタン化アルミニウムに変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７１】
［実施例２−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−３］
実施例１−４において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−４］―参考例
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−５］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７２】
［比較例２−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−３］
実施例１−３において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−４］
実施例１−４において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−５］
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−６］
実施例１−６において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−７］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−８］
比較例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７３】
［比較例３−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例３−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例３−３］
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例３−４］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７４】
［比較例４−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例４−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例４−３］
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例４−４］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７５】
以上のようにして得られた各ディスクサンプルについて、
（１） ８０℃、８０％ＲＨ、５００ｈｒ（時間）
（２） 亜硫酸ガス雰囲気（５ｐｐｍ）、４０℃、８０％ＲＨ、１００ｈｒ
の２条件の加速試験を行い、試験前後でブロックエラーレート（ＢＬＥＲ）の測定を行った。
【００７６】
ＢＬＥＲの測定は、ＣＤ−Ｒ記録機：９２０Ｓ（ソニー製）で記録を行い、ＣＤ測定機：ＣＤ−ＣＡＴＳ（Ａｕｄｉｏ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ 製）を用いて行い、内周部分につき１０分間測定を行い、１秒あたりの平均個数（Ｃｏｕｎｔ／Ｓｅｃ）を求めた。この測定結果を表１に示す。なお、ＣＤ−Ｒの規格であるオレンジブックでは、ＢＬＥＲが２２０Ｃｏｕｎｔ／Ｓｅｃ以下であることを要求している。
【００７７】
【表１】
【００７８】
表１より、実施例のディスクサンプルでは、加速試験後も実用上十分な性能を有していることが明らかである。実施例１−１、１−２、１−４、１−５及び１−７では、対応する実施例２−１、２−２、２−３、２−４及び２−５に比べ紫外線硬化性材料の有機酸含有量が少ないために、それぞれより良好な結果が得られている。
【００７９】
一方、比較例２−１〜２−６、比較例３−１〜３−３、比較例４−１〜４−３のディスクサンプルでは、加速試験後のＢＬＥＲが悪化している。
【００８０】
また、反射層に金を用いたディスクサンプルでは、加速試験後のＢＬＥＲの悪化度合いは、銀、銅などを用いた場合に比べ概して小さい。これは、反射層に金を用いた場合には、色素膜と反射膜との界面において局部電池が形成されにくいためと考えられる。この点から、本発明は、反射層に銀、銅などを用いた場合に特に有効である。
【００８１】
また、アゾ系色素やフタロシアニン系色素を用いたディスクサンプル（実施例１−５、１−６及び２−４、比較例２−５、２−６、３−３及び４−３）では、加速試験後のＢＬＥＲの悪化度合いは、シアニン系色素を用いたディスクサンプルに比べ概して小さい。これは、アゾ系色素やフタロシアニン系色素は、共役イオン型でメチン鎖を有する構造のシアニン系色素に比べ、高温高湿での劣化が小さいためである。この点から、本発明は、記録層にシアニン系色素を用いた場合に特に有効である。
なお、比較例１−１、１−２及び２−８では、反射層の反射率が低いために、ＢＬＥＲの測定が不能であった。
【００８２】
【発明の効果】
本発明の光記録媒体の製造方法によれば、上述のように、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を硬化させて形成するので、形成された保護層中の有機酸量が十分小さく、色素膜劣化を抑制することができる。その結果、得られた本発明の光記録媒体は、高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中にも、色素膜を安定に維持でき、信頼性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光記録ディスクの一例の部分断面を示す図である。
【符号の説明】
（１） ：光記録ディスク
（２） ：基板
（２１）：グルーブ
（３） ：記録層
（４） ：反射層
（５） ：保護層
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体の製造方法及び光記録媒体に関し、より詳しくは、有機色素を主成分とする記録層を有する光記録媒体の製造方法及び光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量情報担持媒体として、追記型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目されている。色素を主成分とする記録層を有する光記録ディスクは、記録層が塗布により形成できるため低コストで製造することが可能である。
【０００３】
色素を主成分とする記録層を有する光記録ディスクとしては、従来、記録層上に空気層が設けられたいわゆるエアーサンドイッチ構造のものが用いられていたが、最近では、記録層表面に反射層を密着して設けることにより、コンパクトディスク（ＣＤ）規格に対応した再生が可能な光記録ディスクが開発されている。すなわち、この光記録ディスクは、ポリカーボネート等の透明基板上に、色素を主成分とする記録層、反射層及び保護膜がこの順に積層され、反射層が記録層に密着して設けられ、ＣＤ規格のディスク全厚１．２ｍｍの構成が可能となっているものである。
さらに、高密度に対応したＤＶＤ規格に準拠した同様の光記録ディスクも提案されている。
【０００４】
ところが、このような層構成の光記録ディスクにおいては、基板として使用されるポリカーボネートの透湿性が高いため、高湿度雰囲気では色素膜に水分が進入し、水分の存在下で色素の劣化が進むという問題がある。
【０００５】
従来、記録層としての色素膜（あるいは非晶質合金薄膜）への水分の進入を防ぐ技術が提案されている。例えば、特開昭５８−６２８４１号公報には、基板面にハードコート層を設ける技術が記載され、特開昭５９−１９８５４５号公報には、基板と合金記録層との間に有機チタニウムの中間層を設ける技術が記載されている。また、特開平４−１０２２４１号公報には、基板と色素層との間に複素環式化合物からなる中間層を設ける技術が記載され、特開平４−１３１２８０号公報には、色素層に複素環式化合物を存在させ、反射層を２層構成とする技術が記載されている。しかしながら、これら公報に記載の技術はいずれも、色素層（あるいは非晶質合金薄膜）を保護するための層を追加するものであり、光記録ディスクの製造工程数の増加を伴い、製品のコストアップにつながるものである。
【０００６】
また、特開平６−２３１４８８号公報には、反射層の保護層側の面をトリアジンチオール系化合物で処理して、反射層の腐食進行を抑えることが記載されている。しかしながら、この公報に記載の技術も、光記録ディスクの製造工程数の増加を伴い、製品のコストアップにつながるものである。
【０００７】
さらに、金属膜自体の腐食を抑えるために、保護層の紫外線硬化樹脂について検討が行われている。例えば、特開平１−１９９３３９号公報では、紫外線硬化性樹脂中の酸価が規定され、特開平５−３６１３３号公報では、硬化後の樹脂中の有機酸成分量が規定され、特開平７−１９２３１５号公報では、紫外線硬化樹脂層のアクリル酸イオン濃度が規定されている。しかしながら、これら公報記載の技術はいずれも、金属膜自体の腐食を抑えることが目的であり、色素膜の腐食に関して触れられたものはない。
【０００８】
特に特開平７−１９２３１５号公報では、基板上に形成された金属薄膜上に、アクリル酸イオン濃度が８００ｐｐｍ以下である紫外線硬化性樹脂層を積層した後に、該紫外線硬化性樹脂を硬化させることが開示され、上記金属薄膜として反射率の低いＡｌまたはＡｌ合金を使用し、アクリル酸イオン濃度を８００ｐｐｍ以下とすることにより、反射膜の部分的な酸化劣化がなくなることについて言及されている。しかし、反射層にＡｌまたはＡｌ合金を使用したのでは、反射率が低いために、所望の性能を有する光記録ディスクが得られない。
【０００９】
このように、反射層に反射率の高い金属あるいは合金が用いられ、記録層に有機色素が用いられた場合に、この有機色素の劣化を簡便に防止し得る技術は未だ知られていない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、有機色素を主成分とする記録層と、反射率の高い金属あるいは合金からなる反射層とを有する光記録媒体であって、有機色素の劣化が防止され、耐久性が向上し且つ信頼性の高い光記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、有機色素を主成分とする記録層と、反射率の高い金属あるいは合金からなる反射層とを有する光記録媒体において、反射層上に積層された紫外線硬化膜中に含まれる有機酸が、色素膜劣化の初期段階を誘発することを突き止めた。
【００１２】
紫外線硬化膜は色素膜と直接は接していないが、反射膜を挟んで、紫外線硬化膜中の有機酸を起因として、色素膜と反射膜の界面で局部電池を形成するため、色素膜劣化が誘発されるものと考えられる。
【００１３】
本発明者らは反射層上に積層し硬化させるべき紫外線硬化性材料について検討し、一定量以下の有機酸含有量の紫外線硬化性材料を用いれば、色素膜劣化を抑えることが可能であることを見出し、本発明に到達した。
【００１４】
すなわち、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に、記録層と反射層とをこの順で形成し、反射層上に紫外線硬化性材料を積層した後、これを硬化させ保護層を形成する光記録媒体の製造方法において、記録層を有機色素としてシアニン系色素を用いて形成し、反射層をＣｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて形成し、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を用いて形成することを特徴とする。
【００１５】
本発明の製造方法において、記録層の有機色素として、シアニン系色素を用いる。また、反射層の金属又は合金として、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いる。
【００１６】
本発明の光記録媒体は、上記製造方法によって得られるものであって、基板上に、記録層と反射層とをこの順で有し、反射層上に、紫外線硬化性材料の硬化物からなる保護層を有する光記録媒体において、記録層はシアニン系色素を主成分とし、反射層はＣｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金からなり、保護層は、有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を硬化させることにより形成されたものであることを特徴とする。
【００１７】
本発明の光記録媒体において、記録層の有機色素として、シアニン系色素が用いられている。また、反射層の金属又は合金は、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金である。
以下、本発明について図面を参照しながら詳しく説明する。
【００１８】
光記録媒体として、図１に示すような層構成の光記録ディスクの製造方法、及びその製造方法によって得られる光記録ディスクについて説明する。すなわち、図１は、光記録ディスクの一例の部分断面を示す図であり、光記録ディスク（１） は、基板（２） 上に、色素を主成分とする塗布型の記録層（３） を有し、記録層（３） に密着して反射層（４） を有し、反射層（４） 上に保護膜（５） を有する。
さらに、例えばＤＶＤ規格に準拠するように、このディスクを２枚貼り合わせた構造のものとしても良い。
【００１９】
基板（２） は、記録光および再生光（波長６００〜９００ｎｍ程度）に対し、実質的に透明（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラスから形成される。これにより、基板裏面側からの記録および再生が可能となる。基板材質としては、樹脂を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモルファスポリオレフィン等の各種熱可塑性樹脂が好適である。
【００２０】
基板（２） は、通常のサイズのディスク状であって、記録可能なＣＤとして用いる場合、厚さは１．２ｍｍ程度、直径は８０〜１２０ｍｍ程度とする。このような基板（２） は射出成形等の公知の方法に従い製造すればよい。また、その際、トラッキング用やアドレス用等のために、グルーブ（２１）等の所定のパターンを基板表面に形成することが好ましい。なお、基板（２） 製造後に、２Ｐ法等によりグルーブ等の所定のパターンを有する樹脂層を形成してもよい。
ＤＶＤ規格では、厚さ０．６ｍｍ程度である。
【００２１】
グルーブは、渦巻状の連続型グルーブであることが好ましく、深さは５０〜３００ｎｍ、幅は０．２〜１．１μｍ、ランド（隣り合うグルーブ同士の間の部分）幅は０．３〜１．４μｍであることが好ましい。グルーブをこのような構成とすることにより、グルーブ部の反射レベルを下げることなく、良好なトラッキング信号を得ることができる。なお、グルーブには、アドレス信号用の凹凸を設けることもできる。また、記録光は、グルーブ内の記録層に照射されるよう構成されることが好ましい。
【００２２】
この基板（２） 上に、有機色素を主成分とする記録層（３） を形成する。
信号を記録する場合には、記録層（３） の記録光および再生光波長における消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５であることが好ましい。ｋが０．０３未満となると記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行なうことが困難となる。一方、ｋが０．２５を超えると、反射率が規格を下回ってしまい再生を行なうことが困難となる。なお、ｋが０．０３〜０．２０、特に０．０３〜０．１５であると、きわめて好ましい結果が得られる。
【００２３】
また、記録層（３） の屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、１．８〜４．０であることが好ましく、２．０〜３．０であることがより好ましい。ｎ＜１．８では反射率が低下し、また信号変調度が小さくなり再生が困難となる傾向にある。一方、ｎ＞４．０とするためには、原料色素の入手が難しい。
【００２４】
記録層（３） に用いる光吸収性の有機色素としては、吸収極大が５００〜９００ｎｍ、好ましくは５００〜８００ｎｍであれば、特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等から１種ないし２種以上を目的に応じて適宜選択すればよい。すなわち、記録層（３） は、１種類の色素だけを含有してもよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成であってもよい。
【００２５】
このように本発明においては、種々の色素を用いることができるが、シアニン系色素を用いた場合に本発明の効果が大きい。というのは、シアニン系色素は共役イオン型構造であり、元々フタロシアニン系色素やアゾ系色素に比べ、水分による劣化を受けやすく、本発明によって劣化を大きく抑制することが可能となるからである。
【００２６】
シアニン系色素としては、特に制限はされないが、芳香族縮合環を有してもよいインドレニン環、特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素が好ましい。また、インドレニン環はメチン鎖を介して結合したものであることが好ましい。
【００２７】
また、光吸収色素に一重項酸素クエンチャーを混合して用いることが好ましい。さらに、色素カチオンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合体を光吸収色素として用いることも好ましい。
【００２８】
クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャーも好適である。
【００２９】
結合体を構成する色素としては、インドレニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとしてはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素が好ましい。
【００３０】
なお、クエンチャーは、光吸収色素と別個に添加しても、結合体の形として用いてもよいが、光吸収色素の総計の１モルに対し１モル以下、特に０．０５〜０．８モル程度添加することが好ましい。これにより、耐光性が向上する。
【００３１】
記録層に用いる色素としては、上記のような光吸収性の色素、色素−クエンチャー混合物、色素−クエンチャー結合体から上記範囲のｎおよびｋを有するものを選択すればよいが、新たに分子設計を行ない合成してもよい。
【００３２】
なお、色素の記録光および再生光に対するｋは、その骨格や置換基により０〜２程度まで種々変化しているため、例えばｋが０．０３〜０．２５の色素を選定するに際しては、その骨格や置換基に制限がある。このため、塗布溶剤に制限を生じたり、基板材質によっては塗工できないこともある。あるいは気相成膜できないこともある。また、新たに分子設計を行なう場合、設計および合成に大きな労力を必要とする。
【００３３】
一方、２種以上の色素を含有する混合色素層のｋは、用いる各色素単独から構成される色素層のｋに応じ、その混合比にほぼ対応する値になることが分かっている。従って、本発明では、記録層（３） は２種以上の色素を相溶して形成されてもよい。
【００３４】
この際、ほとんどの色素の混合系で混合比にほぼ比例したｋが得られる。すなわち、ｉ種の色素の混合分率およびｋをそれぞれＣｉおよびｋｉとしたとき、ｋは、ほぼΣＣｉｋｉとなる。従って、ｋの異なる色素同士を、混合比を制御して混合することにより、ｋ＝０．０３〜０．２５の色素層を得ることができる。このため、きわめて広い範囲の色素群の中から用いる色素を選択することができる。
【００３５】
このことは、波長依存性の改善にも適用できる。半導体レーザーの波長は通常±１０ｎｍの範囲にあり、市販のＣＤプレーヤにおいては、７７０ｎｍから７９０ｎｍの範囲で７０％以上の反射率を確保する必要がある。一般に色素のｋ値は大きな波長依存性をもつものが多く、７８０ｎｍでは適切な値であっても、７７０ｎｍあるいは７９０ｎｍでは大きくはずれてしまう場合が多い。このような場合には、第二の色素を混合することによって、７８０±１０ｎｍの範囲で常に適切なｎおよびｋ値が得られるように設定することができる。
【００３６】
この結果、塗布溶剤等の制約などの制限が緩和され、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特性の良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能とすることができる。
【００３７】
記録層（３） を混合色素層とする場合、用いる色素は、ｎ＝１．６〜６．５、ｋ＝０〜２の範囲内のものから選択すればよい。
なお、ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明基板上に記録層を例えば４０〜１００ｎｍ程度の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製する。次いで、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは記録層側からの反射率を測定する。反射率は、記録再生光波長を用いて鏡面反射（５°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すればよい。
【００３８】
記録層（３） の形成はスピンコート法により行うことができる。すなわち、色素および有機溶剤を含有する塗布液を、回転する基板（２） 上に展開塗布して形成することができる。
記録層形成のための上記塗布液に用いる有機溶剤としては、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から、用いる色素に応じて適宜選択すればよいが、一分子中に２つ以上の官能基を有する有機溶剤が好適である。
スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥させる。
このようにして形成される記録層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるものであるが、通常、１００〜３００ｎｍ程度である。
【００３９】
記録層（３） 上に直接密着して、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて反射層（４） を形成する。
反射層にＡｕを用いると、前述した色素膜と反射膜との界面に局部電池が形成されにくいので、色素膜劣化の度合いは元々抑えられやすいが、高価である。従って、本発明においては、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属を用いて反射層を形成し、且つ色素膜劣化を抑えることが好ましい。Ｃｕ及びＡｇのうち、反射率が高いこと、耐食性が良好であることから、Ａｇがより好ましい。
【００４０】
また、本発明においては、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属の少なくとも１種を含む合金を用いて反射層を形成することもできる。
Ａｇ系合金としては、Ａｇに加え、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ等から選ばれる１種以上の元素を含むものが好ましいが、高反射率を得るためにはＡｇの含有率を４０原子％以上とすることが好ましい。
【００４１】
反射層（４） の形成は、スパッタ、蒸着等の各種気相成膜法により行うことができる。
また、反射層（４） の厚さは、２０ｎｍ以上であることが好ましい。厚さが小さくなると反射率が不十分となる傾向にある。反射層をこのような構成とすることにより、光記録ディスクとしたときの基板を通しての反射率（未記録部）は、６０％以上、特に７０％以上が得られる。
【００４２】
反射層（４） 上に、有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を用いて保護層（５） を形成する。
紫外線硬化性材料の種類には、特に制限はないが、前記材料中の有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下であることが重要である。ここで、有機酸とは、酸性の官能基を有する有機化合物であり、例えば、カルボン酸ＲＣＯＯＨ、スルホン酸ＲＳＯ３ Ｈ、スルフィン酸ＲＳＯ２ Ｈ、フェノールＡｒＯＨ、エノールＲＣＨ＝ＣＲ’（ＯＨ）、チオールＲＳＨ等である。
【００４３】
これら有機酸の紫外線硬化性材料中における総量が、２００重量ｐｐｍ以下であることが重要であり、１８０重量ｐｐｍ以下であることが好ましい。この量が２００重量ｐｐｍを超えると、紫外線硬化性材料を硬化させて形成された保護層中の有機酸量が多すぎ、色素膜と反射膜との界面に局部電池が形成されやすくなり、光ディスクの高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中に、色素膜の劣化が起こりやすくなる。
【００４４】
紫外線硬化性材料としては、紫外線硬化性化合物やその重合用組成物から構成されることが好ましい。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ましく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。
【００４５】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０００〜１００００のものが好適である。これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ） アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ） アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ） アクリレート等が挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が挙げられる。
【００４６】
また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて熱可塑性樹脂を紫外線感応変性することによって得られる紫外線硬化性化合物を用いてもよい。このような紫外線硬化性樹脂の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。紫外線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。
【００４７】
重合用組成物は紫外線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とすればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。
【００４８】
また、紫外線硬化性材料としては、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用される。
エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に１００〜２００であることが好ましい。
【００４９】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【００５０】
また、有機金属化合物と光分解性を有する有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用いることができる。このような光カチオン重合触媒は非強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコキシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシアルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリストリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセトアセトナトアルミニウムが好ましい。
【００５１】
光分解性を有する有機けい素化合物は、紫外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケトシリル基等を有するけい素化合物が好ましい。
【００５２】
組成物中の光カチオン重合触媒の含有量は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ましい。
【００５３】
保護層（５） の形成は、このような紫外線硬化性材料を反射層（４） 上に積層した後、これを硬化させることにより行うことができる。
反射層（４） 上への紫外線硬化性材料の積層は、反射層の損傷を避けるためにスピンコート法により行うことが好ましいが、スクリーン印刷法、ディッピング法またはスプレーコート法等により行っても良い。紫外線硬化性材料の積層条件は特に限定されず、塗布液の粘度や目的とする厚さなどに応じて適宜決定すればよい。
【００５４】
次に、紫外線硬化性材料の塗膜に、紫外線を照射して硬化させる。あるいは、場合によっては、紫外線硬化性材料を加熱後に、紫外線を照射しても良い。また、紫外線の代わりに電子線等を照射しても良い。塗膜に照射する紫外線照射量は、５００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２ 程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常のものを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化合物はラジカル重合し、硬化する。
【００５５】
保護層（５） の厚さは、１〜２０μｍ程度とすることが好ましい。厚さが小さくなると反射層や記録層の防食効果が不十分となる傾向にある。一方、厚さが大きくなると、硬化の際の収縮によりクラックが生じたり、ディスクに反りが発生しやすくなってくる。
さらに、この保護膜（５） 上に、レーベル印刷層を設けてもよい。
【００５６】
本発明の光記録媒体の製造方法によれば、記録層を有機色素を用いて形成し、反射層を高反射率のＣｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて形成し、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を積層した後、これを硬化させて形成するので、形成された保護層中の有機酸量が十分小さく、色素膜と反射膜との界面における局部電池の形成を抑制できる。そのため、得られた光ディスクは、高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中にも、色素膜を安定に維持でき、信頼性が高い。
【００５７】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
実施例及び比較例では、紫外線硬化性材料として以下のものを使用した。
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−３１８
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−２１１
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−１７
・日本化薬製 ＭＤ−３４１
・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−２２００
【００５８】
それぞれの紫外線硬化性材料の有機酸含有量を、以下の方法で定量した。
紫外線硬化性材料２ｇ／純水２０ｍｌを１時間、シェーカー（４００回／分）にかけ、その後２時間静置し、材料層と水層とを遠心分離し、水層のイオンクロマトグラフィー分析を行った。
【００５９】
（イオンクロマトグラフィー分析結果）
ＳＤ−３１８ ：有機酸含有量 １７１重量ｐｐｍ
ＳＤ−２１１ ：有機酸含有量 ２６１重量ｐｐｍ
ＳＤ−１７ ：有機酸含有量 ２９０重量ｐｐｍ
ＭＤ−３４１ ：有機酸含有量 １８９重量ｐｐｍ
ＳＤ−２２００：有機酸含有量 ２２０重量ｐｐｍ
【００６１】
［実施例１−１］
図１に示した構成の追記型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）を作成した。
まず、渦巻状の連続グルーブ（２１）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板（２） 上に、色素を含有する厚さ２００ｎｍの記録層（３） を形成した。
記録層（３） 形成には、下記のシアニン系色素Ｃ１（８０重量％）及び一重項酸素クエンチャーＱ（２０重量％）の混合物５重量部を、ジアセトンアルコール９５重量部に溶解した塗布液をスピンコートで塗布した。
【００６２】
【化１】
次に、記録層（３） 上に、銀反射層（４） をスパッタ法により形成した。反射層の厚さは８０ｎｍとした。
次に、反射層（４） 上に、紫外線硬化性材料：ＳＤ−３１８を平均１０μｍの厚さになるようにスピンコートで塗布し、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２ 照射して硬化させて、保護層（５） を形成した。
このようにして、追記型コンパクトディスクサンプルを得た。
【００６４】
［実施例１−２］
実施例１−１において、反射層を金−銀合金（金：銀＝３０：７０（重量比））に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例１−３］
実施例１−１において、反射層を銅に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例１−４］
実施例１−１において、色素として、下記のシアニン系色素Ｃ２（４０重量％）、シアニン系色素Ｃ３（４０重量％）及び前記一重項酸素クエンチャーＱ（２０重量％）の混合物を用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００６５】
【化２】
［実施例１−５］―参考例
実施例１−１において、色素塗布液として、下記のアゾ系色素Ａの３重量部を、メチルセルソルブ９７重量部に溶解したものを用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００６７】
【化３】
［実施例１−６］―参考例
実施例１−１において、色素塗布液として、下記のフタロシアニン系色素Ｐの３重量部を、メチルセルソルブ９７重量部に溶解したものを用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００６９】
【化４】
［実施例１−７］
実施例１−１において、反射層を金に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例１−１］
実施例１−１において、反射層をアルミニウムに変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例１−２］
実施例１−１において、反射層をチタン化アルミニウムに変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７１】
［実施例２−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−３］
実施例１−４において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−４］―参考例
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［実施例２−５］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７２】
［比較例２−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−３］
実施例１−３において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−４］
実施例１−４において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−５］
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−６］
実施例１−６において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−７］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例２−８］
比較例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７３】
［比較例３−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例３−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例３−３］
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例３−４］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＳＤ−２２１に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７４】
［比較例４−１］
実施例１−１において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例４−２］
実施例１−２において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例４−３］
実施例１−５において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
［比較例４−４］
実施例１−７において、紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７５】
以上のようにして得られた各ディスクサンプルについて、
（１） ８０℃、８０％ＲＨ、５００ｈｒ（時間）
（２） 亜硫酸ガス雰囲気（５ｐｐｍ）、４０℃、８０％ＲＨ、１００ｈｒ
の２条件の加速試験を行い、試験前後でブロックエラーレート（ＢＬＥＲ）の測定を行った。
【００７６】
ＢＬＥＲの測定は、ＣＤ−Ｒ記録機：９２０Ｓ（ソニー製）で記録を行い、ＣＤ測定機：ＣＤ−ＣＡＴＳ（Ａｕｄｉｏ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ 製）を用いて行い、内周部分につき１０分間測定を行い、１秒あたりの平均個数（Ｃｏｕｎｔ／Ｓｅｃ）を求めた。この測定結果を表１に示す。なお、ＣＤ−Ｒの規格であるオレンジブックでは、ＢＬＥＲが２２０Ｃｏｕｎｔ／Ｓｅｃ以下であることを要求している。
【００７７】
【表１】
表１より、実施例のディスクサンプルでは、加速試験後も実用上十分な性能を有していることが明らかである。実施例１−１、１−２、１−４、１−５及び１−７では、対応する実施例２−１、２−２、２−３、２−４及び２−５に比べ紫外線硬化性材料の有機酸含有量が少ないために、それぞれより良好な結果が得られている。
【００７９】
一方、比較例２−１〜２−６、比較例３−１〜３−３、比較例４−１〜４−３のディスクサンプルでは、加速試験後のＢＬＥＲが悪化している。
【００８０】
また、反射層に金を用いたディスクサンプルでは、加速試験後のＢＬＥＲの悪化度合いは、銀、銅などを用いた場合に比べ概して小さい。これは、反射層に金を用いた場合には、色素膜と反射膜との界面において局部電池が形成されにくいためと考えられる。この点から、本発明は、反射層に銀、銅などを用いた場合に特に有効である。
【００８１】
また、アゾ系色素やフタロシアニン系色素を用いたディスクサンプル（実施例１−５、１−６及び２−４、比較例２−５、２−６、３−３及び４−３）では、加速試験後のＢＬＥＲの悪化度合いは、シアニン系色素を用いたディスクサンプルに比べ概して小さい。これは、アゾ系色素やフタロシアニン系色素は、共役イオン型でメチン鎖を有する構造のシアニン系色素に比べ、高温高湿での劣化が小さいためである。この点から、本発明は、記録層にシアニン系色素を用いた場合に特に有効である。
なお、比較例１−１、１−２及び２−８では、反射層の反射率が低いために、ＢＬＥＲの測定が不能であった。
【００８２】
【発明の効果】
本発明の光記録媒体の製造方法によれば、上述のように、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を硬化させて形成するので、形成された保護層中の有機酸量が十分小さく、色素膜劣化を抑制することができる。その結果、得られた本発明の光記録媒体は、高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中にも、色素膜を安定に維持でき、信頼性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光記録ディスクの一例の部分断面を示す図である。
【符号の説明】
（１） ：光記録ディスク
（２） ：基板
（２１）：グルーブ
（３） ：記録層
（４） ：反射層
（５） ：保護層
Claims (4)
- 基板上に、記録層と反射層とをこの順で形成し、反射層上に紫外線硬化性材料を積層した後、これを硬化させ保護層を形成する光記録媒体の製造方法において、記録層を有機色素としてシアニン系色素を用いて形成し、反射層をＣｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用いて形成し、保護層を有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を用いて形成することを特徴とする、光記録媒体の製造方法。
- 記録層を、シアニン系色素の他に、さらに一重項酸素クエンチャーを用いて形成する、請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
- 基板上に、記録層と反射層とをこの順で有し、反射層上に、紫外線硬化性材料の硬化物からなる保護層を有する光記録媒体において、記録層はシアニン系色素を主成分とし、反射層はＣｕ及びＡｇから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金からなり、保護層は、有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を硬化させることにより形成されたものであることを特徴とする、光記録媒体。
- 記録層はさらに一重項酸素クエンチャーを含んでいる、請求項３に記載の光記録媒体。
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