JP2558487B2 - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JP2558487B2 JP2558487B2 JP63021914A JP2191488A JP2558487B2 JP 2558487 B2 JP2558487 B2 JP 2558487B2 JP 63021914 A JP63021914 A JP 63021914A JP 2191488 A JP2191488 A JP 2191488A JP 2558487 B2 JP2558487 B2 JP 2558487B2
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光ビームにより再生のみまたは記録・再生・
消去を行なうことが可能な光学的記録媒体に関し、特に
該媒体の両面あるいは片面に紫外線硬化型化合物からな
る保護層を有する光学的記録媒体に関するものである。
消去を行なうことが可能な光学的記録媒体に関し、特に
該媒体の両面あるいは片面に紫外線硬化型化合物からな
る保護層を有する光学的記録媒体に関するものである。
［従来の技術］ 従来、光学的記録媒体においては、表面にプレフォー
マットパターンを有する基板上に記録層が設けられ、該
記録層を保護するために保護層が設けられているが、該
保護層としては光学的記録媒体の取扱い中に、表面に付
く傷やゴミの付着などに対して耐えることができるプラ
スチック部材が多く用いられている。
マットパターンを有する基板上に記録層が設けられ、該
記録層を保護するために保護層が設けられているが、該
保護層としては光学的記録媒体の取扱い中に、表面に付
く傷やゴミの付着などに対して耐えることができるプラ
スチック部材が多く用いられている。
この様な保護層を形成するプラスチック部材の中で紫
外線硬化型化合物が用いられているが、該紫外線硬化型
化合物としては、例えば特開昭61−123593号公報、特開
昭61−133067号公報，特開昭61−139961号公報，特開昭
61−153844号公報等に示されている様にいずれもアクリ
レート系樹脂組成物が用いられている。
外線硬化型化合物が用いられているが、該紫外線硬化型
化合物としては、例えば特開昭61−123593号公報、特開
昭61−133067号公報，特開昭61−139961号公報，特開昭
61−153844号公報等に示されている様にいずれもアクリ
レート系樹脂組成物が用いられている。
［発明が解決しようとする課題］ 上記従来例では、光学的記録媒体の記録層あるいは記
録層上に無機誘電体材料層を形成し、その上に紫外線硬
化型化合物からなる保護層が設けられている。即ち、前
記記録層としては情報を光の反射率や偏光角の違いで記
録・再生するTe系化合物、メチン系有機化合物等やTbF
e、TbFeCo等の光磁気記録層が挙げられる。しかしなが
ら、この様な構成においては、保護層により外部からの
傷や汚れに対する保護という目的を達することができる
が、光学的記録媒体を高温，高湿あるいはそれに準ずる
条件下で取り扱う場合、例えば環境耐久試験（70℃,90
％RH,2000時間放置）を行うと記録特性の低下を生じる
という問題があった。特に、記録層として光磁気記録層
を用いた場合、ビットエラーレート（BER）が初期に比
べて増加し、即ち該記録層の孔食劣化が増加するという
問題があった。
録層上に無機誘電体材料層を形成し、その上に紫外線硬
化型化合物からなる保護層が設けられている。即ち、前
記記録層としては情報を光の反射率や偏光角の違いで記
録・再生するTe系化合物、メチン系有機化合物等やTbF
e、TbFeCo等の光磁気記録層が挙げられる。しかしなが
ら、この様な構成においては、保護層により外部からの
傷や汚れに対する保護という目的を達することができる
が、光学的記録媒体を高温，高湿あるいはそれに準ずる
条件下で取り扱う場合、例えば環境耐久試験（70℃,90
％RH,2000時間放置）を行うと記録特性の低下を生じる
という問題があった。特に、記録層として光磁気記録層
を用いた場合、ビットエラーレート（BER）が初期に比
べて増加し、即ち該記録層の孔食劣化が増加するという
問題があった。
本発明は、この様な従来技術の問題を解決するために
なされたものであり、特定の紫外線硬化型化合物からな
る保護層を用いることにより、外部からの傷や汚れを防
ぐと共に高温，高湿あるいはそれに準ずる条件下におい
て記録層に孔食が発生するのを防止した光学的記録媒体
を提供することを目的とするものである。
なされたものであり、特定の紫外線硬化型化合物からな
る保護層を用いることにより、外部からの傷や汚れを防
ぐと共に高温，高湿あるいはそれに準ずる条件下におい
て記録層に孔食が発生するのを防止した光学的記録媒体
を提供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］ 即ち、本発明は、基板上に記録層及び保護層が順次積
層されている光学的記録媒体において、該保護層が酸価
0.1（KOHmg/g）以下の紫外線硬化型樹脂の硬化物からな
ることを特徴とする光学的記録媒体である。
層されている光学的記録媒体において、該保護層が酸価
0.1（KOHmg/g）以下の紫外線硬化型樹脂の硬化物からな
ることを特徴とする光学的記録媒体である。
以下、本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明の光学的記録媒体の一例を示す断面図
である。同第１図において、本発明の光学的記録媒体
は、案内溝及びプリフォーマット信号を有するポリカー
ボネート樹脂，アクリル樹脂，ポリスチレン樹脂，ポリ
オレフィン系樹脂等によりなる基板１上に、真空蒸着，
スパッタリング等の方法によりSiN,SiOx,ZnS,SiC等の誘
電体の一種あるいは二種以上を組み合わせた誘電体層２
を積層し、その上に記録層３としてGd−FeCo,Gd−Tb,Gd
TbFe,TbFeCo,GdTbFeCo等の非晶質磁気記録層を成膜し、
さらに該記録層３の上に前記誘電体層２と同様の誘電体
層４を成膜し、次に紫外線硬化型化合物を用いた保護層
５を形成してなるものである。
である。同第１図において、本発明の光学的記録媒体
は、案内溝及びプリフォーマット信号を有するポリカー
ボネート樹脂，アクリル樹脂，ポリスチレン樹脂，ポリ
オレフィン系樹脂等によりなる基板１上に、真空蒸着，
スパッタリング等の方法によりSiN,SiOx,ZnS,SiC等の誘
電体の一種あるいは二種以上を組み合わせた誘電体層２
を積層し、その上に記録層３としてGd−FeCo,Gd−Tb,Gd
TbFe,TbFeCo,GdTbFeCo等の非晶質磁気記録層を成膜し、
さらに該記録層３の上に前記誘電体層２と同様の誘電体
層４を成膜し、次に紫外線硬化型化合物を用いた保護層
５を形成してなるものである。
本発明において、保護層を形成する紫外線硬化型化合
物としては、プレポリマー成分（Ａ），反応性希釈剤と
してのモノマー成分（Ｂ），光重合開始剤成分（Ｃ）の
組成よりなり、成分（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）の使用割合
は、（Ａ）成分：（Ｂ）成分＝５〜95:95〜５（重量
比）で、（Ｃ）成分は全量の0.1〜10重量％の濃度で組
み入れた組成物が用いられる。
物としては、プレポリマー成分（Ａ），反応性希釈剤と
してのモノマー成分（Ｂ），光重合開始剤成分（Ｃ）の
組成よりなり、成分（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）の使用割合
は、（Ａ）成分：（Ｂ）成分＝５〜95:95〜５（重量
比）で、（Ｃ）成分は全量の0.1〜10重量％の濃度で組
み入れた組成物が用いられる。
（Ａ）成分としては、ポリオールポリアクリレート
（多価アルコールまたはポリエーテルポリアクリレー
ト）で、特に３官能以上のポリオールポリアクリレート
（ペンタエリスリトールアクリレート，ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートなど）、あるいは変性ポリ
オールポリアクリレート（ポリオールをエポキシドやラ
クトンで変性した変性ポリオールのポリアクリレートま
たは多価フェノールであるビスフェノールＡやビスフェ
ノールＳにエポキシドを付加させた変性ジオールのジア
クリレート）、あるいはポリエステルアクリレート（多
価アルコール，多塩基酸またはその無水物およびアクリ
ル酸のコンデンゼイション テロメリゼイション［cond
ensation telomerization］により製造される）、ある
いはウレンタンアクリレート（ポリエーテルポリオー
ル，ポリエステルポリオールなどのポリオールとポリイ
ソシアネートとヒドロキシ基をもつアクリレートとを反
応させたもの）、あるいはエポキシアクリレート（エポ
キシ化合物にアクリル酸または末端カルボキシル基を有
するアクリレートを付加させて得られるオリゴマー）、
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル型、ノボラック
ポリグリシジルエーテル型などが挙げられる。特に、硬
化性に優れ、表面硬度の高い３官能以上のポリオールポ
リアクリレートが好ましい。
（多価アルコールまたはポリエーテルポリアクリレー
ト）で、特に３官能以上のポリオールポリアクリレート
（ペンタエリスリトールアクリレート，ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートなど）、あるいは変性ポリ
オールポリアクリレート（ポリオールをエポキシドやラ
クトンで変性した変性ポリオールのポリアクリレートま
たは多価フェノールであるビスフェノールＡやビスフェ
ノールＳにエポキシドを付加させた変性ジオールのジア
クリレート）、あるいはポリエステルアクリレート（多
価アルコール，多塩基酸またはその無水物およびアクリ
ル酸のコンデンゼイション テロメリゼイション［cond
ensation telomerization］により製造される）、ある
いはウレンタンアクリレート（ポリエーテルポリオー
ル，ポリエステルポリオールなどのポリオールとポリイ
ソシアネートとヒドロキシ基をもつアクリレートとを反
応させたもの）、あるいはエポキシアクリレート（エポ
キシ化合物にアクリル酸または末端カルボキシル基を有
するアクリレートを付加させて得られるオリゴマー）、
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル型、ノボラック
ポリグリシジルエーテル型などが挙げられる。特に、硬
化性に優れ、表面硬度の高い３官能以上のポリオールポ
リアクリレートが好ましい。
（Ｂ）成分としては、多価アルコールのアクリル酸エ
ステルが用いられ、特に多官能性アクリル系モノマーと
しては、エチレングリコールジアクリレート，ジエチレ
ングリコールジアクリレート，トリエチレングリコール
ジアクリレート，ポリエチレングリコールジアクリレー
ト，ブチレングリコールジアクリレート，ネオペンチル
グリコールジアクリレート,1,4−ブタンジオールジアク
リレート,1,4−ヘキサンジオールジアクリレート，ペン
タエリスリトールジアクリレート等のジアクリレート
類、ペンタエリスリトールトリアクリレート，トリメチ
ルロールプロパントリアクリレート等のトリアクリレー
ト類が挙げられる。（Ｂ）成分はこれらの一種または二
種以上の混合系でもよい。
ステルが用いられ、特に多官能性アクリル系モノマーと
しては、エチレングリコールジアクリレート，ジエチレ
ングリコールジアクリレート，トリエチレングリコール
ジアクリレート，ポリエチレングリコールジアクリレー
ト，ブチレングリコールジアクリレート，ネオペンチル
グリコールジアクリレート,1,4−ブタンジオールジアク
リレート,1,4−ヘキサンジオールジアクリレート，ペン
タエリスリトールジアクリレート等のジアクリレート
類、ペンタエリスリトールトリアクリレート，トリメチ
ルロールプロパントリアクリレート等のトリアクリレー
ト類が挙げられる。（Ｂ）成分はこれらの一種または二
種以上の混合系でもよい。
（Ｃ）成分としては、公知のどのような光重合開始剤
でも使用できるが、配合後の貯蔵安定性のよいものが好
ましい。例えば、ベンゾインエチルエーテル，ベンゾイ
ンブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル
系、2,2′−ジエトキシアセトフェノン,4′−フェノキ
シ−2,2−ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノ
ン系、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、
４′−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオフェノンなどのプロピオフェノン系、ベンジルメチ
ルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン及び２−エチルアントラキノン,2−クロルアントラ
キノンなどのアントラキノン系,2,4−ジメチルチオキサ
ントン，ミヒラーケトンなどのチオキサントン系などが
挙げられる。これらの一種または二種以上を任意の割合
で混合して用いることができる。
でも使用できるが、配合後の貯蔵安定性のよいものが好
ましい。例えば、ベンゾインエチルエーテル，ベンゾイ
ンブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル
系、2,2′−ジエトキシアセトフェノン,4′−フェノキ
シ−2,2−ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノ
ン系、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、
４′−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオフェノンなどのプロピオフェノン系、ベンジルメチ
ルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン及び２−エチルアントラキノン,2−クロルアントラ
キノンなどのアントラキノン系,2,4−ジメチルチオキサ
ントン，ミヒラーケトンなどのチオキサントン系などが
挙げられる。これらの一種または二種以上を任意の割合
で混合して用いることができる。
前記紫外線硬化型化合物中のアクリル酸，アクリル酸
エステル類等の遊離酸成分の含有量の指標としては、酸
価（KOHmg/g）で示される。これは紫外線硬化型化合物
試料0.6gとトリエチレンジアミン（酸の解離触媒）0.3g
を40mlのDMFに溶解し、水2mlを加えた後、電位差滴定に
より0.1N KOHイソプロピルアルコール溶液で滴定し、下
式を用いて求められたものである。
エステル類等の遊離酸成分の含有量の指標としては、酸
価（KOHmg/g）で示される。これは紫外線硬化型化合物
試料0.6gとトリエチレンジアミン（酸の解離触媒）0.3g
を40mlのDMFに溶解し、水2mlを加えた後、電位差滴定に
より0.1N KOHイソプロピルアルコール溶液で滴定し、下
式を用いて求められたものである。
A:試料の滴定量（ml） B:ブランクの滴定量（ml） f:0.1N KOHイソプロパノール溶液のファクター W:試料採取量（ｇ） 本発明の光学的記録媒体の保護層として用いる前記紫
外線硬化型化合物は、酸価が0.1（KOHmg/g）以下、好ま
しくは0.01〜0.05（KOHmg/g）のものを用いるのが望ま
しい。この酸価が0.1（KOHmg/g）以下が望ましいこと
は、酸価と光学的記録媒体の環境耐久試験（70℃,90％R
H,2000時間放置）後の記録層の孔食増加との関係につい
て実験を行った結果見い出されたものであり、酸価が0.
1（KOHmg/g）をこえると媒体の環境耐久試験後の記録層
の孔食劣化の発生が多くなり、光学的記録媒体としての
機能が低下する。
外線硬化型化合物は、酸価が0.1（KOHmg/g）以下、好ま
しくは0.01〜0.05（KOHmg/g）のものを用いるのが望ま
しい。この酸価が0.1（KOHmg/g）以下が望ましいこと
は、酸価と光学的記録媒体の環境耐久試験（70℃,90％R
H,2000時間放置）後の記録層の孔食増加との関係につい
て実験を行った結果見い出されたものであり、酸価が0.
1（KOHmg/g）をこえると媒体の環境耐久試験後の記録層
の孔食劣化の発生が多くなり、光学的記録媒体としての
機能が低下する。
保護層の厚さは特に限定はないが通常10μｍ以下、特
に２μｍ〜８μｍが好ましい。
に２μｍ〜８μｍが好ましい。
また、保護層は光学的記録媒体の種類により片面ある
いは両面のいずれにも設けることができる。
いは両面のいずれにも設けることができる。
保護層を形成する方法は、紫外線硬化型化合物をスピ
ンコート塗布、スプレー塗布、バーコーター塗布、ディ
ッピング塗布等の方法で所定の厚さに塗布し、これを光
（主に紫外線）照射により硬化する等により行うことが
できる。
ンコート塗布、スプレー塗布、バーコーター塗布、ディ
ッピング塗布等の方法で所定の厚さに塗布し、これを光
（主に紫外線）照射により硬化する等により行うことが
できる。
［作用］ 本発明に係わる光学的記録媒体は、保護層として酸価
が0.1（KOHmg/g）以下のアクリル酸，アクリル酸エステ
ル類等の遊離酸成分の含有量が少ない紫外線硬化型化合
物からなる保護層を使用するので、特に記録層として非
晶質磁気記録層を使用した場合に、紫外線硬化型化合物
中に残存するアクリル酸，アクリル酸エステル類により
記録層中の希土類−遷移金属合金の遷移金属がイオン化
され溶解する劣化現象により記録層が孔食されのを抑制
することができ、光学的記録媒体の環境耐久試験後のビ
ットエラーレート（BER）の増加を防止することができ
るものと思われる。
が0.1（KOHmg/g）以下のアクリル酸，アクリル酸エステ
ル類等の遊離酸成分の含有量が少ない紫外線硬化型化合
物からなる保護層を使用するので、特に記録層として非
晶質磁気記録層を使用した場合に、紫外線硬化型化合物
中に残存するアクリル酸，アクリル酸エステル類により
記録層中の希土類−遷移金属合金の遷移金属がイオン化
され溶解する劣化現象により記録層が孔食されのを抑制
することができ、光学的記録媒体の環境耐久試験後のビ
ットエラーレート（BER）の増加を防止することができ
るものと思われる。
［実施例］ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例１ 第２図は本発明の第１の実施例の光学的記録媒体の作
成方法を示す断面図である。案内溝および／またはプリ
フォーマット信号を有するポリカーボネート基板１上に
スパッタリング法により層厚800ÅのSiN層からなる誘電
体層２を成膜し、次いで層厚400Åの非晶質Gd−FeCo,層
厚400Åの非晶質Tb−FeCoを積層し、磁気記録層3aを設
け、さらにその上に積層1000ÅのSiN層からなる誘電体
層４を成膜した。
成方法を示す断面図である。案内溝および／またはプリ
フォーマット信号を有するポリカーボネート基板１上に
スパッタリング法により層厚800ÅのSiN層からなる誘電
体層２を成膜し、次いで層厚400Åの非晶質Gd−FeCo,層
厚400Åの非晶質Tb−FeCoを積層し、磁気記録層3aを設
け、さらにその上に積層1000ÅのSiN層からなる誘電体
層４を成膜した。
次に、紫外線硬化型樹脂としてSD−17−2A（商品名：
大日本インキ化学（株）製，酸価0.1（KOHmg/g））を前
記SiN層からなる誘電体層４上にスピンコート（回転数4
000r.p.m.、７秒間）し、層厚５μｍの樹脂層を形成し
た後、UVランプ６（照射面上233mW/cm2、波長365nm）を
30秒間照射し、該樹脂層を硬化し、これを保護層５とし
た光学的記録媒体を作成した。
大日本インキ化学（株）製，酸価0.1（KOHmg/g））を前
記SiN層からなる誘電体層４上にスピンコート（回転数4
000r.p.m.、７秒間）し、層厚５μｍの樹脂層を形成し
た後、UVランプ６（照射面上233mW/cm2、波長365nm）を
30秒間照射し、該樹脂層を硬化し、これを保護層５とし
た光学的記録媒体を作成した。
実施例２ 保護層として、紫外線硬化型樹脂SPC−110−２（商品
名：日本化薬（株）製、酸価0.05（KOHmg/g））を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
名：日本化薬（株）製、酸価0.05（KOHmg/g））を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
比較例１ 保護層として紫外線硬化型樹脂SD−17（商品名：大日
本インキ化学（株）製、酸価0.05（KOHmg/g））を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
本インキ化学（株）製、酸価0.05（KOHmg/g））を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
比較例２ 保護層として紫外線硬化型樹脂アロニックスUV−3700
（商品名：東亜合成化学（株）製、酸価0.3（KOHmg/
g））を用いる以外は実施例１と同様にして光学的記録
媒体を作成した。
（商品名：東亜合成化学（株）製、酸価0.3（KOHmg/
g））を用いる以外は実施例１と同様にして光学的記録
媒体を作成した。
実施例1,2および比較例1,2により作成した光学的記録
媒体の環境耐久試験（70℃,90％RH）前後の該媒体の記
録層の孔食の発生の結果を第１表に示す。
媒体の環境耐久試験（70℃,90％RH）前後の該媒体の記
録層の孔食の発生の結果を第１表に示す。
第１表の結果から明らかなように、本発明の条件を満
たす紫外線硬化型化合物を保護層として用いて光学的記
録媒体を作成すれば、環境耐久試験後の記録層の孔食の
発生を防止することができる。
たす紫外線硬化型化合物を保護層として用いて光学的記
録媒体を作成すれば、環境耐久試験後の記録層の孔食の
発生を防止することができる。
［発明の効果］ 以上述べたように、本発明の条件を満たす紫外線硬化
型化合物を保護層として用いれば、外部からのキズや汚
れに対して強く、また長期信頼性を維持する光学的記録
媒体を得ることができる。
型化合物を保護層として用いれば、外部からのキズや汚
れに対して強く、また長期信頼性を維持する光学的記録
媒体を得ることができる。
第１図は本発明の光学的記録媒体の一例を示す断面図お
よび第２図は実施例１の光学的記録媒体の作成方法を示
す説明図である。 １……基板、2,4……誘電体層 ３……記録層、3a……磁気記録層 ５……保護層、６……UVランプ
よび第２図は実施例１の光学的記録媒体の作成方法を示
す説明図である。 １……基板、2,4……誘電体層 ３……記録層、3a……磁気記録層 ５……保護層、６……UVランプ
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に記録層及び保護層が順次積層され
ている光学的記録媒体において、該保護層が酸価0.1（K
OHmg/g）以下の紫外線硬化型樹脂の硬化物からなること
を特徴とする光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021914A JP2558487B2 (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021914A JP2558487B2 (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01199339A JPH01199339A (ja) | 1989-08-10 |
| JP2558487B2 true JP2558487B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=12068355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63021914A Expired - Fee Related JP2558487B2 (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2558487B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2555181B2 (ja) * | 1988-03-14 | 1996-11-20 | 帝人株式会社 | 光記録媒体 |
| JPH01269259A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Sanyo Electric Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JP3611438B2 (ja) | 1997-12-24 | 2005-01-19 | Ｔｄｋ株式会社 | 光記録媒体及びその製造方法 |
| JP3611437B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2005-01-19 | Ｔｄｋ株式会社 | 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体 |
| US6214433B1 (en) * | 1999-10-04 | 2001-04-10 | Dsm N.V. | Radiation-curable coatings for optical discs and optical discs incorporating such coatings |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0721885B2 (ja) * | 1984-11-30 | 1995-03-08 | ティーディーケイ株式会社 | 光磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-02-03 JP JP63021914A patent/JP2558487B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01199339A (ja) | 1989-08-10 |
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