JPH07114029B2 - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH07114029B2 JPH07114029B2 JP1105891A JP10589189A JPH07114029B2 JP H07114029 B2 JPH07114029 B2 JP H07114029B2 JP 1105891 A JP1105891 A JP 1105891A JP 10589189 A JP10589189 A JP 10589189A JP H07114029 B2 JPH07114029 B2 JP H07114029B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- resin
- recording medium
- optical recording
- stress
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ビームにより再生のみまたは記録、再生、消
去を行なうことのできる光記録媒体に関する。
去を行なうことのできる光記録媒体に関する。
光記録媒体は、特開昭57−78652等に開示されているよ
うに、案内溝やプリフォーマット信号が形成された基板
に、記録層、記録層をサンドイッチ状に挟む無機誘電体
保護層、および光記録媒体の表面保護層（以下、保護層
と略）が形成されてなる。この保護層としては、従来Si
O2等の無機化合物の層が用いられてきた。しかし、表面
の保護の為には保護層を厚く、例えば数μｍの厚さに形
成する必要があり、SiO2等の無機化合物層は脆く、自然
に亀裂が生じ易いという問題点があった。そこで、光重
合性有機化合物、例えばアクリレート系樹脂組成物を用
いた樹脂保護層が提案されている。
うに、案内溝やプリフォーマット信号が形成された基板
に、記録層、記録層をサンドイッチ状に挟む無機誘電体
保護層、および光記録媒体の表面保護層（以下、保護層
と略）が形成されてなる。この保護層としては、従来Si
O2等の無機化合物の層が用いられてきた。しかし、表面
の保護の為には保護層を厚く、例えば数μｍの厚さに形
成する必要があり、SiO2等の無機化合物層は脆く、自然
に亀裂が生じ易いという問題点があった。そこで、光重
合性有機化合物、例えばアクリレート系樹脂組成物を用
いた樹脂保護層が提案されている。
しかしながら、従来の樹脂保護層を用いた場合、上記の
様な構成の光記録媒体は、無機誘電体保護層の応力が大
きいため、初期の反りやスキューが大きく、さらに環境
耐久試験（例えば、80℃、90 RH、2000hr放置）により
反りやスキューが大きくなり、評価装置にかからなくな
り記録、再生、消去ができなくなることもあった。ま
た、記録層及び無機誘電体保護層の成膜時に基板の温度
上昇を抑え積層膜の応力を小さくした場合、反り及びス
キューは減少するが、積層膜の膜質の劣化、例えば無機
誘電体薄膜の膜割れや膜の剥離が生じ易く、記録層の腐
蝕等が発生し耐久性に劣るという問題点があった。
様な構成の光記録媒体は、無機誘電体保護層の応力が大
きいため、初期の反りやスキューが大きく、さらに環境
耐久試験（例えば、80℃、90 RH、2000hr放置）により
反りやスキューが大きくなり、評価装置にかからなくな
り記録、再生、消去ができなくなることもあった。ま
た、記録層及び無機誘電体保護層の成膜時に基板の温度
上昇を抑え積層膜の応力を小さくした場合、反り及びス
キューは減少するが、積層膜の膜質の劣化、例えば無機
誘電体薄膜の膜割れや膜の剥離が生じ易く、記録層の腐
蝕等が発生し耐久性に劣るという問題点があった。
但し、ここで“反り”は第２図に示す様に媒体の径方向
の変形Ａを意味し、“スキュー”は媒体の円周方向の変
形を意味する。
の変形Ａを意味し、“スキュー”は媒体の円周方向の変
形を意味する。
本発明は長期間信頼性を維持することができ、且つ媒体
の反り及びスキューを減少させた光記録媒体を提供する
ことを目的とするものである。
の反り及びスキューを減少させた光記録媒体を提供する
ことを目的とするものである。
本発明の光記録媒体は、樹脂基板上に無機誘電体層と記
録層の積層膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に於
て、該樹脂保護層が2.5〜5.5kg/mm2に引っ張り応力を有
し、該記録層及び該無機誘電体層の積層膜が15〜55kg/m
m2の圧縮応力を有することを特徴とするものである。
録層の積層膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に於
て、該樹脂保護層が2.5〜5.5kg/mm2に引っ張り応力を有
し、該記録層及び該無機誘電体層の積層膜が15〜55kg/m
m2の圧縮応力を有することを特徴とするものである。
即ち本発明によれば、記録層及び無機誘電体層の積層膜
の膜質を劣化させることなく、且つ樹脂保護層の応力の
大きさ及び方向を特定することにより、積層膜と樹脂保
護層の応力をバランスさせた為、長期間の信頼性を有
し、且つ応力による変形を抑えた光記録媒体を得ること
ができる。
の膜質を劣化させることなく、且つ樹脂保護層の応力の
大きさ及び方向を特定することにより、積層膜と樹脂保
護層の応力をバランスさせた為、長期間の信頼性を有
し、且つ応力による変形を抑えた光記録媒体を得ること
ができる。
次に本発明を図を用いて詳細に説明する。
第１図は本発明の光記録媒体の一実施態様を示したもの
である。第１図に於て、１は樹脂基板、２及び４は無機
誘電体保護層、３は記録層、５は樹脂保護層で、６は記
録層３及び無機誘電体保護層の積層膜を表す。
である。第１図に於て、１は樹脂基板、２及び４は無機
誘電体保護層、３は記録層、５は樹脂保護層で、６は記
録層３及び無機誘電体保護層の積層膜を表す。
本発明の積層膜６の応力は15〜55kg/mm2、特に記録膜の
安定性の点で20〜50kg/mm2の範囲にあるのが好ましい。
即ち積層膜６の応力が15kg/mm2未満では、積層膜特に無
機誘電体保護層の膜割れや膜の剥離が生じ易く、55kg/m
m2を超えた場合は積層膜の反り及びスキューが大きくな
るためである。
安定性の点で20〜50kg/mm2の範囲にあるのが好ましい。
即ち積層膜６の応力が15kg/mm2未満では、積層膜特に無
機誘電体保護層の膜割れや膜の剥離が生じ易く、55kg/m
m2を超えた場合は積層膜の反り及びスキューが大きくな
るためである。
積層膜６の応力は、例えばスパッタリングの場合、スパ
ッタ圧、投入パワーの調整によって、又リアクディブス
パッタ法の場合、N2分圧の調整等種々の方法で制御する
ことができる。
ッタ圧、投入パワーの調整によって、又リアクディブス
パッタ法の場合、N2分圧の調整等種々の方法で制御する
ことができる。
次に、本発明の樹脂保護膜５は2.5〜5.5kg/mm2、特に反
り防止の点で３〜5kg/mm2の引っ張り応力を有すること
が好ましい。樹脂保護層の応力を上記の範囲とすること
により積層膜６の応力とバランスさせることができ、変
形の少ない光記録媒体を得ることができる。
り防止の点で３〜5kg/mm2の引っ張り応力を有すること
が好ましい。樹脂保護層の応力を上記の範囲とすること
により積層膜６の応力とバランスさせることができ、変
形の少ない光記録媒体を得ることができる。
本発明に用いられる樹脂保護層に用いられる材料として
は、光もしくは電子線硬化樹脂が挙げられる。例えば紫
外線硬化樹脂としては、アクリレート系樹脂組成物や光
重合エポキシ樹脂が好適に用いられ、特に応力の調整が
容易であるという点でアクリレート系樹脂組成物が好ま
しい。紫外線硬化型のアクリレート系樹脂組成物は、通
常（Ａ）プレポリマー成分、（Ｂ）反応性希釈剤成分、
（Ｃ）光重合開始剤成分の混合組成物よりなり、化合物
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の混合割合は（Ａ）５〜95％：
（Ｂ）95〜５％（重量比）、化合物（Ｃ）は0.1〜10濃
度％で組み入れた組成物が用いられる。また、（Ａ）成
分としては、例えばポリオールポリアクリレート、ポリ
エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートなどが挙げられる。（Ｂ）成分としては
多価アルコールのアクリル酸エステルが用いられる。
（Ｃ）成分としては公知のどのような光重合開始剤でも
使用できるが、配合後の貯蔵安定性のよいものが好まし
い。例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、アセトフ
ェノン系、プロピオフェノン系、アントラキノン系、チ
オキサントン系等が挙げられる。これらは一種または二
種以上の任意の割合で混合して用いられる。
は、光もしくは電子線硬化樹脂が挙げられる。例えば紫
外線硬化樹脂としては、アクリレート系樹脂組成物や光
重合エポキシ樹脂が好適に用いられ、特に応力の調整が
容易であるという点でアクリレート系樹脂組成物が好ま
しい。紫外線硬化型のアクリレート系樹脂組成物は、通
常（Ａ）プレポリマー成分、（Ｂ）反応性希釈剤成分、
（Ｃ）光重合開始剤成分の混合組成物よりなり、化合物
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の混合割合は（Ａ）５〜95％：
（Ｂ）95〜５％（重量比）、化合物（Ｃ）は0.1〜10濃
度％で組み入れた組成物が用いられる。また、（Ａ）成
分としては、例えばポリオールポリアクリレート、ポリ
エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートなどが挙げられる。（Ｂ）成分としては
多価アルコールのアクリル酸エステルが用いられる。
（Ｃ）成分としては公知のどのような光重合開始剤でも
使用できるが、配合後の貯蔵安定性のよいものが好まし
い。例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、アセトフ
ェノン系、プロピオフェノン系、アントラキノン系、チ
オキサントン系等が挙げられる。これらは一種または二
種以上の任意の割合で混合して用いられる。
本発明に於ては上記の成分を含有した紫外線硬化型アク
リレート系樹脂組成物の中からその硬化膜が３〜5kg/mm
2の引張り応力を有するものを選択して用いればよい。
リレート系樹脂組成物の中からその硬化膜が３〜5kg/mm
2の引張り応力を有するものを選択して用いればよい。
本発明に用いられる樹脂組成物は、上記（Ａ）、（Ｂ）
及び（Ｃ）（任意成分）の他に、さらに性能改良のため
に、本来の特性を変えない範囲で、シランカップリング
剤、重合禁止剤、レベリング剤等の材料を添加すること
もできる。シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリ
ング剤の使用量としては、それぞれ組成物の０〜５重量
％の範囲が好ましい。
及び（Ｃ）（任意成分）の他に、さらに性能改良のため
に、本来の特性を変えない範囲で、シランカップリング
剤、重合禁止剤、レベリング剤等の材料を添加すること
もできる。シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリ
ング剤の使用量としては、それぞれ組成物の０〜５重量
％の範囲が好ましい。
本発明の樹脂保護層は、樹脂組成物を積層膜を形成した
基板上にスピンコーター、バーコーター、ロールコータ
ー等を用いて塗布し、硬化させることによって形成す
る。
基板上にスピンコーター、バーコーター、ロールコータ
ー等を用いて塗布し、硬化させることによって形成す
る。
本発明の樹脂組成物の硬化は常法により行うことができ
る。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯を用いて
紫外線を照射すればよい。
る。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯を用いて
紫外線を照射すればよい。
更に樹脂組成物の硬化は紫外線照射の代りに電子線を照
射することにより行なうこともできる。
射することにより行なうこともできる。
ところで、本発明に於て用いられる記録層に用いられる
材料としては無機材料が好ましく、例えばTbCo、GdTeC
o、GdFeCo、GdTbFeCo等の非晶質磁気記録材料やBi、A
l、さらにSe、Te等のカルコゲン系化合物やこれらの合
金等が挙げられ、又これらを積層してもよい。記録層の
膜厚は200〜1000Å、特に500〜900Åが好ましい。又、
本発明に於て記録層は、情報を書き込まず予め記録され
た情報を再生するための読出し光の反射層であってもよ
い。
材料としては無機材料が好ましく、例えばTbCo、GdTeC
o、GdFeCo、GdTbFeCo等の非晶質磁気記録材料やBi、A
l、さらにSe、Te等のカルコゲン系化合物やこれらの合
金等が挙げられ、又これらを積層してもよい。記録層の
膜厚は200〜1000Å、特に500〜900Åが好ましい。又、
本発明に於て記録層は、情報を書き込まず予め記録され
た情報を再生するための読出し光の反射層であってもよ
い。
また無機誘電体保護層2,4はSi3N4、SiOx、ZnS、SiC等が
用いられる。この無機誘電体保護層は少なくとも記録層
の片面に設けられるが、記録層を十分に保護するために
記録層の両面に設けられるのが特に好ましい。又、この
無機誘電体保護層の厚さとしては400〜1000Å、特に450
〜750Åが好ましい。又、これらの積層膜６は真空堆積
法（例えば、蒸着やスパッタ等）で形成するのが膜の均
一性の点で好ましい。
用いられる。この無機誘電体保護層は少なくとも記録層
の片面に設けられるが、記録層を十分に保護するために
記録層の両面に設けられるのが特に好ましい。又、この
無機誘電体保護層の厚さとしては400〜1000Å、特に450
〜750Åが好ましい。又、これらの積層膜６は真空堆積
法（例えば、蒸着やスパッタ等）で形成するのが膜の均
一性の点で好ましい。
次に本発明の樹脂基板１としては、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン
樹脂等が用いられる。基板の厚さとしては、基板表面に
付着したゴミが情報の記録及び／又は再生に支障のない
厚さとするのが好ましく、例えば0.3〜5mm、特に0.8mm
〜1.5mm程度がよい。
カーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン
樹脂等が用いられる。基板の厚さとしては、基板表面に
付着したゴミが情報の記録及び／又は再生に支障のない
厚さとするのが好ましく、例えば0.3〜5mm、特に0.8mm
〜1.5mm程度がよい。
又、本発明の光記録媒体を、２枚用いて樹脂基板を外側
にして樹脂保護層間に接着層を設けた両面記録の媒体と
することも可能であるが、本発明は反りの発生し易い片
面記録の光記録媒体に特に有効である。
にして樹脂保護層間に接着層を設けた両面記録の媒体と
することも可能であるが、本発明は反りの発生し易い片
面記録の光記録媒体に特に有効である。
以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。
実施例１ 案内溝およびプリフォーマット信号を有する厚さ1.2mm
のポリカーボネート基板１上にスパッタリング（スパッ
タ圧0.2Pa、投入パワー500W）により層厚500ÅのSi3N4
層２を成膜し、層厚400Åの非晶質GdTb層、層厚400Åの
非晶質TbFe層をスパッタ圧0.3Paでスパッタリングして
積層して磁気記録層３を設け、さらに層厚700ÅのSiN層
４をスパッタ圧0.2Pa、投入パワー500Wで成膜した。次
に以下の組成のウレタンアクリレート系の紫外線硬化樹
脂 （組成） （Ａ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（商品名KAYARAD DPCA−30日本化薬
（株）製） 50wt％ （Ｂ）ジオキサングリコールジアクリレート（商品名KA
YARAD R−604日本化薬（株）製） 45wt％ （Ｃ）光重合開始剤（商品名Irg−184チバガイギー社
製）5wt％ をスピンコート（4000r.p.m.7秒間）し、層厚７ミクロ
ンの樹脂層を作成した後、UVランプ６（照射面上233mW/
cm、波長365nm）を７秒間照射して樹脂を硬化させ、樹
脂保護層５を形成し、光記録媒体を得た。
のポリカーボネート基板１上にスパッタリング（スパッ
タ圧0.2Pa、投入パワー500W）により層厚500ÅのSi3N4
層２を成膜し、層厚400Åの非晶質GdTb層、層厚400Åの
非晶質TbFe層をスパッタ圧0.3Paでスパッタリングして
積層して磁気記録層３を設け、さらに層厚700ÅのSiN層
４をスパッタ圧0.2Pa、投入パワー500Wで成膜した。次
に以下の組成のウレタンアクリレート系の紫外線硬化樹
脂 （組成） （Ａ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（商品名KAYARAD DPCA−30日本化薬
（株）製） 50wt％ （Ｂ）ジオキサングリコールジアクリレート（商品名KA
YARAD R−604日本化薬（株）製） 45wt％ （Ｃ）光重合開始剤（商品名Irg−184チバガイギー社
製）5wt％ をスピンコート（4000r.p.m.7秒間）し、層厚７ミクロ
ンの樹脂層を作成した後、UVランプ６（照射面上233mW/
cm、波長365nm）を７秒間照射して樹脂を硬化させ、樹
脂保護層５を形成し、光記録媒体を得た。
実施例２ 紫外線硬化型樹脂としてその組成を以下の様に変えた他
は実施例１と同様にして光記録媒体を作成した。
は実施例１と同様にして光記録媒体を作成した。
（組成） （Ａ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（KAYARAD DPCA−30日本化薬（株）製）
60wt％ （Ｂ）ジオキサングリコールジアクリレート（KAYARAD
R−604日本化薬（株）製） 35wt％ （Ｃ）光重合開始剤（Irg−184チバガイギー社製）5wt
％ 実施例３ 紫外線硬化樹脂としてその組成を以下の様に変えた以外
は実施例１と同様にして光記録媒体を作成した。
サアクリレート（KAYARAD DPCA−30日本化薬（株）製）
60wt％ （Ｂ）ジオキサングリコールジアクリレート（KAYARAD
R−604日本化薬（株）製） 35wt％ （Ｃ）光重合開始剤（Irg−184チバガイギー社製）5wt
％ 実施例３ 紫外線硬化樹脂としてその組成を以下の様に変えた以外
は実施例１と同様にして光記録媒体を作成した。
（組成） （Ａ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（KAYARAD DPCA−30日本化薬（株）製） 70wt％ （Ｂ）ジオキサングリコールジアクリレート（KAYARAD
R−604日本化薬（株）製） 25wt％ （Ｃ）光重合開始剤（Irg−184チバガイギー社製） 5wt
％ 比較例1,2 紫外線硬化樹脂を次のように変えた以外は実施例１と同
様に光記録媒体を作成した。
サアクリレート（KAYARAD DPCA−30日本化薬（株）製） 70wt％ （Ｂ）ジオキサングリコールジアクリレート（KAYARAD
R−604日本化薬（株）製） 25wt％ （Ｃ）光重合開始剤（Irg−184チバガイギー社製） 5wt
％ 比較例1,2 紫外線硬化樹脂を次のように変えた以外は実施例１と同
様に光記録媒体を作成した。
比較例1:変形ポリエステルアクリレート 商品名SD−17、大日本インキ化学（株）製 比較例2:光カチオン重合エポキシ樹脂 商品名KR−400、旭電化（株）製 実施例４ ポリカーボネート基板１上にスパッタリングにより層厚
600ÅのSiN層２を成膜し、層厚400ÅのTbFeCo磁性層、
層厚800ÅのGdDyFeCo磁性層を積層して磁気記録層３を
設け、さらに層厚900ÅのSiN層４を成膜する以外は実施
例１と同様にして光記録媒体を作成した。
600ÅのSiN層２を成膜し、層厚400ÅのTbFeCo磁性層、
層厚800ÅのGdDyFeCo磁性層を積層して磁気記録層３を
設け、さらに層厚900ÅのSiN層４を成膜する以外は実施
例１と同様にして光記録媒体を作成した。
実施例４の光記録媒体は、光変調型のオーバーライト可
能な光記録媒体であり、実施例１の光記録媒体は磁界変
調型のオーバーライト可能な光記録媒体である。
能な光記録媒体であり、実施例１の光記録媒体は磁界変
調型のオーバーライト可能な光記録媒体である。
表１に上記実施例および比較例で作成した光記録媒体の
初期及び80℃、90％RH、2000時間の耐久試験後の反り、
スキューの測定結果および樹脂硬化物の応力の測定結果
を示した。
初期及び80℃、90％RH、2000時間の耐久試験後の反り、
スキューの測定結果および樹脂硬化物の応力の測定結果
を示した。
実施例ではいずれも反り、スキューの初期の値が小さ
く、環境試験前後の変化が小さかったのに対し、比較例
では反り、スキューの初期の値が大きく、環境試験前後
の変化も大きく、記録、再生消去が不可能であった。
く、環境試験前後の変化が小さかったのに対し、比較例
では反り、スキューの初期の値が大きく、環境試験前後
の変化も大きく、記録、再生消去が不可能であった。
なお本発明に於て樹脂保護層の応力は以下の方法により
測定した。即ち、シリコンディスク基板上に樹脂硬化膜
を所定の厚さ（５〜８μｍ）に形成し、このとき第３図
に示した反り量ｄより下式（１）に従って応力の値を得
た。なお、測定装置としてストレスゲージ（アイオニッ
クシステムズ社製）を用いた。
測定した。即ち、シリコンディスク基板上に樹脂硬化膜
を所定の厚さ（５〜８μｍ）に形成し、このとき第３図
に示した反り量ｄより下式（１）に従って応力の値を得
た。なお、測定装置としてストレスゲージ（アイオニッ
クシステムズ社製）を用いた。
Es:シリコン基板のヤング率 v : 〃 のポアッソン比 Ts: 〃 の厚さ Tf:樹脂硬化膜の厚さ r :シリコン基板の半径 σ：樹脂硬化膜の応力 また積層膜６の応力は以下の方法により測定した。即ち
積層膜６の応力（σ′）は下式（２）で求められる。
積層膜６の応力（σ′）は下式（２）で求められる。
σ′＝Eb2/6（１−ν）rd …（２） E :基板のヤング率 ν：〃 のポアッソン比 r :〃 の曲率半径 d :膜厚 b :基板の厚さ いま、積層膜６を形成した樹脂基板の変形、即ちニュー
トンリングの本数を第４図に示すザイゴの干渉計で測定
した時のニュートンリングの本数をｍとすれば、基板の
曲率半径ｒは次式（３）で求められる。
トンリングの本数を第４図に示すザイゴの干渉計で測定
した時のニュートンリングの本数をｍとすれば、基板の
曲率半径ｒは次式（３）で求められる。
ｒ＝a2/mλ …（３） a:基板の半径 λ：ザイゴ干渉計使用光源の波長 そこで、ｒの値を（２）に代入して積層膜６の応力σ′
が得られる。また反り及びスキューの測定にはフラット
ネステスター（KS−916、安立電気（株）製）を用い
た。
が得られる。また反り及びスキューの測定にはフラット
ネステスター（KS−916、安立電気（株）製）を用い
た。
以上説明した様に本発明によれば、積層膜の膜割れや剥
離が発生せず耐久性に優れ、且つ反りやスキューが減少
し、それによる記録、再生や消去のエラーの発生を抑え
た光記録媒体を得ることができる。
離が発生せず耐久性に優れ、且つ反りやスキューが減少
し、それによる記録、再生や消去のエラーの発生を抑え
た光記録媒体を得ることができる。
第１図は本発明に係る光記録媒体の一実施態様の模式的
断面図、 第２図は光記録媒体の反りの説明図、 第３図は樹脂保護膜の応力の測定方法の説明図、 第４図は積層膜の応力の測定方法の説明図である。 １…樹脂基板 2,4…無機誘電体保護膜 ３…記録層 ５…樹脂保護層 ６…積層膜 ７…UVランプ ８…光記録媒体 ９…樹脂硬化膜 10…シリコン基板 11…ストレスゲージ 12…光源 13…レンズ 15…カメラ
断面図、 第２図は光記録媒体の反りの説明図、 第３図は樹脂保護膜の応力の測定方法の説明図、 第４図は積層膜の応力の測定方法の説明図である。 １…樹脂基板 2,4…無機誘電体保護膜 ３…記録層 ５…樹脂保護層 ６…積層膜 ７…UVランプ ８…光記録媒体 ９…樹脂硬化膜 10…シリコン基板 11…ストレスゲージ 12…光源 13…レンズ 15…カメラ
Claims (1)
- 【請求項１】樹脂基板上に無機誘電体層と記録層の積層
膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に於て、該樹脂保
護層が2.5〜5.5kg/mm2の引っ張り応力を有し、該記録層
及び該無機誘電体層の積層膜が15〜55kg/mm2の圧縮応力
を有することを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1105891A JPH07114029B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 光記録媒体 |
| US07/514,289 US5102709A (en) | 1989-04-27 | 1990-04-25 | Optical recording medium and process for production thereof |
| DE69030982T DE69030982T2 (de) | 1989-04-27 | 1990-04-25 | Optisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung |
| EP19900304416 EP0395369B1 (en) | 1989-04-27 | 1990-04-25 | Optical recording medium and process for production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1105891A JPH07114029B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 光記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02285534A JPH02285534A (ja) | 1990-11-22 |
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