JPH0319150A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の書き込みおよび／または読み取りが可能な情報記
録媒体およびその製造方法に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたＢｉ，Ｓｎ
，Ｉｎ，Ｔｅ等の金属または半金属；またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。

光ディスクへの情報の書き込みはレーザービームをこの
光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層の照
射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的
あるいは化学的な変化（たとえば、ビットの生成）が生
じてその光学的特性を変えることにより情報が記録され
る。情報の読み取りもまた、レーザービームを光ディス
クに照射することにより行なわれ、記録層の光学的特性
の変化に応じた反射光または透過光を検出することによ
り情報が再生される。

また、光ディスクの耐久性を向上させる目的で、記録層
上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造として、
二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に記
録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置し
、かつ空間を形成するようにリング状内側スベーサとリ
ング状外側スベーサとを介して接合してなるエアーサン
ドイッチ構造が提案されている。このような保護層が設
けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有する
光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがなく
、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー光で行な
われるために、記録層が物理的または化学的な損傷を受
けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記録
、再生の障害となることがないとの利点がある。一方、
保護層を設けることにより記録層を保護する方法は、デ
ィスクの構造をサンドイッチ構造とする方法に比較して
、製造が簡便であり且つ製造コストがかからない等の点
で有利である。しかしながら、般に記録層の表面に直接
設けることとなるため、記録時の記録層の形状変化等を
抑制し、記録特性等に悪影響を及ぼす場合がある。

特公昭６３−４２３３３号公報には、上記保護層として
、塗布加熱によりゴム状高分子からなる第一の保護膜を
設け、その上に無溶剤の液状高分子を塗布後加熱又は紫
外線照射により第二の保護膜を設けることより得られる
二層からなる重層の保護層が提案されている。このよう
な保護層は、記録層に接する部分が柔軟性を有している
ため、記録層に情報の記録であるピットを形成する際、
ピットの形成が保護層により抑制されることがなく記録
感度等の記録特性は比較的優れたものとなる。また外気
と接する部分は堅い保護層で覆われているため、塵埃の
侵入、傷付き防止の効果もある． 上記公報では、ゴム状高分子の塗設は、該高分子を溶剤
に溶解させた塗布液を塗布乾燥することにより行なわれ
る。ゴム状高分子として熱硬化型ウレタン樹脂が用いら
れているので、硬化させるために長時間の加熱を要すと
の製造上の不利がある。また、ゴム状高分子の塗設は、
塗布時にその塗布液が記録層内に浸透し、浸透した塗布
液に含まれる溶剤によりプラスチック基板を侵す傾向が
あるため、これにより記録層に割れが生じたり、あるい
は記録層が基板から部分的に剥離したりする。さらに記
録層が色素層の場合は、色素は一般の溶剤に溶解する傾
向が強いため、色素層の膜厚ムラあるいは色素層の部分
的な流出等が発生するとの問題がある。

従って、このような方法により重層の保護層が設けられ
た光ディスクは、その保護機能においては比較的優れた
ものであると言えるが、製造に長時間を要するとの製造
上に不利な点があり、また製造時に記録層の本来有する
記録再生特性を損なう場合がある。

［発明の目的］ 本発明は、向上した耐久性および優れた記録再生特性を
有する保護層付き情報記録媒体を提供することを目的と
する。

また、本発明は、向上した耐久性および優れた記録再生
特性を有する保護層付き情報記録媒体の簡便な製造方法
を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に設けられたレーザーにより情報の読
み取りおよび／または書き込みが可能な記録層の上に、
重合性二重結合を有するモノマーおよび／またはオリゴ
マーの硬化物で、ヤング率がＩ　Ｘ　１　×１０６　〜
５　Ｘ　１　×１０６　ｄｙｎｅ／ｃ１の範囲の値を有
する第一保護層および重合性二重結合を有するモノマー
および／またはオリゴマーの硬化物でヤング率がＩ　Ｘ
　１　０　ｌ０ｄｙｎｅ／ｃｍ”以上の値を有する第二
保護層が、この順に設けられていることを特徴とする情
報記録媒体にある． 上記情報記録媒体は、基板上に、レーザーにより情報の
読み取りおよび／または書き込みが可能な記録層を形成
する工程、 該記録層上に、重合性二重結合を有するそノマーおよび
／またはオリゴマーを含む塗布液を塗布し、該塗布層に
紫外線または電子線を照射することにより硬化させ、ヤ
ング率がＩ　Ｘ　１　×１０６〜５　ｘ　１　０　’　
ｄｙｎｅ／ｃ１の範囲の値を有する第一保護層を形成す
る工程、 そして第一保護層上に、重合性二重結合を有するモノマ
ーおよび／またはオリゴマーを含む塗布液を塗布し，該
塗布層に紫外線または電子線を照射することにより硬化
させ、ヤング率が１×１　０　Ｉ０ｄｙｎｅ／ｃ一以上
の値を有する第二保護層を形成する工程、 を含むことからなる情報記録媒体の製造方法により有利
に得ることができる． 上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下のとお
りである。

！）上記第一保護層が、Ｉ　Ｘ　１　×１０６〜１×１
　０　’　ｄｙｎｅ／ｃｍ”の範囲のヤング率を有する
ことを特徴とする上記情報記録媒体． ２）上記第二保護層が、Ｉ　Ｘ　１　０　ｌ０〜１×１
　０　”ｄｙｎｅ／ｃｍ”の範囲のヤング率を有するこ
とを特徴とする上記情報記録媒体。

３）上記基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオレフ
ィンまたはセルキャストボリメチルメタクリレートであ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下のとおりである。

１）上記保護層が、スピンコーターを用いて塗布するこ
とにより形成されることを特徴とする上記情報記録媒体
の製造方法。

２）上記塗布層の硬化が、紫外線照射により行なわれる
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

３）上記基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオレフ
ィンまたはセノレキャストボリメチノレメタクリレート
であることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

尚、本発明でいうヤング率は、引張弾性率で、下記の引
張試験により得ることができる。これはＪＩＳκ７　１
　２　７−ｔｅａｓに従って行なった。

［１］サンプルの作成 重合性二重結合を有するモノマーおよび／またはオリゴ
マーを含む保護層形成用塗布液をテフロンシ一ト上に塗
布し、該塗布層に紫外線を照射することにより硬化させ
て面積が２５０Ｘ２５０ｍｍで層厚１０μｍの硬化膜を
形成する。該硬化膜をテフロンシ一トより剥離し、ＪＩ
Ｓκ７１２７の１号形試験片に当たる全長２００ｍｍ、
幅１０ｍｍのサンプルを作成する。サンプルは１０点以
上用意する。

［２］試験方法 上記サンプルを引張試験機（ＴＥＮＳＩＬＯＮ　ＵＴＭ
−ｍ−５００、東洋ボールドウィン■製）に装着して、
引張速度１０ｍｓ／分にて引張試験を行なう。

［３］算出方法・ 上記引張試験の結果から、引張応カーひずみ（荷重一伸
び）曲線を作成し、その初めの直線部分を用いて引張弾
性率を算出する。

Δ　σ Ｅ■　＝ Δ　ε Ｅｍ　：引張弾性率（Ｎ／一一２） Δａ：直線上の２点間の元の平均断面積による応力の差
（Ｎ／−１２） Δε：同じ２点間のひずみの差 上記Ｅｍの１０サンプルの平均値を求める。

本発明で用いる引張弾性率は、Ｅ■　（　Ｎ　／ａｓ２
）　ｘ１０３によりＥ　ｍ’　（ｄｙｎｅ／ｃｍ”）に
換算した値である。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体の製造方法においては、記録層上
に設けられる第一保護層は、重合性二重結合を有するモ
ノマーおよびオリゴマーを含む塗布液を用いており、プ
ラスチック基板や色素層を侵し易い一般の有機溶剤を使
用していない。このため、第一の保護層の塗設により記
録層を剥離、変形させることはない．また、上記塗布液
は塗布後すぐに紫外線等の照射により硬化するため５該
塗布液が記録層内部に浸透する時間もほとんどないこと
から、この点でも記録層に上記のような悪影響を及ぼす
ことは少ない。

従って、このようにして得られた情報記録媒体は、記録
層が本来有する特性を保護層塗設後も維持しているため
、記録感度、Ｃ／Ｎ等の記録再生特性が優れ、且つ耐久
性についても向上したものであるということができる。

また、本発明の情報記録媒体の製造方法によると、第一
および第二保護層が共に無溶剤の塗布液を塗布して、乾
燥することなしに紫外線または電子線により硬化するこ
とができるため、製造時間の大幅な短縮が可能である。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上に、記録層、第一保謹
層そして第二保護層がこの順で設けられた亀本構成を有
する。

第１図に、本発明の情報記録媒体の断面の一例を示す。

第１図は、基板１１の上に、記録層１２、第一保護層１
３および第二保護層１４が、この順で積層されている。

記録層１２は、金属または半金属をスパッタリング等の
蒸着を行なうことにより形成しても良いし、色素を塗布
することにより形成しても良い。記録層１２の上に設け
られる第一保護層１３は、重合性二重結合を有するモノ
マーおよび／またはオリゴマーを含む塗布液を塗布し、
塗布した後すぐに該塗布層に紫外線または電子線を照射
して硬化させることによって得ることができる。このよ
うにして形成された第一保護層ｌ３は、ヤング率１　ｘ
　１　×１０６　〜５　ｘ　１　０ｇｄｙｎｅ／ｃｍ”
の範囲の値を有する柔軟性のある層であることが必要で
ある。保護層が柔軟性を有することにより、記録層にレ
ーザー光により記録ビットの形成を行なう際、ピット形
成が保護層により抑制されることがほとんどないことか
ら、記録再生特性の優れた記録が行なうことができる。

この第一保護層ｌ３上に、第二保護層１４が同様にして
設けられる．第二保護層１４も、重合性二重結合を有す
るモノマーおよび／またはオリゴマーを含む塗布液を塗
布し、該塗布層に紫外線または電子線を照射して硬化さ
せることによって得られるが、第一保護層と違ってヤン
グ率Ｉ　Ｘ　１　０　”ｄｙｎｅ／ｃｍ”以上の値の強
靭性を有する保護層である。このように外気と接する部
分に、上記強靭な第二保護層が形成されるため、塵埃の
侵入、傷付き防止する等の効果が得られる。

本発明においては、記録層上に設けられる第一保謹層は
、重合性二重結合を有するモノマーおよびオリゴマーを
含む塗布液を用いており、プラスチック基板や色素層を
侵し易い一般の有機溶剤を使用していない。このため、
第一保護層の塗設により記録層を剥離、変形させること
はない。また、上記塗布液は塗布後すぐに紫外線等の照
射により硬化するため、該塗布液が記録層内部に浸透す
る時間もほとんどないことから、この点でも記録層に上
記のような悪影響を及ぼすことは少ない． 従って、このようにして得られた情報記録媒体は、記録
層が本来有する特性を保護層塗設後も雑持しているため
、記ａ感度、Ｃ／Ｎ等の記録再生特性が優れ、且つ耐久
性についても向上したものであるということができる。

また、本発明の上記保護層を有する情報記録媒体の製造
は、第一および第二保護層が共に無溶剤の塗布液を塗布
して、乾燥することなしに紫外線または電子線により硬
化することができるため、製造時間の大幅な短縮が可能
である。さらに、第一および第二保護層の塗布のみ先に
同時に行ない、すなわち同時塗布をした後紫外線等を照
射すれば、硬化工程を一度で行なうことができ、一層の
工程短縮が可能である。

本発明の情報記録媒体の製造は、たとえば以下に述べる
ような材料を用いて行なうことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例とじては、ガラス、セルキャストボリメチ
ルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート
等のアクリル樹脂；ボリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合
体等の塩化ビニル系樹脂：エボキシ樹脂；ボリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエス
テルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネ
ート、ポリオレフィンおよびセルキャストボリメチルメ
タクリレートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ボリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物買；および無機酸化物（Ｓ　ｉｏ２，ＡＩ１２０３等
）、無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙げる
ことができる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ート、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層〉上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグループ層および／またはプレビット層が設け
られてもよい。プレグループ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。

プレグループ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
プ層の設けられた基板が得られる。プレグループ層の層
厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。本発明のように、
基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にプレグループおよび／また
はプレビットが設けられてもよい。

プレグループを有する上記基板上または上記プレグルー
プ層上には、中間層が設けられても良い。

上記中間層の例としては、上記断熱層以外に接着層、反
射層、感度強化層（ガス発生層）などを挙げることがで
きる。

中間塗布層が断熱層である場合には、例えばポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロール・アクリルアミド共重合体、スチ
レン・ビニルトルエン共重合体、塩素化ポリエチレン、
クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポ
リ塩化ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル
・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
、ポリエチレン、ボリブロビレン、ボリカーボネート、
弗素化ボリオレフィンなどの高分子物質を溶剤に溶解し
た塗布液を用いて形成させることができる。好ましくは
、弗素化ポリオレフィン、塩素化ポリエチレンもしくは
ニトロセルロースを用いた塗布液であり、特に好ましく
は、塩素化ポリエチレンである。

中間塗布層の層Ｊ！ｉ（平均層厚）は、中間層に要求さ
れる特性を考慮して決定されている。中間塗布層の層厚
は通常は１００〜１０００大の範囲にある。

上記のように形成された中間層、好ましくは塩素化ポリ
エチレン層により、レーザビームの照射による熱エネル
ギーが記録層から基板へ熱伝導によって損失するのを低
減することができ、かつ塩素化ポリエチレン層の被照射
部分からガスが発生するため、ビットの形成が容易とな
り記録感度を高めることができる． 塩素化ポリエチレン層を設ける際、塩素化ポリエチレン
を溶剤に溶解させた塗布液の濃度は０．１〜０．４％の
範囲内に在ることが好ましい。この塗布液の濃度が０．
１％未満の場合は、塩素化ポリエチレン層のピットの形
成を容易にする働き等の感度強化層の役割が低下して好
ましくない。

また、０．４％を越える場合は、塩素化ポリエチレンの
塗布液を塗布する際、塗布ムラが出来易くなり、このた
め同一ディスク上で感度のバラつきが生じたり、バース
トエラーが増加したりして好ましくない。

基板上または中間層の上には、記録層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ、Ｚｎ，Ｉ
ｎ，Ｓｎ，Ｚｒ％Ａ尼、Ｃｕ％Ｇｅ等の金属；Ｂｉ，Ａ
ｓ，Ｓｂ等の半金属；Ｇｅ，Ｓｉ等の半導体；およびこ
れらの合金またはこれらの組合せを挙げることができる
。また、これらの金属または半金属の硫化物、酸化物、
ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物等の化合
物；およびこれらの化合物と金属との混合物も記録層に
用いることができる。またシアニン系色素等の色素類を
記録層に用いてもよく、ざらに相変化記録に用いられる
高分子化合物等を用いてもよい。

本発明に使用される色素はとしては、例えば、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオビ
リリウム系色素、アズレニウム系色素，スクワリリウム
系色素、Ｎｉ，Ｃｒなとの金属錯塩系色素，ナフトキノ
ン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素
、イントアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、
トリアリルメタン系色素、アルミニウム系・ジインモニ
ウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることができる
。

記録層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティングなどの方法によって基板上または中
間塗布層上に形成することができる。色素類あるいは高
分子化合物等は塗布により設けることができる。所望に
より、中間層のｒに下塗り層を介在させてもよい。記録
層は単層または亀層でもよいが、その層厚は光情報記録
に要求される光学濃度の点から一般に１００乃至５５０
０又の範囲である。

上記記録層の上に所望により反射層が設けられてもよい
。

反射層の材料としては、例えば、Ｍｇ，Ａ旦、Ｃｒ％　
Ｓｎ，Ｚｎ１　Ｎｉ．Ｇｅ％　Ｉ　ｎ％　Ｃｏ，Ｐｂ．
Ｓｅ，Ｙ，Ｔｉ．Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ、Ｍｏ，Ｗ，Ｍ
ｎ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ、Ｒｕ，　　Ｒｈ，　　Ｉ
　　ｒ，　　Ｃｕ，　　Ｇａ，　　Ｓｉ，　　Ｔｅ，Ｐ
ｂ，Ｐｏ，Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることが
できる。これらは、一種または組合せて用いることがで
きる。

反射層は、たとえば上記金属等の材料を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には５０〜ＩＯＯＯＸの範囲にある
。好ましくは５０〜５００Ｘの範囲である。

上記記録層（または反射層）上には、情報記録媒体全体
を物理的および化学的に保護するための保護層を設ける
ことが必要である。また、この保護層は、基板の記録層
が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果
も有する。

本発明の第一および第二の保護層は、重合性一重結合を
有するモノマーおよび／またはオリゴマーを紫外線また
は電子線の照射により硬化させることにより形成される
ものである。

本発明の用いられる重合性二重結合を有するモノマーお
よびオリゴマーとしては下記の（ａ〉〜（ｊ）の（メタ
）アクリレートを挙げることができる。

（ａ）脂肪族、脂環族および芳香族の２〜６価の多価ア
ルコールおよびボリアルキレンゲリコールのポリ（メタ
）アクリレート； 例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１
．３−または１．４−ブタンジオール、ヘキサンジオー
ル、ネオベンチルグリコール、シクロヘキサンジオール
、トリメチロールエタン、トリメチロールブロバン、グ
リセリン、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジベ
ンタエリスリトール、水素化ビスフェノールＡなどの多
価アルコールおよびジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのような多価アルコールのポリ（メタ
）アクリレートが挙げられる。

（ｂ）脂肪族、脂環族および芳香族の２〜６価の多価ア
ルコールにアルキレンオキサイドを付加させた形の多価
アルコールのポリ（メタ）アクリレート； 例えばビスフェノールＡジオキシエチルエーテルなどの
ように、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、グリセリン、ビスフェノールＡなどの多価アルコー
ルにエチレンオキサイドやブロビレンオキサイドを付加
させて得られる多価アルコールのポリ（メタ）アクリレ
ートがあげられる。

（Ｃ）ポリ（メタ）アクリロイルオキシアルキルリン酸
エステル： ヒドロキシル基含有（メタ〉アクリレートと五酸化リン
との反応によって得られ、例えばボリ（メタ）アクリロ
イルオキシエチルリン酸エステル、ポリ（メタ）アクリ
ロイルオキシブロビルリン酸エステルなどがあげられる
。

（ｄ）ポリエステルボリ（メタ）アクリレ−ト　　： ポリエステルポリ（メタ〉アクリレートは通常（メタ）
アクリル酸と多価アルコールと多価カルボン酸とをエス
テル化することによって合成される。ポリエステル型多
価アルコールのポリ（メタ）アクリレートが主成分であ
ると想定される。

例えばコハク酸とエチレングリコールとのポリエステル
ジオールのジ（メタ〉アクリレート、マレイン酸とエチ
レングリコールとのポリエステルジオールのジ（メタ〉
アクリレート，フタル酸とジエチレングリコールとのポ
リエステルジオールのジ（メタ）アクリレート、アジビ
ン酸とトリエチレングリコールとのポリエステルジオー
ルのポリ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸
とトリメチロールブロバンとのポリエステルボリオール
のポリ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸と
ペンタエリスリトールとのポリエステルボリオールのボ
リ（メタ〉アクリレートなどがあげられる。これらポリ
エステルボリ（メタ）アクリレートの中では、フタル酸
のような芳香族多価カルボン酸系のものよりも、脂肪族
または脂環族多価カルボン酸系のポリエステルポリ（メ
タ）アクリレートを持ちいた場合の方が架橋硬化物の耐
候性、強靭性などの物性に優れる利点がある。

（ｅ）エポキシボリ（メタ）アクリレート；分子中に２
個以上のエボキシ基を有するエポキシ樹脂に、エボキシ
基とほぼ当量の（メタ）アクリル酸、カルボキシル基を
有する（メタ）アクリレート、もしくは（メタ）アクリ
ル酸またはカルボキシル韮をもつ（メタ）アクリレート
と多塩基酸との混合物を反応させることによって合成さ
れる。あるいはエボキシ基含有（メタ）アクリレートに
多価カルボン酸を反応させるなどの方法もある。

例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル型、グリ
セリンジグリシジルエーテル型、ポリアルキレングリコ
ールジグリシジルエーテル型、多塩基酸ジグリシジルエ
ステル型、シクロヘキセンオキサイド型などの各エボキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸との付加反応生成物などが
あげられる．（ｆ）ポリウレタンボリ（メタ）アクリレ
ート　　； 主鎖にポリウレタン結合単位を有する多価アルコールの
（メタ）アクリレートの構造を有し、通常ヒドロキシル
基含有（メタ）アクリレートと、ポリイソシアネート及
び必要により多価アルコールとを反応させるなどの方法
で合成される。

例えば２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレートま
たは２−ヒドロキシプロビル（メタ）アクリレートとジ
イソシアネートとの付加反応生成物、２−ヒドロキシル
エチル（メタ）アクリレートとジイソシアネートと２価
アルコールとの付加反応生成物などがこの例に相当する
。

（ｇ）ポリアミドボリ（メタ）アクリレート；主鎖にボ
リアミド結合単位を有する多価アルコールの（メタ）ア
クリレートの構造を有し、通常、ポリアミド型多価カル
ボン酸にヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート又はエ
ボキシ基含有（メタ）アクリレートを反応させるか、ポ
リアミド型多価アルコールに（メタ〉アクリル酸を反応
させるなどの方法で合成される． 例えばエチレンジアミンとフタル酸との反応によって得
られるボリアミド型多価カルボン酸と２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレートまたはグリシジル（メタ）ア
クリレートの反応生成物などがこの例に相当する。

（ｈ）ポリシロキサンボリ（メタ〉アクリレ−ト　　： 主鎖にボリシロキサン結合単位を有する多価アルコール
の（メタ）アクリレートの構造を有し、通常ポリシロキ
サン結合単位を有する多価アルコールに（メタ）アクリ
レートを反応させるなどの方法で合成される。

（ｉ）側釦及び／又は末端に（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有するビニル系又はジエン系低重合体； ビニル系又はジエン系低重合体の側鎖又は末端に、エス
テル結合、ウレタン結合，アミド結合、エーテル結合な
どを介して（メタ）アクリロイルオキシ基が結合されて
いる構造を有する。通常側鎖または末端にヒドロキシ韮
，カルボキシル基、エボキシ基等を有する低重合体に、
これらの基と反応性の（メタ）アクリル酸、カルボキシ
ル基含有（メタ）アクリレート、ヒドロキシル基含有（
メタ）アクリレート、エボキシ基含有（メタ）アクリレ
ート、イソシアネート基含有（メタ）アクリレート、ア
ミノ基含有（メタ〉アクリレートなどを反応させること
によって合成される。

例えば（メタ）アクリル酸と他のビニルモノマーとの共
重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた
反応生成物などがあげられる。

なお、この系に属する架橋性オリゴマーは、分子量が高
くなると一般に高粘度または固体状になり易いので、後
記のように液体低粘度のモノマー（架橋性単量体〉など
に溶解して用いるか、もしくは低分子量（通常数平均分
子ｉ３　０　０　０以下）の液体オリゴマーを用いるこ
とが好ましい。

（ｊ）前記（ａ）〜（ｉ）記載の架橋性モノマーの変性
物； 上記の各架橋性単量体中に残存するヒドロキシル基又は
カルボキシル基の少なくとも一部を、これらの基と反応
性の酸クロライド、酸無水物、イソシアネート又は、エ
ボキシ化合物と反応させることによって変性した変性物
であり、変性の方法及び具体例は例えば特開昭４９−１
２８９９４号公報、特開昭４９−１　２８０８８号公報
などに示される。

化合物としては次のようなものである。

１　）　ＣＨ　２　＝ＣＨ　　Ｃｏｏ−Ｃ　Ｂ　｝１２
ｎ＊１ただし、ｎは１〜１２の整数 ｉｉ）　ＣＩ＋　２　＝　ＣＭ　−　ＣＯＯ−ｑｃＨ　
，　ＣＨ　２　０｝−ＲＲ　＝　Ｃ　１１　８　ｌｎ　
−１　−ただし，ｎは１〜１２の整数 ｎは０、！、４、８、９ ｉｉ　ｉ）　　ＣＩ＋　，　＝　（：ｌＩ　−　ＣＯＯ
→ＣＨ　ｔ　ＣＨ　２　０｝ｙ−ＲＲ　＝Ｃ　！ｌ　　
Ｈ　ｉｎ−１　− ただし，ｎは１〜１２の整数 ｎは０、１、４、８、９ ｉｖ）　ｉｉ）及びｉｉｉ）の−ＣＨ２ＣＨ２０　−Ｍ
４をＣｌｆ． １ −　（：ｌｌ　２−　Ｃｌｌ−　０−鎖に変えたものｖ
）ＣＨ　　２　＝ＣＨ−Ｃｏｏ−Ｘ−ＯＨＣＨ， ｌ Ｘ　＝　−　ＣＨ　２　Ｃｌｌ　２　−、　−　ＣＩ１
　２ＣＩｌ一−　ＣＨ，　ＣＩ１−　０　　− 〕 Ｃｌｌコ ｖｉ）その他 テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジシクロベンタ
ジエニロキシエチルアクリレート水添ジシクロベンタジ
エニロキシエチルアクリレート Ｒｌ　　：−ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ， −ＣＨ　　２ＣＨＣ｝ｉ　　，、 ｛ ＯＨ −ＣＨ　　３ ｖｉｉｉ）　Ｎ−ビニルビロリドン ｉＸ）イソビニルアクリレート、ジシクロベンタジエニ
ルアクリレート．水添ジシクロベンタジエニルアクリレ
ート Ｘ）スチレン これらオゴリマー、モノマー（単官能ビニル化合物）は
、被着材、ディスク構造等に応じ単独もしくは適宜混合
して用いることもができる。

光重合開始剤は紫外線で硬化させる場合に必要であり（
電子線硬化には必要としない）、例としてはペンゾイン
アルキルエーテル、ペンジルケタール、アセタール類、
アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、キサン
トン誘導体、ベンズアルデヒド誘導体などを挙げること
ができる。

また増感剤として使用することのできる化合物の具体例
としては、ベンゾインエチルエーテル、ペンゾインイソ
ブロビルエーテル、ペンゾインイソブチルエーテル、ペ
ンゾフエノン、ベンジル、２．２−ジメトキシー２−フ
エニルアセトフエノン％　２，２−ジメトキシ−２−ヒ
ドロキシアセトフェノン、ジフェニルジスルフィド、２
−ヒドロキシ−２−プロビオフェノン、４，４゜−ビス
ジエチルアミノベンゾフエノン、ジメチルアミノベンズ
アルデヒド、エチル−４．４゜　−ビスジメチルアミノ
ベンゾフエノン、エチルアントラキノン、２−クロロチ
オキサントンなどを挙げることができる。これらの増感
剤は単独でも、あるいは適宜組合わせても使用すること
ができる。

又必要に応じてシランカップリング剤を用いることがで
きる。シランカップリング剤としては、エポキシシラン
系のシランカップリング剤、例えばγ−グリシドキシブ
ロビルトリメトキシシラン、β−（３．４−エボキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、アミノシラ
ン系のシランカップリング剤、例えばＮ一β−アミノエ
チルーγ−アミノプロビルトリメトキシシラン、Ｎ−β
−アミノエチルーγ−アミノブロビルメチルジメトキシ
シラン、ビニルシラン系のシランカップリング剤、例え
ば、γ−メタクリロキシブロビルトリメトキシシランな
どが好ましい。

上記オリゴマーおよびモノマーを含む塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。

上記塗布液を紫外線にて硬化させる場合、高圧水銀等な
どを用いて、０．１〜６０秒間、その塗布層に紫外線を
１〜１００ｃｍの距離から照射することにより硬化させ
て、第一または第二の保護層を形成することができる。

電子線により硬化させる場合は、線型加速装置、ハンデ
グラフ加速器などの電子加速装置を用いて行なわれる。

上記第一の保護層はヤング率がＩＸＩＯ’〜５ｘ　１　
０　’　ｄｙｎｅ／ｃ１の範囲の値を有する柔軟性のあ
る膜であることが必要である。好ましくはヤング率がＩ
　Ｘ　１　×１０６　〜ｉ　Ｘ　１　×１０６　ｄｙｎ
ｅ／ｃｓ”の範囲である。このような第一の保護層を形
成するには、上記に示した材料を適宜組合せることによ
り可能であるが、好ましくは、ポリウレタン系オリゴマ
ーおよびポリエステル系オリゴマー等の柔軟性のあるオ
リゴマーで使用することで、この際粘度調整あるいは物
性調整の目的で上記多官能性モノマーあるいは単官能性
モノマーを併用することが好ましい。

また上記第二の保護層はヤング率がＩＸＩＯ”以上の値
を有する強靭性のある膜であることが必要である。好ま
しくは、ヤング率がＩＸＩＯ１０〜Ｉ　Ｘ　１　０　”
ｄｙｎｅ／ｃｍ２の範囲である。コノような第二の保護
層を形成するには、上記に示した材料を適宜組合せるこ
とにより可能であるが、好ましくはモノマーとしてペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレートおよびトリメチロールブロバン
トリアクリレート等の架橋密度を高める多官能モノマー
を用いることで、この際粘度調整あるいは物性調整の目
的で上記多官能性モノマーあるいは単官能性モノマー、
中でも１．６−ヘキサンジオールジアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルへキシル
アクリレート等を併用することが好ましい。

保護層の層厚は第一および第二が共に、０．１〜１００
μｍの範囲が好ましい。第一に対する第二の保護層の層
厚比は、１／５〜５／ｌ（第二／第一〉の範囲にあるこ
とが、優れた耐久性と記録再生特性を得る上で好ましい
。

基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面にも、上
記保護層または下記の材料からなる保護層が設けられて
もよい。その材料の例としては、無機物質としては、Ｓ
ｉＯ，Ｓｉ０２、Ｓｉ３Ｎ４，ＭｇＦ，、Ｓｎ０２等を
挙げることができる。また、有機物質としては、熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂等を挙げることができる。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して共板裏側にラ
ミネートすることにより形成することができる。

次に、本発明の情報記録媒体に情報を記録および再生す
る方法を、ＣＤフォーマットデジタル信号の記録を例に
とって説明する。

まず、情報記録媒体を１．２〜２．８ｍ／秒の範囲内の
一定の線速度（ＣＤフォーマット信号でない場合は角速
度もある）で回転させながら、基板側から半導体レーザ
ー光などの記録用の光を照射する。一般に、記録光とし
ては７５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導
体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録媒体
では、１０ｍＷ以下のレーザーバワーで記録することが
でき、高感度である。

上記の記録方法により、記録層には、同心円状もしくは
スパイラル状にＣＤフォーマットデジタル信号がピット
形成等により記録される。

記録に際しては、トラッキング用プレグループを用いて
トラッキング制御を行なうことが好ましい。記録媒体に
プレグループが設けられている場合において、信号の記
録はグループの底部、もしくはグループ間の領域どちら
に行なってもよい。

この方法により、たとえば、信号面の内径が５０ｍｍ、
外径が１　１　５ｍｍの記録媒体では、６０分以上の記
録が可能である。

情報の再生は、記録媒体を上記と同一の定線速度で回転
させながら半導体レーザー光を基板側から照射して、そ
の反射光を検出することにより行なうことができる。

以上の情報の記録、再生方法は、本発明の記録再生方法
の一態様であり、本発明を限定するものではない。例え
ば線速度はもっと速い速度にて記録再生することも可能
であり、また角速度を一定にして記録再生を行なうこと
もできる。

以下余白 以下に、本発明の実施例および比較例を記載する．ただ
し、これらの各例は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１３０ｍｍ、内径：１５ｍｍ，厚さ：
　１．２ｍｍ，｝ラックピッチ：１．６μｍ）上に、下
記の中間層塗布液をスビンコート法により回転数７　０
　０　ｒｐ−の速度で１０秒間塗布した後、該基板をさ
らに１０００ｒｐ■の速度で１分間回転させることによ
り乾燥させ、膜厚が５００又の塩素化ポリオレフィンか
らなる中間層を形成した。

虫伺１巳Ｌ征掖 塩素化ポリエチレン　　　　　　　０．３重量部メチル
エチルケトン　　　　　　１０．０重量部シクロヘキサ
ン　　　　　　　１００．０重量部上記中間層上に、Ａ
ｕ、ＩｎおよびＧｅＳを重量比で、Ａｕ：　Ｉｎ：Ｇｅ
Ｓ＝３５：４０：２５の割合でスパッタリングすること
により層厚が１　０００Ｘの記録層を形成した．この際
、Ａｕの蒸発源に流れる加熱用電流を制御してＡｕの濃
度が基板側で高く，記録層の表面に近づくにつれて低く
なるようにした。なお、形成された基板側表面における
Ａｕ濃度は８０重量％である。

上記記録層上に、下記の第一の保護層形成用塗布液をス
ピンコート法により回転数１　０　０　０　ｒｐｍの速
度で１０秒間塗布した後、高圧水銀灯（２ＫＷ）を用い
て記録層上１０ｃｍの距離から紫外線照射を１０秒間行
ない層厚ｌＯμｍの第一の保護層を形成した。

一の　＝　　〉　　二　゛ Ｍ−１３００　　　　　　　　　　　　５０重量部（ウ
レタンアクリレート： 東亜合成化学工業■製） Ｍ−５７００　　　　　　　　　　　　２５重量部（東
亜合成化学工業■製） Ｍ−１５０　　　　　　　　　　　　　２５重ＪＵＬＳ
（東亜合成化学工業■製） ベンゾインエチルエーテル　　　　　　２重量部さらに
、第一の保護層上に第二の保護層形成用塗布液として＃
ＵＶ−３７０１　（束亜合成化学工業■製）を用いてス
ピンコート法により回転数１　０　０　０　ｒｐＩ１の
速度で１０秒間塗布した後、高圧水銀灯（２κＷ）を川
いて記録層上１０ｃｍの距離から紫外線照射を１０秒間
行ない層厚５μｍの第二の保護層を形成した。

このようにして、基板、記録層、第一の保護層および第
二の保護層からなる情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、第一の保護層を上記紫外線硬化型塗
布液に代えて、下記の熱硬化保護層用塗布液をスビンコ
ート法により回転数１０００ｒｐ箇の速度で１０秒間塗
布した後、該基板を１２０℃で４時間加熱することによ
り硬化することにより、膜厚２μｍの層として形成した
以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した。

．　　　　　　　　　　　　　　′ 未硬化液状ウレタンゴム　　　　　１００重量部（ニッ
ポラン４０３２、日本ポリウレタン■製）トリレンジイ
ソシアネート　　　　　　５重量部（Ｔ−６５） ［情報記録媒体の評価］ １）上記で得られた情報記録媒体について、記録時のレ
ーザーバワー（記録パワー）を変化させて、線速度１．
３ｍ／秒、変調周波数７２０ｋＨｚおよびデューティ３
３％にて記録を行ない、Ｃ／Ｎの測定をスベクトラムア
ナライザー（ＴＲ４１３５：アドバンテスト社製）を用
いて、ＲＢＷ＝３０ｋＨｚ％ＶＢＷ＝１００｝１ｚ，再
生パワー０．８ｍＷにて行なった。上記測定により最大
のＣ／Ｎを得られた時のレーザーパワーとそのＣ／Ｎを
求めた。

２）得られた情報記録媒体を高温高湿（８０℃、９０％
ＲＨ）下に１０日間保存した後、上記レーザーバワーと
Ｃ／Ｎを求めた。

３）得られた情報記録媒体に形成された第一および第二
の保護層の有するヤング率を求めるためＪＩＳκ７　１
　２　７−１９６９に従って次のように試料を作成して
測定を行なった。

それぞれの保護層形成用塗布液をテフロンシ一ト上にバ
ーコーターを用いて塗布し、上記実施例または比較例で
行なったように該塗布層を硬化させて面積が２５０Ｘ２
５０ｍｍで層厚１０μｍの硬化膜を形成した。該硬化膜
をテフロンシ一トより剥離し、全長２００ｍｍ、幅１０
ｍｍの長方形のサンプルを作成した。サンプルはそれぞ
れ１０点用，徴した。

上記サンプルを引張試験機（　ＴＥＮＳＩＬＯＮ　ＵＴ
Ｍ−　ｍ一５００，東洋ボールドウィン■製）に装着し
て、引張速度１０■／分にて引張試験を行なった。

上記引張試験の結果から、各サンプルについて引張応力
−ひすみ（荷重一伸び）曲線を作成し、その初めの直線
部分を用いて引張弾性率を算出した。

Δ　σ Ｅ鵬　＝ Δ　ε Ｅ−：引張弾性率（　Ｎ　／ａｍ”） Δａ：直線上の２点間の元の平均断面積による応力の差
（　Ｎ　／ｓｍ２） Δε：同じ２点間のひずみの差 Ｌ記Ｅｍを、Ｅｍ　　（Ｎ／ｍ＋ａ’）　Ｘ　１　０３
によりＥ　ｖａ’　（ｄｙｎｅ／ｃｍ”）に換算し、上
記１０サンプルの゛ト均値を表記した。

１１られた測定結果を第１表に示す。

第１表 感度　Ｃ／Ｎ　　感度　Ｃ／Ｎ　　ヤング率（ｍＷ）　
　（ｄＢ）　　（ａｌｌ）　　（ｄＢ）　　（ｄｙｎｅ
／ｃｍ２）［保存後］７ｌＩＪ−／第 上記第１表より明らかなように、本発明の製遣方法によ
り得られた情報記録媒体（実施例ｌ）は、製造時間が大
幅に短縮されたにも拘らず、従来の方法により得られた
情報記録媒体に比鮫して感度、Ｃ／Ｎ等の記録再生特性
が劣っていない。

むしろ、少し優れた特性を示している。

従って、本発明の情報記録媒体は、容易に簡便な製造方
法にて得られ且つ記録再生特性等も優れたものであるこ
とが分かる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の一例を示す部分断而
の模式図である。 実施例ｌ ８ ５　０ ８ ５　０ ｌｘｌｏ’ ／　　３ｘ　１０１０ ｌ１：幕板、　　１２：記録層、 １３：第一の保護層、　　１４：第二の保護層比較例ｌ ８ ４　８ ８ ４　８ ＩＸ　１０８ ／　　３Ｘ１０１０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １。基板上に設けられたレーザーにより情報の読み取り
   および／または書き込みが可能な記録層の上に、重合性
   二重結合を有するモノマーおよび／またはオリゴマーの
   硬化物で、ヤング率が１×１０＾６〜５×１０＾９ｄｙ
   ｎｅ／ｃｍ＾２の範囲の値を有する第一保護層および重
   合性二重結合を有するモノマーおよび／またはオリゴマ
   ーの硬化物でヤング率が１×１０＾１＾０ｄｙｎｅ／ｃ
   ｍ＾２以上の値を有する第二保護層が、この順に設けら
   れていることを特徴とする情報記録媒体。 ２。基板上に、レーザーにより情報の読み取りおよび／
   または書き込みが可能な記録層を形成する工程、 該記録層上に、重合性二重結合を有するモノマーおよび
   ／またはオリゴマーを含む塗布液を塗布し、該塗布層に
   紫外線または電子線を照射することにより硬化させ、ヤ
   ング率が１×１０＾６〜５×１０＾９ｄｙｎｅ／ｃｍ＾
   ２の範囲の値を有する第一保護層を形成する工程、 そして第一保護層上に、重合性二重結合を有するモノマ
   ーおよび／またはオリゴマーを含む塗布液を塗布し、該
   塗布層に紫外線または電子線を照射することにより硬化
   させ、ヤング率が１×１０＾１＾０ｄｙｎｅ／ｃｍ＾２
   以上の値を有する第二保護層を形成する工程、 を含むことからなる情報記録媒体の製造方法。