JPS6347195A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、ヒートモート記録媒体に関するものてあり、
さらに詳しくは本発明は、高エネルギー密度のレーザー
ビームな用いて情報の書き込みおよび／または読み取り
ができる情報記録媒体に関するものである。

゛［発明の技術的背景および従来技術］近年において、
レーザービームの微小光点の集積である光像な記録する
ための情報記録媒体として、微小光点の熱効果を利用し
たヒートモード記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピューター用ディスク・メモ
リー、マイクロ画像形成、超マイクロ画像形成、コム（
ＣＯＭ）、マイクロファクシミリ、写真植字用原版等に
応用されている。

これらの記録媒体は、基本構造としてプラスチック、ガ
ラス等からなる透明基板と、この上に設けられたＢｉ、
Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録層
とを有する。なお、記録層が設けられる側の基板表面に
は通常、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上
あるいは光ディスクの感度の向上などの点から、高分子
物質からなる下塗層または中間層が設けられている。

記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザービー
ムをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、記録
層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する
結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光学的
特性を変えることにより情報か記録される。記録媒体か
らの情報の読み取りもまた、レーザービームな記録媒体
に照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。

また、最近ては記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造か提案されている。このような構造を
有する記録媒体では、記録層は直接外気に接することか
なく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー光で
行なわれるために、一般に記録層が物理的または化学的
な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して
情報の記録、再生の障害となることがない。

情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値が高いものであるが、記録層表面およびその
反対面である基板表面は微細な傷もしくは異物に起因す
る凹凸のない高度に平担な面であることが望まれている
。

情報記録媒体の情報面およびその反対面である基板表面
を傷や汚れから保護し高度に平担な面を得ることを目的
として、基板の情報面および／または該情報面とは反対
面となる基材表面に、活性エネルギー線硬化性不飽和二
重結合を有する千ツマ−の放射線硬化物を含む層を設け
、さらにこの層の上に活性エネルギー線硬化性不飽和二
重結合を有するプレポリマーの放射線硬化物を含む保護
層が設けられた情報記録媒体が既に提案されている（＃
開５Ｂ５９−８７６３７号公報）。

この記録媒体によれば、活性エネルギー線硬化性不飽和
二重詰合を有するモノマーあるいはプレポリマーの放射
線重合硬化反応により、低温て接着性に優れた放射線硬
化型樹脂硬化物を含む保護層を基板の情報面などの上に
設けることがてき、情報面などの微細な凹部な埋め平滑
面を得ることが可能である。

しかしながら、該公報に例示されている放射線硬化型樹
脂硬化物を含む保護層の表面硬度は、鉛筆硬度で２Ｈ程
度の硬度であり、保護層がこの程度の硬度では、実用上
基板表面あるいは記録層を機械的傷などから保護するた
めには充分であるとは言えず、保護層の耐摩耗性あるい
は耐傷性において改良が望まれる。

［発明の目的］ 本発明は、保護層が耐摩耗性および耐傷性に優れた情報
記録媒体を提供することを目的とするものである。

さらに本発明は、記録層表面およびその反対面である基
板表面が高度に平担てあって、欠陥にもとすく表面欠陥
率が少なく、また基板がガラスの場合、基板表面の析出
物の発生を防止した情報記録媒体を提供することも目的
とするものである。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、レーザーによる情報の書き込みお
よび／または読み取りが可能な記録層が設けられてなる
情報記録媒体において、該基板の記録層面および／また
は記録層が設けられた側と反対側の面上に放射線硬化型
樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシランを含有する
保護層が設けらていることを特徴とする情報記録媒体を
提供するものである。

［発明の効果］ 本発明は、基板の記録層面および／または記録層か設け
られた側と反対側の面上に設けられた保護層に放射線硬
化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシランを含有
させることによって、放射線硬化型樹脂硬化物の有する
利点を保持しつつ、オルガノアルコキシシランの併用に
よって表面硬度の高い保護層を得ることが可能である。

すなわち、本発明の情報記録媒体の保護層には放射線硬
化型樹脂硬化物がオルガノアルコキシシランと共に含有
されているため、放射線硬化型樹脂の低温重合硬化反応
によって保護層を記録層面上などに形成することができ
ると共に、オルガノアルコキシシランの高い硬度によっ
て、保護層の耐摩耗性および耐傷性を高めることが可能
である。

従って、本発明の情報記録媒体は、放射線硬化型樹脂の
重合硬化反応によって保護層と基板表面面あるいは保護
層と記録層面との接着力が極めて高い。

また本発明の情報記録媒体は、オルガノアルコキシシラ
ンの存在によって保護層の表面硬度が高く、耐摩耗性お
よび耐傷性に優れた情報記録媒体である。

さらに本発明の情報記録媒体は、記録層表面およびその
反対面である基板表面が高度に平担であって、欠陥にも
とすく表面欠陥率が大巾に減少し、また基板がガラスの
場合、基板表面の析出物の発生が極めて少ない情報記録
媒体である。

［発明の詳細な記述］ 以上に述べたような好ましい特性を有する本発明の情報
記録媒体は、たとえば以下のような方法により製造する
ことがてきる。

本発明の情報記録媒体の代表的な構成として、保護層、
基板、下塗層および／または中間層および記録層からな
る情報記録媒体について説明する。　　　・ 本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いやれている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス：セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ
樹脂：ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネ
ートを挙げることがてきる。

基板の記録層か設けられる側とは反対側の表面には、保
護層か設けられる。

本発明の保護層は、放射線硬化型樹脂硬化物およびオル
ガノアルコキシシランからなる層である。

放射線硬化型樹脂硬化物に用いられる千ツマ−（または
オリゴマーもしくはプレポリマー）は、アクリル系二重
結合、アリル系二重結合等の二重結合てあって、紫外線
、電子線照射により重合硬化反応し得る二重結合を有す
るものてあればよい。

モノマーとしては、（メタ）アクリル酸、エチル（メタ
）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１．６−ヘキサンゲリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレ
ン、アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート
、２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロビルアクリラード、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタアクリラー
ト、α、ω−ジアクリル−ビスプロピレングリコール−
３，６−ニンドメチレンテトラヒドロフタレート、α、
ω−ジアクリルービスエチレングリコールテトラヒトロ
フタレート、テトラエチレングリコールジアクリレート
、α、ω−ジアクリルービスジエチレンタリコールフタ
ラート、α、ω−ジメタクリルービスジエチレングリコ
ールフタラート、２，２゛−ビス（４−アクリロイロキ
シ−エトキシエトキシフェニル）プロパントリメチロー
ルプロパントリアクリラート、α、ω−テトラアクリル
ビストリメチロールプロパンテトラヒド口フタラート、
α、ω−テトラアクリル−ビストリメチロールプロパン
へキサヒドロフタラード、無水マレイン酸、マレイン酸
ジアリルおよびアジピン酸ジアリル等を挙げることがで
きる。

オリゴマーもしくはプレポリマーとしては、アジピン酸
／ｌ、６−ヘキサンジオール／アクリル酸、無水フタル
酸／プロピレンオキサイド／アクリル酸、トリメリット
酸／ジチレングリコール／アクリル酸のごとき（不飽和
）ボワエステルアクリレート；ビスフェノールＡ・エピ
クロルヒドリン型／アクリル酸、フェノールノボラック
・エピクロルヒドリン型／アクリル酸脂環型／アクリル
酸、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート
およびポリアセタールアクリレート等を挙げることがで
きる。

オルガノアルコキシシランは、一般式：％式％） で表わされる化合物である。たたし、上記一般式におい
て、Ｘは０〜３の整数、Ｒ１およびＲ２は、Ｃｎ　Ｈ２
ｎ　＋１　（ｎ　＝　１〜３　）もしくは、フェニル基
である。

オルガノアルコキシシランの具体例としては、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキ
シシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメ
チルシラン、プロポキシトリエチルシラン、メトキシト
リフェニルシラン、エトキシトリフェニルシラン、トリ
プロポキシフェニルシラン、テトラフェノキシシラン、
トリメチルフェノキシシランおよびフェニルトリフエノ
キシシラン等を挙げることができる。

これらのうちで、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトラプロポキシシランおよびテトラフェノ
キシシランが好ましい。

放射線硬化型樹脂硬化物とオルガノアルコキシシランの
混合比は重量比でＺｏｏ：１〜ｌＯＯ：１００の範囲内
にあることが好ましく、Ｚｏｏ：１〜１００：５０の範
囲内にあることが特に好ましい。

本発明の保護層は、上記放射線硬化型樹脂硬化物および
オルガノアルコキシシランとさらに熱可塑性樹脂との混
合物からなっていてもよい。

熱可塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体
のケン化物、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン酸
共重合体、ポリ酢酸ビニル、アセチルセルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリウレタン、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルピロ
リドン、アクリル樹脂、ポリビニルアクリルアミド、ポ
リカーボネート、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリフッ化ビニリデンおよびポリ三
フッ化塩化エチレン等を挙げることができる。

その他、光重合開始剤、シランカップリング剤、溶剤等
を必要に応じて使用することができる。

光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインイソブチ
ルエーテル、ジフェニルスルファイトおよびトリエチル
アミンなどを挙げることがてきる。これらは単独でも、
あるいは適宜組合わせても使用することができる。

保護層は、上記放射線硬化型樹脂およびオルガノアルコ
キシシランを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこ
の塗布液を基板上に塗布して設けることが可能である。

放射線硬化型樹脂およびオルガノアルコキシシランな溶
解するための溶剤としては、メタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソツチルケトン、ジアセトンアルコール
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、ジメチルホルムアミド、シンナーなどを挙
げることがてきる。これらの塗布液中には、さらに基板
との接着増強剤、可塑剤、滑剤、マット剤、帯電防止剤
、架橋剤など各種の添加剤を目的に応じて添加すること
も可能である。

塗布方法としては、スピンコード法、デイツプコート法
、エクストルージョンコート法、バーコード法、スクリ
ーン印刷法などを挙げることかできる。

上記塗布液を塗布して塗膜を形成したのち電磁放射線を
照射することにより、塗膜中の千ツマ−などを重合硬化
し、基板上に保護層を形成することかてきる。なお、重
合硬化後に重合硬化層を加熱乾燥することも可能である
。

使用される電磁放射線としては、紫外線および電子線な
どを挙げることがてきる。

保護層の層厚は一般に０．０１〜２０μｍの範囲内てあ
り、好ましくは０．１〜１０ＩＬｍの範囲内である。

保護層は、転写により基板上に設けることも可能である
。

転写により保護層を形成する方法は、例えば、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムなどの放射線透過性フィル
ム上に放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキ
シシランからなる層を層厚０．１〜３０１Ｌｍの範囲内
で塗布し、重合硬化後乾燥して設け、得られた転写フィ
ルムを基板表面に基材が熱変形する温度以下で、かつ放
射線硬化型樹脂硬化物か溶融する温度以上で圧着して形
成する方法を挙げることができる。

基板の保護層とは反対側の表面には、平面性の改善、接
着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗層
（および／または中間層）が設けられていてもよい。下
塗層（および／または中間層）の材料としては、たとえ
ば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリ
ル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポ
リビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、
スチレン・スルホン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、
クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポ
リ塩化ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル
・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等
の高分子物質；シランカップリング剤などの有機物質；
および無機酸化物（Ｓｉ０２、Ａ文２０３等）、Ｉ＃、
機部化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙げることがで
きる。

ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するためには、スチレン・無水マレイン酸共
重合体などの親水性基および／または無水マレイン酸基
を有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが
望ましい。

下塗層（および／または中間層）は、たとえば上記物質
を適当な溶剤に溶解または分散したのち、この塗布液を
スピンコード、デイツプコート、エクストルージョンコ
ート、バーコード、スクリーン印刷などの塗布法により
基板表面に塗布することにより形成することがてきる。

下塗層の層厚は一般に（ｍｏｌ〜２０ＪＬｍてあり、好
ましくは０．１〜１０＃Ｌｍである。

次に、基板（または下塗層もしくは中間層）上には記録
層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｎ、Ｔｉ、Ｃｕ。

Ｇｅ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金
属：Ｓｉ等の半導体：およびこれらの合金またはこれら
の組合せを挙げることができる。

また、これらの金属、半金属または半導体の硫化物、酸
化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物等
の化合物；およびこれらの化合物と金属との混合物も記
録層に用いことができる。あるいは、色素、色素とポリ
マー、色素と前掲の金属および半金属との組合わせを利
用することもてきる。

記録層が金属、半金属、半導体あるいはこれらの硫化物
、酸化物および窒化物等の化合物の場合には、該材料を
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティングなどの方
法により形成することがてきる。

また、記録層が色素あるいは色素とポリマーなどからな
る場合には、たとえば色素あるいは色素とポリマーとの
混合物を適当な溶剤に溶解または分散したのち、この塗
布液をスピンコード、デイツプコート、エクストルージ
ョンコート、バーコード、スクリーン印刷などの塗布法
により基板（または下塗層もしくは中間層）表面に塗布
することにより形成することができる。

記録層は単層または重層てもよいが、その層厚は光情報
記録に要求される光学濃度の点から一般に１００〜５５
００又の範囲であり、好ましくは１５０〜１０００＾の
範囲である。

記録層の上には、機械的強度の向上などの目的て、たと
えばゼラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体およ
びポリサッカライド等の天然高分子物質ニラテックス状
ビニルポリマー、エチレン・酢酸ビニル共重合体等の合
成高分子物質などからなる保護膜が設けられていてもよ
い。

このようにして、保護層、基板、下塗層および／または
中間層および記録層がこの順序で積層された基本構成か
らなる情報記録媒体を製造することができる。

本発明の情報記録媒体は、上記基本構成の外に、基板、
下塗層および／または中間層、記録層および記録層の上
にさらに保護層を設けた構成、あるいは保護層、基板、
下塗層および／または中間層、記録層および保護層を設
けた構成とすることも可能である。

記録層の上に設けられた保護層は、放射線硬化型樹脂硬
化物およびオルガノアルコキシシランからなる層である
。

放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシラ
ンのそれぞれの例としては、前掲のものを挙げることが
できる。

放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシラ
ンを溶解するための溶剤および塗布液の塗布方法、そし
て塗膜中のモノマーなどの重合硬化方法などは前掲と同
様の方法を用いることかてきる。

また、情報記録媒体の構成が基板、下塗層および／また
は中間層、記録層および保護層の場合には、基板の記録
層が設けられる側とは反対側の表面には基板表面の耐傷
性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化ケイ素
、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質からなる
薄膜が真空蒸着、スパッタリング等により設けられてい
てもよい。

なお、基板上にはレーザービームのトラッキング用溝や
アドレス信号などの情報を表わす凹凸が予め設けられて
いてもよい。このような溝および凹凸を設ける方法とし
ては、溝または凹凸を有する原盤から射出成形法により
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等のプラ
スチック基板を作製する方法がある。この場合に中間層
は、この溝、凹凸を有する基板上に前述の方法により塗
設することがてきる。

また、溝、凹凸を設ける別の方法としては、基板と原盤
との間に光硬化性樹脂からなる塗膜を設けて光硬化させ
たのち、原盤を剥離させる方法（２Ｐ法）がある。この
場合には、中間層を予め原盤に塗設したのち光硬化性樹
脂をＭ盤と基板との間に挟み込み、光照射後、原盤を剥
離させて光硬化性樹脂層上に中間層が設けられた構造を
得ることができる。

後者の方法に使用される光硬化性樹脂の代表的な例とし
ては、光重合性子ツマ−（および／またはオリゴマー）
と光重合開始剤等との混合物が挙げられる。光重合性モ
ノマー（オリゴマー）としては、エチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のメ
タクリル酸エステル、アクリル酸エステルなど公知の材
料を単独てまたは組み合わせて用いことができる。また
、光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイン
メチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル、アン
スラキノン等のキノン類など従来公知の材料を好適に用
いることができる。

なお、貼り合わせタイプの記録媒体は、上記構成を有す
る二枚の基板を接着剤等を用いて接合することにより製
造することができる。また、エアーサンドイッチタイプ
の記録媒体においては、二枚の円盤状基板のうちの少な
くとも一方が上記構成を有する基板を、リング状の外側
スペーサと内側スペーサとを介して接合することにより
製造することがてきる。

また、ポリエステル支持体に中間層、記録層および保護
層を設けることによってウェブ状のレーザー記録感材を
製造することがてきる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

［実施例１］ 二枚のソーダ石灰ガラス板（厚さ＝１．３ｍ　ｍ　）の
それぞれに下記に示す組成の塗布液な塗布し、２ＫＷの
紫外線ランプで９０秒間照射して樹脂の重合硬化反応を
行ない、１２０°Ｃで１０分間乾燥して、乾燥後の層厚
が５０００又の保護層を形成した。

塗布液組成（重量部） テトラメトキシシラン　　　　　　　　１５５部ビニラ
イトＭＣＨ６０部 （塩化ビニル・酢酸ビニル・ ビニルアルコール） ポリエステルアクリレート　　　　　　３５部トリメチ
ロールプロパン　　　　　　　　５部トリアクリレート アセトフェノン　　　　　　　　　　　　１部トルエン
　　　　　　　　　　　　　　１２５部メチルエチルケ
トン　　　　　　　　１２５部次いで、ガラス基板の保
護層が設けられている側とは反対側の表面に、真空蒸着
法によりＩｎ２５０ＸおよびＧｅ５２００又を共蒸着さ
せて、層厚が４５０又の記録層を形成した。

このようにして、順に保護層、基板および記録層から構
成された基板を二枚製造した。

これら二枚の基板を記録層を内側にして、窒素ガス雰囲
気下で、外径３０５　ｍ　ｍ、内径３００ｍｍのリング
状外側スペーサおよび外径４０ｍｍ、内径３５　ｍ　ｍ
のリング状内側スペーサを介して、紫外線硬化型エポキ
シ接着剤て接着した後、ＩＫＷの高圧水銀灯を用いて３
０ｃｍの高さから両面同時に紫外線を２分間照射するこ
とによりエアーサンドイッチ型の情報記録媒体を製造し
た。

［比較例１］ 実施例１において、塗布液組成をポリエステルアクリレ
ート３５部、トリメチロールプロパントリアクリレート
５部、ビニライトＶＭＣＨ（塩化ビニル・酢酸ビニル・
ビニルアルコール）６０部、アセトフェノン１部、トル
エン１２５部およびメチルエチルケトン１２５部とした
以外は、実施例１の操作と同様に操作して保護層付設基
板を作成し、さらにこの基板を用いてエアーサンドイッ
チ型の情報記録媒体を製造した。

［比較例２］ 実施例１において、塗布液組成をテトラメトキシシラン
１５部、ビニライトＶＭＣＨ（塩化ビニル・酢酸ビニル
・ビニルアルコール）６０部、アセトフェノン１部、ト
ルエン１２５部およびメチルエチルケトン１２５部とし
た以外は、実施例１の操作と同様に操作して保護層付設
基板を作成し、さらにこの基板を用いてエアーサンドイ
ッチ型の情報記録媒体を製造した。

［情報記録媒体の評価］ 得られた各情報記録媒体について、保護層の表面硬度、
単位面積当りの欠陥個数、表面粗さおよび析出物の発生
の評価を行なった。

表面硬度は、鉛筆硬度についてＪ　Ｉ　Ｓ−に−５４０
１に準じて測定した。硬度は、鉛筆（Ｊ　Ｉ　Ｓ−６０
０６）を用いて１０００±５０ｇの重りを乗せた塗膜用
鉛筆引かき試験機て重心を通る鉛直線に痕跡の認められ
る鉛筆の硬さて判定した。

欠陥個数（個数／　ｃ　ｒｎ’　）は、エアーサンドイ
ッチ型情報記録媒体を湿度６５％、温度２５℃の室内に
５日間放置した後、５００ｒｐｍて回転させ、内径１０
９ｍｍから１２８ｍｍまでを記録層表面で約１．６ｐｍ
の直径となるように集光したレーザー光てスキャンして
反射光を測定して評価した。欠陥個数の測定装置は、既
知の粒子サイズを有するポリスチレンコロイド粒子を塗
布した標準サンプルを用いてあらかじめキャリブレイシ
ョンを行ない、レーザー出力レベル（ａ）０．０９Ｖ、
（ｂ）０．３３Ｖでそれぞれ０．３１部ｍ以上Ｓよび１
ｇｍ以上の欠陥の個数／ｃｒｒｆを検出する装置である
。

保護層および中間層の表面粗さくｕＬｍ）は、東京精密
■製のサーフコン表面粗さ計で測定した。

析出物の発生は、エアーサンドイッチ型情報記録媒体を
温度６０°Ｃて９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、５日間
経過した後、発生した析出物の数を測定して評価した。

評価の基準は、直径２．５ｍｍ内の析出物の発生個数が
０個のときをＡ、１〜５個のときをＢ、６個以上のとき
をＣて示した。

得られた結果をまとめて第１表に示す。

第１表 実施例１　比較例１　比較例２ 鉛筆硬度　　　　５８　　　　　　Ｈ２Ｈ欠陥個数ａ　
　　’ｙｘ　１０２９ｘ　１０　’　　７Ｘ　１０　’
ｂ　　　８ｘ　１０　’　　９ｘ　１０２８ｘ　１０２
表面粗さ　　　　０．０２　　　０．０２　　　０．０
２析出物　　　　　Ａ　　　　　　Ｂ　　　　　Ｂ第１
表に示された結果から明らかなように、本発明の基板か
ソーダ石灰ガラス板であって、テトラメトキシシランと
紫外線硬化型樹脂（ポリエステルアクリレートおよびト
リメチロールプロパントリアクリレート）硬化物を含有
する保護層か基板の記録層と反対側の表面に設けられた
情報記録媒体（実施例１）は、比較のための保護層が紫
外線硬化型樹脂硬化物を含有し、テトラメトキシシラン
を含有しない情報記録媒体（比較例１）および保護層が
テトラメトキシシランを含有し、紫外線硬化型樹脂硬化
物を含有しない情報記録媒体（比較例２）よりも表面硬
度（鉛筆硬度）か極めて高く、また、基板表面の析出物
の発生も少なかった。

さらに本発明の情報記録媒体（実施例ｉ）は、比較のた
めの情報記録媒体（比較例１）よりも欠陥個数が減少し
た。

［実施例２］ 実施例１において、ソーダ石灰ガラス板の代りにセルキ
ャストポリメチルメタクリレート板（厚さ：１．５ｍｍ
）を用い、塗布液組成としてテトラメトキシシランの代
りにテトラエトキシシランを用いること以外は、実施例
１の操作と同様に操作して保護層付設基板を作成し、さ
らにこの基板を用いてエアーサンドイッチ型の情報記録
媒体を製造した。

［比較例３］ 実施例２において、塗布液組成をポリエステルアクリレ
ート３５部、トリメチロールプロパントリアクリレート
５部、ビニライトＶＭＣＨ（塩化ビニル・酢酸ビニル・
ビニルアルコール）６０部、アセトフェノン１部、トル
エン１２５部およびメチルエチルケトン１２５部とした
以外は、実施例２の操作と同様に操作して保護層付設基
板を作成し、さらにこの基板を用いてエアーサンドイッ
チ型の情報記録媒体を製造した。

以下余白 ［情報記録媒体の評価］ 得られた各情報記録媒体について、前述と同様にして、
保護層の表面硬度、単位面積当りの欠陥個数および表面
粗さを評価した。

得られた結果をまとめて第２表に示す。

第２表 実施例２　　　比較例３ 鉛筆硬度　　　　４Ｈ２１（ 欠陥個数ａ　　　ａｘ　１０２９Ｘ　１０　’ｂ　　　
９Ｘ　１０　’　　　　　９Ｘ　１０　’表面粗さ　　
　　０．０２　　　　　０．０２第２表に示された結果
から明らかなように、本発明の基板かセルキャストポリ
メチルメタクリレート板であって、テトラエトキシシラ
ンと紫外線硬化型樹脂（ポリエステルアクリレートおよ
びトリメチロールプロパントリアクリレート）硬化物を
含有する保護層が基板の記録層と反対側の表面に設けら
れた情報記録媒体（実施例２）は、比較のための保護層
か紫外線硬化型樹脂硬化物を含有し、テトラエトキシシ
ランを含有しない情報記録媒体（比較例３）よりも表面
硬度（鉛筆硬度）が極めて高かった。

［実施例３］ 二枚のソーダ石灰ガラス板（厚さ：１．３ｍｍ）のそれ
ぞれに下記に示す組成の塗布液を塗布し、２ＫＷの紫外
線ランプて９０秒間照射して樹脂の重合硬化反応を行な
い、１２０°Ｃて１０分間乾燥して、乾燥後の層厚が５
０００又の保護層を形成した。

塗布液組成（重量部） テトラメトキシシラン　　　　　　　　１５部トリメチ
ロールプロパン　　　　　　　６０部トリアクリレート α、ω−テトラアクリル　　　　　　　４０部ビストリ
メチロールプロパン テトラヒドロフタラード アセトフェノン　　　　　　　　　　　　１部トルエン
　　　　　　　　　　　　　　　８０部メチルエチルケ
トン　　　　　　　　　８０部次いで、ガラス基板の保
護層が設けられている側とは反対側の表面に、上記組成
からなる塗布液を塗布し、２ＫＷの紫外線ランプで９０
秒間照射して樹脂の重合硬化反応を行ない、１２０°Ｃ
て１０分間乾燥して、層厚が５０００又の中間層を形成
した後、この中間層上に真空蒸着法によりＩｎ２５０又
およびＧｅ５２００又を共蒸着させて、層厚が４５０又
の記録層を形成した。

このようにして、順に保護層、基板、中間層および記録
層から構成された基板を二枚製造した。

さらにこの基板二枚を用いてエアーサンドイッチ型の情
報記録媒体を製造した。

［比較例４］ 実施例３において、基板に保護層および中間層を設けな
いこと以外は、実施例３の操作と同様に操作してエアー
サンドイッチ型の情報記録媒体な製造した。

［情報記録媒体の評価］ 得られた各情報記録媒体について、前述と同様にして、
保護層の表面硬度、単位面積当りの欠陥個数および表面
粗さを評価した。

さらに、記録感度について評価した。記録感度（ｍ　Ｗ
　）の評価は、情報記録媒体を製造直後、さらに湿度６
５％、温度２５８Ｃの室内に３日問および７日間放置後
において、半導体レーザー（ＧａＡｕＡｓ、波長８３０
ｎｍ）をレンズにより情報記録媒体の記録層上て１．７
ｐＬｍのビーム径に集光し、変調器により２００ｎｓｅ
ｃのパルス幅て露光を行ない、記録層に約１ｇｍ径のピ
ットを形成するために必要なレーザーの出力強度を測定
して行なった。

得られた結果をまとめて第３表に示す。

第３表 実施例３　　　比較例４ 鉛筆硬度　　　　　　４Ｈ− 欠陥個数ａ　　　　　７Ｘ１０２２ｘｌＯ３ｂ　　　　
　７Ｘ１０２３ｘ１０３ 中間層　　　　　　０．０２　　　　　１．０保護層　
　　　　　０．０２　　　　　１．５析出物（記録層）
Ａ　　　　　　　Ｃ （基板表面）Ａ　　　　　　　Ｃ Ｕ（製造後）　　　　６．２　　　　　７．５（３日後
）　　　　　６．２　　　　　１１．０（７日後）　　
　　　６．５　　　　　１２．０第３表に示された結果
から明らかなように、本発明の基板がソーダ石灰ガラス
板であって、テトラメトキシシランと紫外線硬化型樹脂
（トリメチロールプロパントリアクリレートおよびα、
ω−テトラアクリルビストリメチロールプロパンテトラ
ヒドロフタラート）硬化物を含有する保護層および中間
層が設けられた情報記録媒体（実施例３）は、比較のた
めの保護層および中間層が設けらていない情報記録媒体
（比較例４）よりも表面硬度（鉛筆硬度）が極めて高か
った。なお、比較のための情報記録媒体（比較例４）は
表面硬度が低く鉛筆硬度がＢ以下であった。

また本発明の情報記録媒体（実施例３）は、比較のため
の情報記録媒体（比較例４）よりも欠陥個数が大巾に減
少し、表面は極めて平滑てあって、基板表面の析出物の
発生も少なく、さらに高感度てあった。

［実施例４］ 実施例３において、ソーダ石灰ガラス板の代りにグルー
プ付ポリメチルメタクリレート板を用いること以外は、
実施例３の操作と同様に操作してエアーサンドイッチ型
の情報記録媒体を製造した。

［比較例５］ 実施例４において、基板に保護層および中間層を設けな
いこと以外は、実施例４の操作と同様に操作してエアー
サンドイッチ型の情報記録媒体を製造した。

［情報記録媒体の評価］ 得られた各情報記録媒体について、前述と同様にして、
保護層の表面硬度、単位面積当りの欠陥個数および表面
粗さを評価した。

得られた結果をまとめて第４表に示す。

第４表 実施例４　　　　比較例５ 鉛筆硬度　　　　４ＨＢ 欠陥個数ａ　　　　７ｘｌＯ’　　　　　　５Ｘ１０’
ｂ　　　　７ｘｌＯ２４ｘｌＯ’ 表面粗さ 中間層　　　　０．０２　　　　　　　５．０保護層　
　　　０．０２　　　　　　　６．０第４表に示された
結果から明らかなように、本発明の基板がグループ付ポ
リメチルメタクリレート板であって、テトラメトキシシ
ランと紫外線硬化型樹脂（トリメチロールプロパントリ
アクリレートおよびα、ω−テトラアクリルビストリメ
チロールプロパンテトラヒド口フタラート）硬化物を含
有する保護層および中間層が設けられた情報記録媒体（
実施例４）は、比較のための保護層および中間層が設け
らていない情報記録媒体（比較例５）よりも表面硬度（
鉛筆硬度）が極めて高かった。

また本発明の情報記録媒体（実施例４）は、比較のため
の情報記録媒体（比較例５）よりも欠陥個数が大巾に減
少し、表面も極めて平滑であった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １。基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
   録媒体において、該基板の記録層面および／または記録
   層が設けられた側と反対側の面上に放射線硬化型樹脂硬
   化物およびオルガノアルコキシシランを含有する保護層
   が設けらていることを特徴とする情報記録媒体。 ２。放射線硬化型樹脂硬化物が紫外線もしくは電子線に
   対して硬化性の樹脂の硬化物であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。 ３。紫外線もしくは電子線硬化型樹脂の硬化物がアクリ
   ル系ポリマーおよび／またはアリル系ポリマーであるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の情報記録媒
   体。 ４。オルガノアルコキシシランが、テトラメトキシシラ
   ン、テトラエトキシシランおよびテトラプロポキシシラ
   ンからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルキルア
   ルコキシシランであることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の情報記録媒体。 ５。オルガノアルコキシシランが、テトラフェノキシシ
   ランであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の情報記録媒体。 ６。放射線硬化型樹脂硬化物とオルガノアルコキシシラ
   ンの比率が重量比で１００：１〜１００：１００の範囲
   内にあることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   情報記録媒体。 ７。保護層の平均層厚が、０．０１〜２０μｍの範囲内
   にあることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情
   報記録媒体。