JPS61102290A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景および従来技術］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されうるものである。

光ディスクは、基本構造としてプラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ
、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ他の金属または半金属からなる記録
層とを有する。

光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。光ディ
スクからの情報の読み取りもまた、レーザービームを光
ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録層の
光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出す
ることにより情報が再生される。

また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なく
とも一枚の基板上に記録層を設け、この二枚の基板を記
録層が内側に位置し、かつ閉空間を形成するように円盤
状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接合
してなるエアーサンドイッチ構造が提案されている。こ
のような構造を有する光ディスクでは、記録層は直接外
気に接することなく、情報の記録、再生は基板を透過す
るレーザ光で行なわれるために、一般に　　　　：記録
層が物理的または化学的な損傷を受けたり、あるいはそ
の表面に塵埃が付着して情報の記録、再生の障害となる
ことがない。

光ディスクの基板としては、上述のように強化ガラス等
のガラス基板を使用することが知られている。ガラス基
板は、アクリル樹脂等のプラスチック基板と比べて吸湿
による変形の程度が小さく、表面の硬度が高く、そして
形状の経時安定性が高いなどの点で優れたものである。

しかしながら、本発明者の検討によると、ガラス基板中
に含まれているＮａ”、Ｋ′＋等のアルカリ金属イオン
およびＭｇ２＋、Ｃａ′等のアルカリ土類金属イオン（
以下、これらを総称してアルカリイオンという）が温湿
度の影響により基板表面に拡散して、これらアルカリイ
オンが基板上の記録層に様々な悪影響を及ぼすことが判
明した。すなわち、アルカリイオンの拡散は時間の経過
とともに記録層の変質をもたらすために、情報の記録の
際における感度低下および再生の際における光学濃度の
低下を引き起こしたり、経時による基板と記録層との密
着力の低下をもたらしたり、あるいは基板と記録層との
間に析出物が発生するために記録の欠陥を生じさせるな
どの問題があった。

従来より、基板と記録層との間には記録感度および密着
力などを高める目的で、高分子物質からなる断熱層、金
属からなる反射層など各種の下塗層もしくは中間層を設
けることが知られているが、これら従来の下塗層および
中間層に用いられる材料ではアルカリイオンに対する拡
散防止効果が殆どなく、従って、経時による感度の低下
および記録保存性の低下をきたす傾向にあった。

このようなアルカリイオンによる記録層への悪影響を防
止することを目的としたガラス基板を親水性基を有する
ポリマーで下塗処理することからなる発明について、本
願出願人は既に特許出願している（特願昭５８−１７３
６７６号）。すなわち、カルボキシル基などの親水性基
を有するポリマーからなる下塗層を基板と記録層との間
に設けることにより、基板表面に拡散してくるアルカリ
イオンをポリマーの親水性基で捕捉して記録層への悪影
響を防ぐものである。

本発明者は上記先行出願に記載されているようなカルボ
キシル基等の親水性基を有するポリプーのみからなる下
塗層を設けた記録媒体について更に検討した結果、この
下塗層は通常の環境条件下ではアルカリイオンの拡散を
防止して記録層表面の劣化を防ぐことができるものの、
長時間に渡って高温高湿など過酷な環境条件下に置かれ
た場合にはアルカリイオンの拡散防止が充分でなく、記
録層表面にシワ状の微細な凹凸が発生しがちであること
が判明した。

［発明の要旨］ 本発明は、記録保存性の向上した情報記録媒体を提供す
ることをその目的とするものである。

また、本発明は、高感度であって、かつ記録保存性の向
上した情報記録媒体を提供することをその目的とするも
のである。

上記の目的は、ガラス基板上にレーザーによる情報の書
き込みおよび／または読み取りが可能な記録層を有する
情報記録媒体において、記録層が゛）　　　　設けられ
ている側の基板表面にカルボキシル基および／または無
水マレイン酸基を有するポリマーとエポキシ化合物との
混合物からなる下塗層が設けられていることを特徴とす
る本発明の情報記録媒体により達成することができる。

本発明は、ガラス基板を用いる情報記録媒体において、
基板と記録層との間にカルボキシル基および／または無
水マレイン酸基を有するポリマーとエポキシ化合物との
混合物からなる下塗層を設けることにより、記録保存性
の向上を効果的に実現するものである。

すなわち、ガラス基板表面を上記混合物を用いて下塗り
処理することにより、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよび／またはアルカリ土類金属イオンの記録層へ
の拡散を防止することかできる。

前記特願昭５８−１７３６７６号出願に開示されている
ように、アルカリイオンは上記の混合物中のカルボキシ
ル基、無水マレイン酸基などにより捕捉されるために、
アルカリイオンの記録層へ　　　　゛の拡散が効果的に
抑制されるが、本発明の下塗層にはカルボキシル基およ
び／または無水マレイン酸基を有するポリマーに加えて
エポキシ化合物を含有されており、これにより、アルカ
リイオンの記録層への拡散を更に効果的に防止すること
ができる。

すなわち、本発明者は、上記下塗層中に更にエポキシ化
合物を含有させることにより、環境条件の良し悪しに関
わらずシワの発生を防止して記録層の面状劣化を顕著に
防ぐことができることを見出し、本発明に到達したもの
である。このことにより、記録層の変質による感度の低
下、再生信号の異常など記録の欠陥の発生および記録層
と基板との密着力の低下などを防止、あるいは顕著な低
減が可能となる。

なお、本発明者は、アルカリイオンに対して拡散防止効
果を奏する材料として、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などのカルボキシル基と共に無水マレイン酸基をも
有するポリマーが特に好ましいことを見出している。

［発明の構成］ 本発明の情報記録媒体は、たとえば第１図の（１）に示
すように順に基板１、下塗層２および記録層３が積層さ
れてなる構成をとる。あるいは第１図の（２）に示すよ
うに、順に基板ｌ、下塗層２、中間層３および記録層４
が積層されてなる構成をとることができる。ただし、上
記構成は本発明の情報記録媒体の二煎様であって本発明
は上記構成に限定されるものではなく、記録媒体の緒特
性に応じてこれら各層間にはさらに反射層、反射防止層
、保護層など各種の層が設けられた構成であってもよい
。また、中間層は複数の層から構成されていてもよい。

たとえば、下塗層あるいは中間層上にはレーザービーム
のトラッキング用溝やアドレス信号等の情報を表わす凹
凸が設けられていてもよい。このような溝および凹凸を
設ける方法としては、溝または凹凸を有する原盤と、下
塗層あるいはさらに中間層が設けられたガラス基板との
間に光硬化性樹脂からなる塗膜を設けて光硬化させたの
ち、原盤を剥離させる方法がある。

また、本発明の情報記録媒体は、一枚の基板からなる上
記のような単純な積層構成であってもよいが、上記構成
を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向かい
合わせて接着剤等で接合した貼り合わせ構造であっても
よいし、あるいは、二枚の基板を記録層が内側となり、
かつ閉空間を形成するようにスペーサを介して接合した
エアーサンドイッチ構造であってもよい。

以上に述べたような好ましい特性を有する本発明の情報
記録媒体は、たとえば、次にような方法により製造する
ことができる。

本発明において使用する基板はソーダ石灰ガラス等から
なるガラス板であり、特に寸度安定性、透明性および平
面性などの点で優れた強化ガラス板であることが好まし
い。

記録層が設けられる側の表面には、ガラス基板から遊離
するアルカリ金属イオン（Ｎａ”、Ｋ＋等）およびアル
カリ土類金属イオン（Ｍｇ２′）、Ｃａ２＋等）が他層
に拡散するのを防止して記録層の面状劣化を防ぐために
、下塗層が設けられる。

本発明の特徴的な要件である下塗層は、カルボキシル基
および／または無水マレイン酸基を有するポリマーとエ
ポキシ化合物との混合物からなる。

前者のカルボキシル基および／または無水マレイン酸基
を有するポリマーとしては、例えば前記特願昭５８−１
７３６７６号明細書に記載されているようなカルボキシ
ル基を有するポリマー、そして無水マレイン酸基を有す
るポリマーを挙げることができる。これらの官能基はポ
リマーを構成するモノマー中に１個以上含まれているの
が好ましい。また、ポリマーの分子量は、ポリマーの種
類によって異なるが一般にはｌＸ１０３〜３×１０６の
範囲であり、好ましくは３Ｘ１０３〜３Ｘ１０５の範囲
である。

具体的には、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、ソルビン酸、桂皮酸、フマル酸、マレイン酸、シ
トラコン酸、メサコレ酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、　　　　１スペリン酸、アゼライ
ン酸、セバシン酸、および無水マレイン酸等のホモポリ
マーまたはコポリマーなどを挙げることができる。これ
らのポリマーは単独でも、あるいは二種以上の混合物で
も用いることができる。

上記ポリマーのうちでアルカリイオンの捕捉性の点から
、特に好ましくはスチレン・無水マレイン酸共重合体で
ある。

また、後者のエポキシ化合物の例としては、ビスフェノ
ールＡのグリシジルエーテル等のビスフェノール系エポ
キシ化合物；エチレングリコールグリシジルエーテル、
プロピレングリコールグリシジルエーテル等のグリコー
ル系エポキシ化合物：γ−グリシドキシプロビルメチル
ジェトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシシラン化
合物；およびこれらの混合物を挙げることができる。

上記エポキシ化合物は、カルボキシル基および／または
無水マレイン酸基含有ポリマーに対して０．０５〜５．
０の範囲の重量比で下塗層中に含まれているのが好まし
く、特に好ましくはＯ９１〜３．０の範囲である。

下塗層の形成においては、まず上記のカルボキシル基お
よび／または無水マレイン酸基含有ポリマーおよびエポ
キシ化合物を溶剤に溶解して塗布液を調製する。

下塗層用の溶剤の例としては、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテート、ジメチルホルムアミド、シンナーを挙げ
ることができ、使用する化合物の種類に応じて選択され
る。

塗布液中には、更に可塑剤、滑剤など各種の添加物を目
的に応じて添加することが可能である。

この塗布液をスプレー法、スピンナー法、ディップ法、
ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法
、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板表面に塗
布して塗膜を形成したのち乾燥することにより、基板上
に下塗層が形成される。下塗層の層厚は通常０．０２乃
至１０ＩＬｍであり、好ましくは０．１乃至３．０ＪＪ
、ｍである。

下塗層の上には、所望により、さらに公知の各種の中ｆ
！Ｊｆ＆ｔを設けることができる。たとえば、記録感度
を向上させ、Ｓ／Ｎ比を高める目的で中間層を設ける場
合に使用される材料の例としては、ポリエステル、ポリ
エチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系ポ
リマー、セルロース誘導体（酢酸セルロース、ニトロセ
ルロース等）、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルト
ルエン、塩素化ポリオレフィンなどの熱可塑性ポリマー
を挙げることができる。これらのうちで特に好ましいも
のは、ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、
ポリヒドロキシスチレンおよび塩素化ポリオレフィンで
ある。

中間層は、上記ポリマーを適当な溶剤に溶解または分散
したのち、この塗布液を、スピンコードＳ　　　　　　
９に、ティップコート法、エクストルージ百ンコート法
、バーコード法、スクリーン印刷法などの塗布方法を用
いて下塗層表面に塗布することにより形成することがで
きる。

また、中間層の材料としては、前述したトラッキング用
溝形成池を目的として光硬化性ポリマーを用いることが
できる。その場合に使用される材料の代表的な例として
は光重合性七ツマ−（オリゴマー）と光重合開始剤との
混合物が挙げられる。光重合性モノマー（オリゴマー）
としては、エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール等のメタクリル酸エステル、
アクリル酸エステルなど公知の材料を用いることができ
る。また光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベン
ゾインメチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル
、アンスラキノン等のキノン類他の従来公知の材料を好
適に用いることができる。

ｄｐ　Ｍ　Ｆｅ　（７）　ｗ　＊　ｔ＊・１１１２′１
６１８“−°３　　）重合開始剤を溶解したのち、この
溶液を上記と同様の方法により下塗層表面に塗布して塗
膜を形成し、次いで紫外線等の電磁放射線を照射してモ
ノマーを重合硬化させることにより行なうことができる
。

このようにして形成される中間層の層厚は一般に０．０
１乃至１００１Ｌｍであり、好ましくは０．１乃至５０
ルｍである。

次いで、中間層上には記録層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＡＱ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｐｔ
等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金属；Ｇｅ、Ｓｉ等
の半導体；およびこれらの合金またはこれらの組合せを
挙げることができる。また、これらの金属、半金属また
は半導体の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、
炭化物および窒化物等の化合物；およびこれらの化合物
と金属との混合物も記録層に用いることができる。ある
いは、色素とポリマーとの組合せを利用することもでき
る。

記録層は、上記材料を蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法により基板上に下塗層さらには
中間層を介して形成することができる。記録層は単層ま
たは重層でもよいが、その層厚は、光情報記録に要求さ
れる光学濃度の点から一般に１００乃至５５００人の範
囲であり、好ましくは１５０−１０００人の範囲である
。

なお、情報記録媒体が再生専用である場合には、予め基
板の片面にスタンパ−を用いて微細な凹凸を形成したの
ち、ＡＭ、Ｃｕ等の反射性物質からなる層を形成しても
よい。

記録層上には、機械的強度の向上などの目的で、たとえ
ばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子物質；セル
ロース誘導体、ポリサッカライド、ラテックス状ビニル
ポリマー等の合成高分子物質などからなる保護膜が設け
られていてもよい。

また、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は、ガラス基板の白ヤケ防止のために、たとえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質か
らなる薄膜が真空蒸着、スパッタリング等により設けら
れていてもよく、あるいはアクリル酸エステル等の光硬
化性樹脂、アルキッド樹脂系等の熱硬化性樹脂からなる
オーバーコート層が設けられていてもよい。

このようにして、基板、下塗層（さらには中間層）およ
び記録層がこの順序で積層された情報記録媒体を製造す
ることができる。

なお、前述の貼り合わせタイプの記録媒体において゛は
、上記構成を有する二枚の基板を接着剤等を用いて接合
することにより製造することができる。また、エアーサ
ンドイッチタイプの記録媒体においては、たとえば二枚
の円盤状基板のうちの少なくとも一方が上記構成を有す
る基板を、リング状の外側スペーサと円盤内側スペーサ
とを介して接合することにより製造することができる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各側は本発明を制限するものでない。

［実施例１］ 円盤状のソーダ石灰ガラス基板（カリ強化処理されたも
の、強化深さ：３０ｐｍ、外径＝３００ｍｍ、内径：３
５ｍｍ、厚さＨｌ、３ｍｍ）をアルカリ性溶液およびイ
ソプロピルアルコールで洗浄して乾燥させた。

別に、下記組成を有する下塗層用塗布液を調製したのち
フィルター（ポアサイズ：０．２ＪＬｍ）を用いて加圧
濾過した。

二１１１１１ スチレン・無水マレイン酸共重合体　　　２ｇ（共重合
モル比：　５２／４８、分子量：４Ｘ１０’）γ−グリ
シドキシプロビルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３
、信越シリコン■製）　　　　　２ｇメチルエチルケト
ン　　　　　　　　　５０ｍＭメチルセロソルブアセテ
ート　　　　　５０ｍ１この塗布液を上記ガラス基板上
に回転数ｌ１００Ｏｒｐのスピンナーを用いて３０秒間
塗布したのち１２０℃の温度で５分間乾燥して、乾燥膜
厚が０．２５ｐｍの下塗層を形成した。

次に、ガラス基板の下塗層表面に真空蒸着法に　　　　
゛よりＩｎ１８０人およびＧｅ５１２０人を共蒸着させ
て、層厚が３００人の記録層を形成した。このようにし
て、順にガラス基板、下塗層および記銀層からなる情報
記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、下記組成を有する下塗層形成用の塗
布液を用いること以外は実施例１の方法と同様の操作を
行なうことにより、順にガラス基板、下塗層および記録
層からなる情報記録媒体を製造した。

１１１皿遣邊１ ポリメチルメタクリレート　　　　　　　２ｇ（ダイヤ
ナールＢＲ−８５、三菱レイヨン■製）メチルエチルケ
トン　　　　　　　　　５０ｍ文メチルセロソルブアセ
テ−）　　　　　　５０ｍＭ得られた各情報記録媒体に
ついて、下記の記録保存性試験により評価した。

情報記録媒体を回転数５１５ｒｐｍで回転させながら、
半導体レーザー（波長：８２０ｎｍ）をオートフォーカ
ス対物レンズにより記録層表面上で１．３７ｈｍのビー
ム径に集光して、直径１８０ｍｍの部分の記録層に２　
、５ＭＨｚ　（２００ｎｓｅｃパルス）で変調記録した
。

情報の記録された情報記録媒体を、それぞれ［ａ］温度
４０℃、湿度８０％ＲＨの恒温恒湿槽中で１〜３０日間
放置、および ［ｂ］温度６０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽中で１
〜３０日間放置した。

そののち、記録層表面の状態を目視により、および光学
顕微鏡で観察した。その結果を、以下のＡ−Ｈの五段階
で評価した。

Ａ：記録層表面には異物の析出およびシワの発生が殆ど
なく、表面状態は非常に良好であった。

Ｂ：記録層表面には異物の析出およびシワの発生が若干
あったが、実質上問題のない程度であった。

Ｃ：記録層全面にシワが発生した。

Ｄ：記録層全面に泡状の異物（直径：約１０１０１Ｌが
析出した。

Ｅ：記録層全面に泡状の異物が析出し、かつひび割れが
生じた。

得られた結果を第１表に示す。

第１表 ［ａ］　　　　［ｂ］ 実施例Ｉ　　　　　　　Ａ　　　　　　Ａ（３０日間）
（３０日間） 比較例Ｉ　　　　　　　Ｄ　　　　　　Ｅ（５日間）　
　（２日間） 第１表に示した結果から明らかなように、本発明の情報
記録媒体（実施例１）は上記各条件下で３０日経過後も
記録層の表面状態は良好であり、記録保存性が優れてい
た。一方、公知の情報記録媒体（比較例１）は、上記各
条件下でそれぞれ５日および２日経過後には泡状の異物
が記録層全面ゝ　　　　に発生し、このものは記録保存
性において支障を来たした。

［実施例２］ 実施例１と同一の材料を用いて、ガラス基板上に下塗層
を形成した。

次に、下記組成を有する中間層用塗布液を調製したのち
フィルター（ポアサイズ：０．２ｐｍ）を用いて加圧濾
過した。

東胛夏皿】羞１ ポリメチルメタクリレート　　　　　　　２ｇ　・（ダ
イヤナールＢＲ−８５、三菱レイヨン■製）トルエン　
　　　　　　　　　　　　　９０ｍ文メチルセロソルブ
アセテ−）　　　　　　２０ｍＪ１この塗布液を用いて
実施例１と同様の方法により下塗層上に塗布乾燥して、
乾燥膜厚が０．２５ＪＬｍの中間層を形成した。

次いで、実施例１の方法と同様の操作を行なうことによ
り中間層上に記録層を設けた。このようにして、順にガ
ラス基板、下塗層、中間層および　　　　５゜記録層か
らなる情報記録媒体を製造した。

［比較例２］ 実施例２において、下記組成を有する下塗層形成用の塗
布液を用いること以外は実施例２の方法と同様の操作を
行なうことにより、順にガラス基板、下塗層、中間層お
よび記録層からなる情報記録媒体を製造した。

Ｔ３Ｊｊｊ−皿１第１ スチレン・無水マレイン酸共重合体　　　２ｇ（共重合
モル比：　５２／４Ｂ、分子量：４Ｘ１０’）メチルエ
チルケトン　　　　　　　　　５０ｍ文メチルセロソル
ブアセテ−）　　　　　　５０ｍｕ［実施例３］ 実施例２において、下記組成を有する下塗層形成用塗布
液を用い、かつ下塗層および中間層の乾燥膜厚をそれぞ
れ０．２ｇ、ｍとすること以外は実施例２の方法と同様
の操作を行なうことにより、順にガラス基板、下塗層、
中間層および記録層からなる情報記録媒体を製造した。

工ＪＵ１」」［虻腋 スチレン・無水マレイン酸共重合体　　　２ｇ（共重合
モル比：　５２／４８、分子量：４Ｘ１０’）プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルｇ メチルエチルケトン　　　　　　　　　５０ｍ文メチル
セロソルブアセテート　　　　　５０ｍＪｌ！［実施例
４］ 実施例２において、下記組成を有する下塗層形成用塗布
液を用い、かつ下塗層および中間層の乾燥膜厚をそれぞ
れＯ，，２ＪＬｍとすること以外は実施例２の方法と同
様の操作を行なうことにより、順にガラス基板、下塗層
、中間層および記録層からなる情報記録媒体を製造した
。

１１星月１第１ ポリアクリル酸（分子量：ｌＸ１０’）　　２ｇプロピ
レングリコールジグリシジルエーテルｇ メチルエチルケトン　　　　　　　　　５０ｍ文メチル
セロソルブアセテ−）　　　　　　５０ｍｕ実施例２〜
４および比較例２で得られた各々の情報記録媒体につい
て、下記感度試験および前記記録保存性試験により評価
した。

情報記録媒体を回転数５１５ｒｐｍで回転させながら、
半導体レーザー（波長：８２０ｎｍ）をオートフォーカ
ス対物レンズにより記録層表面上で１．３７ｚｍのビー
ム径に集光して、直径１８０ｍｍの部分の記録層に２　
、５ＭＨｚ　（２００ｎｓｅｃパルス）で変調記録し、
記録層にピットが形成される最少のレーザー出力強度を
測定した。

得られた結果を第２表に示す。

以下余白 第２表 （ｍ　Ｗ　）　　　　　　　　［ａコ　　　　　［ｂ］
実施例２　　８．ＯＡ　　　　　Ａ （３０日間）（３０日間） 比較例２　　８．０　　　　　Ａ　　　　　Ｃ（３０日
間）（３０日間） 実施例３　　８．ＯＡ （３０日間） 実施例４　　８．０　　　　　　　　　’Ａ（３０Ｂ間
） 第２表に示した結果から明らかなように、本発明の情報
記録媒体（実施例２）は上記各条件下で３０日経過後も
記録層の表面状態は良好であり、記録保存性が優れてい
た。一方、比較のための情報記録媒体（比較例２）は、
穏やかな条件下［ａ］では記録層の表面状態は良好であ
ったが、厳しい条件下［ｂ］ではシワ状の凹凸が生じて
記録保存性が充分とは言えなかった。

また、本発明の情報記録媒体の別の態様（実施例３．４
）についても、厳しい条件下［ｂ］で３０日経過後も記
録層の表面状態は良好であり、記録保存性が優れていた
。

【図面の簡単な説明】

第１図の（１）および（２）は、本発明の情報記録媒体
の構成例を示す部分断面図である。 １：基板、２：下塗層、３：中間層、 ４：記録層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス基板上にレーザーによる情報の書き込みおよ
   び／または読み取りが可能な記録層を有する情報記録媒
   体において、記録層が設けられている側の基板表面にカ
   ルボキシル基および／または無水マレイン酸基を有する
   ポリマーとエポキシ化合物との混合物からなる下塗層が
   設けられていることを特徴とする情報記録媒体。 ２、上記下塗層において、カルボキシル基および／また
   は無水マレイン酸基を有するポリマーに対するエポキシ
   化合物の重量比が０．０５乃至５．０の範囲にあること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体
   。 ３、上記下塗層において、カルボキシル基および／また
   は無水マレイン酸基を有するポリマーに対するエポキシ
   化合物の重量比が０．１乃至３． ０の範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第２項
   記載の情報記録媒体。 ４、上記カルボキシル基および／または無水マレイン酸
   基を有するポリマーがスチレン・無水マレイン酸共重合
   体であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   情報記録媒体。 ５、上記エポキシ化合物が、ビスフェノール系エポキシ
   化合物、グリコール系エポキシ化合物およびエポキシシ
   ラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化
   合物であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の情報記録媒体。 ６、上記下塗層と記録層との間に、熱可塑性ポリマーお
   よび／またほ光硬化性ポリマーからなる中間層が設けら
   れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   情報記録媒体。 ７、上記中間層が、ポリメチルメタクリレート、ニトロ
   セルロース、ポリビニルトルエン、ポリヒドロキシスチ
   レンおよび塩素化ポリオレフィンからなる群より選ばれ
   る少なくとも一種の熱可塑性ポリマーからなることを特
   徴とする特許請求の範囲第６項記載の情報記録媒体。