JPS61123591A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
- Publication number
- JPS61123591A JPS61123591A JP59245505A JP24550584A JPS61123591A JP S61123591 A JPS61123591 A JP S61123591A JP 59245505 A JP59245505 A JP 59245505A JP 24550584 A JP24550584 A JP 24550584A JP S61123591 A JPS61123591 A JP S61123591A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- recording medium
- undercoat layer
- substrate
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体に関するものである。
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体に関するものである。
［発明の技術的背景および従来技術］
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーデ仁オ働ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスクｅメモ
リーとして使用されうるものである。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーデ仁オ働ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスクｅメモ
リーとして使用されうるものである。
光ディスクは、基本構造としてプラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ
、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録
層とを有する。
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ
、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録
層とを有する。
光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは 。
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは 。
化学的な変化を生じてその光学的特性を変えることによ
り情報が記録される。光ディスクからの情報の読み取り
もまた、レーザービームを光ディスクに照射することな
どにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた
反射光または透過光を検出する方法などを利用して情報
が再生される。
り情報が記録される。光ディスクからの情報の読み取り
もまた、レーザービームを光ディスクに照射することな
どにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた
反射光または透過光を検出する方法などを利用して情報
が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なく
とも一枚の基板上に記録層を設け、この二枚の基板を記
録層が内側に位置し、かつ閉空間を形成するようにリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
合してなるエアーサンドイッチ構造が提案されている。
して、二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なく
とも一枚の基板上に記録層を設け、この二枚の基板を記
録層が内側に位置し、かつ閉空間を形成するようにリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
合してなるエアーサンドイッチ構造が提案されている。
このような構造を有する光ディスクでは、記録層は直接
外気に接することなく、情報の記録、再生は基板を透過
するレーザ光で行なわれるために、一般に記録層が物理
的または化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に
塵埃が付着して情報の記録、再生の障害となることがな
い。
外気に接することなく、情報の記録、再生は基板を透過
するレーザ光で行なわれるために、一般に記録層が物理
的または化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に
塵埃が付着して情報の記録、再生の障害となることがな
い。
情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値が高いものであるが、その記録感度は少しで
も高いものであること１．そしてＳ／Ｎ比の高い読取り
信号が得られることが望まれている。特に、良好な読取
り信号を得るために記録層表面の平面性の改善が望まれ
ている。
に利用価値が高いものであるが、その記録感度は少しで
も高いものであること１．そしてＳ／Ｎ比の高い読取り
信号が得られることが望まれている。特に、良好な読取
り信号を得るために記録層表面の平面性の改善が望まれ
ている。
従来より、基板の記録層が設けられる側の表面には平面
性の改善、記録層と基板との接着力の向上などの目的で
、シランカップリング剤などの有機物質あるいは二酸化
ケイ素、弗化マグネシウムなどの無機物質からなる下塗
層を設（することが知られている。また、本出願人は、
ガラス基板を使用した場合に基板に含まれるアルカリイ
オン（Ｎａ◆、Ｋ４″、Ｍｇ計、Ｃａ訃等）が基板上に
拡散して記録層に悪影響を及ぼすのを防ぐ目的で、基板
と記録層との間に親木性基を有するポリマーからなる下
塗層を設けてなる発明について、既に特許出願をしてし
ζる（特願昭５８−１７′３６７６号）、゛ また、基板とｉ鎧層との間には記録感度および読取り信
号のＳ／Ｎ比などを高める目的で、高分子物質からなる
断熱層、金属からなる反射層など各種の中間層を設ける
ことが知られている。
性の改善、記録層と基板との接着力の向上などの目的で
、シランカップリング剤などの有機物質あるいは二酸化
ケイ素、弗化マグネシウムなどの無機物質からなる下塗
層を設（することが知られている。また、本出願人は、
ガラス基板を使用した場合に基板に含まれるアルカリイ
オン（Ｎａ◆、Ｋ４″、Ｍｇ計、Ｃａ訃等）が基板上に
拡散して記録層に悪影響を及ぼすのを防ぐ目的で、基板
と記録層との間に親木性基を有するポリマーからなる下
塗層を設けてなる発明について、既に特許出願をしてし
ζる（特願昭５８−１７′３６７６号）、゛ また、基板とｉ鎧層との間には記録感度および読取り信
号のＳ／Ｎ比などを高める目的で、高分子物質からなる
断熱層、金属からなる反射層など各種の中間層を設ける
ことが知られている。
［発明の要旨］
本発明は、下塗層表面の平面性を高めて読取り信号のＳ
／Ｎ比の向上した情報記録媒体ｉ提供することをその目
的とするものである。
／Ｎ比の向上した情報記録媒体ｉ提供することをその目
的とするものである。
また、本発明は、′読取り信号のＳ／Ｎ比の向上ととも
に記録感度の向上した情報記録媒体を提供することもそ
の目的とするものである。
に記録感度の向上した情報記録媒体を提供することもそ
の目的とするものである。
上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび／または読み取りが可能な記録層を宥する情報
記録媒体において、該記録層を有する側の基板表面に弗
素系界面活性剤を含有する高分子物質からなる下塗層が
設けられており、かつこの下塗層と記録層との間に中間
層が設けられていることを特徴とする本発明の情報記録
媒体により達成することができる。
みおよび／または読み取りが可能な記録層を宥する情報
記録媒体において、該記録層を有する側の基板表面に弗
素系界面活性剤を含有する高分子物質からなる下塗層が
設けられており、かつこの下塗層と記録層との間に中間
層が設けられていることを特徴とする本発明の情報記録
媒体により達成することができる。
すなわち、本発明は、順に基板、下塗層、中間層および
記録層から構成される情報記録媒体において、下塗層に
弗素系界面活性剤を含有させることにより下塗層表面を
平滑化して、読取り信号のＳ／Ｎ比の顕著な向上を実現
す番ものである。
記録層から構成される情報記録媒体において、下塗層に
弗素系界面活性剤を含有させることにより下塗層表面を
平滑化して、読取り信号のＳ／Ｎ比の顕著な向上を実現
す番ものである。
基板と記録層との間に上述のような下塗層を設けて、両
者間の密゛着力の向上あるいは記録層の変質防止を図る
ことが提案されているが、平面性の点で充分とは言い難
かった。特に、ガラス基板から遊離するアルカリイオン
の拡散を防止するために下塗層を厚くした場合には、塗
布すじなどが生じて下塗層表面の平面性が劣化しがちで
あった。
者間の密゛着力の向上あるいは記録層の変質防止を図る
ことが提案されているが、平面性の点で充分とは言い難
かった。特に、ガラス基板から遊離するアルカリイオン
の拡散を防止するために下塗層を厚くした場合には、塗
布すじなどが生じて下塗層表面の平面性が劣化しがちで
あった。
本発明によれば、下塗層に弗素系界面活性剤を含有させ
ることにより、下塗層形成時において塗膜表面を平滑化
することができ、このような下塗層を有する情報記録媒
体からはＳ／Ｎ比の優れた読取り信号が得られる。
ることにより、下塗層形成時において塗膜表面を平滑化
することができ、このような下塗層を有する情報記録媒
体からはＳ／Ｎ比の優れた読取り信号が得られる。
また、下塗層と記録層との間には断熱層などの中間層を
設けることにより、読取り信号のＳ／Ｎ比の向上ととも
に一層られる情報記録媒体を高感度として、その性能を
一層向上させることが可能となる。
設けることにより、読取り信号のＳ／Ｎ比の向上ととも
に一層られる情報記録媒体を高感度として、その性能を
一層向上させることが可能となる。
［発明の構成］
以上に述べたような好ましい特性を有する本発明の情報
記録媒体は、たとえば、次のような方法により製造する
ことができる。
記録媒体は、たとえば、次のような方法により製造する
ことができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス：セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；およびポ
リカーボネートを挙げることができる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス：セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；およびポ
リカーボネートを挙げることができる。
これらの基板材料のうちで寸度安定性、透明性および平
面性などの点から１強化ガラス等のガラスが特に好まし
い。
面性などの点から１強化ガラス等のガラスが特に好まし
い。
記録層が設けられる側の基板表面には、接着力の向上、
記録層の変質防止などの目的とともに゛平面性改善の目
的で、下塗層が設けられる。 ６：一本発明の特徴的
な要件である下塗層は、弗素系界面活性剤を含有する高
分子物質からなる。
記録層の変質防止などの目的とともに゛平面性改善の目
的で、下塗層が設けられる。 ６：一本発明の特徴的
な要件である下塗層は、弗素系界面活性剤を含有する高
分子物質からなる。
本発明に用いることにできる弗素系界面活性剤の代表例
としては、炭素数３〜３０の炭化水素鋼を少なくとも一
つ有し、親木性アニオン基、親水性ノニオン基、親木性
ベタイン基などの親木性基を少なくとも一種宥し、かつ
該炭化水素鎖の水素原子の全部もしくは一部が弗素で置
換された下記一般式ＣＩ）で表わされる化合物を挙げる
ことができる。
としては、炭素数３〜３０の炭化水素鋼を少なくとも一
つ有し、親木性アニオン基、親水性ノニオン基、親木性
ベタイン基などの親木性基を少なくとも一種宥し、かつ
該炭化水素鎖の水素原子の全部もしくは一部が弗素で置
換された下記一般式ＣＩ）で表わされる化合物を挙げる
ことができる。
Ｒ−Ａ’−Ｘ ’（Ｉ）ただ
し、一般式（Ｉ）においてＲは少なくとも三個の弗素原
子を含む部分弗素化または全弗素化炭化水素基を表わす
。
し、一般式（Ｉ）においてＲは少なくとも三個の弗素原
子を含む部分弗素化または全弗素化炭化水素基を表わす
。
Ａは化学結合手または連結基を表わし、連結基の例とし
ては二価炭化水素基、好ましくは脂肪族、芳香族もしく
は混合脂肪族・芳香族の二価炭化水素基を挙げることが
できる。そして、その例としては酸素、エステル基（−
Ｃｏｏ−）およびアミド基（−ＣＯＮＲ”−および−３
Ｏ２ＮＲ”−一ただし、Ｒｏは水素または炭素数１〜５
のアルキル基）などの炭素以外の異種原子で中断された
二価炭化水素基を挙げることができる。
ては二価炭化水素基、好ましくは脂肪族、芳香族もしく
は混合脂肪族・芳香族の二価炭化水素基を挙げることが
できる。そして、その例としては酸素、エステル基（−
Ｃｏｏ−）およびアミド基（−ＣＯＮＲ”−および−３
Ｏ２ＮＲ”−一ただし、Ｒｏは水素または炭素数１〜５
のアルキル基）などの炭素以外の異種原子で中断された
二価炭化水素基を挙げることができる。
Ｘは親木性基を表わし、その例としては、１）一般式＝
（−ＣＩ（ｚｃＨｚｏ）ｎＲｔ（ただし、Ｒ１は水
素またはメチル基などの炭素数１〜５のアルキル基であ
り；ｎは５〜２０の範囲の整数であり；このポリオキシ
エチレン基はイソプロピレンオキシ基で中断されていて
もよい） 一′＃Ｌ々鍋プＪＪ１ふふ、％＋−Ｔ−１−１−４７廿
輻Ｖ＾頼告性非イオンポリオキシアルキレン基、 ？）たとえば、一般式： ％式％ （ただし、 Ａｌｋはメチレン基、エチレン基、プロピ
レン基およびブチレン基などの炭素数１〜５の低級アル
キレン基であり；Ｒ２はメチル基およびエチル基などの
炭素数１〜５の低級アルキル基である） で表わされる親水性ベタイン基、 ３）たとえば、一般式： ％式％ （ただし、Ｍは水素、アルカリ金属、アンモニウム基、
またはジェタノールアンモニウム、モルホリニウム、ピ
リジニウムなどの有機アンモニウム基であり；Ｒ３はア
ルキル基または前記Ｒのと同様な基である） で表わされる親木性アニオン基を挙げることができる。
（−ＣＩ（ｚｃＨｚｏ）ｎＲｔ（ただし、Ｒ１は水
素またはメチル基などの炭素数１〜５のアルキル基であ
り；ｎは５〜２０の範囲の整数であり；このポリオキシ
エチレン基はイソプロピレンオキシ基で中断されていて
もよい） 一′＃Ｌ々鍋プＪＪ１ふふ、％＋−Ｔ−１−１−４７廿
輻Ｖ＾頼告性非イオンポリオキシアルキレン基、 ？）たとえば、一般式： ％式％ （ただし、 Ａｌｋはメチレン基、エチレン基、プロピ
レン基およびブチレン基などの炭素数１〜５の低級アル
キレン基であり；Ｒ２はメチル基およびエチル基などの
炭素数１〜５の低級アルキル基である） で表わされる親水性ベタイン基、 ３）たとえば、一般式： ％式％ （ただし、Ｍは水素、アルカリ金属、アンモニウム基、
またはジェタノールアンモニウム、モルホリニウム、ピ
リジニウムなどの有機アンモニウム基であり；Ｒ３はア
ルキル基または前記Ｒのと同様な基である） で表わされる親木性アニオン基を挙げることができる。
好ましくはＸは親木性アニオン基である。また基・Ｒ中
の弗素原子の数と、Ｒの弗素化炭化水素鎖中の炭素原子
の数と、Ａが二価炭化水素基である場合の基Ａ中の炭素
原子の数の合計が少なくともｌＯであるのが好ましい０
本発明において、特に好ましい弗素系界面活性剤は末端
にトリフルオロメチル基を有するものである。
の弗素原子の数と、Ｒの弗素化炭化水素鎖中の炭素原子
の数と、Ａが二価炭化水素基である場合の基Ａ中の炭素
原子の数の合計が少なくともｌＯであるのが好ましい０
本発明において、特に好ましい弗素系界面活性剤は末端
にトリフルオロメチル基を有するものである。
以下に、本発明に好ましく用いられる弗素系界面活性剤
の代表的な例（構造式）を記載する。
の代表的な例（構造式）を記載する。
陽、 ｌ ：
Ｆ３ Ｇ −（ＣＦｚ ） ２−ＣＯＯＨ崩、 ２
： Ｈ−ＣＣＦ２ ） ｓ −ＣＯＯＨ 陥、 ３ ：。
： Ｈ−ＣＣＦ２ ） ｓ −ＣＯＯＨ 陥、 ３ ：。
Ｆ３ Ｃ−（ＣＦｚ ） ｅ、−Ｃ００ＮＨａ崩、
４ ： Ｈ−（ＣＦ２ ） ｌｏ−Ｃ０ＯＨ 動、 ５ ： Ｆ３ Ｃ−（ＣＦｚ ） ｙ −５Ｏ３に崩、 ６
： Ｈ−（ＣＦ２ ）−Ｂ−ＣＨ２−０８Ｏ３Ｎａ間、 ７
： Ｈ−（ＣＦｚ ）ｓ −ＣＨ２−，０ＳＯ３Ｎａ間、８
：０ 牛 ＣＨ 崩、９：０ ↑ Ｈ−ＣＣＦｚ ）ａ −ＣＨｚ −０−Ｐ−ＯＨＣＨ ＮＯ，１０：
０ＣＨ 陥、 １２ ： 陽、 １３ ： 南、 １４ ： Ｆ３ Ｃ−ＣＨ−０−（ＣＨ２）３−ＳＯ３Ｈａ３Ｇ １勅、 ｌ ５ ： Ｈ−（Ｃ：Ｆ２ ） ６−ＣＨ２−０−（Ｃ：Ｈｚ
） ３−９Ｏ３Ｎａ間、 １６ ： ＨＩＧＦｚ ）ａ −ＧＨｚ −０−（ＧＨｚ ）３
ＳＯ：ａ Ｎａ間、 １７ ： Ｈ−（ＣＦｚ ） ｍ −ＣＨｚ −０−（（Ｊｌｚ
） ３− ＳＯｓ’ Ｎａ間、 ｌ ８ ： Ｆ３Ｃ−（ＣＦｚ ） ｓ −ＣＨｚ−０−（ＯＨ２
） ３−９ｏ：ｓ Ｎａ間、 １９ ： 崩、２０ミ ２Ｈ５ Ｆ３ Ｃ−Ｃ−０−（ＣＨ２） ３−ＳＯ３Ｎａ０２
Ｈ５・ 陽、 ２ ｌ ： Ｆａ Ｃ−（ＣＦ２ ） ｚ −ＣＯＯ−ＣＣＨｚ
）３ −５Ｏ３Ｎａ間、 ２２ ： Ｈ−（ＣＦ２ ）ｔｏ −ＣＯＯ−（（：Ｈｚ ）３−
５Ｏ３Ｎａ間、 ２３ ： ＨＩＣＦｚ ）ｓ −ＣＨ２−０００−（Ｃ：Ｈｚ ）
２− ＳＯ３Ｎａ陽、 ２４ ： 陽、 ３０ ： Ｃ，６Ｈ，−ＣＨ−ＣＯＯ−ａｎ２−ＣＦ３量 Ｏ３Ｈａ 動、 ３２ ： ０１８ Ｏ３３−ＣＨ−Ｃ０ＮＨ−ＧＨｚ −ＣＦｚ
−１１１：ＨＦｚ０３Ｎａ 胎、 ３４ ： Ｆ２Ｏ−（ＣＦ２） ｚ ０００ （−ＣＨｚ
ＣＨｚＯ）ｙ −ＣＨ３階、３５：
ｃｚｕ ５Ｆｓ Ｃ−ＣＣＦｚ ） ７
−３Ｏｚ−Ｎ（−ＣＨｚＣＨｚ Ｏ）ａ Ｈ崩、 ３６
： Ｆ３ Ｃ−ＣＣＦｚ ） ｚ −ＣＨ２Ｏ（−０Ｍ２
０Ｈ２０）５ Ｈ間、３７：
ＧＨ３Ｎｏ、３８： Ｈ−（ＣＦ２ ） Ｂ −ＣＯＮＨ−（ＣＨ２） ｚ
−０−９０３Ｎａ聞、４０：
Ｃ３Ｈ５Ｆ３ Ｇ−（ＣＦ２ ） ｙ −５Ｏ２
−Ｎ−ＧＨｚ Ｃ０ＯＨ尚、４１：
Ｃ２Ｈ５Ｆ３ Ｃ−（ＣＦｚ ） ｙ −５Ｏ
Ｚ −Ｎ−（ＧＨｚ ） ｚ −０−ＳＯ３ＨＮｏ、
４２： ）！ 尚、４３： Ｈ 下塗層に用いられる高分子物質としては、たとえば、ポ
リメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニ
ルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレ
ン・スルホン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、クロル
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化
ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリカルボネート、エポキ
シ化合物などの高分子物質、およびこれらの混合物を挙
げることができる。
４ ： Ｈ−（ＣＦ２ ） ｌｏ−Ｃ０ＯＨ 動、 ５ ： Ｆ３ Ｃ−（ＣＦｚ ） ｙ −５Ｏ３に崩、 ６
： Ｈ−（ＣＦ２ ）−Ｂ−ＣＨ２−０８Ｏ３Ｎａ間、 ７
： Ｈ−（ＣＦｚ ）ｓ −ＣＨ２−，０ＳＯ３Ｎａ間、８
：０ 牛 ＣＨ 崩、９：０ ↑ Ｈ−ＣＣＦｚ ）ａ −ＣＨｚ −０−Ｐ−ＯＨＣＨ ＮＯ，１０：
０ＣＨ 陥、 １２ ： 陽、 １３ ： 南、 １４ ： Ｆ３ Ｃ−ＣＨ−０−（ＣＨ２）３−ＳＯ３Ｈａ３Ｇ １勅、 ｌ ５ ： Ｈ−（Ｃ：Ｆ２ ） ６−ＣＨ２−０−（Ｃ：Ｈｚ
） ３−９Ｏ３Ｎａ間、 １６ ： ＨＩＧＦｚ ）ａ −ＧＨｚ −０−（ＧＨｚ ）３
ＳＯ：ａ Ｎａ間、 １７ ： Ｈ−（ＣＦｚ ） ｍ −ＣＨｚ −０−（（Ｊｌｚ
） ３− ＳＯｓ’ Ｎａ間、 ｌ ８ ： Ｆ３Ｃ−（ＣＦｚ ） ｓ −ＣＨｚ−０−（ＯＨ２
） ３−９ｏ：ｓ Ｎａ間、 １９ ： 崩、２０ミ ２Ｈ５ Ｆ３ Ｃ−Ｃ−０−（ＣＨ２） ３−ＳＯ３Ｎａ０２
Ｈ５・ 陽、 ２ ｌ ： Ｆａ Ｃ−（ＣＦ２ ） ｚ −ＣＯＯ−ＣＣＨｚ
）３ −５Ｏ３Ｎａ間、 ２２ ： Ｈ−（ＣＦ２ ）ｔｏ −ＣＯＯ−（（：Ｈｚ ）３−
５Ｏ３Ｎａ間、 ２３ ： ＨＩＣＦｚ ）ｓ −ＣＨ２−０００−（Ｃ：Ｈｚ ）
２− ＳＯ３Ｎａ陽、 ２４ ： 陽、 ３０ ： Ｃ，６Ｈ，−ＣＨ−ＣＯＯ−ａｎ２−ＣＦ３量 Ｏ３Ｈａ 動、 ３２ ： ０１８ Ｏ３３−ＣＨ−Ｃ０ＮＨ−ＧＨｚ −ＣＦｚ
−１１１：ＨＦｚ０３Ｎａ 胎、 ３４ ： Ｆ２Ｏ−（ＣＦ２） ｚ ０００ （−ＣＨｚ
ＣＨｚＯ）ｙ −ＣＨ３階、３５：
ｃｚｕ ５Ｆｓ Ｃ−ＣＣＦｚ ） ７
−３Ｏｚ−Ｎ（−ＣＨｚＣＨｚ Ｏ）ａ Ｈ崩、 ３６
： Ｆ３ Ｃ−ＣＣＦｚ ） ｚ −ＣＨ２Ｏ（−０Ｍ２
０Ｈ２０）５ Ｈ間、３７：
ＧＨ３Ｎｏ、３８： Ｈ−（ＣＦ２ ） Ｂ −ＣＯＮＨ−（ＣＨ２） ｚ
−０−９０３Ｎａ聞、４０：
Ｃ３Ｈ５Ｆ３ Ｇ−（ＣＦ２ ） ｙ −５Ｏ２
−Ｎ−ＧＨｚ Ｃ０ＯＨ尚、４１：
Ｃ２Ｈ５Ｆ３ Ｃ−（ＣＦｚ ） ｙ −５Ｏ
Ｚ −Ｎ−（ＧＨｚ ） ｚ −０−ＳＯ３ＨＮｏ、
４２： ）！ 尚、４３： Ｈ 下塗層に用いられる高分子物質としては、たとえば、ポ
リメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニ
ルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレ
ン・スルホン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、クロル
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化
ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリカルボネート、エポキ
シ化合物などの高分子物質、およびこれらの混合物を挙
げることができる。
特に基板材料がガラスである場合には、基板から遊離す
るアルカリイオン（Ｎａ３、Ｋ＋、Ｍｇ”、Ｃａ”＋等
）が他層に拡散するのを防止するために、上記高分子物
質は前記の特願昭５８−１７３６７６号明細書に記載さ
れているような親木性基を有するポリマーであるのが好
ましい、さらに好ましくはスチレン・無水マレイン酸共
重合体などのカルボキシル基および／または無水マレイ
ン酸基を有するポリマーである。これらのポリマーには
エポキシシラン化合物などのエポキシ化合物が混合され
ていてもよい。
るアルカリイオン（Ｎａ３、Ｋ＋、Ｍｇ”、Ｃａ”＋等
）が他層に拡散するのを防止するために、上記高分子物
質は前記の特願昭５８−１７３６７６号明細書に記載さ
れているような親木性基を有するポリマーであるのが好
ましい、さらに好ましくはスチレン・無水マレイン酸共
重合体などのカルボキシル基および／または無水マレイ
ン酸基を有するポリマーである。これらのポリマーには
エポキシシラン化合物などのエポキシ化合物が混合され
ていてもよい。
下塗層の形成においては、ま”ず上記高分子物質および
弗素系界面活性剤を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製
する。
弗素系界面活性剤を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製
する。
弗素系界面活性剤はＳ／Ｎ比向上向上から、上記高分子
物質に対して０．０００５〜５重量％の範囲で添加され
ているのが好ましく、さらに好ましくは０．００１〜２
重量％の範囲である。
物質に対して０．０００５〜５重量％の範囲で添加され
ているのが好ましく、さらに好ましくは０．００１〜２
重量％の範囲である。
下塗層用の溶剤の例としては、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテート、ジメチルポルムアミド、シンナーを挙げ
ることができ、使用する化合物の種類に応じて選択され
る。
、プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテート、ジメチルポルムアミド、シンナーを挙げ
ることができ、使用する化合物の種類に応じて選択され
る。
塗布液中には、更に可塑剤、滑剤なと各種の添加物を目
的に応じて添加することが可能である。
的に応じて添加することが可能である。
この塗布液をスプレー法、スピンナー法、ディップ法、
ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法
、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板表面に塗
布して塗膜を形成したのち乾燥することにより、基板上
に下塗層が形成される。下塗層の層厚は一般に０．Ｏｌ
乃至２０ｇｍであり、好ましくは０．１乃至１０ｇｍで
ある。
ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法
、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板表面に塗
布して塗膜を形成したのち乾燥することにより、基板上
に下塗層が形成される。下塗層の層厚は一般に０．Ｏｌ
乃至２０ｇｍであり、好ましくは０．１乃至１０ｇｍで
ある。
次に、下塗層上には中間層が設けられる。
本発明において中間層は、得られる情報記録媒体の目的
の応じて断熱効果を有する層、光反射特性の優れた層な
ど公知の各種の中間層から選択することができる。たと
えば記録感度を向上させ、Ｓ／Ｎ比を・高める目的で断
熱層を設ける場合に使用される材料の例としては、ポリ
エステル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン
、アクリル系ポリマー、セルロース誘導体（酢酸セルロ
ース、硝酸セルロース等）、ポリヒドロキシスチレン、
ポリビニルトルエン、塩素化ポリオレフィンなどの熱可
塑性ポリマーおよび光硬化型ポリマーを挙げることがで
きる。これらのうちで特に好ましいものは、ポリメチル
メタクリレートおよび硝酸セルロースである。 □ 中間層は、たとえば、上記熱可塑性ポリマーを適当な溶
剤に溶解または分散したのち、この塗布液をスピンコー
ド法、ディップコート法、エクストルージョンコート法
、バーコード法、スクリーン印刷法などの塗布方法によ
り下塗表面に塗布し、乾燥することにより形成すること
ができる。
の応じて断熱効果を有する層、光反射特性の優れた層な
ど公知の各種の中間層から選択することができる。たと
えば記録感度を向上させ、Ｓ／Ｎ比を・高める目的で断
熱層を設ける場合に使用される材料の例としては、ポリ
エステル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン
、アクリル系ポリマー、セルロース誘導体（酢酸セルロ
ース、硝酸セルロース等）、ポリヒドロキシスチレン、
ポリビニルトルエン、塩素化ポリオレフィンなどの熱可
塑性ポリマーおよび光硬化型ポリマーを挙げることがで
きる。これらのうちで特に好ましいものは、ポリメチル
メタクリレートおよび硝酸セルロースである。 □ 中間層は、たとえば、上記熱可塑性ポリマーを適当な溶
剤に溶解または分散したのち、この塗布液をスピンコー
ド法、ディップコート法、エクストルージョンコート法
、バーコード法、スクリーン印刷法などの塗布方法によ
り下塗表面に塗布し、乾燥することにより形成すること
ができる。
また、光硬化型ポリマーを用いる場合には、まず光硬化
性モノマーに重合開始剤を溶解したのち、このＵＶラッ
カー液を上記と同様の方法により下塗層表面に塗布して
塗膜を形成し、次いで紫外線等の電磁放射線を照射する
ことにより、七ツマ−を重合硬化させて中間層を形成す
ることができる。
性モノマーに重合開始剤を溶解したのち、このＵＶラッ
カー液を上記と同様の方法により下塗層表面に塗布して
塗膜を形成し、次いで紫外線等の電磁放射線を照射する
ことにより、七ツマ−を重合硬化させて中間層を形成す
ることができる。
中間層の層厚は通常は０．０５乃至１１００ｐであり、
好ましくは０．１乃至５０４ｍである。
好ましくは０．１乃至５０４ｍである。
次いで、中間層上には記録層が設けられる。
記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ、Ｚｎ、、
Ｉ ｎ、Ｓ ｎ、Ｚ ｒ、Ａ！；Ｌ、Ｔ ｉ、Ｃｕ、Ｇ
ｅ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金属
；Ｇｅ、Ｓｉ等の半導体：およびこれらの合金またはこ
れらの組合せを挙げることができる。また、これらの金
属または半金属の硫化物。
Ｉ ｎ、Ｓ ｎ、Ｚ ｒ、Ａ！；Ｌ、Ｔ ｉ、Ｃｕ、Ｇ
ｅ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金属
；Ｇｅ、Ｓｉ等の半導体：およびこれらの合金またはこ
れらの組合せを挙げることができる。また、これらの金
属または半金属の硫化物。
酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物
等の化合物：およびこれらの化合物と金属との混合物も
記録層に用いることができる。あるいは、色素とポリマ
ーとの組合せを利用することもできる。
等の化合物：およびこれらの化合物と金属との混合物も
記録層に用いることができる。あるいは、色素とポリマ
ーとの組合せを利用することもできる。
本発明においては、記録層の材料がＩｎとＧｅＳとの混
合系であるのが特に好ましい、この場合に、記録層にお
けるＩｎの含有量は３３．３〜８７．５重量％の範囲に
あるのが好ましい。
合系であるのが特に好ましい、この場合に、記録層にお
けるＩｎの含有量は３３．３〜８７．５重量％の範囲に
あるのが好ましい。
記録層は、上記材料を蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法により基板上に直接にまたは下
塗層を介して形成することができる。記録層は単層また
は重層でもよいが、その層厚は、光情報記録に要求され
る光学濃度の点から一般に１００乃至５５００人の範囲
であり、好ましくは２００−１０００人の範囲である。
レーティングなどの方法により基板上に直接にまたは下
塗層を介して形成することができる。記録層は単層また
は重層でもよいが、その層厚は、光情報記録に要求され
る光学濃度の点から一般に１００乃至５５００人の範囲
であり、好ましくは２００−１０００人の範囲である。
記録層の上には、機械的強度の向上などの目的で、たと
えばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子物質；セ
ルロース誘導体、ポリサッカライド、ラテックス状ビニ
ルポリマー等の合成高分子物質などからなる保：Ｉｉ膜
が設けられていてもよい。
えばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子物質；セ
ルロース誘導体、ポリサッカライド、ラテックス状ビニ
ルポリマー等の合成高分子物質などからなる保：Ｉｉ膜
が設けられていてもよい。
また、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は、耐傷性、防湿性などを高めるために、例えば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質か
らなる薄膜が真空蒸着。
は、耐傷性、防湿性などを高めるために、例えば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質か
らなる薄膜が真空蒸着。
スパッタリング等により設けられていてもよい。
このようにして、基本的に基板、下塗層、中間層および
記Ｒ層がこの順序で積層された情報記録媒体を製造する
ことができる。
記Ｒ層がこの順序で積層された情報記録媒体を製造する
ことができる。
なお、前述の貼り合わせタイプの記録媒体においては、
上記構成を有する二枚の基板を接着剤等、 を用いて
接合することにより製造することができる。また、エア
ーサンドイッチタイプの記録媒体においては、二枚の円
盤状基板のうちの少なくとも一方が上記構成を有する基
板を、リング状の外側スペーサと内側スペーサとを介し
て接合することにより製造することができる。
上記構成を有する二枚の基板を接着剤等、 を用いて
接合することにより製造することができる。また、エア
ーサンドイッチタイプの記録媒体においては、二枚の円
盤状基板のうちの少なくとも一方が上記構成を有する基
板を、リング状の外側スペーサと内側スペーサとを介し
て接合することにより製造することができる。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各個は本発明を制限するものでない。
［実施例１］
円盤状のソーダ石灰ガラス基板（カリ強化ガラス、外径
：３０５ｍｍ、内径：９０ｍｍ、厚さ＝１．３ｍｍ）を
アルカリ性溶液およびイソプロピルアルコールで洗浄し
たのち、フレオン乾燥させた。
：３０５ｍｍ、内径：９０ｍｍ、厚さ＝１．３ｍｍ）を
アルカリ性溶液およびイソプロピルアルコールで洗浄し
たのち、フレオン乾燥させた。
次に、スチレンφ無水マレイン酸共重合体（モル比：約
５０１５０）、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラ
ン（商品名： ＫＢＭ−４０３、信越シリコーン■製）
および上記構造式崩、１２で表わされる弗素系界面活性
剤（以下、弗素系界面活性剤Ａと称する）： を用いて下記組成を有する塗布液を調製した。
５０１５０）、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラ
ン（商品名： ＫＢＭ−４０３、信越シリコーン■製）
および上記構造式崩、１２で表わされる弗素系界面活性
剤（以下、弗素系界面活性剤Ａと称する）： を用いて下記組成を有する塗布液を調製した。
、 ゛
スチレン・無水マレイン酸共重合体 ６ｇγ−グ
リシドキシプロビルメトキシシラン ２ｇ弗素系界面活
性剤Ａ ０．２ｇメチルエチルケト
ン ５０ｍＪｌメチルセロソルブアセ
テ−） ５０ ｍ ｌこの塗布液を上記ガラ
ス基板上に回転数ｌ１００Ｏｒｐのスピンナーを用いて
３０秒間塗布したのち１２０℃の温度で５分間乾燥して
、乾燥膜厚が１．０濤ｍの下塗層を形成した。
リシドキシプロビルメトキシシラン ２ｇ弗素系界面活
性剤Ａ ０．２ｇメチルエチルケト
ン ５０ｍＪｌメチルセロソルブアセ
テ−） ５０ ｍ ｌこの塗布液を上記ガラ
ス基板上に回転数ｌ１００Ｏｒｐのスピンナーを用いて
３０秒間塗布したのち１２０℃の温度で５分間乾燥して
、乾燥膜厚が１．０濤ｍの下塗層を形成した。
別に、ポリメチルメタクリレート（商品名：ダイヤナー
ルＢＲ−８５、三菱レイヨン■製）を用いて下記組成を
有する塗布液を調製したのち、フィルター（ポアサイズ
：０．２７ｚｍ）を用いて加圧濾過した。
ルＢＲ−８５、三菱レイヨン■製）を用いて下記組成を
有する塗布液を調製したのち、フィルター（ポアサイズ
：０．２７ｚｍ）を用いて加圧濾過した。
！の
ポリメチルメタクリレート ２ｇトルエ
ン ５０ｍ１メチルセロソ
ルブアセテート ５０ｍＭこの塗布液を用いて
下塗層表面に上記と同様の方法により塗布乾燥して、乾
燥膜厚が０．２１Ｌｍの中間層を形成した。
ン ５０ｍ１メチルセロソ
ルブアセテート ５０ｍＭこの塗布液を用いて
下塗層表面に上記と同様の方法により塗布乾燥して、乾
燥膜厚が０．２１Ｌｍの中間層を形成した。
次に、ガラス基板の中間層表面に真空蒸着法によりＩ
ｎ１８０ＡおよびＧｅ５１２０Ａを共蒸着させて、層厚
が３００λの記録層を形成した。このようにして、順に
基板、下塗層、中間層および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
ｎ１８０ＡおよびＧｅ５１２０Ａを共蒸着させて、層厚
が３００λの記録層を形成した。このようにして、順に
基板、下塗層、中間層および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
［実施例２］
実施例１において、下塗層形成用塗布液への弗素系界面
活性剤の添加量を０．０２ｇに変えた以外は実施例１の
方法と同様の操作を行なうことにより、順に基板、下塗
層、中間層および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
活性剤の添加量を０．０２ｇに変えた以外は実施例１の
方法と同様の操作を行なうことにより、順に基板、下塗
層、中間層および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
［比較例１］
実施例１において、下塗層形成用塗布液に弗素系界面活
性剤を添加しないこと以外は実施例１の方法と同様の操
作を行なうことにより、順に基板、下塗層、中間層およ
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。
性剤を添加しないこと以外は実施例１の方法と同様の操
作を行なうことにより、順に基板、下塗層、中間層およ
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。
実施例１．２および比較例１で得られた各情報記録媒体
について、下記の表面平滑性試験およびＳ／Ｎ比試験に
より評価した。
について、下記の表面平滑性試験およびＳ／Ｎ比試験に
より評価した。
（１）表面平滑性試験
情報記録媒体の記録層表面を直径５ｐｍの触針針を用い
て、平均の表面粗さくＲａ）を測定した。
て、平均の表面粗さくＲａ）を測定した。
（２）Ｓ／Ｎ比試験
半導体レーザー（波長：８２５ｎｍ）をオートフォーカ
ス対物レンズにより情報記録媒体の記録層上で約１．４
ｐｍのビーム径に集光し、変調器により２．５ＭＨｚの
矩形波に変調して、記録媒体を５１５ｒｐｍで回転させ
ながら記録層上にピットを形成して情報の記録を行なっ
た。
ス対物レンズにより情報記録媒体の記録層上で約１．４
ｐｍのビーム径に集光し、変調器により２．５ＭＨｚの
矩形波に変調して、記録媒体を５１５ｒｐｍで回転させ
ながら記録層上にピットを形成して情報の記録を行なっ
た。
情報の記録された記録媒体をレーザー光で読み取り、得
られた信号をスペクトラムアナライザーで測定してその
ノイズレベルをＡ−Ｄの四段階で評価した。ここで、Ａ
は読取り信号のノイズレベルが非常に低いことを意味し
、ＡからＤへ順にノイズレベルが高くなり、Ｄではノイ
ズレベルが最も高＜ Ｓ／Ｎ比が低下していることを意
味する。
られた信号をスペクトラムアナライザーで測定してその
ノイズレベルをＡ−Ｄの四段階で評価した。ここで、Ａ
は読取り信号のノイズレベルが非常に低いことを意味し
、ＡからＤへ順にノイズレベルが高くなり、Ｄではノイ
ズレベルが最も高＜ Ｓ／Ｎ比が低下していることを意
味する。
また、記録層表面に形成されたピットの形状を走査型電
子顕微鏡（１０，０００倍）で観察し、Ａ−Ｃの三段階
で評価した。ここで、Ａはピットサイズのバラツキが非
常に小さくピットの形状が良好であることを意味し、Ａ
からＣへ順にピットサイズのバラツキが大きくなり、Ｃ
ではバラツキが最も大きくピットの形状が不均一である
ことを意味する。
子顕微鏡（１０，０００倍）で観察し、Ａ−Ｃの三段階
で評価した。ここで、Ａはピットサイズのバラツキが非
常に小さくピットの形状が良好であることを意味し、Ａ
からＣへ順にピットサイズのバラツキが大きくなり、Ｃ
ではバラツキが最も大きくピットの形状が不均一である
ことを意味する。
得られた結果を第１表に示す。
第１表
実施例１ 実施例２ 比較例１
表面平滑性（λ） ！）０ １５０ ８５０ノ
イズレベル Ａ Ｂ Ｄピット
形状 Ａ Ａ Ｃ第１表に示
した結果から明らかなように、本発明の弗素系界面活性
剤を含有する下塗層を有する情報記録媒体（実施例１．
２）は、比較のための情報記録媒体（比較例１）よりも
記録層表面の平面性が著しく向上しており、信号のＳ／
Ｎ比が高いものであった・
イズレベル Ａ Ｂ Ｄピット
形状 Ａ Ａ Ｃ第１表に示
した結果から明らかなように、本発明の弗素系界面活性
剤を含有する下塗層を有する情報記録媒体（実施例１．
２）は、比較のための情報記録媒体（比較例１）よりも
記録層表面の平面性が著しく向上しており、信号のＳ／
Ｎ比が高いものであった・
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
または読み取りが可能な記録層を有する情報記録媒体に
おいて、該記録層を有する側の基板表面に弗素系界面活
性剤を含有する高分子物質からなる下塗層が設けられて
おり、かつこの下塗層と記録層との間に中間層が設けら
れていることを特徴とする情報記録媒体。 ２、上記下塗層に、弗素系界面活性剤が高分子物質に対
して０．０００５〜５重量％の範囲で含有されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒
体。 ３、上記下塗層に、弗素系界面活性剤が高分子物質に対
して０．００１〜２重量％の範囲で含有されていること
を特徴とする特許請求の範囲第２項記載の情報記録媒体
。 ４、上記高分子物質が親水性基および／または無水マレ
イン酸基を有するポリマーを含むことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。 ５、上記親水性基および／または無水マレイン酸基を有
するポリマーがスチレン・無水マレイン酸共重合体であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の情報記
録媒体。 ６、上記中間層が断熱層であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245505A JPS61123591A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245505A JPS61123591A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123591A true JPS61123591A (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=17134666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59245505A Pending JPS61123591A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61123591A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5344930A (en) * | 1989-06-22 | 1994-09-06 | Alliance Pharmaceutical Corp. | Fluorine and phosphorous-containing amphiphilic molecules with surfactant properties |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59245505A patent/JPS61123591A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5344930A (en) * | 1989-06-22 | 1994-09-06 | Alliance Pharmaceutical Corp. | Fluorine and phosphorous-containing amphiphilic molecules with surfactant properties |
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