JPS61123590A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景および従来技術］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ噛ディスフ、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されうるちのである。

光ディスクは、基本構造としてプラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ
、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録
層とを有する。

光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。光ディ
スクからの情報の読み取りもまた、レーザービームを光
ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録層の
光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出す
ることなどにより情報が再生される。

また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なく
とも一枚の基板上に記録層を設け、この二枚の基板を記
録層が内側に位置し、かつ閉空間を形成するようにリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
合してなるエアーサンドイッチ構造が提案されている。

このような構造を有する光ディスクでは、記録層は直接
外気に接することなく、情報の記録、再生は基板を透過
するレーザ光で行なわれるために、一般に記録層が物理
的または化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に
塵埃が付着して情報の記録、再生の障害となることがな
いなどの利点がある。

情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値が高いものであるが、その記録感度は少しで
も高いものであること、そしてＳ／Ｎ比の高い読取り信
号が得られることが望まれている。

また、記録層の下（すなわち中間層表面）にスタンパ−
を用いて予めピットあるいはトラッキング用の溝（プレ
グルーブ）を形成する場合には、読取り信号のＳ／Ｎ比
向上向上の点から、記録媒体の製造工程において基板の
スタンパ−からの剥離が容易であることが望まれている
。

従来より、記録感度を向上させるために、たとえば、特
開昭５０−１２６２３７号公報および特開昭５７−２０
５１９３号公報に記載されているように、基板と記録層
との間にポリエステル、ポリエチレン、ポリスチレン、
アクリル系ポリマー等の有機高分子物質：あるいは二酸
化ケイ素等の非金属からなる断熱層を設けることにより
、レーザービームの照射による熱エネルギーが記録層か
ら基板等へ熱伝導によって損失することを低減する技術
が知られている・ ［発明の要旨］ 本発明は、記録感度を高めた情報記録媒体を提供するこ
とをその目的とするものである。

また、本発明は、読取り信号のＳ／Ｎ比の向上した情報
記録媒体を提供することもその目的とするものである。

さらに、本発明は、中間層表面にプレグルーブ雌性の向
上した情報記録媒体を提供す２こともその目的とするも
のである。

上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび／または読み取りが可能な記録層を有する情報
記録媒体において、該基板と記録層との間に弗素系界面
活性剤を含有する高分子物質からなる中間層が記録層に
接して設けられていることを特徴とする本発明の情報記
録媒体により達成することができる。

すなわち、本発明では、弗素系界面活性剤を含有する高
分子物質からなる中間層を記録層に接して設けることに
より、情報記録媒体における感度の顕著な向上および読
取り信号のＳ／Ｎ比の向上が実現する。

従来より、基板と記録層との間に断熱効果を有する材料
からなる層を設けて、得られる情報記録媒体の感度を高
めることが行なわれているが１本発明によれば、公知の
中間層を有する記録媒体よりも高感度とすることができ
る。

また、中間層に弗素系界面活性剤を含有させることによ
り、中間層形成時において塗膜表面を平滑化することが
でき、このような中間層を有する情報記録媒体からはＳ
／Ｎ比の優れた読取り信号が得られる。

さらに、たとえば中間層に用いられる高分子物質として
光硬化型樹脂を用い、中間層表面にスタンパ−でピット
あるいはプレグルーブを形成する場合には、中間層とス
タンパ−との剥離性が向上するために、形成操作後にス
タンパ−から基板を除去することが容易となる。この結
果、中間層上に形状の良好なピットまたは溝を設けるこ
とができ、このことによっても読取り信号のＳ／Ｎ比を
高めることができる。また、スタンパ−は通常ニンケル
などの金属性のものであるが、弗素系界面活性剤の添加
により中間層との剥離性が良くなるためにスタンピング
操作に要する時間を短縮化することが可能となり、これ
により生産性の向上が実現する。

また、光硬化型樹脂からなる中間層においては、光重合
性モノマーに弗素系界面活性剤を含有させることにより
、形成される中間層に気泡が発生するのを効果的に防ぐ
ことができ（消泡効果）、スタンパ−による成型性を一
層高めることができる。

［発明の構成］ 以上に述べたような好ましい特性を有する本発明の情報
記録媒体は、たとえば、次のような方法により製造する
ことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス；セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；およびポ
リカーボネートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、接着力の向上お
よび記録層の変質の防止などの目的で、下塗層が設けら
れていてもよい、下塗層の材料としては、たとえば、ポ
リメチルメタアクリレート、アクリル酸会メタアクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・
塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネートなど
の高分子物質ニジランカップリング剤などの有機物質：
および酸化物（Ｓｉ０２、Ａｌ２Ｏ２等）、弗化物（Ｍ
ｇＦ２）などの無機物質を挙げることができる。

特に基板材料がガラスである場合には、基板から遊離す
るアルカリイオン（Ｎａ”、Ｋ１、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋
等）が他層に拡散するのを防止するために、親水性基お
よび／または無水マレイン酸基を有するポリマーからな
る下塗層が設けられているのが好ましい。

下塗層は、上記高分子物質を適当な溶剤に溶解または分
散した後、この塗布液をスピンコード、ディップコート
、エクストルージョンコート、バーコード、スクリーン
印刷などの塗布方法を用いて基板上に塗布することによ
り形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．０
１乃至２０＃Ｌｍであり、好ましくはＯ，Ｌ乃至１０４
ｍである。

なお、下塗層には後述の弗素系界面活性剤が含有されて
いてもよく、この場合には下塗層表面の平面性が向上す
る。

中間層は、基板上に直接に、あるいは下塗層を介して設
けられる０本発明の特徴的な要件である中間層は、弗素
系界面活性剤を含有する高分子物質からなる。

本発明にて用いることのできる弗素系界面活性剤の代表
例としては、炭素数３〜３０の炭化水素鎖を少なくとも
一つ有し、親水性アニオン基、親木性ノニオン基、親木
性ベタイン基など親木性基を少なくとも一種有し、かつ
該炭化水素鎖の水素原子の全部もしくは一部が弗素で置
換された下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を挙げる
ことができる。

Ｒ−Ａ−Ｘ　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）ただし、
一般式ＣＩ）においてＲは少なくとも三個の弗素原子を
含む部分弗素化または全弗素化炭化水素基を表わす。

Ａは化学結合手または連結基であり、連結基の例として
は二価炭化水素基、好ましくは脂肪族。

芳香族もしくは混合脂肪族・芳香族の二価炭化水素基を
挙げることができる。そして１．その例としては酸素、
エステル基（−〇〇〇−）およびアミド基（−ＣＯＮＲ
’−及び−３Ｏ２ＮＲ’−；ただし、Ｒ′は水素または
炭素数１〜５のアルキル基）などの炭素以外の異種原子
で中断された二価炭化水素基を挙げることができる。

Ｘは親水性基を表わし、その例としては、１）一般式：
　　−（ＣＨ２ＣＨ２０）ＨＲ１（ただし、Ｒ１は水素
またはメチル基などの炭素数１〜５のアルキル基であり
：ｎは５〜２０の範囲の整数であり；このポリオキシエ
チレン基はイソプロピレンオキシ基で中断されていても
よい） で表わされるポリオキシエチレン基などの親木性非イオ
ン性ポリオキシアルキレン基、２）たとえば、一般式： ％式％ （ただし、Ａｌｋはメチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基およびブチレン基などの炭素数１〜５の低級アルキ
レン基であり：Ｒ２はメチル基およびエチル基などの炭
素数１〜５の低級アルキル基である） で表わされる親木性ベタイン基。

３）たとえば、一般式： ％式％ （ただし、Ｍは水素、アルカリ金属、アンモニウム基、
またはジェタノールアンモニウム、モルホリニウム、ピ
リジニウムなどの有機アンモニウム基であり、Ｒ３はア
ルキル基または前記のＲと同様な基である） で表わされる親木性アニオン基を挙げることができる。

好ましくはＸは親木性アニオン基である。また基Ｒ中の
弗素原子の数と、Ｒの弗素化炭化水素鎖中の炭素原子の
数と、Ａが二価炭化水素基である場合の基Ａ中の炭素原
子の数の合計が少なくとも１０であるのが好ましい。本
発明において、特に好ましい弗素系界面活性剤は末端に
ｌ−１ｊフルオロメチル基を有するものである。

以下に、本発明に好ましく用いられる弗素系界面活性剤
の代表的な例（構造式）を記載する。

ｊ勅、　　１　： Ｆ２Ｏ−（Ｃ：Ｆｚ）　２　　Ｃ００Ｍ陽、２： Ｈ−（ＣＦｚ　）　６−ＣＯＯＨ １勅、　３　： Ｒ３Ｇ　−（ＣＦ２　）　８−　Ｃ００ＮＨａ！勅、　
４　： Ｈ−（ＣＦｚ　）　１０−ＣＯＯＨ 崩、５： Ｒ３Ｇ　−（ＣＦ２　）　ｙ　−５Ｏ３，Ｋｊ幻、　　
６　： Ｈ−（ＣＦ２　）　ｓ　−ＧＨｚ　−０ＳＯ３Ｎａ陥、
７： Ｈ（ＣＦ２　）　３　　ＣＨ２０５０３Ｈａ陽、８：０ １゛ Ｈ−ＣＣＦｚ　）　　ｓ　−ＣＨ２−０−Ｐ−ＯＨＣＨ Ｎｏ、９：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０
↑ Ｈ（ＣＦ２）８−ＣＨ２−０−Ｐ　＝ＯＨＣＨ 陥、　　１０：　　　　　　　　　　　　　　　　　　
０↑ Ｈ（ＣＦ２）１０−Ｃ：Ｏ２−０−Ｐ−０）１ＣＨ ＣＨ Ｎｏ、１２： 陽、　１３　： Ｈ（Ｊｉｌ”２Ｊ　　Ｂ−Ｌｉ）１２−ＬＪ　　　　　
Ｕ陽、　　ｌ　４　： Ｆ３　Ｃ−ＣＨ−０−（ＧＨｚ　）　　３−Ｓｏ：ｉ　
Ｎａ／′ ３Ｃ 陽、　　ｌ　５　： Ｈ−（ＣＦ２　）　　ｓ　−ＣＨ２−０−（ＧＨｚ　）
ａ　−５０３Ｎａ陥、　　１６　： Ｈ−（ＣＦｚ　）　　ｅ　−ＣＨ２−０−（ＣＨ２）＝
ｓ　　−ＳＯ３Ｎａ陽、　ｌ　７　： Ｈ−（ＧＦｚ　）　　ｓｏ　−ＧＨｚ　−０−（ＧＨｚ
　）３−　ＳＯ３Ｎａ陽、　　ｌ　８　： Ｆ３　Ｇ−（ＣＦｚ　）　　ｓ　−ＣＨ２−０−（ＣＨ
２）　　３−５Ｏ３Ｎａ陽、　　ｌ　９　： ｉ勅、　２０　： Ｃ２）１５ ！ Ｆ３Ｃ−Ｃ−０−（ＧＨｚ）　　３　　ＳＯ３Ｎａ２Ｈ
５ 陽、　２１　： Ｆ３　Ｃ−（ＣＦｚ　）　　２−ＣＯＯ−（ＣＨ２）３
−５Ｏ３Ｎａ間、　２２　： ＨＩＣＦｚ　）　　ｔｏ　−ＣＯＯ−ＣＣＨｚ　）３−
ｓｏ３Ｈａ陥、　２３　： Ｈ−（ＣＦｚ　）　　ｓ　−ＣＯ２−０００−（ＧＨｚ
　）２−　ＳＯ３ＨａＮｏ、２５： 陥、　２８　： 動、　３０　： Ｃｔａ　　Ｈ：ｘａ　−０Ｈ−Ｃｏｏ−ＣＨ２−ＣＦ３
Ｉ ０３　Ｈａ 崩、　３２　： ｅｔａ　　Ｏ３３−ＣＨ−（ＯＮＨ−ＣＨ２−ＣＦ２−
ＣＨＦｚＯ３Ｈａ 慟、　３４　： Ｆ３　Ｇ−（ＣＦ２　）　　２−ＣＯＯ（−Ｃ）１２Ｃ
Ｈ２０）７−ＣＨ３Ｎｏ、３５：　　　　　　　　　　
　　　　Ｃ，Ｉ５Ｆ３　Ｇ−（ＣＦｚ　）　　ｙ　−５
Ｏｚ−Ｎ（−ＣＨ２ＣＨ２０）ａ　）Ｉ動、　３６　： Ｆ３　Ｃ−（ＣＦ２　）　　！　−ＣＨ２Ｏ（−ＣＩ２
０Ｈ２０）５　Ｈ陶、３７：　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　ＣＨｓ尚、　３８　： Ｈ−ＣＣＦｚ　）　　ｓ　−Ｃ０ＮＨ−（ＧＨｚ　）！
−０−９Ｏ３ＨａＮＯ，４０：　　　　　　　　　　　
　　ｃａＨｓＦ２Ｏ−（ＣＦｚ　）ｒ　−５Ｏｚ−Ｎ−
ＣＨｚ　Ｃ０ＯＨ動、４１：　　　　　　　　　　　　
　ＣｚＨｓ■ Ｆ２Ｏ−（ＣＦｚ　）ｙ　−９Ｏｚ　−Ｎ−（ＣＨｚ　
）ｚ−０”ＳＯ：ｓ　Ｈ動、４２：　　　　　　　　Ｈ １勅、４３：　　　　　　　　　Ｈ ！ 中間層に用いられる高分子物質としては、中間層材料と
して公知の物質を用いることができる。

その例としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル系ポリマー、ポリエステル、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリウレタン、セルロース誘導体（酢酸セルロー
ス、硝酸セルロース等）、ポリ塩化ビニル、ポリヒドロ
キシスチレン、ポリビニルトルエン、塩素化ポリオレフ
ィンなどの熱可塑性ポリマー；および（メタ）アクリル
酸と下記のジオール、ポリオールとのエステルを主体と
する光硬化型ポリマーを挙げることができる。すなわち
、プロパンジオール、ヘキサンジオール等のジオール；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等
のグリコールエーテル類；トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール等のポリオール：ビスフェノールＡ
とグリコール類の縮合物；更にはこれらジオール、ポリ
オールと二価有機酸のエステル類である。この中でアク
リル酸とヘキサンジオール、エチレングリコール類また
はプロピレングリコール類とのエステル化物が好適に用
いられる。

さらに、基板上に直接中間層を設ける場合には、高分子
物質として前記の下塗層の材料を用いることも可能であ
る。この場合には中間層は高感度、高Ｓ／Ｎ比などの利
点にに加えて、接着力の増大、記録層の変質防止などの
機能をも兼ね備えることができる。

上記弗素系界面活性剤は、記録感度の向上およびＳ／Ｎ
比向上向上からは、上記高分子物質に対してｏ　、ｏｏ
ｏｓ〜５重量％の範囲で添加されているのが好ましく、
さらに好ましい範囲は０．００１〜２重量％である。

中間層を形成する場合、高分子物質が熱可塑性ポリマー
である場合には、まず上記熱可塑性ポリマーおよび弗素
系界面活性剤を溶剤に溶解して塗布液を調製する。

ポリマーを溶解するための溶剤としては、メタノール、
エタノール、プロパツール、ブタノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセト
ンアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、ジメチルホルムアミド、シン
ナーなどを挙げることができる。

これらのポリマー溶液中には、さらに可塑剤、滑剤なと
各種の添加物を目的に応じて添加することも可能である
。

次に、この塗布液をスプレー法、スピンナー法、ディッ
プ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロ
ール法、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板表
面（または下塗層）に塗布して塗膜を形成したのち乾燥
することにより、基板（または下塗層）上に中間層を形
成することができる。

また、高分子物質が光硬化型ポリマーである場合には、
まず光硬化性モノマーに上記弗素系界面活性剤および光
重合開始剤を溶解して塗布液（Ｕ■ラッカー液）を調製
する。

光重合開始剤（増感剤）の例としては、ベンゾインアル
キルエーテル、ベンジルケタール、アセタール類、アセ
トフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、キサントン
誘導体、チオキサントン誘導体、アントラキノン誘導体
、ベンズアルデヒド誘導体を挙げることができる。これ
らの重合開始剤は単独でも、あるいは適宜組み合わせて
も使用することができる。

上記塗布液（モノマー溶液）中には、さらに酸化防止剤
、安定化剤など各種の添加物を目的に応じて添加するこ
とができる。

次に、この塗布液を上記と同様の方法により基板表面に
塗布して塗膜を形成したのち、電磁放射線を照射するこ
とにより、塗膜中のモノマーは重合硬化し、基板（また
は下塗層）上に中間層が形成される。使用される電磁放
射線としては、紫外線、電子線などを挙げることができ
る。このうち装置の規模、経済性、安全性などの点から
紫外線が好ましい、また、重合反応をより完全に行なう
ためには、電磁放射線の照射は真空下もしくは窒素ガス
雰囲気下で行なうのが好ましい。

なお、光硬化型ポリマーおよび弗素系界面活性剤からな
る中間層形成の際に、スタンパ−等を用いてその表面に
微細な凹凸の形でアドレス信号などの情報およびトラッ
キング用の案内溝などを設けてもよい０本発明において
は、基板とスタンパ−との剥離性が高いために、明瞭な
形状のピットおよびプレグルーブを形成することができ
る。また、中間層内部に気泡が発生するのを効果的に防
４止することができる。

中間層の層厚は通常は０．０５乃至１００　ｐｍであり
、好ましくは０．１乃至５０ＩＬｍであΔ。

次いで、中間層上には記録層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｆｊ、、Ｔｉ、Ｃｕ。

Ｇｅ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金
属；Ｇｅ、Ｓｉ等の半導体；およびこれらの合金または
これらの組合せを挙げることができる。また、これらの
金属または半金属の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素
化合物、炭化物および窒化物等の化合物：およびこれら
の化合物と金属との混合物も記録層に用いることができ
る。あるいは、色素とポリマーとの組合せを利用するこ
ともできる。

本発明においては、記録層の材料がＩｎとＧｅＳとの混
合系であるのが特に好ましい、この場合に、記録層にお
けるＩｎの含有量は３３．３〜８７．５ｍＭ％の範囲に
あるのが好ましい。

記録層は、上記材料を蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法により中間層上に形成される。

記録層は単層または重層でもよいが、その層厚は、光情
報記録に要求される光学濃度の点から、一般に１００乃
至５５００λの範囲であり、好ましくは２００〜１００
０人の範囲である。

記録層の上には、機械的強度の向上などの目的で、たと
えばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子物質；セ
ルロース誘導体、ポリサッカライド、ラテックス状ビニ
ルポリマー等の合成高分子物質などからなる保護膜が設
けられていてもよＩ／嘱。

また、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は、耐傷性、防湿性などを高めるために、例えば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質か
らなる薄膜が真空蒸着、スパッタリング等により設けら
れていてもよい。

このようにして基板、（所望により下塗Ｒ）。

中間層、および記録層がこの順序で積層された基本構成
からなる情報記録媒体を製造することができる。

なお、前述の貼り合わせタイプの記録媒体においては、
上記構成を有する二枚の基板を接着剤等　　゛を用いて
接合することにより製造することができる。また、エア
ーサンドイッチタイプの記録媒体においては、二枚の円
盤状基板のうちの少なくとも一方が上記構成を有する基
板を、リング状の外側８ペーサと内側スペーサとを介し
て接合することにより製造することができる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各側は本発明を制限するものでない。

［実施例１コ　。

円盤状のソーダ石灰ガラス基板（カリ強化ガラス、外径
：３０５ｍｍ、内径：９０ｍｍ、厚さ：１．３ｍｍ）を
アルカリ性溶液およびイソプロピルアルコールで洗浄し
たのち、フレオン乾燥させた。

次に、熱可塑性のポリメチルメタクリレート（商品名：
ダイヤナールＢＲ−８５、三菱レイヨン■製）および上
記構造式崩、１２で表わされる弗素系界面活性剤（以下
、弗素系界面活性剤Ａと称する）： を用いて下記組成を有する塗布液を調製した後、フィル
ター（ポアサイズ：０．２ｐｍ）を用いて加圧濾過しな
。

１邊」１１紅虞 ポリメチルメタクリレート　　　　　　　　６ｇ弗素系
界面活性剤Ａ　　　　　　　　　　Ｏ，１ｇメチルエチ
ルケトン　　　　　　　　　５０ｍ文メチルセロソルブ
アセテ−）　　　　　　５０ｍ１この塗布液を上記ガラ
ス基板上に回転数ｌ１００Ｏｒｐのスピンナーを用いて
３０秒間塗布したのち、１２０℃の温度で５分間乾燥し
て、乾燥膜厚０．２ＩＬｍの中間層を形成した。

次に、ガラス基板の中間層表面に真空蒸着法によりＩｎ
１８０λおよびＧｅＳ　１２０λを共蒸着させて、層厚
が３００人の記録層を形成した。

このようにして、順に基板、中間層および記録層からな
る情報記録媒体を製造した。

［実施例２］ 実施例１において、中間層形成用塗布液への弗素系界面
活性剤の添加量を０．０２ｇとすること以外は実施例１
の方法と同様の操作を行なうことにより、順に基板、中
間層および記録層からなる情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、中間層形成用塗布液に弗素系界面活
性剤を添加しないこと以外は実施例１の方法と同様の操
作を行なうことにより、順に基板、中間層および記録層
からなる情報記録媒体を製造した。

実施例１．２および比較例１で得られた各情報記録媒体
について、下記の表面平滑性試験、感度試験およびＳ／
Ｎ比試験により評価した。

（１）表面平滑性試験 情報記録媒体の記録層表面を直径５ルｍの触針計を用い
て、平均の表面粗さく’Ｒａ）を測定した。

（２）感度試験 半導体レーザー（波長：８２５ｎｍ）をオートフォーカ
ス対物レンズにより情報記録媒体の記録層上で約１．４
ＪＬｍのビーム径に集光し、変調器により２．５ＭＨｚ
の矩形波に喬調して、記録媒体を５１５ｒｐｍで回転さ
せながら記録した。こＭ　１＋都ｔａ６鴎Ｌ＃＃　Ｉ　
ＩＩ　ｍｇｎ−ｚ　ｔ／、、　ｋ　４Ｅ虐ナスために必
要なレーザーの出力強度を測定した。

（３）Ｓ／Ｎ比試験 ピットの形成された情報記録媒体をレーザー光で読み取
り、得られた信号をスペクトテムアナライザーで測定し
てそのノイズレベルをＡ−Ｄの四段階で評価した。ここ
で、Ａは読取り信号のノイズレベルが非常に低いことを
意味し、ＡからＤへ順にノイズレベルが高くなり、Ｄで
はノイズレベルが最も高＜　Ｓ／Ｎ比が低下しているこ
とを意味する。

また、記録層表面に形成されたピットの形状を走査型電
子顕微鏡（１０，０００倍）で観察し、Ａ−Ｃの三段階
で評価した。ここで、Ａはピットサイズのバラツキが非
常に小さくビットの形状が良好であることを意味し、Ａ
からＣへ順にビットサイズのバラツキが大きくなり、Ｃ
ではバラツキが最も大きくビットの形状が不均一である
ことを意味する。

得られた結果を第１表に示す。

第１表 実施例１　実施例２　比較例１ 表面平滑性（λ）　　　７０　　１００　　６００感度
（ｍＷ）　　　　７．５　．７．９　　８．５ノイズレ
ベル　　　　Ａ　　　　　Ｂ　　　　　Ｄピット形状　
　　　　Ａ　　　　　Ａ　　　　　Ｃ第１表に示した結
果から明らかなように、本発明の弗素系界面活性剤を含
有する熱可塑性樹脂からなる中間層を有する情報記録媒
体（実施例１．２）は、公知の情報記録媒体（比較例１
）と比較して記録感度および信号のＳ／Ｎ比が著しく高
いものであった。

［実施例３］ スチレン・無水マレイン酸共重合体（モル比：約５０１
５０）、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラン（商
品名：　ＫＢＮ−４０３、信越シリコーン■製）および
弗素系界面活性剤Ａを用いて下記組成を有する塗布液を
調製した。

スチレン・無水マレイン酸共重合体　　　　４ｇ・γ−
グリシドキシプロピルメトキシシラン　２ｇ弗素系界面
活性剤Ａ　　　　　　　　　　Ｏ，２ｇメチルエチルケ
トン　　　　　　　　　５０ｍ交メチルセロソルブアセ
テー）　　　　　　５０ｍｊＬこの塗布液を実施例１と
同一のガラス基板上に回転数１１００Ｏｒｐのスピンナ
ーを用いて３０秒間塗布したのち１２０”Ｏの温度で５
分間乾燥して、乾燥膜厚が０．２５ｐｍの下塗層を形成
した。

次に、中間層形成用の塗布液を下記組成とすること以外
は実施例１の方法と同様の操作を行なうことにより、下
塗層上に中間層を形成した。

ポリメチルメタクリレ−）　　　　　　　　　４ｇ弗素
系界面活性剤Ａ　　　　　　　　　　Ｏ，２ｇトルエン
　　　　　　　　　　　　　　８．０　ｍ　ｌメチルセ
ロソルブアセテ−）　　　　　　２０ｍｊＬ次いで、実
施例１の方法と同様の操作を行なうことにより記録層を
形成し、順に基板、下塗層。

中間層および記録層からなる情報記録媒体を製造した。

［比較例２］ 実施例３において、下塗層形成用塗布液および中間層形
成用塗布液に弗素系界面活性剤を添加しないこと以外は
実施例３の方法と同様の操作を行なうことにより、順に
基板、下塗層、中間層および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。

なお、中間層形成用塗布液としては下記組成を有するも
のを使用した。

ポリメチルメタクリレート２ｇ トルエン　　　　　　　　　　　　　　５０ｍＪ１メチ
ルセロソルブアセテ−’ｐ　　　　　　５０ｍＪＬ実施
例３および比較例２で得られた各情報記録媒体について
、上記の表面平滑性試験、感度試験およびＳ／Ｎ比試験
により評価した。

ｔｔ’ｔへ？１升話里ル坑２賽じ云十−第２表 実施例３　　比較例２ 表面平滑性（λ）　　　　　８０　　　　８５０感度（
ｍＷ）　　　　　　　７．０　　　８．５ノイズレベル
　　　　　　Ａ　　　　　　Ｄビット形状　　　　　　
　Ａ　　　　　　Ｃ第２表に示した結果から明らかなよ
うに、本発明の弗素系界面活性剤を含有する中間層およ
び下塗層を有する情報記録媒体（実施例３）は、比較の
ための情報記録媒体（比較例２）よりも記録感度および
信号のＳ／Ｎ比が著しく高い、ものであった。

［実施例４］ 光硬化性のトリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンゾインメ、チルエーテルおよび弗素系界面活性剤Ａ
を用いて下記組成を有する塗布液（ＵＶラッカー液）を
調製した。

ｌ星亘豆皿し′ トリメチロールプロパントリアクリレート００ｇ ベンゾインメチルエーテル　　　　　　　　３ｇ弗素系
界面活性剤Ａ　　　　　　　　　　Ｏ，２ｇこの塗布液
をトラッキング用溝が設けられたニッケル製スタンパ−
（表面が１００人の厚さでＡｇ被覆されている）上に流
延塗布したのち、実施例１と同一のガラス基板をのせ、
更に約ＬＯｇ／ｃｒｒｆ″の荷重を均一に掛けた状態で
、４ｋＷの超高圧水銀灯を用い、ランプと基板との距離
が６０ｃｍとなるようにしてガラス基板側から１０分間
紫外線露光を行ない、層厚が３０ｐｍの中間層を形成し
た。

次いで、中間層の形成され元基板をスタンパ−から引き
離した。このとき、スタンパ−からの剥離力および中間
層における気泡の発生状態を測定した。

次いで、実施例１の方法と同様の操作を行なうことによ
り記録層を形成し、順に基板、中間層および記録層から
なる情報記録媒体を製造した。

［比較例３］ 実施例４において、中間層形成用塗布液に弗素系界面活
性剤を添加しないこと以外は実施例４の゛方法と同様の
一作を行なうことにより、順に基板、中間層および記録
層からなる情報記録媒体を製造した。

実施例４および比較例３で得られた各情報記録媒体につ
いて、上記の表面平滑性試験、感度試験およびＳ／Ｎ比
試験により評価した。

得られた結果を第３表に示す、また、スタンパ−からの
基板の剥離力および中間層中の気泡の発生度についての
結果も併記する。

以下余白 第３表 実施例４　　比較例３ 表面平滑性（λ）　　　　　９０　　　２０’０感度（
ｍＷ）　　　　　　８．０　　１０．５ノイズレベル　
　　　　　Ａ　　　　　　Ｄ・ピット形状　　　　　　
　Ａ　　　　　　Ｄ剥離力　　　　　　　　小さい　　
　大きい気泡の発生度　　　　　少ない　　　多い第３
表に示した結果から明らかなように、本発明の弗素系界
面活性剤を含有する光硬化型樹脂からなる中間層を有す
る情報記録媒体（実施例４）は、公知の情報記録媒体（
比較例３）と比較して記録感度および信号のＳ／Ｎ比が
著しく高いものであった。また、本発明に係る中間層ｔ
４消泡性が優れ、スタンパ−からの剥離性においても顕
著に改善されていた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な記録層を有する情報記録媒体に
   おいて、該基板と記録層との間に弗素系界面活性剤を含
   有する高分子物質からなる中間層が記録層に接して設け
   られていることを特徴とする情報記録媒体。 ２、上記中間層が弗素系界面活性剤を含有する熱可塑性
   樹脂からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の情報記録媒体。 ３、上記中間層が弗素系界面活性剤を含有する光硬化型
   樹脂からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の情報記録媒体。 ４、上記弗素系界面活性剤が、高分子物質に対して０．
   ０００５〜５重量％の範囲で含有されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。 ５、上記弗素系界面活性剤が、高分子物質に対して０．
   ００１〜２重量％の範囲で含有されていることを特徴と
   する特許請求の範囲第４項記載の情報記録媒体。 ６、上記基板と中間層との間に下塗層が設けられている
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録
   媒体。 ７、上記下塗層に弗素系界面活性剤が含有されているこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の情報記録媒
   体。