JPS62214531A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPS62214531A JPS62214531A JP61057133A JP5713386A JPS62214531A JP S62214531 A JPS62214531 A JP S62214531A JP 61057133 A JP61057133 A JP 61057133A JP 5713386 A JP5713386 A JP 5713386A JP S62214531 A JPS62214531 A JP S62214531A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- optical recording
- compsn
- fluorine
- monomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 3
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- -1 fluorine-substituted styrene Chemical class 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-O 1H-indol-1-ium Chemical compound C1=CC=C2[NH2+]C=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNBZWBNYIKPDFQ-UHFFFAOYSA-N [4,4-bis(diethylamino)cyclohexa-1,5-dien-1-yl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)(N(CC)CC)CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 LNBZWBNYIKPDFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N aluminum phthalocyanine Chemical compound [Al+3].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N bis(2-cyclohexyl-3-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1CCCCC1C=1C(O)=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC(O)=C1C1CCCCC1 ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000298 carbocyanine Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000006364 carbonyl oxy methylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWYZFXLSWMXLDM-UHFFFAOYSA-M pinacyanol iodide Chemical compound [I-].C1=CC2=CC=CC=C2N(CC)C1=CC=CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=[N+]1CC QWYZFXLSWMXLDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光によって、情報の記録を行なう光ディスク
などの光記録媒体に関する。
などの光記録媒体に関する。
更に詳しくは、プラスチック基板上に有機色素薄膜を有
する光記録媒体に関する。
する光記録媒体に関する。
[従来の技術]
レーザ光を照射して情報の記録再生を行なうための記録
媒体として、プラスチック基板上に有機色素薄膜を塗設
したものが知られている。
媒体として、プラスチック基板上に有機色素薄膜を塗設
したものが知られている。
このような記録媒体を形成するに際しては、有機色素を
適当な溶剤に溶解し、プラスチック基板上に回転塗布す
るなどして、有機色素薄膜を形成する方法が検討されて
いる。
適当な溶剤に溶解し、プラスチック基板上に回転塗布す
るなどして、有機色素薄膜を形成する方法が検討されて
いる。
しかし、この場合、しばしば有機色素の溶剤がプラスチ
ック基板を溶解するという問題が生じ、これを避けるた
めに基板表面に紫外線硬化性樹脂の層を施す方法が開示
されている(特開昭59−217241)。
ック基板を溶解するという問題が生じ、これを避けるた
めに基板表面に紫外線硬化性樹脂の層を施す方法が開示
されている(特開昭59−217241)。
ところが、この方法を用いて形成した記録媒体であって
も、保存中に有機色素が基板中に拡散し記録媒体の反射
率が低下したり、レーザによる記録感度の低下が生じた
りするという重大な問題が生じることがわかった。
も、保存中に有機色素が基板中に拡散し記録媒体の反射
率が低下したり、レーザによる記録感度の低下が生じた
りするという重大な問題が生じることがわかった。
本発明は、かかる問題点を改善し、保存安定性に優れた
、プラスチック基板上に有機色素薄膜を塗設してなる光
記録媒体を提供するものでおる。
、プラスチック基板上に有機色素薄膜を塗設してなる光
記録媒体を提供するものでおる。
[問題点を解決するための手段]
本発明は上記目的を達成するために次の構成、すなわち
プラスチック基板層とフッ素含有モノマと架橋性モノマ
を含む化学線硬化性樹脂組成物の硬化層と有機色素組成
物薄膜の層からなる光記録媒体を特徴とするものである
。
プラスチック基板層とフッ素含有モノマと架橋性モノマ
を含む化学線硬化性樹脂組成物の硬化層と有機色素組成
物薄膜の層からなる光記録媒体を特徴とするものである
。
本発明に用いるフッ素含有七ツマとは、分子内に化学線
重合性の炭素−炭素二重結合と、フッ素を有する化合物
でおる。
重合性の炭素−炭素二重結合と、フッ素を有する化合物
でおる。
フッ素含有七ツマの例としては、フッ素置換アクリル系
モノマ、フッ素置換スチレン系モノマなどが挙げられる
。化学線硬化の際、硬化速度が速いことから、フッ素置
換アクリル系モノマが好ましく用いられる。
モノマ、フッ素置換スチレン系モノマなどが挙げられる
。化学線硬化の際、硬化速度が速いことから、フッ素置
換アクリル系モノマが好ましく用いられる。
フッ素置換アクリル系モノマとしては下記の一般式
%式%
(但し、式中R1は水素か01〜C4のアルキル基、R
2は1つ以上の水素原子をフッ素原子で置換したC1〜
C12のアルキル基を表わす)で示されるものが挙げら
れる。
2は1つ以上の水素原子をフッ素原子で置換したC1〜
C12のアルキル基を表わす)で示されるものが挙げら
れる。
具体的な例としては、
CHp=cHcOOcH2cF3゜
CR2= CHCOOCR2CF2 H。
CH2=C(CH3)C00CH2CF3゜G H2=
C(CHz ) COOCR2CF3 H。
C(CHz ) COOCR2CF3 H。
CH2=CHC00CHりCF2 CF3 。
CR2= CHCOOCR2CF2 CF2 H。
CH2= CHCoo CH2(CF2 ) 3 CF
3゜CH2=CI−(COOCH2(CF2)30F2
H。
3゜CH2=CI−(COOCH2(CF2)30F2
H。
CHp=C(CH3)COO(CF2)30F3゜CH
2=C(CI−13) COOCH2(CF2)
3 CF2H。
2=C(CI−13) COOCH2(CF2)
3 CF2H。
CH2=CHCOOCH2CH2(CF2)7 CF3
゜CH2=C(CH3) C00C82CH2(CF
2> 7 CF3゜ CR2=CHCOOCH2CH2(CF2)7 CF2
H。
゜CH2=C(CH3) C00C82CH2(CF
2> 7 CF3゜ CR2=CHCOOCH2CH2(CF2)7 CF2
H。
CH2=C(CH3)C00CHpCHz (CF2)
7 CF2 @ 。
7 CF2 @ 。
上記フッ素含有七ツマに配合する架橋性モノマとしでは
、−分子中に2個以上の重合性二重結合を有する化合物
が挙げられる。アクリロイルオキシ基又はメタアクリロ
イルオキシ基(以下、両方の基を総称して(メタ)アク
リロイルオキシ基と記載する)を有する化合物が好まし
く用いられ、その具体的な例は下記の(a)〜(f)の
(メタ)アクリレートを挙げることができる。
、−分子中に2個以上の重合性二重結合を有する化合物
が挙げられる。アクリロイルオキシ基又はメタアクリロ
イルオキシ基(以下、両方の基を総称して(メタ)アク
リロイルオキシ基と記載する)を有する化合物が好まし
く用いられ、その具体的な例は下記の(a)〜(f)の
(メタ)アクリレートを挙げることができる。
(a) 炭素数2〜12のアルキレングリコールの(
メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ
)アクリレート、1.4−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレ
ートなど。
メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ
)アクリレート、1.4−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレ
ートなど。
(b) ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)
アクリル酸ジエステル類: ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエ
ヂレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレートなど。
アクリル酸ジエステル類: ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエ
ヂレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレートなど。
(C) 多価アルコールの2個以上の(メタ)アクリ
ロイルオキシ基を有する(メタ)アクリル酸ポリエステ
ル類: ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレートなど。
ロイルオキシ基を有する(メタ)アクリル酸ポリエステ
ル類: ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレートなど。
(d) ビスフェノールlるいはビスフェノールAの
水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド
付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類 (e) ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコ
ール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端
イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水
酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分
子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有す
るウレタン(メタ)アクリレート類 (f) 分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合
物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる
分子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有
するエポキシ(メタ)アクリレート類 これらの架橋性モノマは、ただ一種をフッ素含有モノマ
と配合して用いることができるが、2種以上混合して用
いてもよい。
水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド
付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類 (e) ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコ
ール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端
イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水
酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分
子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有す
るウレタン(メタ)アクリレート類 (f) 分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合
物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる
分子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有
するエポキシ(メタ)アクリレート類 これらの架橋性モノマは、ただ一種をフッ素含有モノマ
と配合して用いることができるが、2種以上混合して用
いてもよい。
本発明にあける化学線硬化性組成物を硬化させる一方法
として、紫外線を照射する方法が挙げられるが、この場
合には、前記組成物に光重合開始剤を加えることが望ま
しい。光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェ
ノン、2,2−ジェトキシアセトフェノン、p−ジメヂ
ルアセトフエノン、叶ジチルアミノプロピオフェノン、
ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4.4“
−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ビスジエチルアミ
ノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ペンゾインエヂルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベン
ゾイルフォメート、叶インプロピルーα−ヒドロキシイ
ソブチルフェノン、α−ヒドロキキシイソブチルフエノ
ン、2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトン、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボ
ニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テ
トラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2
−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサンサンな
どの硫黄化合物、ベンゾイルパーオキサイドジ−t−ブ
チルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などが
挙げられる。これらの光重合開始剤は中独で使用しても
よいし、2種以上組合せて用いてもよい。光重合開始剤
の使用mは重合性単量体組成物100重量部に対して0
.01〜10重量部が適当でおる。電子線またはガンマ
線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添
加する必要がない。
として、紫外線を照射する方法が挙げられるが、この場
合には、前記組成物に光重合開始剤を加えることが望ま
しい。光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェ
ノン、2,2−ジェトキシアセトフェノン、p−ジメヂ
ルアセトフエノン、叶ジチルアミノプロピオフェノン、
ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4.4“
−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ビスジエチルアミ
ノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ペンゾインエヂルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベン
ゾイルフォメート、叶インプロピルーα−ヒドロキシイ
ソブチルフェノン、α−ヒドロキキシイソブチルフエノ
ン、2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトン、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボ
ニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テ
トラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2
−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサンサンな
どの硫黄化合物、ベンゾイルパーオキサイドジ−t−ブ
チルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などが
挙げられる。これらの光重合開始剤は中独で使用しても
よいし、2種以上組合せて用いてもよい。光重合開始剤
の使用mは重合性単量体組成物100重量部に対して0
.01〜10重量部が適当でおる。電子線またはガンマ
線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添
加する必要がない。
本発明に用いる化学線硬化性組成物には、製造時の熱重
合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン
、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2.5−t−ブ
チルハイドロキノンなどの公知の熱重合防止剤を加える
のが望ましい。添加量は重合性化合物総重量に対し、0
.001〜0.1重量%が好ましい。
合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン
、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2.5−t−ブ
チルハイドロキノンなどの公知の熱重合防止剤を加える
のが望ましい。添加量は重合性化合物総重量に対し、0
.001〜0.1重量%が好ましい。
本発明に用いる化学線硬化性組成物には塗工性を改良す
るために公知のレベリング剤を加えることができる。例
えばシリコーン系材料を添加することができる。
るために公知のレベリング剤を加えることができる。例
えばシリコーン系材料を添加することができる。
また本発明に用いる化学線硬化性組成物には、本発明の
目的を損わない範囲において、必要に応じ、帯電防止剤
など他の添加物を加えることもできる。
目的を損わない範囲において、必要に応じ、帯電防止剤
など他の添加物を加えることもできる。
本発明に用いる化学線硬化性組成物には、硬化物の硬度
、接着性、吸湿性などの特性を改良するために、少量の
1分子中に1個の重合性二重結合を有する他の化合物、
本発明の目的を損わない範囲内で配合することができる
。
、接着性、吸湿性などの特性を改良するために、少量の
1分子中に1個の重合性二重結合を有する他の化合物、
本発明の目的を損わない範囲内で配合することができる
。
1分子中に1個の重合性二重結合を有する上記化合物の
例としては、下記のものが挙げられる。
例としては、下記のものが挙げられる。
スチレン、アクリロニトリル、エチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、などのほか、各種の(メタ)アク
リル酸のエステル類が用いられる。
チルメタクリレート、などのほか、各種の(メタ)アク
リル酸のエステル類が用いられる。
本発明に用いる化学線硬化性組成物の粘度としては、5
ポイズ以下がよい。5ポイズを越える場合は、基板に均
一に塗布するのが困難になったり、スタンパなどの原盤
から、プリグループなどの凹凸パターンが正確に転写で
きなくなったりする。
ポイズ以下がよい。5ポイズを越える場合は、基板に均
一に塗布するのが困難になったり、スタンパなどの原盤
から、プリグループなどの凹凸パターンが正確に転写で
きなくなったりする。
好ましくは、2ポイズ以下、より好ましくは1ポイズ以
下がよい。
下がよい。
本発明の化学線硬化性組成物の硬化層は、該組成物をプ
ラスチック基板に直接塗布して硬化形成してもよいし、
スタンパ上に塗布したのちプラスチック基板を密着させ
て硬化形成してもよいし、スペースを設けて対向させた
スタンパとプラスチック基板の間に該組成物を注入し、
必要な場合にはプラスチック基板の上から透明な板、例
えばガラスなどでプレスし、該組成物層の厚さを調整し
たのち、硬化して形成してもよい。
ラスチック基板に直接塗布して硬化形成してもよいし、
スタンパ上に塗布したのちプラスチック基板を密着させ
て硬化形成してもよいし、スペースを設けて対向させた
スタンパとプラスチック基板の間に該組成物を注入し、
必要な場合にはプラスチック基板の上から透明な板、例
えばガラスなどでプレスし、該組成物層の厚さを調整し
たのち、硬化して形成してもよい。
硬化層の厚さは、1〜300μmが適当である。
本発明の化学線硬化性組成物を硬化させる方法としては
、紫外線、電子線おるいはガンマ線などの活性エネルギ
ー線を照射する方法が挙げられる。
、紫外線、電子線おるいはガンマ線などの活性エネルギ
ー線を照射する方法が挙げられる。
実用的には、紫外線照射による方法が簡便である。
紫外線源としては、紫外線螢光灯、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などが
ある。
銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などが
ある。
本発明に用いる有機色素には特に制限はなく、各種の有
機色素が用いられる。有機色素の例としては、下記のも
のが挙げられる。カルボシアニン系、フタロシアニン系
、ナフタロシアニン系、コリンまたはコロール系、アン
トラキノン系、ナフトキノン系、アゾ系、トリフェニル
メタン系、ピリリウムまたはチアピリリウム塩系などの
色素が使用可能である。
機色素が用いられる。有機色素の例としては、下記のも
のが挙げられる。カルボシアニン系、フタロシアニン系
、ナフタロシアニン系、コリンまたはコロール系、アン
トラキノン系、ナフトキノン系、アゾ系、トリフェニル
メタン系、ピリリウムまたはチアピリリウム塩系などの
色素が使用可能である。
具体的には、1−メチル−2−[7−(1−メチル−3
,3−ジメチル−2−インドリニデン]−1,3,5−
ヘプタトリ工二ル]−3,3−ジメチル−インドリウム
バークロレート((株)日本感光色素研究所製、シア
ニン系色素NK2421>、 1−メチル−2−[7(1−メチル−3,3−ジメチル
−2−ベンゾ[θ]インドニリデン)−1,3,5−へ
ブタ1〜リエニル]−3,3−ジメチル−ベンゾ[θ]
インドリウムバークロレイト(同上、NK2O14)、
銅フタロシアニン、鉛フタロシアニン、アルミニウムフ
タロシアニン、 2.3−ジシアノ−5−(4°−ブチルフェニルアミノ
)−8−アミノナフトキノンなどが挙げられる。
,3−ジメチル−2−インドリニデン]−1,3,5−
ヘプタトリ工二ル]−3,3−ジメチル−インドリウム
バークロレート((株)日本感光色素研究所製、シア
ニン系色素NK2421>、 1−メチル−2−[7(1−メチル−3,3−ジメチル
−2−ベンゾ[θ]インドニリデン)−1,3,5−へ
ブタ1〜リエニル]−3,3−ジメチル−ベンゾ[θ]
インドリウムバークロレイト(同上、NK2O14)、
銅フタロシアニン、鉛フタロシアニン、アルミニウムフ
タロシアニン、 2.3−ジシアノ−5−(4°−ブチルフェニルアミノ
)−8−アミノナフトキノンなどが挙げられる。
色素組成物の層は、色素中独あるいは色素と色素の安定
剤とから構成されたり、各種のポリマまたはオリゴマ、
その他の添加剤とから構成されてもよい。
剤とから構成されたり、各種のポリマまたはオリゴマ、
その他の添加剤とから構成されてもよい。
有機色素組成物の層は、公知の方法により形成すること
ができ、本発明の硬化層を設けたプラスチック基板上に
有機色素組成物の溶液を、スプレー、ローラコーティン
グ、ディッピング及びスピンコーティングなどの方法で
塗布することにより行なうことができる。あるいは、色
素単体の層を形成する場合には、蒸着などの真空法によ
ってもよい。
ができ、本発明の硬化層を設けたプラスチック基板上に
有機色素組成物の溶液を、スプレー、ローラコーティン
グ、ディッピング及びスピンコーティングなどの方法で
塗布することにより行なうことができる。あるいは、色
素単体の層を形成する場合には、蒸着などの真空法によ
ってもよい。
本発明に用いる基板としては透明材料を用いることが好
ましい。
ましい。
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン系樹
脂などが挙げられる。複屈折が小さく、基板の形成が容
易であることからポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂が好ましく用いられる。
脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン系樹
脂などが挙げられる。複屈折が小さく、基板の形成が容
易であることからポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂が好ましく用いられる。
基板の厚さは、特に限定するものではないが、10ミク
ロン以上、5ミリメートル以下が実用的である。10ミ
クロン以下では基板側から収束光で記録する場合でもご
みの影響を受けやすくなり、5ミリメートル以上では、
収束光で記録する場合、対物レンズの開口数を大きくす
る事が出来なくなリビットサイズが大きくなるため記録
密度を上げることが困難になる。
ロン以上、5ミリメートル以下が実用的である。10ミ
クロン以下では基板側から収束光で記録する場合でもご
みの影響を受けやすくなり、5ミリメートル以上では、
収束光で記録する場合、対物レンズの開口数を大きくす
る事が出来なくなリビットサイズが大きくなるため記録
密度を上げることが困難になる。
基板は、フレキシブルなものでもよいし、リジッドなも
のであってもよい。フレキシブルな基板は、テープ状、
あるいはシート状で用いることが出来る。リッジドな基
板は、カード状、あるいは円形ディスク状で用いること
が出来る。
のであってもよい。フレキシブルな基板は、テープ状、
あるいはシート状で用いることが出来る。リッジドな基
板は、カード状、あるいは円形ディスク状で用いること
が出来る。
記録媒体の構造としては、単板あるいは、2枚の基板を
用いて茫着貼り合せ構造、エアーサンドインチ構造、エ
アーインシデント構造として用いることができる。
用いて茫着貼り合せ構造、エアーサンドインチ構造、エ
アーインシデント構造として用いることができる。
本発明の記録媒体の記録層の厚さとしては、100オン
グストロームから1ミクロンとして用いることができる
。高い記録感度を得るためには、100オングストロー
ム以上、2000オングストローム以下とすることが好
ましい。
グストロームから1ミクロンとして用いることができる
。高い記録感度を得るためには、100オングストロー
ム以上、2000オングストローム以下とすることが好
ましい。
記録層は、基板の片面もしくは、両面に形成することが
できる。また、記録層の上に保護層を設けることができ
る。
できる。また、記録層の上に保護層を設けることができ
る。
本発明の記録媒体に照射する光としては、レーザ光やス
トロボ光のごとき光であり、とりわけ、半導体レーザは
、小型でかつ、消費電力が小さく変調が容易でおること
から好ましい。
トロボ光のごとき光であり、とりわけ、半導体レーザは
、小型でかつ、消費電力が小さく変調が容易でおること
から好ましい。
本発明の光記録媒体は、上記の記録光により熱的に変形
、開口、もしくは、凹部が形成される。
、開口、もしくは、凹部が形成される。
熱的に変形、開口、もしくは凹部の形成とは、その変形
開口、凹部の形成の結果、非変形領域とは光学的諸性質
、例えば透過率、反射率、光散乱性などの点で容易に検
知しうる差異を有する程度の変形、開口、凹部であれば
よい。
開口、凹部の形成の結果、非変形領域とは光学的諸性質
、例えば透過率、反射率、光散乱性などの点で容易に検
知しうる差異を有する程度の変形、開口、凹部であれば
よい。
次に本発明の光記録媒体の1製造方法を図面を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
第2図に示す通り、周縁にスペーサ4が配置された原盤
1上に本発明のフッ素含有モノマと架橋性モノマを主成
分とする紫外線硬化性組成物2を均一に塗布する。
1上に本発明のフッ素含有モノマと架橋性モノマを主成
分とする紫外線硬化性組成物2を均一に塗布する。
次に該組成物2の上面にプラスチック基板3を密着する
。その際、該組成物2とプラスチック基板3との間に気
泡が生じたり、均一性を損うことがないように、周知の
方法で十分脱気する。次にプラスチック基板側から紫外
線ランプを用いて紫外線5を照射する。該組成物が硬化
した後、原盤1を剥離せしめ、原盤の凹凸パターンが転
写された該組成物の硬化層を有するプラスチック基板を
得る。
。その際、該組成物2とプラスチック基板3との間に気
泡が生じたり、均一性を損うことがないように、周知の
方法で十分脱気する。次にプラスチック基板側から紫外
線ランプを用いて紫外線5を照射する。該組成物が硬化
した後、原盤1を剥離せしめ、原盤の凹凸パターンが転
写された該組成物の硬化層を有するプラスチック基板を
得る。
次に有機色素組成物を有機溶剤で溶解した溶液を該組成
物硬化層の上に塗布することにより、本発明の光記録媒
体を得る。
物硬化層の上に塗布することにより、本発明の光記録媒
体を得る。
第1図は、このようにして得られる本発明の光記録媒体
の構造の1例を示す概略断面図である。
の構造の1例を示す概略断面図である。
本発明の方法により製造される光記録媒体としては、光
ディスク、光カード、光フロツピーディスク、マイクロ
フィッシュ、およびレーザ00M用の媒体などが挙げら
れる。
ディスク、光カード、光フロツピーディスク、マイクロ
フィッシュ、およびレーザ00M用の媒体などが挙げら
れる。
し特性の評価方法ならびに硬化の評価方法](1)
保存安定性の評価 光記録媒体を70’C1相対湿度85%の環境に500
時間放置し、媒体反射率の低下、記録感度の低下などを
評価した。
保存安定性の評価 光記録媒体を70’C1相対湿度85%の環境に500
時間放置し、媒体反射率の低下、記録感度の低下などを
評価した。
(2)媒体反射率の測定
広帯域磁気分光光度計(日立(株)製、323型)を使
用して測定した。
用して測定した。
(3) 記録再生特性
光記録媒体を線速度2.0メ一トル/秒の条件で移動さ
せ、周波数IMHzに変調した波長83Qnmの半導体
レーザ光を2ミクロンのスポット径に収束し、照射面パ
ワー5mWで基板側から照射し、信号を記録した。
せ、周波数IMHzに変調した波長83Qnmの半導体
レーザ光を2ミクロンのスポット径に収束し、照射面パ
ワー5mWで基板側から照射し、信号を記録した。
この記録部に記録量(しきい)値以下の半導体レーザ光
で信号を再生し、C/N(IFバンド幅、30KHz)
を調べた。
で信号を再生し、C/N(IFバンド幅、30KHz)
を調べた。
[実施例コ
実施例1
2.2.2−トリフルオロエチルメタクリレート(ビス
コート3FM、大阪有鍬化学工業(株)製)35重量部
、1,4−ブタンジオールジアクリレート58重量部、
トリメチロールプロパントリアクリレート7重量部を混
合した液にベンジルメチルケタール4重量部を溶解して
、紫外線硬化性組成物を得た。
コート3FM、大阪有鍬化学工業(株)製)35重量部
、1,4−ブタンジオールジアクリレート58重量部、
トリメチロールプロパントリアクリレート7重量部を混
合した液にベンジルメチルケタール4重量部を溶解して
、紫外線硬化性組成物を得た。
この組成物をガイドトラックを形成したスタンパの上に
塗布し、次に、該塗布面上に1.2mm厚さのアクリル
基板を、気泡が残らないように重ねた。スタンパとアク
リル基板の間隔を調節した後、アクリル基板側から高圧
水銀灯(照射面の強度、20m吋10yf)で40秒間
紫外線照射した。ついで、スンタパから取り外すことに
より、厚さ40μmの該組成物の硬化層を有するアクリ
ル基板を得た。
塗布し、次に、該塗布面上に1.2mm厚さのアクリル
基板を、気泡が残らないように重ねた。スタンパとアク
リル基板の間隔を調節した後、アクリル基板側から高圧
水銀灯(照射面の強度、20m吋10yf)で40秒間
紫外線照射した。ついで、スンタパから取り外すことに
より、厚さ40μmの該組成物の硬化層を有するアクリ
ル基板を得た。
紫外線硬化層は完全に硬化しており、また、ガイドトラ
ックの転写も良好でおった。
ックの転写も良好でおった。
次に、シアニン色素(NK2421>のジクロルエタン
溶液(0,65重量%)を硬化層表面にスピンコードし
た。
溶液(0,65重量%)を硬化層表面にスピンコードし
た。
このようにして形成した記録媒体の反射率は36%であ
った。記録再生特性を調べたところ、再生信号のC/N
比は49dBでおり、明瞭なピットが形成された。
った。記録再生特性を調べたところ、再生信号のC/N
比は49dBでおり、明瞭なピットが形成された。
この光記録媒体の耐湿熱性試験をしたところ、500時
間後も反射率および記録再生特性の低下はなかった。
間後も反射率および記録再生特性の低下はなかった。
実施例2
実施例1における紫外線硬化性組成物の配合割合を
ビスコート3FM 25@量部1.4−
ブタンジオールジアクリレート68 〃 トリメチロールプロパントリアクリレート7 〃 に変えた以外はまったく同様にして作成した光記録媒体
の反射率は36%であった。記録再生特性を調べたとこ
ろ、再生信号のC/N比は47dBであり、明瞭なピッ
トが形成された。
ブタンジオールジアクリレート68 〃 トリメチロールプロパントリアクリレート7 〃 に変えた以外はまったく同様にして作成した光記録媒体
の反射率は36%であった。記録再生特性を調べたとこ
ろ、再生信号のC/N比は47dBであり、明瞭なピッ
トが形成された。
この光記B媒体の耐湿熱試験をしたところ、500時間
後も反射率、記録再生特性の低下はなかった。
後も反射率、記録再生特性の低下はなかった。
実施例3
実施例1における紫外線硬化性組成物の配合割合を
ビスコート3FM 50重量部1.4−
ブタンジオールジアクリレート38 〃 トリメチロールプロパントリアクリレート12 〃 に変えた以外は全く同様にして作成した光記録媒体の反
射率は36%であった。記録再生特性を調べたところ、
再生信号C/N比は49dBであり、明瞭なピットが形
成された。
ブタンジオールジアクリレート38 〃 トリメチロールプロパントリアクリレート12 〃 に変えた以外は全く同様にして作成した光記録媒体の反
射率は36%であった。記録再生特性を調べたところ、
再生信号C/N比は49dBであり、明瞭なピットが形
成された。
この光記録媒体の耐湿熱試験をしたところ、500rf
間後も反射率、記録再生特性の低下はなかった。
間後も反射率、記録再生特性の低下はなかった。
実施例4
実施例1に用いたアクリル基板を、易接着ポリエステル
フィルム(長ざ100μm)に変えた他は、実施例1と
全く同様にしてフレキシブルな光記録媒体を作成した。
フィルム(長ざ100μm)に変えた他は、実施例1と
全く同様にしてフレキシブルな光記録媒体を作成した。
本媒体を直径2cmのステンレス棒にそわせて曲げたが
、紫外線硬化層にクラッタなどの損傷は発生しなかった
。
、紫外線硬化層にクラッタなどの損傷は発生しなかった
。
この記録媒体の反射率は36%であった。記録再生特性
は、色素薄膜側よりレーザ光を当てて調べたところ再生
信号のC/N比は47dBであり、明mなピッ1〜が形
成された。
は、色素薄膜側よりレーザ光を当てて調べたところ再生
信号のC/N比は47dBであり、明mなピッ1〜が形
成された。
耐湿熱試験をしたところ、500rf間後反射率および
記録感度の低下はなかった。
記録感度の低下はなかった。
比較例1
実施例1で用いたフッ素含有モノマ(ビスコート3FM
)を該モノマのフッ素基をすべて水素基にしたモノマで
あるエチルメタクリレートに変えた他は、実施例1と全
く同様にして作成した光記録媒体の反射率は36%であ
った。記録再生特性を調べたところ、再生信号のC/N
比は49dBであり、明瞭なピットが形成された。
)を該モノマのフッ素基をすべて水素基にしたモノマで
あるエチルメタクリレートに変えた他は、実施例1と全
く同様にして作成した光記録媒体の反射率は36%であ
った。記録再生特性を調べたところ、再生信号のC/N
比は49dBであり、明瞭なピットが形成された。
この記録媒体の耐湿熱試験を行なったところ、反射率が
17%と大幅に低下した。また再生信号のC/N比も3
6dBへと大幅に低下した。
17%と大幅に低下した。また再生信号のC/N比も3
6dBへと大幅に低下した。
比較例2
実施例1で用いたヒスコートテ3FMの代りに2−ヒド
ロキシエチルアクリレートを用いる以外、実施例1と全
く同様にして作成した光記録媒体の反則率は37%であ
った。記録再生特性を調べたところ、再生信号のC,/
N比は48dBでおり、明瞭なピットが形成された。
ロキシエチルアクリレートを用いる以外、実施例1と全
く同様にして作成した光記録媒体の反則率は37%であ
った。記録再生特性を調べたところ、再生信号のC,/
N比は48dBでおり、明瞭なピットが形成された。
この記録媒体の耐湿熱試験を行なったところ、反射率が
12%と大幅に低下した。またこのものの記録再生特性
を調べたようとしたが、記録不能であった。
12%と大幅に低下した。またこのものの記録再生特性
を調べたようとしたが、記録不能であった。
比較例3
実施例1で用いたビスコート3FMの代りにN−ビニル
ピロリドンを用いる以外、実施例1と全く同様にして作
成した光記録媒体の反射率は36%であった。記録再生
特性を調べたところ、再生信号のC/N比は48dBで
おり、明瞭なピットが形成された。
ピロリドンを用いる以外、実施例1と全く同様にして作
成した光記録媒体の反射率は36%であった。記録再生
特性を調べたところ、再生信号のC/N比は48dBで
おり、明瞭なピットが形成された。
この記録媒体の耐湿熱試験を行なったところ、反射率が
12%へと大幅に低下した。またこのものの記録再生特
性を調べようとしたが、記録不能でおった。
12%へと大幅に低下した。またこのものの記録再生特
性を調べようとしたが、記録不能でおった。
[発明の効果コ
本発明は、有機色素組成物からなる記録間の下に、フッ
素含有モノマを含む化学線硬化性樹脂組成物の硬化層を
設けたので、保存安定性に優れたプラスッチク基板を用
いた有機色素系光記録媒体か得られたものである。
素含有モノマを含む化学線硬化性樹脂組成物の硬化層を
設けたので、保存安定性に優れたプラスッチク基板を用
いた有機色素系光記録媒体か得られたものである。
また本発明によれば、化学線硬化性組成物硬化層が柔軟
性を有し、かつ有機色素の硬化層への拡散が抑制される
ため、フレキシブルでしかも耐久性のよい光記録媒体が
得られるという効果を奏する。
性を有し、かつ有機色素の硬化層への拡散が抑制される
ため、フレキシブルでしかも耐久性のよい光記録媒体が
得られるという効果を奏する。
第1図は本発明の光記録媒体の一例を示す概略図、第2
図は本発明の光記録媒体の作り方を説明する図でおる。 1:原盤、 2;フッ素含有樹脂組成物3ニブラス
チツク基板 4ニスペーサ、 5:紫外線 6:右前色素化合物
図は本発明の光記録媒体の作り方を説明する図でおる。 1:原盤、 2;フッ素含有樹脂組成物3ニブラス
チツク基板 4ニスペーサ、 5:紫外線 6:右前色素化合物
Claims (1)
- プラスチック基板層と、フッ素含有モノマと架橋性モ
ノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層と
有機色素組成物からなる薄膜層とを備えてなる光記録媒
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61057133A JPH0762920B2 (ja) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61057133A JPH0762920B2 (ja) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | 光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62214531A true JPS62214531A (ja) | 1987-09-21 |
JPH0762920B2 JPH0762920B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=13047061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61057133A Expired - Lifetime JPH0762920B2 (ja) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0762920B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004044654A3 (en) * | 2002-11-12 | 2005-06-23 | Univ Princeton | Compositions and processes for nanoimprinting |
WO2007113760A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | International Business Machines Corporation | Method of producing a data storage medium |
-
1986
- 1986-03-17 JP JP61057133A patent/JPH0762920B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004044654A3 (en) * | 2002-11-12 | 2005-06-23 | Univ Princeton | Compositions and processes for nanoimprinting |
US9171565B2 (en) | 2006-03-30 | 2015-10-27 | International Business Machines Corporation | Method of producing a data storage medium |
WO2007113760A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | International Business Machines Corporation | Method of producing a data storage medium |
US9754609B2 (en) | 2006-03-31 | 2017-09-05 | International Business Machines Corporation | Method of producing a data storage medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0762920B2 (ja) | 1995-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI317516B (en) | Photo-data recording media | |
JP2007009133A (ja) | 光硬化性転写シート、光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JPS63158501A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
JPS62214531A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH0459385A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JP2009032302A (ja) | 光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスク | |
JPH0315262B2 (ja) | ||
JP3372076B2 (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 | |
TW200903480A (en) | Ultraviolet-curing composition for optical disk and optical disk | |
JP4172195B2 (ja) | 多層構造光記録媒体用感光性フィルム | |
JPH04247338A (ja) | 光ディスク | |
JPH04247337A (ja) | 光ディスク | |
JPH0316697B2 (ja) | ||
JP3975806B2 (ja) | 光ディスクのスペーサー形成用感光性エレメント及び光ディスク | |
JPH04254927A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH0278034A (ja) | 光学的記録担体 | |
JPH02289941A (ja) | 情報記録媒体用基板 | |
JPH0319150A (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP2006265276A (ja) | 光ディスク用紫外線硬化型組成物及びこれを用いた光ディスク | |
TW202338797A (zh) | 光碟 | |
JPH0673306A (ja) | 保護コート剤 | |
JP3007101B2 (ja) | 書き替え可能な光記録媒体および製造法 | |
JP3370564B2 (ja) | 光ディスク | |
JP3367961B2 (ja) | 光ディスク | |
JPH03120087A (ja) | 光学的情報記録媒体 |