JPH0410248A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レーザーにより情報の記録が可能な情報記録
媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発さゎ、実用化されている
。情報の書き込みが可能なりＲＡ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ
、　Ｒｅａｄ　Ａｆｔ、ｃｒ　Ｗｒｉｔｅ　）型光ディ
スクは、基本構造として、ブラスチッ先カラス等からな
る円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、■６等の金属または半金属、あるいは色素から
なる記録層とを有する。光ディスクへの情報の書き込み
は、たとえばレーザービームを光ディスクに照射するこ
とにより行なわれる。

上記光ディスクに情報を記録するには、ディスクに照射
されるレーザービームを案内して所定の位置にトラッキ
ングさせる必要かある。このため、一般に基板表面には
スパイラル状または同心円状の凹部（溝）からなるグル
ープ（一般にプレグルーブと呼ばれる）が形成されてい
る。

上記プレグルーブを有する基板上に設けられる記録層の
材料として色素を用いた場合、塗布にょり該記録層を形
成することかできるという製造上の大きな利点を有する
。しかしなから、一般に色素記録層は金属の記録層に比
へて光により劣化し易く、劣化した色素記録層は記録で
きなくなる場合かある。また色素記録層は、傷付き防止
および塵埃の付着防止の観点から、色素記録層上に保護
層を設けたり、二枚の光ディスクを記録層同志か対向す
るように貼り合せたサンドイッチ構造とすることにより
保護されている。保護層は塗布等により容易に形成でき
ることから製造上有利である。

例えば、上記保護層として、特開昭５９−２０３２５２
号公報に、透明基板上に設けられたシアニン色素の記録
層の上に水溶性あるいは炭化水素可溶性の樹脂からなる
層を設けることが開示されている。この保護層は色素層
を侵すことなく塗設か可能であるとしている。この他に
、保護層の材料としては、例えば、シリコンゴム、ウレ
タンゴムおよびフッ素ゴムなとのゴム類、エポキシ樹脂
、アクリル樹脂、ポリブタジェン樹脂なとの紫外線硬化
型樹脂などが知られている（特公昭６３４２３３３号公
報参照）。

しかしなから、このように保護層は、透明な樹脂層であ
り、記録層を外界の塵埃の付着や傷付きに対しては有効
であるが、光ディスクが太陽光等の光に曝された場合に
は、光か記録層に入り込むのを防くことはできない。こ
のため、上記保護層によって、光による記録層の劣化を
防止することは困難である。

従って、記録層への光の入射を効率よく防止でき、保護
機能に優れ且つ簡易な製造方法により形成することかで
きる保護層が望まれる。

［発明の目的］ 光ディスクの耐光性を向上させるには保護層に光を遮断
する機能を付与することが必要であり、その方法として
、保護層を着色することか考えられる。しかしながら、
本発明者等の検討によれば、このような着色した保護層
を記録層表面に形成しただけでは光の侵入を充分に防止
することはてきず、これに加えて基板の外周端面にも着
色した保護層を形成することか必要であることか明らか
となった。

こむにより、光により劣化し易い色素からなる記録層へ
の光の侵入を大幅に抑制することができることか明らか
となりた。

本発明は、耐候性および耐久性に優れた情報記録媒体を
提供することを目的とする。

また、本発明は、光による色素記録層の劣化かほとんど
ない情報記録媒体を提供することを目的とする。

さらに、本発明は、塗布による簡易な製造にて得ること
ができる情報記録媒体を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、表面にトラッキング用のプレグルーブを有す
る円盤状基板の該プレグルーブ上に設けられたレーザー
により情報の書き込みが可能な色素からなる記録層の上
に５保護層が設けられてなる情報記録媒体において、 該保護層か、紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる着色さ
れた層であって且つ該記録層上がら該基板の外周端面ま
て連続して設けられていることを特徴とする情報記録媒
体にある。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）該保護層の透過率が、該記録層の最大吸収の波長で
１０％以下であることを特徴とする上記情報記録媒体。

２）該保護層が、該基板の外周端面全域に形成されてい
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

３）該記録層と該保護層との間に反射層が介在している
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

［発明の効果］ 上記のように、本発明の保護層は、紫外線硬化型樹脂の
硬化物からなる着色された層で且つ基板の外周端面まで
設けられている。このような保護層は、塗布および光硬
化により極めて短時間で形成することができ、さらに記
録層への光の入射を顕著に防止することができる。また
、保護層は記録層を完全に包むように形成されているの
で、記録層の基板からの剥離を防止する働きもあり、耐
久性の向上にも寄与する。

従って、本発明の情報記録媒体は、塗布による簡易な製
造にて短時間に得ることができ、得られた記録媒体は光
による色素記録層の劣化がほとんどなく、耐久性に優れ
たものである。

［発明の詳細な記述］ 本発明は、プレグルーブか設けられた円盤状基板の上に
、レーザーにより情報の書き込みが可能な記録層、そし
てその上に着色された保護層が設けられた基本構成を有
する。

本発明の情報記録媒体を添付図面を参照しながら詳しく
説明する。

第１図は、本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平
面図である。

第１図は、中央の孔部１０、基板の内周部分である内周
側基板領域（記録層が設けられていない基板内周側の露
出領域）１４、基板の外周縁の内側部分である外周側基
板領域（記録層が設けられていない基板外周側の露出領
域）１５、該基板１１上に設けられた記録層１３、記録
層１に設けられた中間層１９および記録層１３上に設け
られた保護層１７からなる光ディスクの記録層側から見
た平面図である。

第１図のＩ−１断面図の中心より右側半分を第２図に示
す。

第２図は、中央の孔部１０を有する円盤状基板１１に、
プレグルーブ１２、記録層１３、中間層１９および保護
層１７がこの順で設けられ、基板の外側の内周部分であ
る内周側基板領域（記録層か設けられていない基板内周
側の露出領域）１４および基板の外周縁の内側部分であ
る外周側基板領域（記録層が設けられていない基板外周
側の露出領域）１５か設定されている光ディスクが示さ
れている。そして、保護層１７は、中間層１９上および
基板の外周端面１８に設けられている。

上記光ディスクでは、第２図から分かるように保護層１
７が記録層１３および中間層１９を囲むように、すなわ
ち基板の記録層側上面および基板端面からの記録層への
光の入射を防ぐように設けられている。保護層１７は着
色された紫外線硬化型樹脂の硬化物からなっているのて
、記録層への光の侵入を有効に防止することがてきる。

また、上記保護層は、記録層を完全に包むように形成さ
れているので、記録層の基板からの剥離を防止する働き
もあり、耐久性の向上にも寄与する。

上記保護層は、該基板の外周端面の一部に形成されてい
ても本発明の記録層への光の入射防止の効果が得られる
か、最良の形で効果を得るには外周端面全域に形成され
ていることが好ましい。記録層は、基板の外周縁まで設
けられているか、外周縁より内側まで設けられていても
よく、プレグルーブ上たけでもよい。色素記録層は、そ
の塗布液をスピンコード法により基板上に塗布した場合
、一般に外周まで塗布される。色素記録層は、保護層の
塗布液を記録層上に塗布することにより膨潤又は溶解す
ることがあり、これを防止するため記録層上に中間層を
設られている。勿論、記録層を侵さない保護層であれば
、直接記録層上にを形成してもよい。保護層の基板内周
側の形成位置は、記録層トたけでもよいが、第２図に示
すように記録層の内周縁を越えて基板内周側表面にも設
けられる方か好ましい。プレグルーブ１２は、外周側基
板領域１５にも設けられても良く、記録層も、外周側基
板領域の一部又は全面に設けらゎてもよい。

第３図は、第２図に示された光ディスクの記録層上の中
間層の代わりに反射層が設けられた、本発明の光ディス
クの別の態様を示す断面図か示されている。

第３図は、中央の孔部３ｏを有する円盤状基板３１上に
、プレグルーブ３２、記録層３３、反射層３６および保
護層３７か設けられ、孔部の周縁の外側の内周部分であ
る内周側基板領域３４および基板の外周縁の内側部分で
ある外周側基板領域３５が設定されている光ディスクが
示されている。そして、反射層３６は、記録層３３上に
設けられており、保護層３７は、反射層３６上、外周側
基板領域３５および基板の外周端面３８に設けられてい
る。

ト記光ディスクでは、第３図から分かるように記録層３
３は反射層３６によって覆われており、反射層側からの
光の入射を相当防ぐことかてきるか基板外周端面からの
光の入射は防止できない。

保護層３７が記録層３３および反射層３６を囲むように
、すなわち上面および側面からの光入射を防ぐように設
けられており、これにより側面からの光入射を防止でき
る。また、上記保護層は、記録層を完全に包むように形
成されているので、記録層の基板からの剥離および記録
層と反射層との剥離を防止する働きもあり、耐久性の向
上にも嵜与する。さらに、このような着色保護層は、保
護層形成時に基板に付着した保護層塗布液を発見し易い
こと、保護層側から見える色を反射層の色と異なる色に
することもできるとの利点も有する。

−ト記保護層は、該基板の外周端面の一部に形成されて
いても本発明の記録層への光の入射防止の効果が得られ
るが、最良の形で効果を得るには外周端面全域に形成さ
れていることが好ましい。保護層の基板内周側の形成位
置は、反射層上たけでもよいか、第３図に示すように反
射層の内周縁を越えて基板内周側表面にも設けられる方
が好ましい。プレグルーブ３２は、外周側基板領域３５
にも設けられても良く、記録層も、外周側基板領域の一
部又は全面に設けられてもよい。

第４図は、第３図のＡの部分の拡大断面図を示す。

第４図は、円盤状基板３１上に、プレグルーブ３２、記
録層３３、反射層３６および保護層３７が設けられた光
ディスクの部分の拡大断面図である。図より、基板上に
設けられた記録層および反射層は、基板上のプレグルー
ブの形をなぞるように形成されており、層厚の厚い保護
層のみがプレグルーブの凹凸を埋めるように形成されて
いることが分かる。それぞれの層厚は、例えば、記録層
のグループ内が０．１３μｍ、グループ間（ランド）が
０．１０μｍ、反射層が０．１μｍそして保護層が２μ
ｍとなるように形成する。

上記第２図に従う光ディスクの作成方法は、色素記録層
の塗布液をスピンコード法により塗布することにより記
録層は一般に基板の外周縁布形成することかでき、中間
層も同様にして塗布形成すれば良い。

上記第３図に従う光ディスクの作成方法は、例えば、色
素塗布液を通常のスピンコード法により塗布して、基板
の外周縁布記録層を形成し、そして反射層はマスクを介
して基板の外周縁より内側に、即ち外周側基板領域１５
に色素記録層を露出させて形成する。この上に、保護層
となる紫外線硬化型樹脂塗布液をスピンコード法により
塗布すると、露出した色素記録層の部分は該塗布液によ
り溶解され消失し、外周側基板領域１５では直接保護層
が形成された形になる。このようにして作成することが
できる。

上記第１〜３図で示した光ディスクは、本発明代表的な
例を示したもので上記に限定されるものではない。なお
、本発明では、光ディスクの裏側（基板側）には、特に
基板を着色するなどの記録層への光の侵入に対する対策
は施していないが、通常ケース底面あるいは再生装置の
載置台と接触しているため、一般に光はほとんど当たら
ないので大きな問題とはならない。勿論、記録または再
生用のレーザーを過度に吸収しないように基板を着色し
ても良い。

本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に述へるような
材料を用いて製造することができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、カラス、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂：ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エボキ
シ樹脂；ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレ
フィンおよびポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性
、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリカー
ボネート、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレ
ートを挙げることかできる。

基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の
情報を表わす凹凸の形成の目的で、ブレグループまたは
プレグルーブとプレピットか設けられてもよい。基板材
料かプラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形
などにより直接基板にプレグルーブ等を形成するのが好
ましい。

あるいは基板上にプレグルーブ層を設けることにより、
プレグルーブを形成しても良い。プレグルーブ層等の材
料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、
トリエステルおよびテトラエステルのうちの少なくとも
一種の千ツマ−（またはオリゴマー）と光重合開始剤と
の混合物を用いることができる。

プレグルーブ層の形成は、まず鯖密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般にＯ，ＯＳ〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。

基板（またはプレグルーブ層等）上には、色素からなる
記録層か設けられる。

本発明に使用される色素は、例えば、インドレニン系色
素、イミダゾキノキサリン系色素、イントリジン系色素
なとのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリリ
ウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、
スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色
素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフ
ェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニル
メタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシアン系
色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニ
ウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることができる
。

色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤、
金属錯塩系色素またはアミニウム系・シインモニウム系
色素（クエンチャ−）を溶剤に溶解して塗布液を調製し
、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成し
たのち乾燥することにより行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなとのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソブロノ
＼ノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチル
ホルムアミドなどのアミド、２．２．３．３−テトラフ
ロロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることがで
きる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容
量％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化
水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を
含んでし１でもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい
。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等ノセルロース
誘導体、テキストラン、ロジン、ゴムなとの天然有機高
分子物質：およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることかできる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、プレートコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

色素層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

上記色素層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般
に１００〜５５００又の範囲にあり、好ましくは２００
〜３０００又の範囲にある。

上記記録層と下記の本発明の保護層との間には反射層が
設けられてもよい。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ。

Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ％　Ｒｅ。

Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、２ｎ％　Ｃｄ、ＡＬＬ、Ｇａ、Ｉｎ、
Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなとの金属
および半金属を挙げることができる。これらのうちで好
ましいものはＡＩｌ、Ａｕ、ＣｒおよびＮｉである。こ
れらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上
の組合せでまたは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより基板
の上に形成することかできる。反射層の層厚は一般には
１００〜３０００λの範囲にある。

本発明の保護層を反射層上ではなく色素記録層上に設け
る場合は、保護層の塗布液を記録層上に塗布することに
より記録層が膨潤又は溶解することがあり、これを防止
するため記録層上に中間層を設けた後、保護層を形成し
てもよい。

中間層の材料としては、色素記録層を膨潤又は溶解しな
い溶剤、例えば、脂肪族炭化水素に溶解し且つ光学的透
明なポリマーを用いて中間層を塗布により形成すること
が好ましい。このようなポリマー材料としては、ポリブ
タジェン系重合体、その共重合体、フッ素含有千ツマ−
を含むグラフト共重合体、エチレン系重合体、およびそ
の共重合体を挙げることができる。

上記記録層、中間層または反射層の上には、着色された
紫外線硬化型樹脂からなる保護層が設けられる。

紫外線硬化型樹脂としては、従来から使用されているも
のを用いることかでき、また着色剤としては、可視光や
紫外線なとの光を透過しない又はし難いものであれば何
でも良く、無機顔料、有機顔料、染料等を使用すること
ができる。無機顔料としては、例えばカーボンブラック
、酸化チタン、ぺんがらおよび酸化鉄黒：有機顔料とし
ては、クロルニトロアニリン類とホルムアルデヒドの縮
合物などのニトロ化合物系、トルイジンレッドなどアゾ
化合物系、インダンスレン染料系、インジゴ染料系、チ
オインジゴ染料系、キナクリドン系、フタロシアニン系
、塩基性染料系、酸性染料系およびキレート化合物系等
を上げることができる。染料としては、例えばアゾ染料
、アントラキノン染料、インジゴ染料、チオインジゴ染
料、ジ（トリ）フェニルメタン染料、アジン染料、アゾ
メチン染料および硫化染料等を挙げることができる。有
機顔料および染料については、例えば、ｒ合成染料の化
学１（小西および黒木著、横書店発行、昭和５７年３月
３１日）に記載されている。アルムニウム粉などの金属
粉を使用しても良い。

ト記紫外線峡化型樹脂は、重合性二重結合を有する千ツ
マ−およびオリゴマー、および光重合開始剤等から構成
される 上記重合性二重結合を有するモノマーおよびオリゴマー
としては下記の（ａ）〜（ｊ）の（メタ）アクリレート
を挙げることができる。

（ａ）脂肪族、脂環族および芳香族の２〜６僅の多価ア
ルコールおよびポリアルキレンゲリコールのポリ（メタ
）アクリレート； 例えばエチレングリコール、プロピレンクリコール、１
．３−または１，４−ブタンジオール、ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジオール
、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペ
ンタエリスリトール、水素化ビスフェノールＡなどの多
価アルコールおよびジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのような多価アルコールのポリ（メタ
）アクリレートか挙げられる。

（ｂ）脂肪族、脂環族および芳香族の２〜６僅の多価ア
ルコールにアルキレンオキサイドを付加させた形の多価
アルコールのポリ（メタ）アクリレート： 例えばビスフェノールＡジオキシエチルエーテルなどの
ように、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、グリセリン、ビスフェノールＡなどの多価アルコー
ルにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加
させて得られる多価アルコールのポリ（メタ）アクリレ
ートがあげられる。

（Ｃ）ポリ（メタ）アクリロイルオキシアルキルリン酸
エステル： ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートと五酸化リン
との反応によって得られ、例えばポリ（メタ）アクリロ
イルオキシエチルリン酸エステル、ポリ（メタ）アクリ
ロイルオキシプロピルリン酸エステルなとかあげられる
。

（ｄ）ポリエステルポリ（メタ）アクリレート； ポリエステルポリ（メタ）アクリレートは通常（メタ）
アクリル酸と多価アルコールと多価カルボン酸とをエス
テル化することによって合成される。ポリエステル型多
価アルコールのポリ（メタ）アクリレートが主成分であ
ると想定される。

例えばコハク酸とエチレングリコールとのポリエステル
ジオールのジ（メタ）アクリレート、マレイン酸とエチ
レンクリコールとのポリエステルジオールのジ（メタ）
アクリレート、フタル酸とジエチレングリコールとのポ
リエステルジオールのジ（メタ）アクリレート、アジピ
ン酸とトリエチレングリコールとのポリエステルジオー
ルのポリ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸
とトリメチロールプロパンとのポリエステルポリオール
のポリ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフタル酸と
ペンタエリスリトールとのポリエステルポリオールのポ
リ（メタ）アクリレートなどかあげられる。これらポリ
エステルポリ（メタ）アクリレートの中では、フタル酸
のような芳香族多価カルボン酸系のものよりも、脂肪族
または脂環族多価カルホン酸系のポリエステルポリ（メ
タ）アクリレートを用いた場合の方か架橋硬化物の耐候
性、強靭性などの物性に優れる利点がある。

（ｅ）エポキシポリ（メタ）アクリレート：分子中に２
個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂に、エポキシ
基とほぼ当量の（メタ）アクリル酸、カルボキシル基を
有する（メタ）アクリレート、もしくは（メタ）アクリ
ル酸またはカルボキシル基をもつ（メタ）アクリレート
と多塩基酸との混合物を反応させることによって合成さ
れる。あるいはエポキシ基含有（メタ）アクリレートに
多価カルボン酸を反応させるなどの方法もある。

例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル型、グリ
セリンジグリシジルエーテル型、ポリアルキレングリコ
ールジグリシジルエーテル型、多塩基酸ジグリシジルエ
ステル型、シクロヘキセンオキサイド型などの各エポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸との付加反応生成物などが
あげられる。

（ｆ）ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート： ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート主鎖にポリウレ
タン結合単位を有する多価アルコールの（メタ）アクリ
レートの構造を有し、通常ヒドロキシル基含有（メタ）
アクリレートと、ポリイソシアネート及び必要により多
価アルコールとを反応させるなどの方法で合成される。

例えば２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレートま
たは２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートとシ
イ・ソシアネートとの付加反応生成物、２−ヒドロキシ
ルエチル（メタ）アクリレートとジイソシアネートと２
価アルコールとの付加反応生成物などがこの例に相当す
る。

（ｇ−）ポリアミドポリ（メタ）アクリレート；主鎖に
ポリアミド結合単位を有する多価アルコ−ルの（メタ）
アクリレートの構造を有し、通常、ポリアミド型多価カ
ルボン酸にヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート又は
エポキシ基含有（メタ）アクリレートを反応させるか、
ポリアミド型多価アルコールに（メタ）アクリル酸を反
応させるなどの方法で合成される。

例えばエチレンジアミンとフタル酸との反応によって得
られるポリアミド型多価カルボン酸と２−とドロキシエ
チル（メタ）アクリレートまたはグリシジル（メタ）ア
クリレートの反応生成物などがこの例に相当する。

（ｈ）ポリシロキサンポリ（メタ）アクリレート　　； 主鎖にポリシロキサン結合単位を有する多価アルコール
の（メタ）アクリレートの構造を有し、通常ポリシロキ
サン結合単位を有する多価アルコールに（メタ）アクリ
レートを反応させるなどの方法で合成される。

（ｉ）側鎖及び／又は末端に（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有するビニル系又はジエン系低重合体： ビニル系又はジエン系低重合体の側鎖又は末端に、エス
テル結合、ウレタン結合、アミド結合、エーテル結合な
どを介して（メタ）アクリロイルオキシ基か結合されて
いる構造を有する。通常側鎖または末端にヒドロキシ基
、カルボキシル基、エポキシ基等を有する低重合体に、
これらの基と反応性の（メタ）アクリル酸、カルボキシ
ル基含有（メタ）アクリレート、ヒドロキシル基含有（
メタ）アクリレート、エポキシ基含有（メタ）アクリレ
ート、インシアネート基含有（メタ）アクリレート、ア
ミノ基含有（メタ）アクリレートなどを反応させること
によフて合成される。

例えば（メタ）アクリル酸と他のビニルモノマーとの共
重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた
反応生成物などがあげられる。

なお、この系に属する架橋性オリゴマーは、分子量が高
くなると一般に高粘度または固体状になり易いので、後
記のように液体低粘度の千ツマ−（架橋性単量体）など
に溶解して用いるか、もしくは低分子！（通常数平均分
子量３０００以下）の液体オリゴマーを用いることが好
ましい。

（ｊ）前記（ａ）〜（ｉ）記載の架橋性子ツマ−の変性
物； 上記の各架橋性単量体中に残存するヒドロキシル基又は
カルボキシル基の少なくとも一部を、これらの基と反応
性の酸クロライド、酸無水物、イソシアネート又は、エ
ポキシ化合物と反応させることによって変性した変性物
であり、変性の方法及び具体例は例えば特開昭４９−１
２８９９４号公報、特開昭４９−１２８０８８号公報な
どに示される。

化合物としては次のようなものである。

ｉ　）ＣＨ２＝Ｃ）Ｉ　　Ｃ００−Ｃｎ　Ｈ２ｎ＋＋た
だし、ｎは１〜１２の整数 １１）　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（（：Ｈ２ＣＨ２Ｏ←ＲＲ
”　Ｃｎ　Ｈ２ｏ−ま ただし、ｎは１〜１２の整数 １ｉｉ）　　（：Ｈ２＝ＣＨ−ＣＯＯ（１１：Ｈ２ＣＨ
２０ｒＲＲ＝　Ｃｎ　Ｈ２ｒｌ＋ま ただし、ｎは１〜１２の整数 ｉｖ）　ｉｊ）及び１ｉｉ）の−〇）Ｉ２ＣＨ２０−釦
をＣ］１３ −　Ｃ１１２−Ｃ１１−０−鎖に変えたものｖ　）　Ｃ
Ｈ２＝　ＣＨＣＯＯＸ　　ＯＨＣＨ３ Ｘ　＝　−（：Ｈ２ＣＨ２−１−ＣＨ２（：Ｈ［：８２
Ｃ）ｌ　　−０ ＣＨ３ ｖｉ）その他 テトラヒドロフルフリルアクリレート、シシクロベンタ
ジエニロキシエチルアクリレート水添シシクロベンタジ
エニロキシエチルアクリレート ｖｉｉ）　　　　　　ＣＨ３ ＣＨ２＝　ＣＣＯＯＲ’ Ｒ’　　：　　　ＣＨ２ＣＨ２０Ｈｌ −ＣＨ２ＣＨＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ ｖｉｉｉ）　Ｎ−ビニルピロリドン ｉＸ）イソビニルアクリレート、ジシクロペンタジェニ
ルアクリレート、水添ジシクロペンタジェニルアクリレ
ート Ｘ）スチレン これらオリゴマー、モノマー（単官能ビニル化合物）は
、被着材、ディスク構造等に応じ単独もしくは適宜混合
して用いることができる。

光重合開始剤は紫外線で硬化させるために必要であり（
電子線硬化には必要としない）、例としてはベンゾイン
アルキルエーテル、ベンジルケタール、アセタール類、
アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、キサン
トン誘導体、ベンズアルデヒド誘導体などを挙げること
ができる。

また増感剤として使用することのできる化合物の具体例
としては、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ヘンジインイソブチルエーテル、ヘ
ンシフエノン、ヘンシル、２．２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−ヒド
ロキシアセトフェノン、ジフェニルジスルフィド、２−
ヒドロキシ−２−プロピオフェノン、４，４°−ビスジ
エチルアミノベンゾフェノン、ジメチルアミノヘンズア
ルデヒド、エチル−４，４゛　−ビスジメチルアミノベ
ンゾフェノン、エチルアントラキノン、２−クロロチオ
キサントンなどを挙げることができる。これらの増感剤
は単独でも、あるいは適宜組合わせても使用することが
できる。

本発明では、上記着色剤を上記紫外線硬化型樹脂に分散
または溶解して紫外線硬化型樹脂と混合した（所望によ
り有機溶剤を用いて）後、そのままあるいは有機溶剤に
溶解させて塗布液を調製し、記録層上または反射層上、
および基板外周側面に塗布し、乾燥後、塗布層に紫外線
を照射して硬化させることにより保護層を設ける。

本発明の情報記録媒体の着色された保護層は、太陽光に
含まれる可視光線等をできるだけ遮断して記録層に入射
しないようにされる必要があるが、その尺度としては記
録層に使用される色素の劣化を防止する観点から、保護
層の透過率が色素記録層の最大吸収の波長で１０％以下
であることが好ましく、１％以下か特に好ましいと言え
る。

このような着色された保護層を形成するには、着色剤を
一定量以上紫外線硬化型樹脂に添加する必要かあるが、
使用する着色剤によりその量は当然変化する。しかしな
から、余り透過率が低くなり過きると紫外線による硬化
が充分行なえなくなる場合かあり、上記紫外線硬化型樹
脂１００重量部に対して、着色剤の添加量は０．１〜２
０重量部の範囲が好ましく、０．２〜５重量部の範囲が
特に好ましい。また、すでに着色剤が紫外線硬化型樹脂
に混入している紫外線硬化型インキを用いることもでき
る。さらに、通常の紫外線硬化型樹脂の保護層を形成し
てからインキ等で着色しても本発明の効果は得られるが
工程数が増加するので不利である。

上記紫外線硬化型樹脂および着色剤からなる保護層形成
用塗布液中には、更に有機溶剤、帯電防止剤、酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。この塗布液をスピンコード、デイツプコート、
エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面
に塗布（有機溶剤を含む場合は乾燥後）後、紫外線照射
して硬化させることにより形成することができる。

上記塗布液を紫外線にて硬化させる場合、高圧水銀灯な
どを用いて、０．１〜６０秒間、その塗布層に紫外線を
１〜１００ｃｍの距離から照射することにより硬化させ
て、反射防止層を形成することができる。電子線により
硬化させる場合は、線型加速装置、ハンプグラフ加速器
などの電子加速装置を用いて行なわれる。低い透過率の
保護層を硬化させる場合は電子線照射の方が内部硬化を
充分行なうには有利である。

本発明の保護層は、上記紫外線硬化型樹脂以外に本発明
の目的を損なわない範囲内で他の樹脂含んでいてもよい
。一般に、表面が傷付き易くなり保護効果も少なくなり
易い。

本発明の記録層への光の侵入を抑える着色された保護層
は、基板表面と側面および記録層表面（あるいは中間層
表面）または反射層上けられる。従って、保護層を形成
することができ、その効果が得られるものであればどの
ような情報記録媒体にも適用できる。このような情報記
録媒体としては、再生専用型、追記（ＤＲＡＷ）型、書
換可能型、光磁気など、記録可能か不可能あるいは記録
層の種類等に依らず、どのような媒体にも通用できる。

上記情報記録媒体への記録は、例えば下記のように行な
われる。

まず、情報記録媒体を定線速度または定角速度で回転さ
せながら、半導体レーザー光などの記録用の光を、基板
側から該プレグルーブのグループにレーザー光を照射し
てＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などの信号を、該グル
ープの記録層に種々の形状変化（色素記録層の場合は記
録層にビットなど、色素記録層および反射層を有する場
合は色素記録層および反射層の界面に空洞など）を形成
することにより記録する。一般に、記録光としては７５
０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザ
ービームが用いられる。一般に１〜１５ｍＷのレーザー
パワーで記録される。

記録に際しては、Ｆ記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御か行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのクループまたは
グループ間のランドに行なわれる。

情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させながら半導体レーザーなどの
レーザー光を基板側から照射してその反射光を検出する
ことにより、３ビーム法などによるトラッキング制御を
行ないながら情報を再生することができる。

以下余白 以下に、本発明の実施例および比較例を＝己載する。た
だし、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 下記のインドレニン系色素： １．７ｇと下記の色素（ＩＲＧ−０２３、日本化薬■製
）： ０．１７ｇとを、２，２，３．３−テトラフロロプロパ
ツール１００ｍ１に超音波を１時間付与しなから溶解し
て色素塗布液を調製した。

プレグルーブか設けられた円盤状のポリカーホネート基
板（外径：１２０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ：　１．
２ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ、グループ幅：０
．４５μｍ、グルブの深さ：９００又、グループ領域：
直径４４ｍｍ〜１１７ｍｍの範囲）のプレグルーブが設
けられている側の基板表面に、上記色素塗布液をスピン
コード法により回転数２００　ｒｐｍの速度で５秒間塗
布し、毎秒５０　ｒｐｍずつ回転数を上げなから１６秒
後景終回転数１０００　ｒｐｍとして３０秒間保持して
乾燥してグループ内の層厚が１４００又の色素記録層を
基板の外周縁まで形成した。

記録層上に、フッ素系コーティング剤（Ｆ−３、東亜合
成化学工業■製）をスピンコード法により回転数２００
　ｒｐｍの速度で塗布し、回転数を上げて最終回転数１
０００　ｒｐａ＋で３０秒間維持して乾燥させた。

てＰ≦′−゛ 紫外線硬化型樹脂　　　　　　　　　１００ｍ１（商品
名：　３０７０、スリーボンド社製）カーホンブラック
　　　　　　　　　　　　１ｇ（平均粒子径＝０．１μ
ｍ） −Ｆ記材料をホールミルで分散混合して保護層形成用塗
布液を調製した。

中間層上にさらに上記保護層形成用塗布液をスピンコー
ド法により回転数２００　ｒｐｍの速度で塗布を開始し
て５秒間維持して塗布を終了し、回転数を上げて最終回
転数１０００　ｒｐｍで３０秒間維持して乾燥させた。

次いで該塗布層に紫外線を照射（２００ｗ／ｃｍ２の水
銀灯を１０秒間）することによって層厚２μｍの保護層
を記録層上および基板外周端面まで形成した。

このようにして、基板上に、色素記録層、中間層および
保護層が設けられた情報記録媒体（第２図参照）を製造
した。

［実施例２］ 実施例１において、記録層と保護層との間に中間層の代
わりに下記のようにしてＡｕからなる反射層を形成した
以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した（
第３図参照）。

上記色素記録層上にマスクを介してＡｕを、ＤＣスパッ
タ装置を用いて、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が２００Ｗの
条件にてスッパタリングして、外径１１８ｍｍの位置よ
り内側の記録層上に層厚１ｏｏｏＸの反射層を形成した
。

反射層より外側の記録層は、保護層形成時にその塗布液
により溶解され、消失した。

［比較例１］ 実施例２において、保護層形成用塗布液中のカーボンブ
ラックを使用しなかった以外は実施例２と同様にして情
報記録媒体を製造した。

以下余白 ［比較例２］ 実施例２において、保護層形成用塗布液の塗布を下記の
条件にて行なうことにより、保護層を基板外周側面に設
けなかった以外は実施例２と同様にして情報記録媒体を
製造した。

反射層上に上記保護層形成用塗布液をスピンコード法に
より回転数３００　ｒｐｍの速度で塗布を開始して５秒
間維持して塗布を終了し、回転数を上げて最終回転数３
０００　ｒｐｍで１０秒間維持して乾燥させた。次いで
該塗布層に紫外線を照射（２００ｗ　／　ｃ　ｍ　２の
水銀灯を１０秒間）することによって層厚２μｍの保護
層を記録層上に形成した。保護層は、基板外周端面には
ほとんど形成されなかった。

［情報記録媒体の評価］ １）耐光性 得られた光ディスクに下記の条件で情報を記録した後、
保護層側が光照射等の試験が行なわわるように、サンシ
ャインウエザオメータ内に置いて５０時間毎に下記の条
件で再生を行なった。そして再生音声または動作に異常
が発生した時間を示した。

情報記録媒体の記録および再生は以下のように行なった
。

ドライブ装置（ＹＰＲ−２０１，ヤマハ■製）を用いて
、発振波長７８０ｎｍのレーザーで記録時のレーザーパ
ワー（記録パワー）７ｍＷ、線速度１．２ｍ／秒にて、
ＣＤフォーマットのＥＦＭ信号を記録した。再生は実施
例１のような反射率の低い光ディスクでも再生可能なよ
うに改造したＣＤプレーヤー（ＣＤＰ３３８ＥＳＤ、ソ
ニー■製）を用いて行なった。

２）テープ剥離試験 光ディスクの保護層の内周側から基板外周縁までＰＵＴ
粘着テープ（マイラーテープ、日東電工■製）を貼り、
該外周縁から一気に剥離した。ディスク側の記録層、反
射層および保護層のはがれがあるかどうかを観察した。

１０回テストを行ないはがれなかった回数を示した。

上記測定結果を第１表に示す。

第１表 （時間） （回数） 実施例１ 実施例２ 比較例１　　　　３５０　　　　　１０比較例２　　　
　４５０　　　　　　０上記第１表より明らかなように
、本発明の紫外線硬化型樹脂からなる着色された保護層
が基板の外周側面まで設けられた光ディスク（実施例１
および２）は、耐光性および付着性も優れている。

なお、実施例１では、反射層がないため反射層による光
入射の防止効果が得られないことから、耐光性は低下し
ているか、比較例の反射層を有するディスクとほとんど
差はない。

方、着色されていない光ディスク（比較例１）は耐光性
か不充分であり、保護層が外周側面まで設けられていな
い光ディスク（比較例２）は付着性か不良で耐光性も充
分とは言えない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平
面図である。 第２図は、上記本発明の情報記録媒体の基本的構成を示
す第１図の部分断面図である。 第３図は、本発明の情報記録媒体の基本的構成別の態様
を示す断面図である。 第４図は、本発明の第３図の情報記録媒体の部分拡大断
面図である。 孔部：１０．３ 基板：１１．３ プレグルーブ： 記録層：１３、 内周側基板領域 外周側基板領域 １２、３２ ：　１４、３４ ：　１５、３５ 中間層：１９ 反射層：３６ 保護層、１７．３７ 基板外周端面：１８．３８ 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、表面にトラッキング用のプレグルーブを有する円盤
   状基板の該プレグルーブ上に設けられたレーザーにより
   情報の書き込みが可能な色素からなる記録層の上に、保
   護層が設けられてなる情報記録媒体において、 該保護層が、紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる着色さ
   れた層であって且つ該記録層上から該基板の外周端面ま
   で連続して設けられていることを特徴とする情報記録媒
   体。 ２、該保護層の透過率が、該記録層の最大吸収の波長で
   １０％以下であることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の情報記録媒体。