JPH04337307A - 光ディスク用オーバーコート剤及びその硬化物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高硬度、耐湿性、低硬
化収縮率を有する硬化物を与える光学材料用樹脂組成物
及びその硬化物を提供するものであり、特に光信号を高
速・高密度に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバ
ーコートやハードコート等の光ディスク用材料として有
用な、記録媒体に対する接着性、耐湿性の良好な、硬度
の優れた樹脂組成物及びその硬化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録媒体は垂直磁気記録と磁気光
学効果を利用するもので、従来の光記録媒体と同様にレ
ーザ光を用いて情報の記録、再生を行うため記録容量が
大きくその上書き換えが可能である。さらにヘッドと媒
体が非接触で記録再生を行うことができ、塵埃の影響を
受けないため安定性にも優れている。この光磁気記録媒
体は、現在盛んに研究されており、文書情報ファイル、
ビデオ静止画ファイル、コンピュータ用メモリ等への利
用或はフロッピ−ディスク、ハードディスクの代替が期
待され、商品化段階を迎えている。

【０００３】このような光磁気記録媒体の記録層として
は、遷移金属（Ｆｅ，Ｃｏ）と希土類金属（Ｇｄ，Ｄｙ
，Ｔｂ等）とを組合せた種々の非晶質（アモルファス）
磁性合金膜が提案されている。又、媒体の構成としては
、基板上に誘電層−記録層−誘電層を設けた単板タイプ
のもの、或はこの単板タイプのものと同様な構造体を一
組用意し、記録層を内側に対向させて接着剤により接合
した貼り合せタイプのものが一般的である。

【０００４】一方、基板上の積層される無機層における
クラックの発生を防止し、記録層への酸素、水分の侵入
防止をより完全化し、高温多湿の環境下においても光磁
気特性を長期にわたって維持する目的で誘電層の上にア
クリレート系樹脂組成物の硬化物或は、エポキシ系樹脂
組成物の硬化物を有機保護層に用いたものが例えば特開
昭６１−１２３５９３、特開昭６１−１３３０６７、特
開昭６１−１３９９６１、特開昭６１−１５３８４４、
特開平２−１０７６３０、特開平２−１３２６６４号公
報等に開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例の光学的記録媒体は、前記紫外線硬化型アクリレー
ト系樹脂組成物の硬化物からなる保護層を設けることに
より、外部からのキズや汚れに対する保護という目的は
達成されるが、該光学的記録媒体を環境耐久試験（７０
℃、９０％ＲＨ、２０００時間）の条件下に放置すると
、光磁気記録層の孔食劣化が増加したり、ディスク基板
からの保護層の剥離が発生する場合があり問題である。 又、エポキシ系樹脂組成物の硬化物からなる保護層を設
けた場合、光磁気記録層の孔食劣化の発生は少ないがデ
ィスクの逆反りが生じ問題である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記の課題
を解決すべく鋭意研究を行った結果本発明に到達した。 即ち本発明は、

【０００７】１．式（１）で示される化合物

【０００８
】

【化２】

【０００９】（式中、Ｒは、Ｈ又はＣＨ３　である。）
と反応性単量体とを含むことを特徴とする光学材料用樹
脂組成物。２．第１項記載の式（１）で示される化合物
と反応性単量体とを含むことを特徴とする光ディスク用
材料。３．第１項記載の光学材料用樹脂組成物又は第２
項記載の光ディスク用材料の硬化物に関する。

【００１０】次に、本発明の光学材料用樹脂組成物及び
光ディスク用材料（以下併せて単に「組成物」という）
の各構成成分について説明する。本発明において使用さ
れる式（１）で示される化合物の具体例としては、例え
ば

【００１１】

【化３】

【００１２】（新日鉄化学（株）製、カルドエポキシア
クリレート樹脂、ＡＳＦ−４００）等を挙げることがで
きる。

【００１３】本発明で用いる反応性単量体の具体例とし
ては、例えばトリシクロデカン（メタ）アクリレートジ
シクロペンタジエンオキシエチル（メタ）アクリレート
、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（
メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ネキペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、
Ｎ−ビニルカプロラクタム、スチレン、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ及びペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメ
チロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等を挙げ
ることができる。

【００１４】前記、反応性単量体の使用量は、一般式（
１）で示される化合物１００重量部に対して３０〜１０
００重量部が好ましく、特に好ましくは、５０〜８００
重量部である。

【００１５】本発明の組成物は、各成分を常温〜８０℃
で混合溶解して得ることができる。本発明の組成物の硬
化物は、常法により紫外線又は、電子線等の放射線を照
射することにより得ることができる。紫外線で硬化する
場合には、光重合開始剤を使用することが好ましい。

【００１６】その光重合開始剤の具体例としては、例え
ば、ベンゾフェノン、２，２−ジメチトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニ
ルアセトンフェノン、２−エチルアントラキノン、２，
４−ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサ
ントン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−
１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ
−プロパン−１−オン等が挙げられる。これら、光重合
開始剤は、１種でも、２種以上、任意の割合で混合使用
してもかまわない。この使用量は、通常、組成物から、
溶剤等の揮発分をのぞいた分に対して０．５〜１０重量
部が好ましい。

【００１７】本発明の組成物には、更に必要に応じて、
ビスフェノール型エポキシ樹脂（例えば、シェル石油化
学社製、エピコート８２８、１００１、１００４等のビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂）或は、ノボラック型エ
ポキシ樹脂（例えば、シェル石油化学社製、エピコート
１５２、１５４）等のエポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸との反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレ
ート、多価アルコール（例えば、ネオペンチルグリコー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，
６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビ
ス−（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン等）と多塩
基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、
テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られ
るポリエステルポリオールと（メタ）アクリル酸との反
応によって得られるポリエステル（メタ）アクリレート
、又は、ポリオール（例えば、ポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリ
コール等のポリエーテルポリオール、前記多価アルコー
ルと前記多塩基酸との反応によって得られるポリエステ
ルポリオール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε
−カプロラクトンとの反応によって得られるカプロラク
トンポリオール、及びポリカーボネートポリオール例え
ば、１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネー
トとの反応によって得られるポリカーボネートポリオー
ル等）と有機ポリイソシアネート（例えば、イソホロン
ジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、
トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート等
）とヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応に
よって得られるウレタン（メタ）アクリレート等の高分
子不飽和基含有樹脂、有機溶剤、シランカップリング剤
、重合禁止剤、レベリング剤、光安定剤、酸化防止剤、
帯電防止剤等を添加することができる。

【００１８】本発明の組成物の紫外線照射による硬化は
具体的には例えば、低圧又は、高圧水銀灯、キセノン灯
等を用いて紫外線を照射して行う。本発明の組成物は、
特に光ディスク用オーバーコート剤及び光ディスク用ハ
ードコート剤として有用であるが、その他にも各種レン
ズ（例えば、非球面レンズ、メガネレンズ等）、光ディ
スク基板、ＬＥＤ用樹脂、回折格子用樹脂等にも使用で
きる。

【００１９】本発明の光ディスク用材料は、特に光ディ
スクの記録膜の保護剤としてのオーバーコート剤、又、
光ディスクの傷つき防止剤としてのハードコート剤とし
て有用である。本発明の光ディスク用材料を用いた光デ
ィスク用オーバーコートの形成は、光ディスクの記録膜
の上に光ディスク用材料を、例えばスピンコート法等に
より塗布し、紫外線を照射して硬化することによって保
護膜を形成させる。光ディスクの記録膜の上に光ディス
ク用材料を塗布する場合、その厚さは通常１〜５０μ程
度とするのが好ましい。なお、これらの方法において、
光ディスク用材料の硬化は、紫外線照射の代りに電子線
照射によることができる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、実施例中の部は、重量部である。

【００２１】実施例１ 前記式（２）で示される化合物（新日鉄化学（株）製、
カルドエポキシアクリレート樹脂、ＡＳＦ−４００）３
５部、トリシクロデカンアクリレート（日立化成（株）
製、ＦＡ−５１３Ａ）３５部、ヒドロキシピバリン酸ネ
オペンチルグリコールジアクリレート３０部、イルガキ
ュアー１８４（チバ・ガイギー（株）製、光重合開始剤
）５部を混合し、本発明の光学材料用樹脂組成物（光デ
ィスク用材料）を得た。ポリカーボネート基板に記録膜
を作製した光ディスクの記録膜の上に、上記の光学材料
用樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、高圧水銀灯（
日本電池（株）製、２ＫＷ）により照射し該組成物を硬
化させた。保護コードされた光ディスクを８５℃の９０
％ＲＨの状態に放置し、耐湿性試験を行った所、２００
０時間を経過しても記録膜に異常がなかった。又、保護
コート面の鉛筆硬度は、３Ｈであった。

【００２２】実施例２ 前記式（２）に示される化合物（新日鉄化学（株）製、
カルドエポキシアクリレート樹脂、ＡＳＦ−４００）５
０部、テトラヒドロフルフリルアクリレート１０部、ト
リメチロールプロパントリアクリレート１０部、トリシ
クロデカンジメチロールアクリレート３０部、イルガキ
ュア−１８４　　５部を混合し、本発明の光学材料用樹
脂組成物（光ディスク用材料）を得た。これを用い、実
施例１と同様にして、保護コートされた光ディスクを得
た。実施例１と同様に試験を行い、耐湿性の試験の結果
、２０００時間経過しても異常がなかった。又、保護コ
ート面の鉛筆硬度は、５Ｈであった。

【００２３】比較例１ 光学材料用樹脂組成物（光ディスク用材料）としてＳＤ
−１７〔商品名：大日本インキ化学（株）製〕を用いた
以外は、実施例１と同様にして、保護コートされた光デ
ィスクを得た。実施例１と同様に試験を行い、耐湿性の
試験の結果、１００時間経過後、記録膜の全面にピンホ
ールが発生した。又、保護コート面の鉛筆硬度は、Ｈで
あった。

【００２４】

【発明の効果】本発明の光学材料用樹脂組成物及び光デ
ィスク用材料を硬化して得られる硬化物は、耐湿性に優
れ、硬度が大で、特に光ディスク用オーバーコート剤、
ハードコート剤として有用である。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（１）で示される化合物【化１】 （式中、ＲはＨ又はＣＨ３　である。）と反応性単量体
   とを含むことを特徴とする光学材料用樹脂組成物。
2. 【請求項２】請求項１記載の式（１）で示される化合物
   と反応性単量体とを含むことを特徴とする光ディスク用
   材料。
3. 【請求項３】請求項１記載の光学材料用樹脂組成物の硬
   化物。
4. 【請求項４】請求項２記載の光ディスク用材料の硬化物
   。