JP2537644B2 - 光ディスク用オ―バ―コ―ト組成物 - Google Patents
光ディスク用オ―バ―コ―ト組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光信号を高速、高密度に記録再生する光デ
イスク記録媒体用オーバーコート剤として有用な紫外線
等により硬化し、記録媒体に対する接着性、耐湿性の良
好な、硬度の優れた紫外線硬化型オーバーコート組成物
に関する。
イスク記録媒体用オーバーコート剤として有用な紫外線
等により硬化し、記録媒体に対する接着性、耐湿性の良
好な、硬度の優れた紫外線硬化型オーバーコート組成物
に関する。
（従来の技術） 現在、民生用のコンパクトデイスク記録媒体用オーバ
ーコート剤として紫外線硬化型オーバーコート剤が使用
されている。一方、現在、書込み、消去の可能な光デイ
スクの開発が行なわれており、光デイスク用オーバーコ
ート剤の開発も進められている。
ーコート剤として紫外線硬化型オーバーコート剤が使用
されている。一方、現在、書込み、消去の可能な光デイ
スクの開発が行なわれており、光デイスク用オーバーコ
ート剤の開発も進められている。
（発明が解決しようとする問題点） 光デイスク用の記録媒体は、水分やヒートシヨツクに
弱く、オーバーコート剤に対する特性として、耐水性、
耐ヒートシヨツク性、高い硬度、透明性等の優れた品質
が要求されている。
弱く、オーバーコート剤に対する特性として、耐水性、
耐ヒートシヨツク性、高い硬度、透明性等の優れた品質
が要求されている。
従来使用されているコンパクトデイスク用オーバーコ
ート剤は、光デイスクの記録膜のオーバーコート剤とし
て使用するには、特性が不十分であり、使用できない。
又、特開昭59−71317号公報には、ガラスを基材とした
光デイスク用の光硬化型接着性組成物が提案されてい
る。この組成物は、２−エチル−２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート等の分子中にOH基を持つたモノ
（メタ）アクリレートを主成分としており、オーバーコ
ート剤として使用するには、耐水性や硬度等が不十分で
あり、不向きである。
ート剤は、光デイスクの記録膜のオーバーコート剤とし
て使用するには、特性が不十分であり、使用できない。
又、特開昭59−71317号公報には、ガラスを基材とした
光デイスク用の光硬化型接着性組成物が提案されてい
る。この組成物は、２−エチル−２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート等の分子中にOH基を持つたモノ
（メタ）アクリレートを主成分としており、オーバーコ
ート剤として使用するには、耐水性や硬度等が不十分で
あり、不向きである。
（問題点を解決するための手段） 上記の問題を解決するため、本発明者らは、鋭意研究
の結果、紫外線により硬化が速く、接着性、耐湿性、硬
度の優れた光デイスク用材料を提供することに成功し
た。すなわち、本発明は、下記一般式〔Ｉ〕で示される
化合物（Ａ） （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を意味する。） と、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する一
般式〔Ｉ〕以外の化合物（Ｂ）及び任意成分として光重
合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする光デイスク
の記録膜用オーバーコート組成物に関する。
の結果、紫外線により硬化が速く、接着性、耐湿性、硬
度の優れた光デイスク用材料を提供することに成功し
た。すなわち、本発明は、下記一般式〔Ｉ〕で示される
化合物（Ａ） （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を意味する。） と、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する一
般式〔Ｉ〕以外の化合物（Ｂ）及び任意成分として光重
合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする光デイスク
の記録膜用オーバーコート組成物に関する。
本発明に使用される一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物
は、トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン−3,8（又は4,9）
ジメチロールと（メタ）アクリル酸をエステル化反応さ
せることにより得ることができる。一般式〔Ｉ〕で示さ
れる化合物（Ａ）は、容易に市販品として入手すること
ができる（三菱油化（株）、SA−1002（ジアクリレー
ト）。
は、トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン−3,8（又は4,9）
ジメチロールと（メタ）アクリル酸をエステル化反応さ
せることにより得ることができる。一般式〔Ｉ〕で示さ
れる化合物（Ａ）は、容易に市販品として入手すること
ができる（三菱油化（株）、SA−1002（ジアクリレー
ト）。
本発明では、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基
を有する化合物としては、耐水性を良くするために、な
るべく親水性の少ないものが良く、大きくわけると、低
分子単量体と高分子不飽和基含有樹脂にわかれる。低分
子単量体としては、具体的には、例えば、トリシクロ
〔5,2,1,02,6〕デカン（メタ）アクリレート（日立化成
（株）製、FA−513A,FA−513M）、ジシクロペンタジエ
ンオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、フエノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、2,2−ビス（４−（メタ）アク
リロイルオキシエトキシフエニル）プロパン、2,2−ビ
ス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフエニ
ル）メタン、2,2−ビス（４−（メタ）アクリロイルオ
キシプロポキシフエニル）プロパン、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコー
ルジ（メタ）アクリレート（日本化薬（株）製、KAYARA
D（登録商標）,R−604）、トリメチロールプロパンポリ
プロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールのε−カプロラクトン付加物のヘキサ
（メタ）アクリレート、等の（メタ）アクリレートモノ
マー類を挙げることができる。高分子不飽和基含有樹脂
としては、具体的には、例えば、ビスフエノール型エポ
キシ樹脂あるいはノボラツク型エポキシ樹脂等のエポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応によって得られる
エポキシ（メタ）アクリレート、多価アルコール例えば
ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン等と多塩基酸例えばコハク酸、フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、アジピン酸、アゼライン
酸、テトラヒドロ無水フタル酸等との反応によつて得ら
れるポリエステルポリオールと（メタ）アクリル酸との
反応によつて得られるポリエステル（メタ）アクリレー
トあるいはポリオール例えば、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレング
リコール等のポリエーテルポリオール多価アルコール例
えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール等と多
塩基酸例えばコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等との反応によって
得られるポリエステルポリオール、及びポリカーボネー
トポリオール例えば、1,6−ヘキサンジオールとジフエ
ニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボ
ネートポリオール等と有機ポリイソシアネート例えば、
イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ
ート、ジフエニルメタン−4,4′−ジイソシアネート等
とヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応によ
つて得られるウレタン（メタ）アクリレート等を挙げる
ことができる。
を有する化合物としては、耐水性を良くするために、な
るべく親水性の少ないものが良く、大きくわけると、低
分子単量体と高分子不飽和基含有樹脂にわかれる。低分
子単量体としては、具体的には、例えば、トリシクロ
〔5,2,1,02,6〕デカン（メタ）アクリレート（日立化成
（株）製、FA−513A,FA−513M）、ジシクロペンタジエ
ンオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、フエノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、2,2−ビス（４−（メタ）アク
リロイルオキシエトキシフエニル）プロパン、2,2−ビ
ス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフエニ
ル）メタン、2,2−ビス（４−（メタ）アクリロイルオ
キシプロポキシフエニル）プロパン、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコー
ルジ（メタ）アクリレート（日本化薬（株）製、KAYARA
D（登録商標）,R−604）、トリメチロールプロパンポリ
プロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールのε−カプロラクトン付加物のヘキサ
（メタ）アクリレート、等の（メタ）アクリレートモノ
マー類を挙げることができる。高分子不飽和基含有樹脂
としては、具体的には、例えば、ビスフエノール型エポ
キシ樹脂あるいはノボラツク型エポキシ樹脂等のエポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応によって得られる
エポキシ（メタ）アクリレート、多価アルコール例えば
ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン等と多塩基酸例えばコハク酸、フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、アジピン酸、アゼライン
酸、テトラヒドロ無水フタル酸等との反応によつて得ら
れるポリエステルポリオールと（メタ）アクリル酸との
反応によつて得られるポリエステル（メタ）アクリレー
トあるいはポリオール例えば、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレング
リコール等のポリエーテルポリオール多価アルコール例
えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール等と多
塩基酸例えばコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等との反応によって
得られるポリエステルポリオール、及びポリカーボネー
トポリオール例えば、1,6−ヘキサンジオールとジフエ
ニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボ
ネートポリオール等と有機ポリイソシアネート例えば、
イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ
ート、ジフエニルメタン−4,4′−ジイソシアネート等
とヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応によ
つて得られるウレタン（メタ）アクリレート等を挙げる
ことができる。
ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物の例として
は、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン
−β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート付加物
（ダイセル化学工業（株）製、プラクセルFA−1,FM−1,
FA−２等）等である。
は、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン
−β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート付加物
（ダイセル化学工業（株）製、プラクセルFA−1,FM−1,
FA−２等）等である。
これら化合物（Ｂ）のうち特に好ましいものとして
は、トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカンアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリプロポキシト
リアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアク
リレート及びビスフエノールＡ型エポキシ樹脂のアクリ
レート等が挙げられる。
は、トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカンアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリプロポキシト
リアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアク
リレート及びビスフエノールＡ型エポキシ樹脂のアクリ
レート等が挙げられる。
これら、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有
する化合物（Ｂ）は、１種又は２種以上使用することが
できる。
する化合物（Ｂ）は、１種又は２種以上使用することが
できる。
光重合開始剤（Ｃ）としては、公知のどのような光重
合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安
定性の良いものが望ましい。
合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安
定性の良いものが望ましい。
この様な光重合開始剤（Ｃ）としては、例えば、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなど
のベンゾインアルキルエーテル系、2,2−ジエトキシア
セトフエノン、４′−フエノキシ−2,2−ジクロロアセ
トフエノンなどのアセトフエノン系、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオフエノン、４′−イソプロピル−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフエノンなどのプロ
ピオフエノン系、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニ
ルケトン、ベンジルジメチルケトン、ベンゾフエノン及
び２−エチルアントラキノン、２−クロルアントラキノ
ンなどのアントラキノン系、２−クロルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサント
ン系光重合開始剤などがあげられる。特に好ましいもの
としては、１−ヒドロキシ・シクロヘキシルフエニルケ
トン、ベンゾフエノン等があげられる。これら光重合開
始剤は、１種または２種以上を任意の割合で混合して使
用する事ができる。
ゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなど
のベンゾインアルキルエーテル系、2,2−ジエトキシア
セトフエノン、４′−フエノキシ−2,2−ジクロロアセ
トフエノンなどのアセトフエノン系、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオフエノン、４′−イソプロピル−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフエノンなどのプロ
ピオフエノン系、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニ
ルケトン、ベンジルジメチルケトン、ベンゾフエノン及
び２−エチルアントラキノン、２−クロルアントラキノ
ンなどのアントラキノン系、２−クロルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサント
ン系光重合開始剤などがあげられる。特に好ましいもの
としては、１−ヒドロキシ・シクロヘキシルフエニルケ
トン、ベンゾフエノン等があげられる。これら光重合開
始剤は、１種または２種以上を任意の割合で混合して使
用する事ができる。
本発明に使用される（Ａ）成分の量は光デイスクの記
録膜用オーバーコート組成物の好ましくは10〜80重量
％、特に好ましくは20〜60重量％が望ましい。（Ｂ）成
分の量は、光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物
の好ましくは20〜90重量％、特に好ましくは40〜80重量
％である。
録膜用オーバーコート組成物の好ましくは10〜80重量
％、特に好ましくは20〜60重量％が望ましい。（Ｂ）成
分の量は、光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物
の好ましくは20〜90重量％、特に好ましくは40〜80重量
％である。
（Ｃ）成分の量は、光デイスクの記録膜用オーバーコ
ート組成物の好ましくは０〜10重量％、特に好ましくは
１〜５重量％である。
ート組成物の好ましくは０〜10重量％、特に好ましくは
１〜５重量％である。
本発明の光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物
は、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）（任意成分）の成分物質
だけで十分所期の目的を達成するものであるが、さらに
性能改良のため、本来の特性を変えない範囲で、シラン
カツプリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の材料を
添加することもできる。シランカツプリング剤として
は、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、メチ
ル・ハイドロキノン、ベンゾキノン等が挙げられる。
又、レベリング剤としては、モダフロー（モンサント社
製；登録商標）、FC−430（3M社製）等が挙げられる。
シランカツプリング剤、重合禁止剤、レベリング剤の使
用量としては、それぞれ組成物の０〜５重量％の範囲が
好ましい。本発明の光デイスクの記録膜用オーバーコー
ト組成物の紫外線照射による硬化は常法により行うこと
ができる。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯等
を用いて紫外線を照射すればよい。
は、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）（任意成分）の成分物質
だけで十分所期の目的を達成するものであるが、さらに
性能改良のため、本来の特性を変えない範囲で、シラン
カツプリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の材料を
添加することもできる。シランカツプリング剤として
は、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、メチ
ル・ハイドロキノン、ベンゾキノン等が挙げられる。
又、レベリング剤としては、モダフロー（モンサント社
製；登録商標）、FC−430（3M社製）等が挙げられる。
シランカツプリング剤、重合禁止剤、レベリング剤の使
用量としては、それぞれ組成物の０〜５重量％の範囲が
好ましい。本発明の光デイスクの記録膜用オーバーコー
ト組成物の紫外線照射による硬化は常法により行うこと
ができる。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯等
を用いて紫外線を照射すればよい。
本発明の光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物
は、特に光デイスクの記録膜の保護剤として、又、コン
パクトデイスクの記録膜の保護剤として有用である。
は、特に光デイスクの記録膜の保護剤として、又、コン
パクトデイスクの記録膜の保護剤として有用である。
本発明の光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物
を用いた光デイスクの記録膜の保護膜の形成は、光デイ
スクの記録膜の上に光デイスクの記録膜用オーバーコー
ト組成物を例えばスピンコート法等により塗布し、紫外
線を照射して硬化することによつて保護膜を形成させ
る。光デイスクの記録膜の上に光デイスクの記録膜用オ
ーバーコート組成物を塗布する場合、その厚さは通常１
〜50μ程度とするのが好ましい。なお、これらの方法に
おいて、光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物の
硬化は、紫外線照射の代りに電子線照射によることもで
きる。
を用いた光デイスクの記録膜の保護膜の形成は、光デイ
スクの記録膜の上に光デイスクの記録膜用オーバーコー
ト組成物を例えばスピンコート法等により塗布し、紫外
線を照射して硬化することによつて保護膜を形成させ
る。光デイスクの記録膜の上に光デイスクの記録膜用オ
ーバーコート組成物を塗布する場合、その厚さは通常１
〜50μ程度とするのが好ましい。なお、これらの方法に
おいて、光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物の
硬化は、紫外線照射の代りに電子線照射によることもで
きる。
（実施例） 以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。
なお、実施例中の部は、重量部である。
実施例１ トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン−3,8（又は4,9）−
ジメチロールジアクリレート（三菱油化（株）製、SA−
1002）（Ａ）50部、トリメチロールプロパントリプロポ
キシトリアクリレート（日本化薬（株）製、KAYARAD T
PA−330）（Ｂ）20部、ジオキサングリコールジアクリ
レート（日本化薬（株）製、KAYARADR−604）（Ｂ）15
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート（日本化薬
（株）製、KAYARADNPGDA）（Ｂ）10部、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート（Ｂ）５部、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフエニルケトン（チバ・ガイギー社製、イル
ガキュアー（登録商標）184、光重合開始剤）（Ｃ）５
部を混合し紫外線硬化型光デイスクの記録膜用オーバー
コート組成物を調製した。
ジメチロールジアクリレート（三菱油化（株）製、SA−
1002）（Ａ）50部、トリメチロールプロパントリプロポ
キシトリアクリレート（日本化薬（株）製、KAYARAD T
PA−330）（Ｂ）20部、ジオキサングリコールジアクリ
レート（日本化薬（株）製、KAYARADR−604）（Ｂ）15
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート（日本化薬
（株）製、KAYARADNPGDA）（Ｂ）10部、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート（Ｂ）５部、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフエニルケトン（チバ・ガイギー社製、イル
ガキュアー（登録商標）184、光重合開始剤）（Ｃ）５
部を混合し紫外線硬化型光デイスクの記録膜用オーバー
コート組成物を調製した。
ポリカーボネート基板に記録膜を作製（スパツタリン
グにより）した光デイスクの記録膜の上に、上記の紫外
線硬化型光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物を
スピンコーターで塗布し、高圧水銀灯（東芝社製、2K
W）により照射し該組成物を硬化させた。オーバーコー
トされた光デイスクを60℃の90％RHの状態に放置し、耐
湿性試験を行なった所、1000時間経過しても記録膜に異
常がなかった。該組成物の硬度はShore Dで87であっ
た。
グにより）した光デイスクの記録膜の上に、上記の紫外
線硬化型光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物を
スピンコーターで塗布し、高圧水銀灯（東芝社製、2K
W）により照射し該組成物を硬化させた。オーバーコー
トされた光デイスクを60℃の90％RHの状態に放置し、耐
湿性試験を行なった所、1000時間経過しても記録膜に異
常がなかった。該組成物の硬度はShore Dで87であっ
た。
硬度の測定は、該組成物をポリカーボネート板の上に
厚さ2mm塗布し、高圧水銀灯で硬化し、これを硬度計（S
hore D）を用いて硬度測定した。
厚さ2mm塗布し、高圧水銀灯で硬化し、これを硬度計（S
hore D）を用いて硬度測定した。
実施例２ トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン−3,8（又は4,9）−
ジメチロールジアクリレート（三菱油化（株）製、SA−
1002）（Ａ）35部、アクリロイルオキシトリシクロ〔5,
2,1,02,6〕デカン（日立化成（株）製、FA−513A）
（Ｂ）50部、エポキシアクリレート〔エピコート（登録
商標）828（シエル石油化学（株）製、ビスフエノール
型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステル化して得られ
た樹脂〕（Ｂ）５部、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート（Ｂ）10部、イルガキユアー184（Ｃ）５部を混
合し、紫外線硬化型光デイスクの記録膜用オーバーコー
ト組成物を調製した。これを用い、実施例１と同様にし
て、オーバーコートされた光デイスクを得た。実施例１
と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結果、1000時間
経過しても異常がなかった。硬度は、Shore Dで90であ
った。
ジメチロールジアクリレート（三菱油化（株）製、SA−
1002）（Ａ）35部、アクリロイルオキシトリシクロ〔5,
2,1,02,6〕デカン（日立化成（株）製、FA−513A）
（Ｂ）50部、エポキシアクリレート〔エピコート（登録
商標）828（シエル石油化学（株）製、ビスフエノール
型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステル化して得られ
た樹脂〕（Ｂ）５部、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート（Ｂ）10部、イルガキユアー184（Ｃ）５部を混
合し、紫外線硬化型光デイスクの記録膜用オーバーコー
ト組成物を調製した。これを用い、実施例１と同様にし
て、オーバーコートされた光デイスクを得た。実施例１
と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結果、1000時間
経過しても異常がなかった。硬度は、Shore Dで90であ
った。
実施例３ トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン−3,8（又は4,9）−
ジメチロールジアクリレート（三菱油化（株）製、SA−
1002）（Ａ）45部、トリメチロールプロパンジプロポキ
シトリアクリレート（日本化薬（株）製、KAYARAD TPA
−320）（Ｂ）20部、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート（日本化薬（株）製、KAYA
RAD MANDA）（Ｂ）30部、テトラヒドロフルフリルアク
リレート（Ｂ）５部、イルガキユアー184（Ｃ）５部を
混合し、紫外線硬化型光デイスクの記録膜用オーバーコ
ート組成物を調製した。これを用い、実施例１と同様に
してオーバーコートされた光デイスクを得た。実施例１
と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結果、1000時間
経過しても異常がなかった。硬度は、Shore Dで88であ
った。
ジメチロールジアクリレート（三菱油化（株）製、SA−
1002）（Ａ）45部、トリメチロールプロパンジプロポキ
シトリアクリレート（日本化薬（株）製、KAYARAD TPA
−320）（Ｂ）20部、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート（日本化薬（株）製、KAYA
RAD MANDA）（Ｂ）30部、テトラヒドロフルフリルアク
リレート（Ｂ）５部、イルガキユアー184（Ｃ）５部を
混合し、紫外線硬化型光デイスクの記録膜用オーバーコ
ート組成物を調製した。これを用い、実施例１と同様に
してオーバーコートされた光デイスクを得た。実施例１
と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結果、1000時間
経過しても異常がなかった。硬度は、Shore Dで88であ
った。
比較例１ 実施例３でトリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン−3,8
（又は4,9ジメチロールジアクリレートのところをト
リメチロールプロパントリアクリレートに変えた以外
は、実施例３と同様にして紫外線硬化型光デイスク用オ
ーバーコート組成物を調製した。これを用いて、実施例
１と同様に光デイスクを得て同様に試験を行ない、耐湿
性の試験の結果、300時間経過した頃より記録膜にピン
ホールが多数発生してきた。硬度は、Shore Dで90であ
った。
（又は4,9ジメチロールジアクリレートのところをト
リメチロールプロパントリアクリレートに変えた以外
は、実施例３と同様にして紫外線硬化型光デイスク用オ
ーバーコート組成物を調製した。これを用いて、実施例
１と同様に光デイスクを得て同様に試験を行ない、耐湿
性の試験の結果、300時間経過した頃より記録膜にピン
ホールが多数発生してきた。硬度は、Shore Dで90であ
った。
（発明の効果） 本発明の光デイスクの記録膜用オーバーコート組成物
は、硬化して得られる硬化物の硬度は硬く、耐湿性、接
着性に優れ、吸水率が低い、光デイスクの記録膜用オー
バーコート剤として有用である。
は、硬化して得られる硬化物の硬度は硬く、耐湿性、接
着性に優れ、吸水率が低い、光デイスクの記録膜用オー
バーコート剤として有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式〔Ｉ〕で示される化合物（Ａ） （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を意味する。） は、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する一
般式〔Ｉ〕以外の化合物（Ｂ）及び任意成分として光重
合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とすする光デイス
クの記録膜用オーバーコート組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62278272A JP2537644B2 (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 光ディスク用オ―バ―コ―ト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62278272A JP2537644B2 (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 光ディスク用オ―バ―コ―ト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01121370A JPH01121370A (ja) | 1989-05-15 |
| JP2537644B2 true JP2537644B2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=17595036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62278272A Expired - Lifetime JP2537644B2 (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 光ディスク用オ―バ―コ―ト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2537644B2 (ja) |
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| JP2003137938A (ja) * | 2001-11-07 | 2003-05-14 | Daiso Co Ltd | 光学的特性に優れた硬化性組成物 |
| JP2003248972A (ja) | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Nagase Chemtex Corp | 光ディスク用紫外線硬化樹脂組成物 |
| JP2007016065A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Mitsui Chemicals Inc | ラジカル重合硬化性組成物、その樹脂および光学部材 |
| JP4678008B2 (ja) * | 2007-05-01 | 2011-04-27 | ダイソー株式会社 | プラスチックレンズ用硬化性組成物 |
| DE102013008176A1 (de) | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Voco Gmbh | Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays |
| SG11201901065TA (en) * | 2016-08-10 | 2019-03-28 | Nissan Chemical Corp | Imprint material |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS57164163A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Curable coating agent |
| JPS60152515A (ja) * | 1984-01-18 | 1985-08-10 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 光学材料の製造法 |
| JPS61144744A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-02 | Kyocera Corp | 光磁気記録素子及びその製法 |
| JPS6363757A (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-22 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 被覆材組成物 |
-
1987
- 1987-11-05 JP JP62278272A patent/JP2537644B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01121370A (ja) | 1989-05-15 |
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