JPH04102240A - 光ディスク用オーバーコート組成物及びその硬化物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光信号を高速、高密度に記録再生する光ディ
スク記録媒体用オーバーコート剤として有用な、紫外線
等により硬化し、媒体に対する接着性、耐湿性の良好な
、硬度の優れた硬化物を与える光ディスク用オーバーコ
ート組成物に関する。

（従来の技術） 現在、民生用のコンパクトディスク記録媒体用オーバー
コート剤として紫外線硬化型オーバーコ−１−剤が使用
されている。一方、現在、書込み、消去の可能な光ディ
スクの開発か行われており、光ディスク用オーバーコー
ト剤の開発も進められている。

（発明か解決しようとする課題） 光ディスク用の記録媒体は、水分やヒートショックに弱
く、オーバーコート剤に対する特性として、耐湿性、耐
ヒートシヨツク性、硬度、透明性等に優れた硬化物を与
える優れた品質が要求されている。

従来使用されているコンパクトディスク用オーバーコー
ト剤は、光ディスクのオーバーコート剤として使用する
には、特性か不十分であり、使用できない。又、特開昭
５９−７１３１７号公報には、ガラスを基材とした光デ
ィスク用の光硬化型接着性組成物が提案されている。こ
の組成物は、２−エチル−２−ヒドロキシエチル（メタ
）アクリレート等の分子中にＯＨ基を持ったモノ（メタ
）アクリレートを主成分としているか、光ディスク用の
オーバーコート剤として使用するにはその硬化物の耐湿
性や硬度等が不十分であり、不向きである。

（課題を解決するための手段） 上記の問題を解決するため、本発明者らは、鋭意研究の
結果、紫外線による硬化か速く、接着性、耐湿性、硬度
の優れた硬化物を与える光ディスク用オーバーコート組
成物を提供することに成功した。すなわち、本発明は、 分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有するフ
ッ素化合物（Ａ）と（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和
基含有化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）を含有するこ
とを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成物及び
その硬化物に関する。

本発明では、分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を
２個有するフッ素化合物（Ａ）を使用する分子中に（メ
タ）アクリロイルオキシ基を２個有するフッ素化合物（
Ａ）は公知であり、例えば、分子中に水酸基を２個有す
るフッ素化合物とアクリル酸またはメタクリル酸との昇
温下における反応により製造することかできる。分子中
に（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有するフッ素化
合物（Ａ）の例としては、 等の （式中Ｒ＋はＨ又はＣＨ３を、ｎは１〜２の値を、ｍは
４〜６の値を示す。） て示される化合物や ０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ２ 等の Ｃ，Ｆ、　７ＣＨ，−ＣＨ−ＣＨ，−０−Ｃ−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ。

０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ２ （式中、ＲｚハＨ又ハＣＨｉを、ＸはＣＰＦ２Ｐ＋１又
はＣ，Ｆ２Ｐ＋１（ＣＨ２）−０を示し、ｐは３〜１０
の値を、ｑは１又は２を示す。） で示される化合物等が挙げられる。

フッ素化合物（Ａ）のうち特に好ましいものとしＣ５Ｆ
　、　、　ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ
２０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ２ Ｃ５Ｆ１３ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ２０（！−ＣＨ”ＣＨ２
０−Ｃ−Ｃ）ｌ＝ｃＩ（２ 等か挙げられる。

フッ素化合物（Ａ）は、１種又は２種以上を組合わせて
使用することかできる。（Ａ）成分以外のエチレン性不
飽和基含有化合物（Ｂ）の具体例としては、イソボルニ
ル（メタ）アクリレート、水添ジシクロペンタジェン（
メタ）アクリレート（日立化成■製、ＦＡ−５１３Ａ　
、　ＦＡ−５１３Ｍ）、トリシクロデカンジメチロール
ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アク
リレート（例えば、ビスフェノールへのエポキシ樹脂の
（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦのエポキシ樹
脂の（メタ）アクリレート等）、ポリウレタン（メタ）
アクリレート（例えば、ポリオール化合物と有機ジイソ
シアネートと水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステ
ルとを実質的にＮＧＯ基を含まない所まで反応せしめる
事によって得られる。ポリオール化合物の代表的なもの
としては、ＨＯ−ＣＨｒｆＣＦ市ＣＨ２−ＯＨ，ＨＯ−
ＣＨ刊ＣＦ市ＣＨ２−ＯＨ，ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ刊ＣＦ汁
式ＨｘＣＨ２−ＯＨ，Ｃ５Ｆ１．ＣＨｘ−ＣＨ−ＣＨ ＣＨ ＣＨ エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、シクロ
ヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジメチロール
等のポリオール、ポリプロピレングリコール、ポリテト
ラメチレングリコール、プロピレン変成ポリテトラメチ
レングリコール等のポリエーテルポリオール、前記ポリ
オール又はポリエーテルポリオール又は前記ポリオール
にε−カプロラクトンが付加した化合物等をアルコール
成分として使用し、一方の酸成分としてアジピン酸、セ
バシン酸、アゼライン酸、ドデカンジ力ルポ酸、フタル
酸、テトラヒドロフタル酸などの二塩基酸又はその無水
物を用いて得られるポリエステルポリオール等を挙げる
ことかできる。好ましいポリｈ ＣＨ ＣＨ レンゲリコール等を挙げることができる。有機ジイソシ
アネートの代表的なものには、トリレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート等を挙げる事かできる。

水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルの代表例と
しては、β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
β−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ε−カ
プロラクトン−β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート付加物、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アク
リレート等を挙げることかできる。ポリオール化合物と
有機ジイソシアネートとのウレタン化反応におけるその
使用比率はポリオール化合物のＯＨ基を１化学当量に対
して有機ジイソシアネートをそのＮＧＯ基が１．１〜２
．０化学当量となるような範囲で用いるのが好ましく、
特に１．５〜２．０化学当量となるような範囲で用いる
のが好ましい。このウレタン化反応は、当業者に公知の
手順において行うことかできる。

次に（メタ）アクリレート化反応においては、前記ウレ
タン化反応で得られた末端イソシアネート基を有する化
合物のＮＧＯ基の１化学当量に対して、水酸基を有する
（メタ）アクリル酸エステルをそのＯＨ基か０．９〜１
．５化学当量となるような範囲で用いるのか好ましく、
特に、１．０〜１．１化学当量となるような範囲で用い
るのか好ましい。等を挙げることか出来る。これら（Ａ
）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）の好
ましいものとしては、トリシクロデカンジメチロールジ
アクリレート、水添ジシクロペンタジェンアクリレート
（日立化成■製、ＦＡ−５１３Ａ）、ポリウレタンアク
リレート等か挙げられる。

本発明の組成物における（Ａ）成分以外のエチレン性不
飽和基含有化合物（Ｂ）の使用割合は、（Ａ）成分１０
０重量部に対して、１０〜４００重量部か好ましく、２
０〜３００重量部か特に好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）としては、公知のどのような光重合
開始剤も使用する事が出来るが、配合後の貯蔵安定性の
良いものか望ましい。この様な光重合開始剤としては、
例えば、２，２−ジェトキシアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ヘンシルジメチ
ルケタール、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケ
トン、２，４ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン
、２，４ジイソプロピルチオキサントン、２−メチル〔
４（メチルチオ）フェニル〕２−モルフォリノー１−プ
ロパン等が挙げられる。かかる光重合開始剤（Ｃ）は、
安息香酸系又は第三級アミンなとの公知慣用の光重合促
進剤の１種又は２種以上と組み合わせて用いることかで
きる。好ましいものとしては、ベンゾフェノンとＮ、　
Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン（第三級アミン）の
組合せ、２メチル〔４−（メチルチオ）フェニル〕２−
モルフォリノー１−プロパンと２，４−ジエチルチオキ
サントンの組合せ等を挙げることかできる。光重合開始
剤（Ｃ）の使用量の好適な範囲は、（Ａ）成分＋（Ｂ）
成分の総量１００重量部に対して、０゜２〜２０重量部
であり、２〜１０重量部か特に好ましい。本発明の組成
物は、フッ素化合物（Ａ）と（Ａ）成分以外のエチレン
性不飽和基含有化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）を混
合することにより調製される。

本発明の組成物には、更に必要に応じて、シリコン系、
フッ素系、アクリル共重合物等のレベリング剤、シラン
カップリング剤、消泡剤、酸化防止剤、光安定剤、着色
剤、非塩基性充填剤（例えば、シリカ、タルク、ガラス
玉、アルミニウム、酸化亜鉛等）等を添加することもで
きる。

本発明の組成物は、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯等
を用いて紫外線を照射することによって硬化するのが好
ましい。本発明の光ディスク用オーバーコート組成物を
用いた光ディスクの記録膜（例えば、Ｇｄ、　Ｔｂ、　
Ｔｅ、　Ｇｅ、　Ａｕ、　Ｐｔ、　Ｐｂ、　Ｔｉ、　Ａ
ｇ。

Ｓｅ、　ＴｅＯ□、Ｆｅ１Ｃｒ等の合金よりなる。）の
保護膜の形成は、例えば以下のようにして行うことかで
きる。すなわち、光ディスクの記録膜の上に本発明の光
ディスク用オーバーコート組成物を例えばスピンコード
法等により塗布し、その後紫外線を照射して組成物を硬
化させることによって保護膜（硬化物）か形成される。

光ディスクの記録膜の上に光ディスク用オーバーコート
組成物を塗布する場合、その厚さは通常１〜５０μｍ程
度とするのか好ましい。

本発明の組成物の紫外線による硬化速度は速（、得られ
る硬化物は耐湿性、接着性に優れている。

（実施例） 以下、本発明を実施例及び合成例により具体的に説明す
る。なお、実施例及び合成例中の部は、重量部である。

〔エチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）の合成例（合成
例１．２）〕 合成例１ 式　ＣｓＦ＋　ａｃＨ２ｃＨ２−０−ＣＨ２−ＣＨ−Ｃ
Ｈ２−ＯＨの化合物Ｈ ９８９部とイソホロンジイソシアネート６５２．２部、
希釈剤として、ＣＨ＝ＣＨ２−０−ＣＨ２ＣＨ台ＣＦ−
ｒｈＣＨｚＣＨ２−Ｏ−ＣＣＨ＝ＣＨ２８１０，４部及
びジラウリン酸ｎ−ブチルすず０．１９部を仕込み、反
応温度６５°Ｃて約７時間反応を行い、次いて、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレ−Ｈ５３，５部を仕込み、反応
温度８０°Ｃで２５時間反応を行い、ポリウレタンアク
リレートを得た。

合成例２ ネオペンチルグリコール６．８部、ポリテトラメチレン
グリコール（分子量２０００）６８．９部及びイソホロ
ンジイソシアネート４４．５部を仕込み、反応温度８０
°Ｃで１２時間反応を行い、次いて、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート２５．６部とハイドロキノンモノメチ
ルエーテル０．０７部を仕込み、反応温度８０°Ｃで１
０時間反応を行い、ポリウレタンアクリレートを得た。

実施例１ の化合物６０部、合成例１で得たポリウレタンアクリレ
ート４０部、ベンゾフェノン５部及びＮ、　Ｎ−ジメチ
ルアミノアセトフェノン４部を混合溶解して、光ディス
ク用オーバーコート組成物を調製した。

このオーバーコート組成物をスピンコーターて光ディス
クの記録膜上に塗布し、高圧水銀灯（日本電池■製、２
部ｗ）により１０１００Ｏ／ｃｎｆ照射し該組成物を硬
化させた。このようにして得たオーバーコートされた光
ディスクを７０°Ｃで９０％ＲＨの状態に放置し、耐湿
性試験を行ったところ、２０００時間経過しても記録膜
に異常が認められなかった。

実施例２ の化合物８０部、合成例２て得たポリウレタンアクリレ
ート２０部、ベンゾフェノン５部及びＮ、　Ｎ−ジメチ
ルアミノアセトフェノン４部を混合溶解し、光ディスク
用オーバーコート組成物を調製した。

これを用いて、実施例１と同様にして、オーバーコート
された光ディスクを得た。実施例１と同様にして耐湿性
の試験を行った結果、２０００時間経過しても異常か認
められなかった。

実施例３ の化合物５０部、トリシクロデカンジメチロールジアク
リレート（日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ−６８４
）３０部、合成例２て得たポリウレタンアクリレート２
０部、ベンゾフェノン５部及びＮ、　Ｎ−ジメチルアミ
ノアセトフェノン４部を混合溶解し、光ディスク用オー
バーコート組成物を調製した。これを用いて、実施例１
と同様にして、オーバーコートされた光ディスクを得た
。実施例１と同様にして耐湿性の試験を行った結果、２
０００時間経過しても異常が認められなかった。

実施例４ 実施例１と同様にして耐湿性の試験を行った結果、２０
００時間経過しても異常か認められなかった。

（発明の効果） 本発明の光ディスク用オーバーコート組成物は紫外線に
より迅速に硬化すると共に、硬化して得られる硬化物（
保護膜）は、耐湿性、接着性に優れている。

特許出願人　　日本化薬株式会社 の化合物１０部、合成例１で得たポリウレタンアクリレ
ート２０部、ベンゾフェノン５部及びＮ、　Ｎ−ジメチ
ルアミノアセトフェノン４部を混合溶解し、光ディスク
用オーバーコート組成物を調製した。

これを用いて、実施例１と同様にして、オーバーコート
された光ディスクを得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有す
   るフッ素化合物（Ａ）と（Ａ）成分以外のエチレン性不
   飽和基含有化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）を含有す
   ることを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成物
   。 ２、請求項１に記載の光ディスク用オーバーコート組成
   物の硬化物。