JP2002285042A - 光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスク - Google Patents
光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスクInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】アモルファスポリオレフィン基板に対する密着
性の優れた紫外線硬化型組成物を提供し、耐久性に優れ
た光ディスクを実現する。 【解決手段】ジシクロペンタジエンジアクリレートを、
５５〜８５質量％と、チオキサントン系化合物を３〜１
０質量％含有する光ディスク用紫外線硬化型組成物。
性の優れた紫外線硬化型組成物を提供し、耐久性に優れ
た光ディスクを実現する。 【解決手段】ジシクロペンタジエンジアクリレートを、
５５〜８５質量％と、チオキサントン系化合物を３〜１
０質量％含有する光ディスク用紫外線硬化型組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク用紫外線硬
化型組成物に関し、更に詳しくはアモルファスポリオレ
フィン樹脂基板を使用した光ディスクとの密着性に優れ
た紫線硬化型組成物に関する。
化型組成物に関し、更に詳しくはアモルファスポリオレ
フィン樹脂基板を使用した光ディスクとの密着性に優れ
た紫線硬化型組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、耐熱性透明熱可塑性樹脂として、
アモルファスポリオレフィン樹脂が注目されている。ア
モルファスポリオレフィン樹脂は、高透明性、低複屈折
率、耐熱性、低吸湿性等の優れた力学的、光学的性質を
持つ。このような性質を生かして、従来の代表的な透明
熱可塑性樹脂であるポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）やポリカーボネート（ＰＣ）の代替として、例えば
光ディスク基板としての使用等、各種産業用途への展開
が検討されている。しかし、アモルファスポリオレフィ
ン樹脂と良好な密着性を有する保護コート剤がなかった
ために、ＰＭＭＡやＰＣの代替として産業上利用される
機会が少なかった。
アモルファスポリオレフィン樹脂が注目されている。ア
モルファスポリオレフィン樹脂は、高透明性、低複屈折
率、耐熱性、低吸湿性等の優れた力学的、光学的性質を
持つ。このような性質を生かして、従来の代表的な透明
熱可塑性樹脂であるポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）やポリカーボネート（ＰＣ）の代替として、例えば
光ディスク基板としての使用等、各種産業用途への展開
が検討されている。しかし、アモルファスポリオレフィ
ン樹脂と良好な密着性を有する保護コート剤がなかった
ために、ＰＭＭＡやＰＣの代替として産業上利用される
機会が少なかった。
【０００３】アモルファスポリオレフィン樹脂表面に対
する紫外線硬化型保護コート剤の密着性を向上させる手
段として、樹脂表面を活性化させる方法がある。例え
ば、火炎処理法、コロナ処理法、酸化処理法、サンドブ
ラスト法等の前処理法がある。これらの処理方法は、密
着性を向上させる点では有効であるが、着色や表面の荒
れを引き起こし光学的特性を損なう問題、あるいは、生
産プロセスが増えることによる設備費用の増加等の問題
等があり、密着性向上の手段としては実用性に乏しいも
のであった。
する紫外線硬化型保護コート剤の密着性を向上させる手
段として、樹脂表面を活性化させる方法がある。例え
ば、火炎処理法、コロナ処理法、酸化処理法、サンドブ
ラスト法等の前処理法がある。これらの処理方法は、密
着性を向上させる点では有効であるが、着色や表面の荒
れを引き起こし光学的特性を損なう問題、あるいは、生
産プロセスが増えることによる設備費用の増加等の問題
等があり、密着性向上の手段としては実用性に乏しいも
のであった。
【０００４】アモルファスポリオレフィン樹脂を光ディ
スク用基板に応用する場合、保護コート剤にはディスク
内外周部の金属反射膜が形成されていないアモルファス
ポリオレフィン樹脂基板それ自体と、基板上に形成され
る金属反射膜との両方に優れた密着性が必要となる。し
かし、既存の光ディスク用紫外線硬化型保護コート剤で
はアモルファスポリオレフィン基板への密着性が不十分
であり、また、アモルファスポリオレフィン基板への密
着性が良い紫外線硬化型樹脂組成物の例が特許第３０３
０９５３号に開示されているが、該組成物は光ディスク
基板上に形成される金属反射膜との密着性に関しては全
く考慮されておらず、アモルファスポリオレフィン基板
と金属反射膜の両方に対し良好な密着性を有する光ディ
スク用紫外線硬化型保護コート剤は未だ実用化に至って
いない。
スク用基板に応用する場合、保護コート剤にはディスク
内外周部の金属反射膜が形成されていないアモルファス
ポリオレフィン樹脂基板それ自体と、基板上に形成され
る金属反射膜との両方に優れた密着性が必要となる。し
かし、既存の光ディスク用紫外線硬化型保護コート剤で
はアモルファスポリオレフィン基板への密着性が不十分
であり、また、アモルファスポリオレフィン基板への密
着性が良い紫外線硬化型樹脂組成物の例が特許第３０３
０９５３号に開示されているが、該組成物は光ディスク
基板上に形成される金属反射膜との密着性に関しては全
く考慮されておらず、アモルファスポリオレフィン基板
と金属反射膜の両方に対し良好な密着性を有する光ディ
スク用紫外線硬化型保護コート剤は未だ実用化に至って
いない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の課題を背景になされたもので、特別な前処理をせず
にアモルファスポリオレフィン樹脂を使用した光ディス
クに塗布することにより、短時間で紫外線硬化し、アモ
ルファスポリオレフィン樹脂基板と金属反射膜の両方に
対し密着性に優れた光ディスク用紫外線硬化型組成物を
提供することを目的とする。
術の課題を背景になされたもので、特別な前処理をせず
にアモルファスポリオレフィン樹脂を使用した光ディス
クに塗布することにより、短時間で紫外線硬化し、アモ
ルファスポリオレフィン樹脂基板と金属反射膜の両方に
対し密着性に優れた光ディスク用紫外線硬化型組成物を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、特定の配合のモノマ
ーと重合開始剤を有する紫外線硬化型組成物を用いるこ
とにより、アモルファスポリオレフィン基板と金属反射
膜の両方に対する良好な密着性が得られることを見出
し、本発明を完成するに至ったものである。
解決するために鋭意検討した結果、特定の配合のモノマ
ーと重合開始剤を有する紫外線硬化型組成物を用いるこ
とにより、アモルファスポリオレフィン基板と金属反射
膜の両方に対する良好な密着性が得られることを見出
し、本発明を完成するに至ったものである。
【０００７】即ち、本発明は、ジシクロペンタジエンジ
アクリレートを、５５〜８５質量％、チオキサントン系
化合物を３〜１０質量％、及びリン酸基を有する（メ
タ）アクリレートを０．０１〜５質量％含有することを
特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物、及びこの
硬化塗膜を保護層として用いた光ディスクを提供する。
アクリレートを、５５〜８５質量％、チオキサントン系
化合物を３〜１０質量％、及びリン酸基を有する（メ
タ）アクリレートを０．０１〜５質量％含有することを
特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物、及びこの
硬化塗膜を保護層として用いた光ディスクを提供する。
【０００８】本発明の光ディスクは、アモルファスポリ
オレフィン樹脂からなる基板を用いることにより、前記
のアモルファスポリオレフィン樹脂の優れた力学的、光
学的特性を充分に利用することが可能となる。
オレフィン樹脂からなる基板を用いることにより、前記
のアモルファスポリオレフィン樹脂の優れた力学的、光
学的特性を充分に利用することが可能となる。
【０００９】本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物
が、アモルファスポリオレフィン樹脂に対して優れた密
着性を有する理由は以下のように考えられる。アモルフ
ァスポリオレフィン樹脂は、飽和脂肪族よりなる主鎖を
持ち、その主鎖中に脂肪族多環環状構造を含むものであ
って、具体例としては、繰り返し単位中にノルボルネン
骨格を有するものである。アモルファスポリオレフィン
樹脂は極性基を持たないために、樹脂全体として極性は
低いと考えられるため、この樹脂の保護コート剤も、極
性が低い方が密着性は上がると考えられる。通常、紫外
線硬化型組成物に用いられるモノマーは、アクリロイル
基等の極性基を有しており、極性が高いため充分な密着
性が得られない。しかし、本発明に用いるジシクロペン
タジエンジアクリレートのように分子内にアルキル鎖、
環構造が存在し、これにチオキサントン系化合物を重合
開始剤として用いることにより、それらコンフォメーシ
ョンによる極性緩和効果により、硬化後の塗膜は極性が
低くなり、その結果、アモルファスポリオレフィン樹脂
との良好な密着性が発現するものと考えられる。
が、アモルファスポリオレフィン樹脂に対して優れた密
着性を有する理由は以下のように考えられる。アモルフ
ァスポリオレフィン樹脂は、飽和脂肪族よりなる主鎖を
持ち、その主鎖中に脂肪族多環環状構造を含むものであ
って、具体例としては、繰り返し単位中にノルボルネン
骨格を有するものである。アモルファスポリオレフィン
樹脂は極性基を持たないために、樹脂全体として極性は
低いと考えられるため、この樹脂の保護コート剤も、極
性が低い方が密着性は上がると考えられる。通常、紫外
線硬化型組成物に用いられるモノマーは、アクリロイル
基等の極性基を有しており、極性が高いため充分な密着
性が得られない。しかし、本発明に用いるジシクロペン
タジエンジアクリレートのように分子内にアルキル鎖、
環構造が存在し、これにチオキサントン系化合物を重合
開始剤として用いることにより、それらコンフォメーシ
ョンによる極性緩和効果により、硬化後の塗膜は極性が
低くなり、その結果、アモルファスポリオレフィン樹脂
との良好な密着性が発現するものと考えられる。
【００１０】更に接着助剤としてリン酸基を有する（メ
タ）アクリレートを併用することにより、金属反射膜と
の密着性を上げることができる。
タ）アクリレートを併用することにより、金属反射膜と
の密着性を上げることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明に用いられるジシクロペン
タジエンジアクリレートとは、下記構造式１で表される
化合物を意味する。
タジエンジアクリレートとは、下記構造式１で表される
化合物を意味する。
【００１２】
【化１】
【００１３】ジシクロペンタジエンジアクリレートは、
アモルファスポリオレフィン樹脂と紫外線硬化型組成物
の相溶性を向上させ、樹脂と被膜組成物間の密着性を確
保するのに不可欠である。ジシクロペンタジエンジアク
リレートの配合量は、本発明の組成物中に５５〜８５質
量％である。
アモルファスポリオレフィン樹脂と紫外線硬化型組成物
の相溶性を向上させ、樹脂と被膜組成物間の密着性を確
保するのに不可欠である。ジシクロペンタジエンジアク
リレートの配合量は、本発明の組成物中に５５〜８５質
量％である。
【００１４】また、本発明に用いられるチオキサントン
系化合物とは下記構造式２で表される化合物を意味す
る。
系化合物とは下記構造式２で表される化合物を意味す
る。
【００１５】
【化２】
【００１６】ここで、Ｒは水素、アルキル基、ハロゲン
の何れかを表し、ｎは１または２を表す。
の何れかを表し、ｎは１または２を表す。
【００１７】チオキサントンの配合量は、本発明の組成
物中に３〜１０質量％、好ましくは４〜８質量％であ
る。チオキサントンの配合量が３質量％未満では塗膜の
密着性が低下し、逆に１０質量％越えると、硬化スピー
ドが遅くなってしまい、好ましくない。
物中に３〜１０質量％、好ましくは４〜８質量％であ
る。チオキサントンの配合量が３質量％未満では塗膜の
密着性が低下し、逆に１０質量％越えると、硬化スピー
ドが遅くなってしまい、好ましくない。
【００１８】チオキサントンの具体例としては、イソプ
ロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン等が挙げられる。
ロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン等が挙げられる。
【００１９】組成物の配合組成によっては、開始剤とし
て、チオキサントン単独では表面硬化スピードが不十分
な場合がある。その場合は、チオキサントンと他の開始
剤を併用することにより、表面硬化スピードを調整する
ことができる。
て、チオキサントン単独では表面硬化スピードが不十分
な場合がある。その場合は、チオキサントンと他の開始
剤を併用することにより、表面硬化スピードを調整する
ことができる。
【００２０】併用する開始剤の具体例としては、２−ヒ
ドロキシ―２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の
アセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル
安息香酸メチル等のベンゾフェノン系開始剤が挙げられ
る。
ドロキシ―２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の
アセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル
安息香酸メチル等のベンゾフェノン系開始剤が挙げられ
る。
【００２１】また、本発明に用いられるリン酸基を有す
る（メタ）アクリレートとしては、２−メタクリロイロ
キシエチルアシッドホスフェイト、トリスアクリロイル
オキシエチルホスフェート、ビス（メタクリロキシエチ
ル）ホスフェイト等が挙げられる。このような化合物は
ライトエステルＰ−１Ｍ、ビスコート３ＰＡ、ＫＡＹＡ
ＭＥＲ ＰＭ−２等として市販されており、容易に入手
可能である。リン酸基を有する（メタ）アクリレートの
配合量は、本発明の組成物中に０．０１〜５質量％、好
ましくは０．０５〜３質量％である。配合量が０．０１
質量％よりも少ないと金属反射膜との接着力を充分に得
られない。また５質量％を越すと、高温恒湿耐久試験の
際信号特性の劣化を招き、好ましくない。
る（メタ）アクリレートとしては、２−メタクリロイロ
キシエチルアシッドホスフェイト、トリスアクリロイル
オキシエチルホスフェート、ビス（メタクリロキシエチ
ル）ホスフェイト等が挙げられる。このような化合物は
ライトエステルＰ−１Ｍ、ビスコート３ＰＡ、ＫＡＹＡ
ＭＥＲ ＰＭ−２等として市販されており、容易に入手
可能である。リン酸基を有する（メタ）アクリレートの
配合量は、本発明の組成物中に０．０１〜５質量％、好
ましくは０．０５〜３質量％である。配合量が０．０１
質量％よりも少ないと金属反射膜との接着力を充分に得
られない。また５質量％を越すと、高温恒湿耐久試験の
際信号特性の劣化を招き、好ましくない。
【００２２】本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物
には、アルキル基を有する単官能モノマーまたは、炭
素、水素及び酸素の内、少なくとも２種類の原子からな
る環状構造を有する単官能モノマーを３〜３０質量％含
有することが好ましい。これら単官能モノマーとして、
直鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレート、側鎖を
有するアルキル基を持つ（メタ）アクリレート、シクロ
ヘキサン環を有する（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンタニル環を有する（メタ）アクリレート、イソボルニ
ル環を有する（メタ）アクリレート、テトラヒドロフラ
ン環構造を有する（メタ）アクリレートなどが挙げられ
るが、特にメタクリレートモノマーがアモルファスポリ
オレフィン基板との接着性の面で好ましい。
には、アルキル基を有する単官能モノマーまたは、炭
素、水素及び酸素の内、少なくとも２種類の原子からな
る環状構造を有する単官能モノマーを３〜３０質量％含
有することが好ましい。これら単官能モノマーとして、
直鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレート、側鎖を
有するアルキル基を持つ（メタ）アクリレート、シクロ
ヘキサン環を有する（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンタニル環を有する（メタ）アクリレート、イソボルニ
ル環を有する（メタ）アクリレート、テトラヒドロフラ
ン環構造を有する（メタ）アクリレートなどが挙げられ
るが、特にメタクリレートモノマーがアモルファスポリ
オレフィン基板との接着性の面で好ましい。
【００２３】この単官能メタクリレートの具体例として
は、ｎ−ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリ
レート、イソデシルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、イ
ソボルニルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメ
タクリレートなどの光重合性モノマーが挙げられる。単
官能モノマーの配合量は、本発明の組成物中に３〜３０
質量％、好ましくは５〜２５質量％である。この成分
は、硬化塗膜とアモルファスポリオレフィン間の密着性
を上げるだけでなく、紫外線硬化型組成物硬化時の残留
歪みを除く効果もあるが、過剰な使用は硬化被膜の鉛筆
硬度及び硬化スピードを低下させることになり、好まし
くない。
は、ｎ−ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリ
レート、イソデシルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、イ
ソボルニルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメ
タクリレートなどの光重合性モノマーが挙げられる。単
官能モノマーの配合量は、本発明の組成物中に３〜３０
質量％、好ましくは５〜２５質量％である。この成分
は、硬化塗膜とアモルファスポリオレフィン間の密着性
を上げるだけでなく、紫外線硬化型組成物硬化時の残留
歪みを除く効果もあるが、過剰な使用は硬化被膜の鉛筆
硬度及び硬化スピードを低下させることになり、好まし
くない。
【００２４】更に、開始助剤として芳香族アミンを０．
５〜５質量％含有することが好ましい。芳香族アミンを
チオキサントンと共存させることにより、紫外線照射時
にチオキサントンが活性化され、その結果アモルファス
ポリオレフィンと硬化塗膜間に強固な密着性が形成され
ると考えられる。
５〜５質量％含有することが好ましい。芳香族アミンを
チオキサントンと共存させることにより、紫外線照射時
にチオキサントンが活性化され、その結果アモルファス
ポリオレフィンと硬化塗膜間に強固な密着性が形成され
ると考えられる。
【００２５】開始助剤の具体例として、ｐ−ジメチルア
ミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられ
る。開始助剤の配合量は、０．５〜５質量％、好ましく
は１〜３質量％である。開始助剤は、必要に応じて２種
類以上組み合わせて使用することもできる
ミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられ
る。開始助剤の配合量は、０．５〜５質量％、好ましく
は１〜３質量％である。開始助剤は、必要に応じて２種
類以上組み合わせて使用することもできる
【００２６】本発明の塗料組成物には、上記の成分のみ
で十分初期の目的を達成できるものであるが、更に性能
改良のため、本来の特性を変えない範囲で光重合性モノ
マー及び、光重合性オリゴマーを配合することができ
る。
で十分初期の目的を達成できるものであるが、更に性能
改良のため、本来の特性を変えない範囲で光重合性モノ
マー及び、光重合性オリゴマーを配合することができ
る。
【００２７】また、更なる性能改良のため、本発明の効
果を損なわない範囲で、重合禁止剤等の添加物を添加す
ることもできる。
果を損なわない範囲で、重合禁止剤等の添加物を添加す
ることもできる。
【００２８】重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−
ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハイドロキノン、
フェノチアジンが挙げられる。
ノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−
ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハイドロキノン、
フェノチアジンが挙げられる。
【００２９】これらの添加物の使用量は、本発明組成物
の０．１〜５質量％の範囲が好ましい。
の０．１〜５質量％の範囲が好ましい。
【００３０】次に本発明に係る光ディスクの実施形態の
例について説明する。まず、アモルファスポリオレフィ
ンからなる円形透明基板上に、信号に対応するピットを
形成した上に光反射層を設けたディスクを用意する。ま
た、ピットの代わりに、有機色素、相変化記録材料等か
らなる記録層を設け、その上に光反射層を積層したディ
スクを用いてもよい。
例について説明する。まず、アモルファスポリオレフィ
ンからなる円形透明基板上に、信号に対応するピットを
形成した上に光反射層を設けたディスクを用意する。ま
た、ピットの代わりに、有機色素、相変化記録材料等か
らなる記録層を設け、その上に光反射層を積層したディ
スクを用いてもよい。
【００３１】上記記録層に用いることができる有機色素
としては、記録に用いるレーザー光によってピットを形
成することができるものであれば、特に制限なく、例え
ばシアニン系、フタロシアニン系、アゾ系、ナフタロシ
アニン系、アントラキノン系、トリフェニルメタン系、
ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム
系、クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等
が挙げられる。
としては、記録に用いるレーザー光によってピットを形
成することができるものであれば、特に制限なく、例え
ばシアニン系、フタロシアニン系、アゾ系、ナフタロシ
アニン系、アントラキノン系、トリフェニルメタン系、
ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム
系、クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等
が挙げられる。
【００３２】また、色素に一重項酸素クエンチャーを混
合して用いるのもよい。クエンチャーとしては、アセチ
ルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビス
フェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカ
テコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素の
ラジカルカチオンを有するアミン系化合物やヒンダード
アミン等のアミン系のクエンチャーも好適である。
合して用いるのもよい。クエンチャーとしては、アセチ
ルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビス
フェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカ
テコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素の
ラジカルカチオンを有するアミン系化合物やヒンダード
アミン等のアミン系のクエンチャーも好適である。
【００３３】上記記録層に用いることができる相変化記
録材料としては、ＧｅＳｂＴｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅ等の
カルコゲン合金が挙げられる。
録材料としては、ＧｅＳｂＴｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅ等の
カルコゲン合金が挙げられる。
【００３４】上記光反射層は、アルミニウム、銀、金、
銅等の金属又はその合金、あるいはケイ素化合物等をス
パッタリング、蒸着等の方法で薄膜形成することにより
得ることができる。
銅等の金属又はその合金、あるいはケイ素化合物等をス
パッタリング、蒸着等の方法で薄膜形成することにより
得ることができる。
【００３５】次に本発明に係る紫外線硬化型組成物を上
記光反射層上に塗布し、スピンコート法等によって硬化
後の膜厚が３〜２０μｍになるように塗膜を形成し、続
いて、紫外線を照射して、塗膜を硬化することによって
本発明の光ディスクを得ることができる。
記光反射層上に塗布し、スピンコート法等によって硬化
後の膜厚が３〜２０μｍになるように塗膜を形成し、続
いて、紫外線を照射して、塗膜を硬化することによって
本発明の光ディスクを得ることができる。
【００３６】紫外線を照射する手段として、例えば、高
圧水銀灯、メタルハライドランプ等の連続照射方式の紫
外線照射装置または、キセノンフラッシュ等の閃光照射
方式の紫外線照射装置を使用できる。
圧水銀灯、メタルハライドランプ等の連続照射方式の紫
外線照射装置または、キセノンフラッシュ等の閃光照射
方式の紫外線照射装置を使用できる。
【００３７】更に本発明の光ディスクは、従来のように
レーザー光による情報の再生・記録を、基板を通して行
うものであっても良いし、本発明に係る紫外線硬化型組
成物の硬化膜を通して行うものであってもよい。
レーザー光による情報の再生・記録を、基板を通して行
うものであっても良いし、本発明に係る紫外線硬化型組
成物の硬化膜を通して行うものであってもよい。
【００３８】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、以
下実施例中「部」は「質量部」を表す。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、以
下実施例中「部」は「質量部」を表す。
【００３９】 実施例１ ジシクロペンタジエンジアクリレート ８１．５部 ラウリルアクリレート ５部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．１部 ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェイト ０．１部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３．５部 ２，４−ジエチルチオキサントン、４．５部 ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン １部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を混合し、６５℃ ２時間加熱溶解後、紫外線硬化
型組成物を調製した。
型組成物を調製した。
【００４０】 実施例２ ジシクロペンタジエンジアクリレート ７１．５部 テトラヒドロフルフリルメタクリレート １５部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．１部 ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェイト ０．１部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３．５部 ２，４−ジエチルチオキサントン ４．５部 ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン １部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を、実施例１と同様にして紫外線硬化型組成物を調
製した。
製した。
【００４１】 実施例３ ジシクロペンタジエンジアクリレート ７１．５部 シクロヘキシルメタクリレート １５部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．１部 ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェイト ０．１部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３．５部 ２，４−ジエチルチオキサントン ４．５部 ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン １部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を、実施例１と同様にして紫外線硬化型組成物を調
製した。
製した。
【００４２】 実施例４ ジシクロペンタジエンジアクリレート ６１．５部 ラウリルメタクリレート、共栄社（株）製） ２５部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．１部 ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェイト ０．１部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３．５部 ２，４−ジエチルチオキサントン ４．５部 ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン １部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を、実施例１と同様にして紫外線硬化型組成物を調
製した。
製した。
【００４３】 比較例１ ジシクロペンタジエンジアクリレート ８７部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．６部 ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェイト ０．１部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ８部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を、実施例１と同様にして紫外線硬化型組成物を調
製した。
製した。
【００４４】 比較例２ ジシクロペンタジエンジアクリレート ７１．５部 ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート １５部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．１部 ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェイト ０．１部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ５．５部 ２，４−ジエチルチオキサントン ２．５部 ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン １部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を、実施例１と同様にして紫外線硬化型組成物を調
製した。
製した。
【００４５】 比較例３ ジシクロペンタジエンジアクリレート ７１．５部 シクロヘキシルメタクリレート １５部 トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート ４．２部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３．５部 ２，４−ジエチルチオキサントン ４．５部 ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン １部 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル ０．２部 メトキノン ０．１部 以上を、実施例１と同様にして紫外線硬化型組成物を調
製した。
製した。
【００４６】サンプルディスクの作製 上記実施例及び比較例で調製した紫外線硬化型組成物
を、アモルファスポリオレフィン基板上及びアルミ反射
膜を有するアモルファスポリオレフィン基板のアルミ面
上に、硬化後の膜厚が７〜１０μｍとなる様スピンコー
ト法により塗布し、集光型高圧水銀ランプ（１２０Ｗ／
ｃｍ）を有する硬化装置により、照射光量１Ｊ／ｃｍ2
で硬化させた。アモルファスポリオレフィン基板を使用
したサンプルをディスクＡ、アルミ反射膜を有するアモ
ルファスポリオレフィン基板を使用したサンプルをディ
スクＢとした。
を、アモルファスポリオレフィン基板上及びアルミ反射
膜を有するアモルファスポリオレフィン基板のアルミ面
上に、硬化後の膜厚が７〜１０μｍとなる様スピンコー
ト法により塗布し、集光型高圧水銀ランプ（１２０Ｗ／
ｃｍ）を有する硬化装置により、照射光量１Ｊ／ｃｍ2
で硬化させた。アモルファスポリオレフィン基板を使用
したサンプルをディスクＡ、アルミ反射膜を有するアモ
ルファスポリオレフィン基板を使用したサンプルをディ
スクＢとした。
【００４７】試験方法 ＪＩＳ Ｋ５４００のＸカットテープ法に準じ、ディス
クＡ及びディスクＢ上の硬化膜の密着性を評価した。塗
膜が密着面から剥離しなかった場合を○、剥離した場合
を×とし、表１にその結果及び総合評価をＯＫとＮＧで
示した。
クＡ及びディスクＢ上の硬化膜の密着性を評価した。塗
膜が密着面から剥離しなかった場合を○、剥離した場合
を×とし、表１にその結果及び総合評価をＯＫとＮＧで
示した。
【００４８】
【表１】
【００４９】表１から明らかなように、実施例１〜４で
得られた本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物で
は、アモルファスポリオレフィン基板と金属反射膜の両
方に対し良好な密着性を示した。
得られた本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物で
は、アモルファスポリオレフィン基板と金属反射膜の両
方に対し良好な密着性を示した。
【００５０】しかし、チオキサントン系化合物以外の重
合開始剤を用いた比較例１、チオキサントン系化合物の
配合量が３質量％未満の比較例２では、アモルファスポ
リオレフィン基板面から塗膜が剥がれ、またリン酸基を
有する（メタ）アクリレートを含有しない比較例３で
は、アルミ反射膜面から塗膜が剥がれ、アモルファスポ
リオレフィン基板と金属反射膜の両方に対する良好な密
着性が得られなかった。
合開始剤を用いた比較例１、チオキサントン系化合物の
配合量が３質量％未満の比較例２では、アモルファスポ
リオレフィン基板面から塗膜が剥がれ、またリン酸基を
有する（メタ）アクリレートを含有しない比較例３で
は、アルミ反射膜面から塗膜が剥がれ、アモルファスポ
リオレフィン基板と金属反射膜の両方に対する良好な密
着性が得られなかった。
【００５１】
【発明の効果】本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成
物は、アモルファスポリオレフィン樹脂の優れた光学的
性質を損なわずに、該アモルファスポリオレフィン樹脂
と金属反射膜の両方に対し良好な密着性を示し、高透明
性、低複屈折率、耐熱性、低吸湿性等の優れた力学的、
光学的性質を持つアモルファスポリオレフィン樹脂を基
板として使用した光ディスクを提供することができる。
物は、アモルファスポリオレフィン樹脂の優れた光学的
性質を損なわずに、該アモルファスポリオレフィン樹脂
と金属反射膜の両方に対し良好な密着性を示し、高透明
性、低複屈折率、耐熱性、低吸湿性等の優れた力学的、
光学的性質を持つアモルファスポリオレフィン樹脂を基
板として使用した光ディスクを提供することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４Ｄ //(Ｃ０８Ｆ 220/20 Ｃ０８Ｆ 230:02 230:02） (72)発明者 高橋 治彦 神奈川県川崎市川崎区夜光１−２−１ 日 本ゼオン株式会社総合開発センター内 Ｆターム(参考） 4J011 PA44 PA45 SA01 SA21 SA64 4J038 FA131 FA211 GA01 GA14 JA33 JB06 JC18 KA03 KA04 MA08 MA09 NA01 NA12 NA14 PA17 PB08 PB11 PC08 4J100 AL05R AL08Q AL08R AL66P BA63Q BC04R BC12P CA04 CA05 CA06 JA36 5D029 KA30 LA01 LA03
Claims (6)
- 【請求項１】ジシクロペンタジエンジアクリレートを５
５〜８５質量％、チオキサントン系化合物を３〜１０質
量％、及びリン酸基を有する（メタ）アクリレートを
０．０１〜５質量％含有することを特徴とする光ディス
ク用紫外線硬化型組成物。 - 【請求項２】さらに、アルキル基を有する単官能モノマ
ーまたは、炭素、水素及び酸素の内、少なくとも２種類
の原子からなる脂環構造を有する単官能モノマーを、３
〜３０質量％含有することを特徴とする請求項１記載の
光ディスク用紫外線硬化型組成物。 - 【請求項３】さらに、単官能モノマーがメタクリレート
モノマーであることを特徴とする請求項２記載の光ディ
スク用紫外線硬化型組成物。 - 【請求項４】芳香族アミンを０．５〜５質量％含有する
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光ディ
スク用紫外線硬化型組成物。 - 【請求項５】請求項１〜４に記載の何れかの紫外線硬化
型組成物の硬化塗膜を保護層として有することを特徴と
する光ディスク。 - 【請求項６】アモルファスポリオレフィン樹脂からなる
基板を有することを特徴とする請求項５に記載の光ディ
スク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001089631A JP2002285042A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスク |
| PCT/JP2002/002754 WO2002077047A1 (fr) | 2001-03-27 | 2002-03-22 | Composition durcissable aux ultra-violets pour disque optique et disque optique ainsi obtenu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001089631A JP2002285042A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002285042A true JP2002285042A (ja) | 2002-10-03 |
Family
ID=18944534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001089631A Withdrawn JP2002285042A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスク |
Country Status (2)
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|---|---|
| JP (1) | JP2002285042A (ja) |
| WO (1) | WO2002077047A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010077282A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 硬化性組成物、積層樹脂板及びその製造方法、並びにディスプレイ前面板 |
| US7749587B2 (en) | 2003-09-30 | 2010-07-06 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Optical disk |
| JP2012224669A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性被覆材組成物及び被覆物 |
Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
| JP2006083225A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 機能性フィルム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60152515A (ja) * | 1984-01-18 | 1985-08-10 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 光学材料の製造法 |
| US4835027A (en) * | 1986-03-28 | 1989-05-30 | Hitachi, Ltd. | Optical disc |
| JPS6363757A (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-22 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 被覆材組成物 |
| JPS63243109A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-11 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 光学材料 |
| JP2537644B2 (ja) * | 1987-11-05 | 1996-09-25 | 日本化薬株式会社 | 光ディスク用オ―バ―コ―ト組成物 |
| DE69033550T2 (de) * | 1989-03-03 | 2001-01-18 | Tdk Corp | Medium für optische Datenspeicherung |
| JPH04270772A (ja) * | 1991-02-26 | 1992-09-28 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光ディスクのハードコート用樹脂組成物 |
| JP3030953B2 (ja) * | 1991-06-12 | 2000-04-10 | ジェイエスアール株式会社 | 紫外線硬化型被覆組成物 |
| JPH0616734A (ja) * | 1992-07-03 | 1994-01-25 | Nkk Corp | 帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成物及びそれを被覆して成る光ディスク |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001089631A patent/JP2002285042A/ja not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-03-22 WO PCT/JP2002/002754 patent/WO2002077047A1/ja active Application Filing
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7749587B2 (en) | 2003-09-30 | 2010-07-06 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Optical disk |
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| JP2012224669A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性被覆材組成物及び被覆物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2002077047A1 (fr) | 2002-10-03 |
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