JPH0512714A - 光情報記録媒体ならびにその製造方法 - Google Patents

光情報記録媒体ならびにその製造方法

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JPH0512714A
JPH0512714A JP3192765A JP19276591A JPH0512714A JP H0512714 A JPH0512714 A JP H0512714A JP 3192765 A JP3192765 A JP 3192765A JP 19276591 A JP19276591 A JP 19276591A JP H0512714 A JPH0512714 A JP H0512714A
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JP3192765A
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Inventor
Hitoshi Kosho
均 古性
Katsusuke Shimazaki
勝輔 島崎
Norio Ota
憲雄 太田
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Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録膜での腐食発生率の低い、信頼性の高い
光情報記録媒体を提供することにある。 【構成】 透明基板1上に第1エンハンス膜2、記録膜
3、第2エンハンス膜4ならびに反射膜5を順次形成
し、その上に例えばアクリル系合成樹脂などの硬化性樹
脂からなる保護膜7を形成する際、その保護膜7が真空
中あるいは不活性ガス中で硬化されたことを特徴とする
ものである。このように保護膜7を真空中あるいは不活
性ガス中で硬化させることにより、反応率が75%以上
となり、未反応の低分子オリゴマーの残留が少なくな
り、低分子オリゴマーによる記録膜の腐食が減少でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば光デイスクある
いは光−磁気デイスクなどの光情報記録媒体ならびにそ
の製造方法に係り、特に透明基板上に形成された記録膜
などを保護する保護膜に関するものである。
【0002】
【従来の技術】通常の光磁気デイスクは、例えばポリカ
ーボネート、エポキシ、アモルフアスポリオレフインな
どからなる透明基板上にスパツタリングにより、Si
O,SiO2 ,SiN,Si34 ,AlN,Al2
3 ,ZnSなどの無機誘電体からなる第1エンハンス膜
を形成する。そしてこの第1エンハンス膜上に、例えば
希土類金属、遷移金属からなるアモルフアス合金、ある
いはこれに第3元素を添加した記録膜を設け、その記録
膜上に前述と同様に無機誘電体からなる第2エンハンス
膜を形成する。この第2エンハンス膜上にアルミニウム
などからなる反射膜を設け、その反射膜上に紫外線硬化
性樹脂からなる保護膜を形成していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来の保護膜
は、空気中で硬化させていたため、反応率が低く、また
このため低分子オリゴマー成分が高分子体中に未反応物
として残留する。そしてこの未反応物が記録膜の腐食の
原因となり、情報の書き込み或いは読み出し時の信頼性
の点で問題があつた。
【0004】また従来の光磁気デイスクは、吸水、透水
などにより容易に記録膜が腐食され、そのために信頼性
が低かった。また、紫外線硬化性樹脂からなる保護膜に
よつてアルミニウムなどからなる反射膜の保護を行って
も、保護膜の形成に用いた例えば4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)−フエニル(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ケトンなどからなる光重合開始剤が保護膜中に残存
し、それが記録膜の腐食の原因となり、情報の書き込み
或いは読み出し時の信頼性の点で問題があつた。
【0005】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、記録膜の腐食の少ない信頼性の高い光情報
記録媒体を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、透明基板上に記録膜を形成し、その記録
膜上に保護膜を形成する光情報記録媒体において、前記
保護膜が例えばアクリル系樹脂などの硬化性樹脂からな
り、その保護膜が真空中で硬化されたことを特徴とする
ものである。
【0007】前記目的を達成するため、更に本発明は、
透明基板上に記録膜を形成し、その記録膜上に保護膜を
形成する光情報記録媒体において、前記保護膜が例えば
アクリル系樹脂などの硬化性樹脂からなり、その保護膜
が例えば窒素ガスなどの不活性ガス中で硬化されたこと
を特徴とするものである。
【0008】前記目的を達成するため、更に本発明は、
透明基板上に記録膜を形成し、その記録膜上に保護膜を
形成する光情報記録媒体において、前記保護膜が、例え
ばアクリル酸エステルなどの光重合性モノマーや光重合
性オリゴマーなどの紫外線硬化性樹脂と、分子中に少な
くとも1個のアクリル基を有する例えば4−(2−アク
リロオキシエトキシ)フエニル−(2−ヒドロキシ2−
プロピル)ケトン、あるいは2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−〔4−(1−メチルビニル)フエニル〕プロパ
ンなどからなる光重合開始剤との重合体で構成されてい
ることを特徴とするものである。
【0009】
【作用】本発明は前述したように、保護膜を形成する際
に真空中あるいは不活性ガス中で硬化するため、硬化性
樹脂の反応率が75%以上となり、高反応率有機高分子
膜となり、従来のように記録膜の腐食の原因となつたり
することがなく、優れた保護機能を発揮し、信頼性の高
い光情報記録媒体を提供することができる。
【0010】また前記光重合性モノマーや光重合性オリ
ゴマーなどの紫外線硬化性樹脂と、分子中に少なくとも
1個のアクリル基を有する例えば4−(2−アクリロオ
キシエトキシ)フエニル−(2−ヒドロキシ2−プロピ
ル)ケトン、あるいは2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−〔4−(1−メチルビニル)フエニル〕プロパンなど
からなる光重合開始剤との重合体で構成された保護膜
は、記録膜の腐食の原因となる光重合開始剤が重合時に
皮膜樹脂中に取り込まれる。そのため光重合開始剤の単
体としてはほとんど残存せず、その結果、記録膜の腐食
を大幅に軽減することができる。またこの保護膜は大気
中で重合させることができるから、生産性が非常に良好
である。
【0011】
【実施例】次に本発明の実施例を図面とともに説明す
る。図1は実施例に係る密着貼合わせ型光デイスクの断
面図、図2はその光デイスクの要部拡大断面図である。
【0012】プリピツトとプリグルーブの反転した微細
な凹凸を有するニツケルスタンパを用い、未硬化状態の
紫外線硬化型樹脂膜を介して透明基板1を均一に圧着す
る。そして透明基板1の方から紫外線を照射して前記紫
外線硬化型樹脂膜を硬化したのち、前記スタンパから剥
離してプリフオーマツトが転写された透明基板1を作成
する。
【0013】次に透明基板1上に図2に示すように第1
エンハンス膜2、記録膜3、第2エンハンス膜4ならび
に金属反射膜5を順次所定の製膜技術を用いて製膜、積
層する。なお、図1では図面を簡略にするため第1エン
ハンス膜2、記録膜3、第2エンハンス膜4ならびに金
属反射膜5からなる4層構造の積層体6を同一のハツチ
ングで示している。
【0014】前記透明基板1としては、例えばガラス、
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリメ
チルペンテン、エポキシなどの光学的に透明な材料が使
用される。
【0015】前記第1エンハンス膜2ならびに第2エン
ハンス膜4としては、例えばSiO,SiO2 ,Si
N,Si34 ,AlN,Al23 ,ZnSなどの無
機誘電体が用いられる。
【0016】光−磁気記録材料からなる記録膜3として
は、例えばTb−Fe合金、Tb−Fe−Co合金、G
d−Tb−Fe−Nb合金、Gd−Tb−Co−Fe−
Nb合金、Gd−Tb−Fe合金、Dy−Fe合金、M
n−Cu−Bi合金(結晶質)、Gd−Tb−Fe−G
e合金、Ge−Co合金、Gd−Tb−Co合金、Gd
−Tb−Co−Nb合金、Tb−Fe合金とGd−Fe
合金との混合物、Tb−Fe合金とGd−Fe−Co合
金との混合物、Tb−Dy−Fe−Co合金、Tb−N
i−Fe合金、Dy−Fe−Gd−Co合金、Pt−C
o−Ni−Cr合金など、主としてアモルフアス合金が
使用される。
【0017】追記型光情報記録媒体の記録材料として
は、例えばTe、Te−Se−Pb合金、Te−C合
金、Te−TeO−TeO2 合金、Ag−Sn合金、A
u−Sn合金などが使用される。
【0018】前記金属反射膜5としては、例えばAl、
Al−Ni合金、Al−Ti合金、Al−Cr合金、A
l−Mn合金、Al−Ni−Ti合金、SUSなどが使
用される。
【0019】図1に示すように前記4層構造の積層体6
の内周部から表面ならびに外周部にかけて、連続した保
護膜7が形成されている。この保護膜7は例えば下記に
示すような紫外線硬化樹脂によつて形成される訳である
が、膜の形成方法には例えばスピンナー塗布法があり、
保護膜7の内周部7aならびに外周部7bは表面部7c
よりも肉厚になつており、しかも内周部7aならびに外
周部7bの端部は直接透明基板1上に接合(接着)され
ている。
【0020】.ポリウレタン、エポキシ、ポリエステ
ルなどによつて変成された変成アクリレートとアクリル
酸エステル(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸n−ブチル)の重合体を主成分とする紫
外線硬化樹脂。 (具体例) ○ポリイソブチレンまたはイソプレン−イソブチレン共重合体 100重量部 ○2官能基または3官能基のアクリルモノマーまたはオリゴマー(ジシクロペン タジエニルジアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、1, 10デカンジオールジメタクリレート) 40〜100重量部 ○1官能基のアクリルモノマー(イソボルニルアクリレート、C12〜C18のアク リルアクリレート) 60〜100重量部 ○光重合剤(ベンゾイルパーオキサイド) 2〜5重量部
【0021】.前記紫外線硬化樹脂にゴム系非反応性
樹脂を分散させたもの。 (具体例) ○ポリブタジエンの両端をアクリルまたはメタクリル変成したオリゴマー 100重量部 ○2官能基のアクリルモノマー (水添ジシクロペンタジエニルジアクリレート) 100重量部 ○1官能基のアクリルモノマー(イソボルニルアクリレート、ラウリルアクリレ ート、トリデシルアクリレート) 40〜80重量部 ○光重合剤(ベンゾイルパーオキサイド) 3〜10重量部
【0022】.前記紫外線硬化樹脂に、ゴム系非反応
性樹脂と、光硬化性カツプリング剤によつて表面処理し
た無機質微粉末を分散させたもの。 (具体例) ○シリコンゴムの両端をアクリルまたはメタクリル変成したオリゴマー 100重量部 ○2官能基のアクリルモノマー(水添ジシクロペンタジエニルジアクリレート) 100重量部 ○3官能基のアクリルモノマー(トリメチロールプロパントリメタクリレート) 40〜80重量部 ○1官能基のアクリルモノマー(イソボルニルアクリレート、ラウリルアクリレ ート、トリデシルアクリレート) 40〜80重量部 ○光重合剤(ベンゾイルパーオキサイド) 3〜10重量部 ○γ−メタクリロキシプロピルトリメタキシシランで処理したカーボンブラツク 少々
【0023】.○末端にアクリル基またはメタクリル
基を有し、かつ分子内にポリブタジエン骨格またはポリ
−1−ブテン骨格をもつ有機化合物と、 ○アクリル基またはメタクリル基を1分子中に1個有
し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオール基、ア
ミン基などの極性基をもたない有機化合物(メチルアク
リレート、メチルメタアクリレートなど)と、 ○アクリル基またはメタクリル基を1分子中に2個有
し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオール基、ア
ミン基などの極性基をもたない有機化合物(エチルグリ
コールアクリレート、エチルグリコールメタアクリレー
トなど)と、 ○光重合剤(ベンジル類、アントラキノン類など)の配
合剤。
【0024】この保護膜7の硬化は、例えば1Torr
以上の真空下、あるいは窒素、アルゴン、ヘリウムなど
の不活性ガス中で行われる。
【0025】この実施例では保護膜7として紫外線硬化
樹脂を使用したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、例えば電子線硬化樹脂など他の光硬化樹脂を使用
することもできる。
【0026】図1に示すように透明基板1の前記保護膜
7などが形成されている面と反対の面でその中央の位置
には、透孔8を有するハブ9が予め接着されている
【0027】このハブ9を固着した透明基板1は次のホ
ツトメルト型接着剤の塗布工程に送られて、保護膜7の
上からホツトメルト型接着剤14が保護膜7全体を覆う
ように塗布されて、光デイスク単板が構成される。そし
てこのホツトメルト型接着剤14を介して2枚の光デイ
スク単板が接合されて、密着貼り合わせ型の光デイスク
が得られる。
【0028】図3は、本発明の第2実施例を示す図であ
る。本実施例で前記第1実施例の図2と相違する点は、
透明基板1と第1エンハンス膜2との間に例えば二酸化
ケイ素からなる接着補強膜15が形成されている。
【0029】図4は、本発明の第3実施例を示す図であ
る。本実施例の場合、プリピツトやプリグルーブが形成
された透明基板1の上に光吸収性−熱変換膜16が形成
され、その上に金属膜(記録−反射膜)17が形成され
ている。
【0030】前記光吸収性−熱変換膜16としては、例
えばシアニン系色素、ポリメチン系色素、アントラキノ
ン系色素、トリフエニルメタン系色素、フタロシアニン
系色素、ピリリウム系色素、アズレン系色素、含金属ア
ゾ染料などの有機色素が使用される。
【0031】また前記金属膜(記録−反射膜)17とし
ては、例えばAl、Au、Al−Ti合金などの金属が
使用される。
【0032】図5は、本発明の第4実施例を示す図であ
る。この実施例において図4に示す第3実施例と相違す
る点は、光吸収性−熱変換膜16と金属膜(記録−反射
膜)17との間に熱伝導膜18が形成されている。
【0033】前記熱伝導膜18としては、例えばSi3
4 、SiO2 、Al23 などが使用される。
【0034】前記実施例のように、保護膜とホツトメル
ト型接着剤をともにアクリル系有機化合物を主成分とし
た材料で構成すれば、紫外線照射によつて保護膜とホツ
トメルト型接着剤との間の密着性(接着性)がより良好
となる。
【0035】本発明の保護膜として前述のように、アク
リル酸エステルなどの光重合性モノマーや光重合性オリ
ゴマーなどの紫外線硬化性樹脂と、分子中に少なくとも
1個のアクリル基を有する光重合開始剤との重合体で構
成することもできる。
【0036】この保護膜を形成するための樹脂混合物の
具体的な組成を示せば下記の通りである。 変性アクリレート 63重量% アクリル酸エステル 27重量% 光重合開始剤 10重量% なお、この光重合開始剤として、図6に示す4−(2−
アクリロオキシエトキシ)フエニル−(2−ヒドロキシ
2−プロピル)ケトン、あるいは2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フエニル〕プ
ロパン、あるいは図7に示す2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−〔4−(1−メチルビニル)フエニル〕プロパ
ン(分子量:204.7×n)を使用することができ
る。光重合開始剤としてこの他に、両端末にアクリル基
を有するものなども使用することもできる。
【0037】なお、前記紫外線硬化性樹脂100重量部
に対して前記光重合開始剤は50重量部以下の割合で添
加される。この光重合開始剤が50重量部より多く添加
されると、光分解を受けた分解物、例えばアルデヒド類
が塗膜中に存在することになるため好ましくない。
【0038】前述のようにして第1エンハンス膜2、記
録膜3、第2エンハンス膜4ならびに金属反射膜5を順
次形成した透明基板1の中心より2cm離れた位置に前
記樹脂混合物の塗料を4〜6g滴下し、その後透明基板
1を2000〜6000rpmの速度で回転させ、余剰
の塗料を振り切り、均一な厚さを有する塗膜を形成す
る。しかる後、この塗膜に対して紫外線を1500mJ
/cm2 照射し、樹脂を硬化させて保護膜7を形成す
る。
【0039】
【発明の効果】前記保護膜を硬化する際、本発明のよう
に1Torrの真空中で硬化した場合(A)と、窒素ガ
ス中で硬化した場合(B)と、従来のように空気中で硬
化した場合(C)の腐食発生状況を調べた。なお、紫外
線密度はともに2000mJ/cm2 とし、組み立てら
れた両面記録タイプの密着貼り合わせ型光デイスクを8
0℃、90%RHの環境下で放置したときの記録膜での
腐食発生個数(試料個数20個)を調べ、その結果を次
の表に示す。
【0040】 初期 400時間 800時間 1000時間 (A) 19 19 38 37 (B) 21 21 35 39 (C) 71 164 1058 1060
【0041】この表から明らかなように、従来のように
保護膜を空気中で硬化した場合(C)には、反応率が低
く、このため低分子オリゴマー成分が高分子体中に未反
応物として残留するため、これが原因で記録膜の腐食発
生個数が非常に多く、信頼性の点で問題がある。
【0042】これに対して本発明のように、保護膜を真
空中で硬化した場合(A)あるいは不活性ガス中で硬化
した場合(B)には硬化の反応率が高く、低分子オリゴ
マー成分が高分子体中に殆ど残留していない。そのため
記録膜の腐食発生個数が非常に低く、情報の書き込み、
読み出し特性が良好で、信頼性の高い光情報記録媒体を
提供することができる。
【0043】前述のように、光重合性モノマーや光重合
性オリゴマーなどの紫外線硬化性樹脂と、分子中に少な
くとも1個のアクリル基を有する光重合開始剤との重合
体で構成した保護膜を使用した本発明に係る光磁気デイ
スクXと、図8に示す光重合開始剤としてアクリル基を
含有しない4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フエニル
(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン(メルクジヤ
パン社製 製品名ダイキユアー2959)を使用した比
較例の光磁気デイスクYとを、80℃、90%RHの環
境下に放置して記録膜の腐食発生状況を調べ、その結果
を図9に示す。
【0044】この図9から明らかなように、本発明に係
る光磁気デイスクXは、比較例の光磁気デイスクYに比
較して記録膜の腐食発生個数が非常に低く、情報の書き
込み、読み出し特性が良好で、信頼性の高い光情報記録
媒体であることが立証できる。
【0045】なお本発明において、光重合性モノマーや
光重合性オリゴマーなどの紫外線硬化性樹脂と、分子中
に少なくとも1個のアクリル基を有する光重合開始剤と
を使用して保護膜を形成する時には、大気中で重合反応
を行わせることができる。そのため、反応雰囲気を減圧
したりする必要がなく、また処理が連続的に行われるた
め、生産性が非常に良好である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る密着貼合わせ型光デ
イスクの断面図である。
【図2】その光デイスクの要部拡大断面図である。
【図3】本発明の第2実施例に係る密着貼合わせ型光デ
イスクの要部断面図である。
【図4】本発明の第3実施例に係る密着貼合わせ型光デ
イスクの要部断面図である。
【図5】本発明の第4実施例に係る密着貼合わせ型光デ
イスクの要部断面図である。
【図6】本発明の実施例で使用する光重合開始剤の分子
構造式を示す図である。
【図7】本発明の実施例で使用する光重合開始剤の分子
構造式を示す図である。
【図8】従来使用していた光重合開始剤の分子構造式を
示す図である。
【図9】本発明ならびに比較例の光磁気デイスクの記録
膜の腐食発生状況を示す特性図である。
【符号の説明】
1 透明基板 2 第1エンハンス膜 3 記録膜 4 第2エンハンス膜 5 金属反射膜 6 積層体 7 保護膜 14 ホツトメルト型接着剤

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に記録膜を形成し、その記録
    膜上に保護膜を形成する光情報記録媒体において、 前記保護膜が硬化性樹脂からなり、その保護膜が真空中
    で硬化されたことを特徴とする光情報記録媒体。
  2. 【請求項2】 請求項1記載において、前記硬化性樹脂
    がアクリル系合成樹脂であることを特徴とする光情報記
    録媒体。
  3. 【請求項3】 透明基板上に記録膜を形成し、その記録
    膜上に保護膜を形成する光情報記録媒体において、 前記保護膜が硬化性樹脂からなり、その保護膜が不活性
    ガス中で硬化されたことを特徴とする光情報記録媒体。
  4. 【請求項4】 請求項3記載において、前記硬化性樹脂
    がアクリル系合成樹脂であることを特徴とする光情報記
    録媒体。
  5. 【請求項5】 透明基板上に記録膜を形成し、その記録
    膜上に保護膜を形成する光情報記録媒体の製造方法にお
    いて、 前記保護膜が硬化性樹脂からなり、その保護膜が真空中
    で硬化されたことを特徴とする光情報記録媒体の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 請求項5記載において、前記硬化性樹脂
    がアクリル系合成樹脂であることを特徴とする光情報記
    録媒体の製造方法。
  7. 【請求項7】 透明基板上に記録膜を形成し、その記録
    膜上に保護膜を形成する光情報記録媒体の製造方法にお
    いて、 前記保護膜が硬化性樹脂からなり、その保護膜が不活性
    ガス中で硬化されたことを特徴とする光情報記録媒体の
    製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項7記載において、前記硬化性樹脂
    がアクリル系合成樹脂であることを特徴とする光情報記
    録媒体の製造方法。
  9. 【請求項9】 透明基板上に記録膜を形成し、その記録
    膜上に保護膜を形成する光情報記録媒体において、 前記保護膜が、紫外線硬化性樹脂と分子中に少なくとも
    1個のアクリル基を有する光重合開始剤との重合体で構
    成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
  10. 【請求項10】 請求項9記載において、前記紫外線硬
    化性樹脂100重量部に対して前記光重合開始剤50重
    量部以下の割合で添加されていることを特徴とする光情
    報記録媒体。
  11. 【請求項11】 請求項9または請求項10記載におい
    て、前記光重合開始剤が4−(2−アクリロオキシエト
    キシ)フエニル−(2−ヒドロキシ2−プロピル)ケト
    ンであることを特徴とする光情報記録媒体。
  12. 【請求項12】 請求項9または請求項10記載におい
    て、前記光重合開始剤が2−ヒドロキシ−2−メチル−
    1−〔4−(1−メチルビニル)フエニル〕プロパンで
    あることを特徴とする光情報記録媒体。
JP3192765A 1991-07-08 1991-07-08 光情報記録媒体ならびにその製造方法 Pending JPH0512714A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08207149A (ja) * 1995-02-03 1996-08-13 Nippon Fueroo Kk ゲルコート付きfrp製品の成形方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08207149A (ja) * 1995-02-03 1996-08-13 Nippon Fueroo Kk ゲルコート付きfrp製品の成形方法

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