JPH0773511A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPH0773511A JPH0773511A JP21633593A JP21633593A JPH0773511A JP H0773511 A JPH0773511 A JP H0773511A JP 21633593 A JP21633593 A JP 21633593A JP 21633593 A JP21633593 A JP 21633593A JP H0773511 A JPH0773511 A JP H0773511A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 透明基板上に少なくとも光吸収層、光反射
層、紫外線硬化性樹脂からなる中間層、及び紫外線硬化
性樹脂からなる保護層を順次積層してなる光記録媒体に
おいて、中間層を形成する際に紫外線照射による紫外線
硬化性樹脂の重合性官能基の反応度を０．８５以下に制
御して形成し、引き続いて保護層を積層した後、該中間
層と該保護層を同時に紫外線照射硬化させることを特徴
とする光記録媒体の製造方法。 【効果】 保護層を多層化する場合においても使用可能
となる紫外線硬化性樹脂の選択の幅が広がり、保護層側
の層間密着性や耐スクラッチ性を高めた高信頼性光記録
媒体を提供することができる。
層、紫外線硬化性樹脂からなる中間層、及び紫外線硬化
性樹脂からなる保護層を順次積層してなる光記録媒体に
おいて、中間層を形成する際に紫外線照射による紫外線
硬化性樹脂の重合性官能基の反応度を０．８５以下に制
御して形成し、引き続いて保護層を積層した後、該中間
層と該保護層を同時に紫外線照射硬化させることを特徴
とする光記録媒体の製造方法。 【効果】 保護層を多層化する場合においても使用可能
となる紫外線硬化性樹脂の選択の幅が広がり、保護層側
の層間密着性や耐スクラッチ性を高めた高信頼性光記録
媒体を提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体の製造方法に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは従来の記録媒体と比べて記
録容量が大きく、ランダムアクセスも可能なことから、
オーディオソフト、コンピュータソフト、ゲームソフ
ト、電子出版用などの再生専用の媒体として広く用いら
れている。また、種々の記録原理に基づいた有機記録層
や無機記録層を備えた追記型や書換型の記録可能光ディ
スクが開発され一部は実用化に至っている。
録容量が大きく、ランダムアクセスも可能なことから、
オーディオソフト、コンピュータソフト、ゲームソフ
ト、電子出版用などの再生専用の媒体として広く用いら
れている。また、種々の記録原理に基づいた有機記録層
や無機記録層を備えた追記型や書換型の記録可能光ディ
スクが開発され一部は実用化に至っている。
【０００３】その中のひとつに記録可能コンパクトディ
スク（ＣＤ−ＷＯ）がある。ＣＤ−ＷＯは、追記記録が
可能であると共に、再生専用コンパクトディスクと同等
の反射率を示すため、記録後に再生専用コンパクトディ
スクプレイヤー、ドライブで再生可能であるという特徴
を持つ。通常、ＣＤ−ＷＯは、透明基板上に光吸収層、
金属からなる光反射層、紫外線硬化性樹脂からなる保護
層、さらに必要に応じてレーベル印刷層を順次設けるこ
とにより作製される。また、使用に際しては、保護層や
レーベル印刷層上に記録情報の内容をペンなど記載する
ことができるものも多く市販されている。
スク（ＣＤ−ＷＯ）がある。ＣＤ−ＷＯは、追記記録が
可能であると共に、再生専用コンパクトディスクと同等
の反射率を示すため、記録後に再生専用コンパクトディ
スクプレイヤー、ドライブで再生可能であるという特徴
を持つ。通常、ＣＤ−ＷＯは、透明基板上に光吸収層、
金属からなる光反射層、紫外線硬化性樹脂からなる保護
層、さらに必要に応じてレーベル印刷層を順次設けるこ
とにより作製される。また、使用に際しては、保護層や
レーベル印刷層上に記録情報の内容をペンなど記載する
ことができるものも多く市販されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】既に実用化・市販され
ているＣＤ−ＷＯは、フロッピーディスクや光磁気ディ
スクなどの記録メディアと違い、ディスク自体はカート
リッジに収納されていない。そのため、ディスクの取扱
いに際して、常にスクラッチによる記録データ損失の危
険がある。また、前述したように保護層側の面へペンな
どで書き込みを行うと、各層の傷、変形及び剥離につな
がるケースが多く、プリピット、グルーブ、記録ピット
が損なわれるため多数のエラーの発生やサーボ外れなど
を引き起こして、データ再生不能になりかねない。特
に、記録可能コンパクトディスクの使用においては、使
用者のオリジナルデータを記録することが多く、こうし
た原因によるデータ損失は深刻な問題である。
ているＣＤ−ＷＯは、フロッピーディスクや光磁気ディ
スクなどの記録メディアと違い、ディスク自体はカート
リッジに収納されていない。そのため、ディスクの取扱
いに際して、常にスクラッチによる記録データ損失の危
険がある。また、前述したように保護層側の面へペンな
どで書き込みを行うと、各層の傷、変形及び剥離につな
がるケースが多く、プリピット、グルーブ、記録ピット
が損なわれるため多数のエラーの発生やサーボ外れなど
を引き起こして、データ再生不能になりかねない。特
に、記録可能コンパクトディスクの使用においては、使
用者のオリジナルデータを記録することが多く、こうし
た原因によるデータ損失は深刻な問題である。
【０００５】このため、使用環境で起こり得るスクラッ
チに対して、十分な耐久性を有する記録可能コンパクト
ディスクの作製が望まれている。例えば、特開平１−１
７６３４３号には、従来の保護層を多層化することによ
り耐衝撃性を向上させようとする試みが提案されている
が、多層化した保護層間の密着性が不十分となり剥離を
起こすケースが多い。また、特開平２−８７３４３号に
は、光反射層と保護層の間に中間層として両方の層と密
着性のよい材質からなる層を設けることが提案されてい
るが、材質の選択に大きな制約が生じてしまう点に問題
があった。
チに対して、十分な耐久性を有する記録可能コンパクト
ディスクの作製が望まれている。例えば、特開平１−１
７６３４３号には、従来の保護層を多層化することによ
り耐衝撃性を向上させようとする試みが提案されている
が、多層化した保護層間の密着性が不十分となり剥離を
起こすケースが多い。また、特開平２−８７３４３号に
は、光反射層と保護層の間に中間層として両方の層と密
着性のよい材質からなる層を設けることが提案されてい
るが、材質の選択に大きな制約が生じてしまう点に問題
があった。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点を解決し、保
護層を多層化する場合においても使用可能となる紫外線
硬化性樹脂の選択の幅を広くする、保護層側の層間密着
性や耐スクラッチ性を高めた高信頼性光記録媒体を提供
することを目的としている。
護層を多層化する場合においても使用可能となる紫外線
硬化性樹脂の選択の幅を広くする、保護層側の層間密着
性や耐スクラッチ性を高めた高信頼性光記録媒体を提供
することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前述したように、ディス
クの保護層の多層化は耐スクラッチ性を高める反面、テ
ープ剥離強度が弱くなりやすく、一旦ディスクの一部に
傷や剥離が発生した場合は保護機能が大幅に低下してし
まう。そこで、本発明者は、上述した問題を克服するた
めに、紫外線硬化性樹脂からなる中間層及び保護層の紫
外線硬化条件について鋭意検討を行った結果、中間層を
完全に反応させて形成した後ではなく、中間層の反応度
Ｐを０．８５以下に抑えた状態で保護層をコートして両
層間分子の相溶を進めた後、さらに紫外線照射して架橋
反応を行うことにより層間密着性が向上されることを見
い出し、本発明に至った。
クの保護層の多層化は耐スクラッチ性を高める反面、テ
ープ剥離強度が弱くなりやすく、一旦ディスクの一部に
傷や剥離が発生した場合は保護機能が大幅に低下してし
まう。そこで、本発明者は、上述した問題を克服するた
めに、紫外線硬化性樹脂からなる中間層及び保護層の紫
外線硬化条件について鋭意検討を行った結果、中間層を
完全に反応させて形成した後ではなく、中間層の反応度
Ｐを０．８５以下に抑えた状態で保護層をコートして両
層間分子の相溶を進めた後、さらに紫外線照射して架橋
反応を行うことにより層間密着性が向上されることを見
い出し、本発明に至った。
【０００８】即ち、本発明の要旨は、透明基板上に少な
くとも光吸収層、光反射層、紫外線硬化性樹脂からなる
中間層、及び紫外線硬化性樹脂からなる保護層を順次積
層してなる光記録媒体において、中間層を形成する際に
紫外線照射による紫外線硬化性樹脂の重合性官能基の反
応度を０．８５以下に制御して形成し、引き続いて保護
層を積層した後、該中間層と該保護層を同時に紫外線照
射硬化させることを特徴とする光記録媒体の製造方法に
存する。
くとも光吸収層、光反射層、紫外線硬化性樹脂からなる
中間層、及び紫外線硬化性樹脂からなる保護層を順次積
層してなる光記録媒体において、中間層を形成する際に
紫外線照射による紫外線硬化性樹脂の重合性官能基の反
応度を０．８５以下に制御して形成し、引き続いて保護
層を積層した後、該中間層と該保護層を同時に紫外線照
射硬化させることを特徴とする光記録媒体の製造方法に
存する。
【０００９】
【発明の詳細な記述】以下に、本発明の光記録媒体の製
造方法を詳細に説明する。本発明に用いられる透明基板
の材質としては、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸
メチル、非晶性ポリオレフィンなどのプラスチックが挙
げられる。これらの透明基板は、通常、厚み１．２ｍｍ
でスパイラル状に案内溝を形成したものが用いられる。
造方法を詳細に説明する。本発明に用いられる透明基板
の材質としては、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸
メチル、非晶性ポリオレフィンなどのプラスチックが挙
げられる。これらの透明基板は、通常、厚み１．２ｍｍ
でスパイラル状に案内溝を形成したものが用いられる。
【００１０】光吸収層を形成する材質としては、有機色
素を用いることができ、例えば、シアニン系色素、スク
アリリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウム
系色素、トリアリールアミン系色素、アントラキノン系
色素、含金属アゾ色素、ジチオール金属錯塩系色素、イ
ンドアニリン金属錯体色素、フタロシアニン系色素、ナ
フタロシアニン系色素、分子間型電荷移動色素などが好
適に用いられる。これらの色素は、それぞれ単独あるい
は混合して、さらには必要に応じて劣化防止剤、バイン
ダーなどを添加した形で用いてもよい。このような有機
色素を含有する光吸収層の形成法としては、有機色素な
どを有機溶媒に溶解して前記透明基板上にスピンコート
する方法が好ましく用いられるが、フタロシアニン系色
素のように昇華性を有する色素については蒸着法を用い
ることもできる。
素を用いることができ、例えば、シアニン系色素、スク
アリリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウム
系色素、トリアリールアミン系色素、アントラキノン系
色素、含金属アゾ色素、ジチオール金属錯塩系色素、イ
ンドアニリン金属錯体色素、フタロシアニン系色素、ナ
フタロシアニン系色素、分子間型電荷移動色素などが好
適に用いられる。これらの色素は、それぞれ単独あるい
は混合して、さらには必要に応じて劣化防止剤、バイン
ダーなどを添加した形で用いてもよい。このような有機
色素を含有する光吸収層の形成法としては、有機色素な
どを有機溶媒に溶解して前記透明基板上にスピンコート
する方法が好ましく用いられるが、フタロシアニン系色
素のように昇華性を有する色素については蒸着法を用い
ることもできる。
【００１１】また、光吸収層として、無機系薄膜である
ＧｅＳｂＴｅ、ＴｅＳｅなどのカルコゲナイド系合金薄
膜及びＴｂＦｅＣｏなどの希土類ー遷移金属合金薄膜を
使用することもできる。光吸収層の膜厚は、通常１００
Å〜５μｍ、好ましくは７００Å〜３μｍ程度とするの
が好適である。光吸収層は、透明基板の両面に設けても
よいし、片面に設けてもよい。
ＧｅＳｂＴｅ、ＴｅＳｅなどのカルコゲナイド系合金薄
膜及びＴｂＦｅＣｏなどの希土類ー遷移金属合金薄膜を
使用することもできる。光吸収層の膜厚は、通常１００
Å〜５μｍ、好ましくは７００Å〜３μｍ程度とするの
が好適である。光吸収層は、透明基板の両面に設けても
よいし、片面に設けてもよい。
【００１２】光反射層としては、使用するレーザー光に
対して高反射率を有する材質より形成され、好適には、
金、銀、銅、アルミニウムなどの金属あるいは合金が用
いられる。光反射層は、スパッタリング法、真空蒸着法
などにより形成され、５０〜２００ｎｍの膜厚の薄膜と
するのが好適である。また、基板、光吸収層及び光反射
層の間には、必要に応じて誘電体層や有機高分子層など
を設けてもよい。
対して高反射率を有する材質より形成され、好適には、
金、銀、銅、アルミニウムなどの金属あるいは合金が用
いられる。光反射層は、スパッタリング法、真空蒸着法
などにより形成され、５０〜２００ｎｍの膜厚の薄膜と
するのが好適である。また、基板、光吸収層及び光反射
層の間には、必要に応じて誘電体層や有機高分子層など
を設けてもよい。
【００１３】中間層及び保護層の材質としては、紫外線
硬化性樹脂を用いるが、アクリル系紫外線硬化性樹脂、
特に無溶媒のアクリル系紫外線硬化性樹脂を用いるのが
好適である。中間層及び保護層は、スピンコート法、ス
クリーン印刷などの手法でコートした後、適量の紫外線
を照射して硬化させる。
硬化性樹脂を用いるが、アクリル系紫外線硬化性樹脂、
特に無溶媒のアクリル系紫外線硬化性樹脂を用いるのが
好適である。中間層及び保護層は、スピンコート法、ス
クリーン印刷などの手法でコートした後、適量の紫外線
を照射して硬化させる。
【００１４】本発明においては、中間層形成時の紫外線
硬化性樹脂の反応度Ｐを０．８５以下、より好ましくは
０．５０≦Ｐ≦０．８５に制御して、引続き保護層の形
成を行う。これにより、両層材質の密着性に制限されな
い材質の選択を行うことができる。ここで、反応度Ｐ
は、紫外線硬化性樹脂中の重合性官能基の重合前の数を
Ｎ0 、重合が進行したある時点での未反応の重合性官能
基の数をＮとしたとき、Ｐ＝（Ｎ0 −Ｎ）／Ｎ0 で表さ
れる値である。通常、Ｎ0 、Ｎの測定は反射赤外分光法
を用い、中間層の赤外吸収スペクトルの中で、硬化の前
後で吸光度の変化しない吸収バンド成分を選んで基準と
したときの重合性官能基の吸光度の比率が未反応重合性
官能基数に比例することから行うことができる。なお、
中間層形成時の反応度Ｐは０．８５以下であることが必
要であるが、Ｐがあまりに小さい場合には保護層形成後
に外観不良を起こす原因となることがあるため、使用す
る紫外線硬化性樹脂の粘度によってＰの設定を調整する
ことが好ましい。
硬化性樹脂の反応度Ｐを０．８５以下、より好ましくは
０．５０≦Ｐ≦０．８５に制御して、引続き保護層の形
成を行う。これにより、両層材質の密着性に制限されな
い材質の選択を行うことができる。ここで、反応度Ｐ
は、紫外線硬化性樹脂中の重合性官能基の重合前の数を
Ｎ0 、重合が進行したある時点での未反応の重合性官能
基の数をＮとしたとき、Ｐ＝（Ｎ0 −Ｎ）／Ｎ0 で表さ
れる値である。通常、Ｎ0 、Ｎの測定は反射赤外分光法
を用い、中間層の赤外吸収スペクトルの中で、硬化の前
後で吸光度の変化しない吸収バンド成分を選んで基準と
したときの重合性官能基の吸光度の比率が未反応重合性
官能基数に比例することから行うことができる。なお、
中間層形成時の反応度Ｐは０．８５以下であることが必
要であるが、Ｐがあまりに小さい場合には保護層形成後
に外観不良を起こす原因となることがあるため、使用す
る紫外線硬化性樹脂の粘度によってＰの設定を調整する
ことが好ましい。
【００１５】通常、中間層の厚さは０．１〜１０μｍ、
保護層の厚さは２〜２０μｍが好ましい。さらに本発明
の手法は、紫外線硬化性樹脂を積層して形成する部分で
あれば実施可能であり、例えば、保護層の上にロゴマー
クなどのレーベル印刷を施す際、レーベル印刷前の保護
層の反応度Ｐを０．８５以下に制御し、続けて紫外線硬
化性インキによるレーベル印刷工程を行うことにより、
レーベル印刷部の密着性が良好となり、剥離しなくな
る。
保護層の厚さは２〜２０μｍが好ましい。さらに本発明
の手法は、紫外線硬化性樹脂を積層して形成する部分で
あれば実施可能であり、例えば、保護層の上にロゴマー
クなどのレーベル印刷を施す際、レーベル印刷前の保護
層の反応度Ｐを０．８５以下に制御し、続けて紫外線硬
化性インキによるレーベル印刷工程を行うことにより、
レーベル印刷部の密着性が良好となり、剥離しなくな
る。
【００１６】上記のようにして得られた光記録媒体への
記録は、通常、基体の両面又は片面に設けた光吸収層に
１μｍ程度に集束したレーザー光、好ましくは、半導体
レーザーの光を照射するることにより行なう。レーザー
光の照射された部分には、レーザー光エネルギーの吸収
による、分解、蒸発、溶融等の記録層の熱的変形が起こ
る。
記録は、通常、基体の両面又は片面に設けた光吸収層に
１μｍ程度に集束したレーザー光、好ましくは、半導体
レーザーの光を照射するることにより行なう。レーザー
光の照射された部分には、レーザー光エネルギーの吸収
による、分解、蒸発、溶融等の記録層の熱的変形が起こ
る。
【００１７】記録された情報の再生は、レーザー光によ
り、熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反
射率の差を読み取ることにより行なう。使用されるレー
ザー光としては、Ｎ2 、Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎ
ｅ、ルビー、半導体、色素レーザー等が挙げられるが、
特に、軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性等の点か
ら半導体レーザーが好適である。
り、熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反
射率の差を読み取ることにより行なう。使用されるレー
ザー光としては、Ｎ2 、Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎ
ｅ、ルビー、半導体、色素レーザー等が挙げられるが、
特に、軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性等の点か
ら半導体レーザーが好適である。
【００１８】
【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行させたトラッキング溝を設けた直径１２０ｍ
ｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
より具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行させたトラッキング溝を設けた直径１２０ｍ
ｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
【００１９】光吸収層は、下記構造式で示される含金
属アゾ色素を２．５重量％（対溶媒重量）でメチルセル
ソルブに溶解して、濾過した後、前記基板上にスピンコ
ート法により成膜した。色素溶液塗布後、溶媒を完全に
蒸発させるために８０℃のオーブン中で１０分間乾燥を
行った。光吸収層の膜厚は、反射率が高くなるように選
んで、１２０ｎｍとした。
属アゾ色素を２．５重量％（対溶媒重量）でメチルセル
ソルブに溶解して、濾過した後、前記基板上にスピンコ
ート法により成膜した。色素溶液塗布後、溶媒を完全に
蒸発させるために８０℃のオーブン中で１０分間乾燥を
行った。光吸収層の膜厚は、反射率が高くなるように選
んで、１２０ｎｍとした。
【００２０】
【化１】
【００２１】光反射層として、厚さ１００ｎｍの金膜
を、アルゴンガス中でのＤＣマグネトロンスパッタ法に
より形成した。中間層はアクリル系紫外線硬化性樹脂Ｓ
Ｄ−３１８（大日本インキ化学（株）製）をスピンコー
ト法により３μｍの厚さで塗布し、紫外線照射装置で高
圧水銀ランプによる紫外線を１２０ｍＪ／ｃｍ2 照射し
て硬化させて形成した。ここで、ＦＴ−ＩＲ分光装置を
用いた顕微反射法により、中間層の紫外線照射前後のビ
ニル基（１４１０ｃｍ-1）の吸光度変化を測定し、反応
度Ｐを算出したところ０．８５であった。
を、アルゴンガス中でのＤＣマグネトロンスパッタ法に
より形成した。中間層はアクリル系紫外線硬化性樹脂Ｓ
Ｄ−３１８（大日本インキ化学（株）製）をスピンコー
ト法により３μｍの厚さで塗布し、紫外線照射装置で高
圧水銀ランプによる紫外線を１２０ｍＪ／ｃｍ2 照射し
て硬化させて形成した。ここで、ＦＴ−ＩＲ分光装置を
用いた顕微反射法により、中間層の紫外線照射前後のビ
ニル基（１４１０ｃｍ-1）の吸光度変化を測定し、反応
度Ｐを算出したところ０．８５であった。
【００２２】さらに、保護層として、アクリル系紫外線
硬化性樹脂ＨＯＤ−１０１１（日本化薬（株）製）をス
ピンコート法により５μｍの厚さで塗布し、紫外線照射
装置で高圧水銀ランプによる紫外線を３０００ｍＪ／ｃ
ｍ2 照射して硬化させて形成した。得られた記録可能コ
ンパクトディスクに対して、表面性測定機（ＴＹＰＥ−
ＨＥＩＤＯＮ−１４型）で先端Ｒ寸法０．０５０ｍｍＲ
の引掻き針を用い、針荷重８０ｇ、引掻き針移動速度３
０ｍｍ／ｓｅｃの条件で、保護層に引掻き傷をつけた後
に、Ｓｃｏｔｃｈメンディングテープ（住友３Ｍ（株）
製）を用いて引掻いた部分のテープ剥離試験を行ったと
ころ、いずれの層の間にも剥離は発生しなかった。結果
を表−１に示した。
硬化性樹脂ＨＯＤ−１０１１（日本化薬（株）製）をス
ピンコート法により５μｍの厚さで塗布し、紫外線照射
装置で高圧水銀ランプによる紫外線を３０００ｍＪ／ｃ
ｍ2 照射して硬化させて形成した。得られた記録可能コ
ンパクトディスクに対して、表面性測定機（ＴＹＰＥ−
ＨＥＩＤＯＮ−１４型）で先端Ｒ寸法０．０５０ｍｍＲ
の引掻き針を用い、針荷重８０ｇ、引掻き針移動速度３
０ｍｍ／ｓｅｃの条件で、保護層に引掻き傷をつけた後
に、Ｓｃｏｔｃｈメンディングテープ（住友３Ｍ（株）
製）を用いて引掻いた部分のテープ剥離試験を行ったと
ころ、いずれの層の間にも剥離は発生しなかった。結果
を表−１に示した。
【００２３】実施例２ 中間層形成時の紫外線照射量を１００ｍＪ／ｃｍ2 とし
たこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間
層の反応度Ｐを算出したところ０．８１であった。得ら
れた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と
同様の試験を行ったところ、いずれの層の間にも剥離は
発生しなかった。結果を表−１に示した。
たこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間
層の反応度Ｐを算出したところ０．８１であった。得ら
れた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と
同様の試験を行ったところ、いずれの層の間にも剥離は
発生しなかった。結果を表−１に示した。
【００２４】実施例３ 中間層形成時の紫外線照射量を８０ｍＪ／ｃｍ2 とした
こと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクト
ディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間層
の反応度Ｐを算出したところ０．７３であった。得られ
た記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と同
様の試験を行ったところ、いずれの層の間にも剥離は発
生しなかった。結果を表−１に示した。
こと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクト
ディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間層
の反応度Ｐを算出したところ０．７３であった。得られ
た記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と同
様の試験を行ったところ、いずれの層の間にも剥離は発
生しなかった。結果を表−１に示した。
【００２５】実施例４ 保護層として、紫外線硬化性スクリーンインキＦＤ２３
７リオトーン（東洋インキ製造（株））を８μｍの厚さ
みにスクリーン印刷して塗布したこと以外は、実施例１
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。得られたディスクについて、実施例１と同様の試験
を行ったところ、いずれの層の間にも剥離は発生しなか
った。結果を表−１に示した。
７リオトーン（東洋インキ製造（株））を８μｍの厚さ
みにスクリーン印刷して塗布したこと以外は、実施例１
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。得られたディスクについて、実施例１と同様の試験
を行ったところ、いずれの層の間にも剥離は発生しなか
った。結果を表−１に示した。
【００２６】比較例１ 中間層形成時の紫外線照射量を２０００ｍＪ／ｃｍ2 と
したこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパ
クトディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中
間層の反応度Ｐを算出したところ０．９２であった。得
られた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１
と同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥
離が発生した。結果を表−１に示した。
したこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパ
クトディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中
間層の反応度Ｐを算出したところ０．９２であった。得
られた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１
と同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥
離が発生した。結果を表−１に示した。
【００２７】比較例２ 中間層形成時の紫外線照射量を１０００ｍＪ／ｃｍ2 と
したこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパ
クトディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中
間層の反応度Ｐを算出したところ０．８９であった。得
られた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１
と同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥
離が発生した。結果を表−１に示した。
したこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパ
クトディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中
間層の反応度Ｐを算出したところ０．８９であった。得
られた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１
と同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥
離が発生した。結果を表−１に示した。
【００２８】比較例３ 中間層形成時の紫外線照射量を５００ｍＪ／ｃｍ2 とし
たこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間
層の反応度Ｐを算出したところ０．８８であった。得ら
れた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と
同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥離
が発生した。結果を表−１に示した。
たこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間
層の反応度Ｐを算出したところ０．８８であった。得ら
れた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と
同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥離
が発生した。結果を表−１に示した。
【００２９】比較例４ 中間層形成時の紫外線照射量を２００ｍＪ／ｃｍ2 とし
たこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間
層の反応度Ｐを算出したところ０．８６であった。得ら
れた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と
同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥離
が発生した。結果を表−１に示した。
たこと以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。実施例１と同様にして中間
層の反応度Ｐを算出したところ０．８６であった。得ら
れた記録可能コンパクトディスクについて、実施例１と
同様の試験を行ったところ、中間層と保護層の間に剥離
が発生した。結果を表−１に示した。
【００３０】比較例５ 保護層として、紫外線硬化性スクリーンインキＦＤ２３
７リオトーン（東洋インキ製造（株））を８μｍの厚さ
にスクリーン印刷して塗布したこと以外は、比較例４と
同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。得られたディスクについて、実施例１と同様の試験
を行ったところ、中間層と保護層の間に剥離が発生し
た。結果を表−１に示した。
７リオトーン（東洋インキ製造（株））を８μｍの厚さ
にスクリーン印刷して塗布したこと以外は、比較例４と
同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。得られたディスクについて、実施例１と同様の試験
を行ったところ、中間層と保護層の間に剥離が発生し
た。結果を表−１に示した。
【００３１】
【表１】 ＊）○は良好、×は不良を表す。
【００３２】表−１より次のことが明らかである。中間
層を形成した時の反応度ＰをＰ＞０．８５とした比較例
１〜比較例４ではスクラッチ後のテープ剥離試験で、中
間層と保護層の間に剥離が起こっている。これに対し
て、Ｐ≦０．８５とした実施例１〜実施例３では、剥離
の発生は無く、密着性に優れた高信頼性ディスクが得ら
れている。
層を形成した時の反応度ＰをＰ＞０．８５とした比較例
１〜比較例４ではスクラッチ後のテープ剥離試験で、中
間層と保護層の間に剥離が起こっている。これに対し
て、Ｐ≦０．８５とした実施例１〜実施例３では、剥離
の発生は無く、密着性に優れた高信頼性ディスクが得ら
れている。
【００３３】
【発明の効果】本発明の光記録媒体の製造方法によれ
ば、保護層を多層化する場合においても使用可能となる
紫外線硬化性樹脂の選択の幅が広がり、保護層側の層間
密着性や耐スクラッチ性を高めた高信頼性光記録媒体を
提供することができるため、非常に有用である。
ば、保護層を多層化する場合においても使用可能となる
紫外線硬化性樹脂の選択の幅が広がり、保護層側の層間
密着性や耐スクラッチ性を高めた高信頼性光記録媒体を
提供することができるため、非常に有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板上に少なくとも光吸収層、光反
射層、紫外線硬化性樹脂からなる中間層、及び紫外線硬
化性樹脂からなる保護層を順次積層してなる光記録媒体
において、中間層を形成する際に紫外線照射による紫外
線硬化性樹脂の重合性官能基の反応度を０．８５以下に
制御して形成し、引き続いて保護層を積層した後、該中
間層と該保護層を同時に紫外線照射硬化させることを特
徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21633593A JPH0773511A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21633593A JPH0773511A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0773511A true JPH0773511A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=16686936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21633593A Pending JPH0773511A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0773511A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021587A1 (fr) * | 2001-08-31 | 2003-03-13 | Tdk Corporation | Support d'enregistrement optique et procede de production dudit support |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP21633593A patent/JPH0773511A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021587A1 (fr) * | 2001-08-31 | 2003-03-13 | Tdk Corporation | Support d'enregistrement optique et procede de production dudit support |
| US6924019B2 (en) | 2001-08-31 | 2005-08-02 | Tdk Corporation | Optical recording medium and production method therefor |
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